JPH09133470A - 熱間等方圧加圧装置及び当該装置の冷却方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有効容積率を損なうことなくＨＩＰ処理後の
炉内冷却時間を短縮する。 【解決手段】 高圧容器２の内部に倒立コップ状の断熱
層５を設け、これで取り囲まれる炉室６において被処理
物８をＨＩＰ処理する装置であり、前記断熱層５におけ
る内ケーシング１１の上部及び下部に、炉室６の内外を
連通するガス流通孔１５，１６を設け、該ガス流通孔１
５，１６の少なくとも一方を開閉自在とする第２弁手段
１７を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、鋳造品の欠陥除去
等に用いられる熱間等方圧加圧装置（以下、ＨＩＰ装置
という）及び該ＨＩＰ装置における熱間等方圧加圧処理
（以下、ＨＩＰ処理という）後の被処理物及び圧媒ガス
の冷却方法に関し、具体的には、冷却時間を短縮し、高
圧容器の過昇温を確実に防止することができる熱間等方
圧加圧装置及びその冷却方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、高温高圧下で種々の材料の処理を
行う要求が高まり、そのための装置としてＨＩＰ装置が
注目されている。このＨＩＰ装置によれば、例えば金属
粉末あるいはセラミック粉末などの粉末材料を高圧下で
焼結でき、大気圧あるいは真空下で焼結されたものに比
し、密度が大で、強度も高い等の多くの長所を有する。
また、ＨＩＰ装置は、内部に多数の微視的空孔を有した
（時には肉眼で観測可能な大きな空孔も存在する）通常
品を高温高圧処理することにより、これらの空孔を完全
に、あるいは実用上支障のない程度に微細化または減少
させることが可能であり、結果的に強度の向上も可能で
鋳造欠陥の除去、品質の向上に大きな役割を果たす。

【０００３】これらのＨＩＰ装置は、基本的には、高圧
ガスを気密に封入できる高圧容器の内部に設置された倒
立コップ状の断熱層と、該断熱層内の炉室内に設けられ
たヒーターとを有する。また、高圧容器には、炉室内に
アルゴンガス（以下Ａｒガスと略記する）等の圧媒ガス
を加圧注入するためのガス供給孔が開設されている。被
処理物は、炉室内で高温高圧の圧媒ガスによりＨＩＰ処
理される。上記の構成要素のうち、ＨＩＰ装置の性能を
支配する重要なものは断熱層であり、高圧下という特殊
条件下にさらされることから通常の高温炉の断熱層とは
異なった構成が要求される。すなわち、この種の装置
で、圧力媒体として用いるＡｒガスは、例えば１９６．
１３Ｍｐａ（２０００ｋｇ／ｃｍ² ）、１４５０℃の条
件下では、常温常圧のときに比し粘性は３．８倍に過ぎ
ないが、容積当りの熱容量は２４０倍以上に達する。こ
のように、Ａｒガスは熱容量が極めて大きいにもかかわ
らず、流動性にも富んでいるため、対流による熱伝達量
は極めて大きい。従って、断熱層としては、炉室内の高
温ガスの炉室外への流出を抑制し、熱損失を低く抑える
ようにしたものが使用されている。

【０００４】しかし、このような断熱層を使用すると、
ＨＩＰ処理後の冷却工程に時間がかかることとなるの
で、断熱層内の速やかな冷却を実現しようとした技術が
多々提案されている。その例として、特開昭５９−８７
０３２号公報に開示された技術がある。これを図７に示
す。図７におけるＨＩＰ装置は、高圧容器５０の内部に
断熱層５１を設置して該断熱層５１内を炉室５６とする
とともに、該断熱層５１上部に蓄熱体５８を設置し、前
記断熱層５１の下方に流路開閉調節機構５４を設置し、
前記炉室５６内に被処理物を載置する処理台５３と内筒
５２及びヒーター５７を配置し、該処理台５３下方に圧
媒ガス攪拌用の強制攪拌手段５５が設置されて構成され
ている。

【０００５】この技術（従来例の１）では、ＨＩＰ処理
中は、（ａ）図に示すように流路開閉調節機構５４を閉
じ、熱せられた圧媒ガスを炉室５６から出ないようにし
ている。また、ＨＩＰ処理後は炉室５６内を冷却するた
め、（ｂ）図に示すように流路開閉調節機構５４を開
く。高温の圧媒ガスは断熱層５１上部から蓄熱体５８を
経て、断熱層５１外に流出し、断熱層５１と高圧容器５
０との空間を高圧容器５０に抜熱されながら下降し、流
路開閉調節機構５４を経て、圧媒ガス強制攪拌手段５５
を経て、炉室５６内に戻る。このようにして、炉室５６
内の冷却を行っている。

【０００６】次に、また別の従来技術として特公昭６２
−５８７７０号公報に開示された技術を図８に示す。図
８におけるＨＩＰ装置は、高圧容器６０の内部に断熱層
６１を設置して該断熱層６１内を炉室６６とするととも
に、該炉室６６内に内筒６２とヒーター６７及び第一圧
媒ガス強制攪拌手段６５を設置し、前記高圧容器６０の
内部下方に第二圧媒ガス強制攪拌手段６８及び熱交換器
６９が設置されている。

【０００７】この技術（従来例の２）では、ＨＩＰ処理
後は、炉室６６内を冷却するため、第１圧媒ガス強制攪
拌手段６５及び第二圧媒ガス強制攪拌手段６８を作動さ
せる。高温の圧媒ガスは、作業スペース６３を上方から
下方に下降し、第一圧媒ガス強制攪拌手段６５を経て、
内筒６２の下方より断熱層６１と内筒６２との空間を上
昇する第一循環流と、断熱層６１と内筒６２との空間を
上昇し、断熱層６１と高圧容器６０との空間を高圧容器
６０に抜熱されながら下降し、第二圧媒ガス強制攪拌手
段６８を経て、熱交換器６９を通り、断熱層６１と内筒
６２との空間で第一循環流と合流する第二循環流とで高
圧容器６０内を循環する。このようにして、炉室６６内
の冷却を行っている。

【０００８】また、図示省略するけれども、別の従来技
術として実公昭６２−２４２３８号公報に開示された技
術があり、この技術は、断熱層が気密構造の外側ケーシ
ングと内側ケーシングを含んで構成され、外側ケーシン
グ上部にはガス通路が設けられかつ該ガス通路の開閉の
ための弁が設けられたものである。この技術（従来例の
３）においては、ＨＩＰ処理中は前記ガス通路を弁によ
って閉じて炉内断熱効果を保持し、ＨＩＰ処理後は、ガ
ス通路を開けて外側ケーシングと内側ケーシングの間に
ガス対流を生じさせて該ガスと上蓋・容器内壁との熱交
換により断熱層の冷却を行うことで炉室内の冷却時間を
短縮しようとするものであった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】前記従来例の１による
ＨＩＰ装置では、前記蓄熱体による抜熱で圧媒ガスは循
環開始時には速やかに冷却されるが、蓄熱体の温度が上
昇し、蓄熱体の温度と圧媒ガスの温度とが平衡状態に達
した後は、もはや蓄熱体は圧媒ガスの冷却作用は行わ
ず、むしろ放熱を行うようになり、冷却速度が極端に減
少するという問題があった。

【００１０】また、この課題を改善する技術としての従
来例の２においては圧媒ガス攪拌用の強制手段を二つ設
置していることから、装置自体の機構が複雑になるばか
りでなく、炉室内の作業容積を大幅に小さくするという
問題があった。更に、圧媒ガスの循環流路のパターンが
一種類しかないため、炉室内が平衡状態になっていくに
つれ、冷却速度が急速に低下し、効果的な炉室内の冷却
ができないという問題があった。

【００１１】更に、従来例の３にあっては、炉内と循環
ガス流との熱交換が少なくとも内側ケーシングを介して
の間接的熱交換となるため、特に冷却工程後半では冷却
効果が著しく減衰するという問題があった。そこで、本
発明は、有効炉内容積率を確保しつつ炉室内の急速かつ
効果的な冷却を可能ならしめたＨＩＰ装置及びその冷却
方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、高圧容器２の
内部に倒立コップ状で上部に通孔１０を有し少なくとも
内外ケーシング１１，１２と該両ケーシング１１，１２
間で下部から上部に向かってガス流通可能とした断熱層
５を備えて該断熱層５内が炉室６とされ、前記通孔１０
を開閉自在とする第１弁手段１４を備え、前記炉室６内
の被処理物８に高温高圧の圧媒ガスを作用させる熱間等
方圧加圧装置において、前述の目的を達成するために、
次の技術的手段を講じた。

【００１３】すなわち、本発明では、前記断熱層５にお
ける内ケーシング１１の上部及び下部に、炉室６の内外
を連通するガス流通孔１５，１６を設け、該ガス流通孔
１５，１６の少なくとも一方を開閉自在とする第２弁手
段１７を備えていることを特徴とするものであり、この
ように構成することによって、炉内が比較的高温状態で
ある冷却初期段階では、第２弁手段１７は閉じた状態で
第１弁手段１４のみを開にすることによって、圧媒ガス
を断熱層５内部を上昇させて断熱層５と高圧容器２との
間の空間を下降する流れで循環させて冷却を行う。

【００１４】この冷却初期段階では、炉内温度が充分に
高いうちであり、このときは、冷却速度も相応に大き
く、一方、高圧容器２の内壁と熱交換する循環ガス流
は、炉内ガス温度に比べれば低いので容器２の過昇温は
防止できるのであり、一方、冷却が進行し、炉内ガス温
がある程度低下して冷却処理後半では、第１弁手段１４
だけでなく、第２弁手段１７も開にすることによって、
炉内のガスそのものを循環させて冷却を加速するのであ
る（請求項１）。

【００１５】また、本発明では、前記第１弁手段１４と
前記炉室６との間に、第１弁手段１４に対する輻射熱遮
断手段２０を設けたことを特徴とするものであり、この
ように構成することによって、第１弁手段１４に対する
炉内高温部からの輻射熱をカットし、該弁の変形を防止
して耐久性を約束する（請求項２）。更に、本発明で
は、前記炉室６の下部に炉室均熱手段１９を設けたこと
を特徴とするものであり、このように構成したことによ
り、急速冷却のときに上下温度差による被処理物の割
れ、組織不均一等を確実に防止する（請求項３）。

【００１６】また、本発明による冷却方法では、冷却処
理前半では、前記圧媒ガスを断熱層５内部を上昇して断
熱層５と高圧容器２との間の空間を下降する流れで循環
させ、冷却処理後半では、前記圧媒ガスを炉室６内を上
昇して断熱層５と高圧容器２との間の空間を下降する流
れで循環させることを特徴とするものであり、このよう
に、冷却モードを２つにすることによって、冷却工程前
半だけでなく、炉室６内が平衡状態に近づいた後におい
ても、炉室６内の急速かつ効率的な冷却が実現でき、こ
れにより、作業サイクルの短縮が可能となり、総じて作
業効率の向上が実現されるだけでなく炉室有効容積率を
充分に確保できる（請求項４）。

【００１７】更に、本発明による冷却方法では、冷却処
理前半及び後半を通じて、更に前記圧媒ガスを炉室６内
で対流する流れでも循環させることを特徴とするもので
あり、このように構成したことにより、被処理物の割れ
等を確実に防止しての急速冷却を確保する（請求項
５）。

【００１８】

【発明の実施の形態】図を参照して本発明の好ましい実
施の形態につき説明すると、図１及び図２は本発明の第
１の形態であり、図１は冷却処理前半のモードを示し、
図２は冷却処理後半のモードを示している。この図１及
び図２において、熱間等方圧加圧装置１は、円筒形の高
圧容器２の上・下開口に上蓋３及び下蓋４がそれぞれ図
外のシール手段を介して気密に嵌合されている。

【００１９】高圧容器２の内部には倒立コップ状の断熱
層５が備えられていて、該断熱層５で取り囲まれた空間
が炉室６とされ、この炉室６には支持台７を介して被処
理物８が内装され、この被処理物８は、炉室６に導入さ
れたＡｒガス等の圧媒ガスとヒーター９との協働による
高温高圧の圧媒ガスを作用してＨＩＰ処理が可能とされ
ている。

【００２０】断熱層５は、上部に通孔１０を有し少なく
とも内外ケーシング１１，１２と該両ケーシング１１，
１２間で下部から上部に向かってガスを流通可能とした
ものであり、本実施の形態では、外側ケーシング１２は
原則的に金属製であって気密構造であるとともに、一方
内側ケーシング１１は気密構造であり、例えば温度条件
に応じてステンレス、ニッケル合金、モリブデン、グラ
ファイト等で作られており、内外ケーシング１１，１２
間には、黒鉛質材料、セラミックスファイバー等の断熱
材１３を充填することにより必要な断熱性能が確保され
ている。

【００２１】断熱層５の上部に形成した通孔１０は、第
１弁手段１４によって開閉自在であり、該第１弁手段１
４は、上蓋３に装着されている伸縮シリンダ１４Ａと、
そのピストンロッドに装着しているポペット弁１４Ｂと
から構成されている。断熱層５における内側ケーシング
１１にはその上部及び下部に、炉室６の内外を連通する
ガス流通孔１５，１６が形成されていて、該ガス流通孔
１５，１６の少なくとも一方、本実施の形態では下部の
ガス流通孔１６を開閉自在とする第２弁手段１７を備
え、該第２弁手段１７は、電動モータ、電動シリンダ等
の駆動体１７Ａと弁部１７Ｂとから構成されている。

【００２２】図１及び図２に示しているＨＩＰ装置１に
おいては、炉室６を脱気してから圧媒ガスを導入し、第
１・２弁手段１４，１７をともに閉じた状態で被処理物
８に高温高圧の圧媒ガスを作用させることによりＨＩＰ
処理がなされ、ＨＩＰ処理後は冷却工程に移行される。
ＨＩＰ処理後の冷却工程前半（冷却処理前半）における
圧媒ガスの流れを図１を用いて説明する。

【００２３】ＨＩＰ処理後、炉室６内の冷却を開始する
際、第１弁手段１４を開くと、炉室６内外の圧媒ガスの
密度差による自然対流によって断熱層５の内部を上昇し
て通孔１０を介して上蓋３に接触するとともに、断熱層
５における外側ケーシング１２と高圧容器２の内面との
間の空間を下降する流れで循環させ、上蓋３との接触、
高圧容器２の内面への接触等によって抜熱され、モード
Ａの冷却がなされる。

【００２４】このモードＡにおいては、炉内温度が高い
内は冷却速度も相応に大きく、一方、上蓋３及び高圧容
器２と熱交換する循環ガス流Ａ１は、炉内ガス温に比べ
て低いことから容器２等が過昇温されることはない。し
かし、時間が経ち冷却が進行するにつれて炉室６の内外
は平衡状態に近づき、冷却速度は低下してしまい、モー
ドＡだけによる冷却では図３に実線Ｂ１による冷却とな
って冷却時間は長くなる。

【００２５】そこで、圧媒ガスの流れを変化させて冷却
速度の低下を防止する。すなわち、図２に示すように炉
室６内外が平衡状態に近づく冷却過程後半（冷却処理後
半）において、今まで閉じられていた第２弁手段１７を
開にすると、圧媒ガスは炉室６内を上昇して断熱層５と
高圧容器２内面との間の空間を下降する流れで循環され
るモードＢ（循環ガス流Ａ２）となり、図３の破線Ｂに
示すように冷却速度が加速されるのである。

【００２６】図４及び図５は本発明の第２の実施の形態
を示すものであり、冷却処理前半及び後半を通じて圧媒
ガスを炉室６内で強制対流させるガス流れＣによって循
環するようにしたものであり、基本構成は既述の実施の
形態（図１及び図２）と共通するので共通部分が共通符
号を示し、以下、相違点につき説明する。支持台７には
図示省略した多数の通孔が上下方向に形成されていると
ともに、該支持台７上には被処理物（図では省略）を取
り囲んで内筒１８が設けられている。

【００２７】更に、炉室６下部における支持台７の下方
には、炉室均熱手段１９が設けられており、該手段１９
は電動モータ１９Ａとこれによって回転されるファン１
９Ｂより構成されている。また、断熱層５は、内側断熱
層５Ａと外側断熱層５Ｂとからなり、内側断熱層５Ａは
下蓋４におけるリング体４Ａに支持されており、外側断
熱層５Ｂは上蓋３に吊具３Ａを介して支持されており、
両断熱層５Ａ，５Ｂ間にガス流路５Ｃが形成されてい
る。

【００２８】図４及び図５に示したＨＩＰ装置において
は、ＨＩＰ処理後の冷却処理前半において、図４に示す
如く第１弁手段１４を開くとともに、炉室均熱手段１９
を作動することにより、循環ガス流Ａ１とともに炉室６
内で対流させるガス流れＡ３が生じて上下温度差に起因
する被処理物の割れ、組織不均一等が解消されるのであ
り、冷却処理後半においてもガス流れＡ３を続行してい
るのである。

【００２９】図６は本発明の他の実施形態であり、図４
及び図５で示したＨＩＰ装置１において、第１弁手段１
４に対する輻射熱を遮断する手段２０を設けて第１弁手
段１４の熱変形を防止し、部品の長寿命化を図ったもの
であり、ＨＩＰ処理後の冷却工程については、第２の実
施の形態と同じである。なお、輻射熱遮断手段２０は、
倒立皿状の耐熱材料よりなる板材２０Ａを、支持具２０
Ｂを介して内側断熱層５Ａに装着している。

【００３０】本発明の図示した実施の形態は以上の通り
であるが、本発明においては、下記のような設計変更は
可能である。 上部ガス流通孔１５においても第２弁手段１７を設け
て開閉自在にすること。このときは、下部ガス流通孔１
６に第２弁手段１７を設けるか否かは自由である。

【００３１】既述した第１の実施の形態（図１及び図
２）において、均熱手段１９又は輻射熱遮断手段２０を
設けること。 小型の高圧容器の場合は、該容器を有底筒状の本体と
その開口部を塞ぐ蓋とで構成すること。 高圧容器の外周壁に水冷ジャケットを設けて圧媒ガス
の冷却速度をさらに速め、作業効率を上げること。

【００３２】ファンの回転数を変化させたりする流量
制御手段を設けること。等々である。

【００３３】

【発明の効果】以上詳述した通り本発明によれば、有効
容積率を充分に確保しつつ冷却時間を短縮できて生産性
を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示し、冷却処理前
半の立断面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態を示し、冷却処理後
半の立断面図である。

【図３】従来例と本発明との冷却時間の対比グラフであ
る。

【図４】本発明の第２の実施の形態を示し、冷却処理前
半の立断面図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態を示し、冷却処理後
半の立断面図である。

【図６】本発明の第３の実施の形態を示し、ＨＩＰ処理
時の立断面図である。

【図７】従来例の１の概念図である。

【図８】従来例の２の概念図である。

【符号の説明】

１ 熱間等方圧加圧装置 ２ 高圧容器 ５ 断熱層 ６ 炉室 １０ 通孔 １４ 第１弁手段 １５ ガス流通孔 １６ ガス流通孔 １７ 第２弁手段

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高圧容器（２）の内部に倒立コップ状で
   上部に通孔（１０）を有し少なくとも内外ケーシング
   （１１）（１２）と該両ケーシング（１１）（１２）間
   で下部から上部に向かってガス流通可能とした断熱層
   （５）を備えて該断熱層（５）内が炉室（６）とされ、
   前記通孔（１０）を開閉自在とする第１弁手段（１４）
   を備え、前記炉室（６）内の被処理物（８）に高温高圧
   の圧媒ガスを作用させる熱間等方圧加圧装置において、 前記断熱層（５）における内ケーシング（１１）の上部
   及び下部に、炉室（６）の内外を連通するガス流通孔
   （１５）（１６）を設け、該ガス流通孔（１５）（１
   ６）の少なくとも一方を開閉自在とする第２弁手段（１
   ７）を備えていることを特徴とする熱間等方圧加圧装
   置。
2. 【請求項２】 前記第１弁手段（１４）と前記炉室
   （６）との間に、第１弁手段（１４）に対する輻射熱遮
   断手段（２０）を設けたことを特徴とする請求項１に記
   載の熱間等方圧加圧装置。
3. 【請求項３】 前記炉室（６）の下部に炉室均熱手段
   （１９）を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記
   載の熱間等方圧加圧装置。
4. 【請求項４】 層内部がガス流通可能に構成された断熱
   層（５）が高圧容器（２）内に設けられ、該断熱層
   （５）が取り囲む空間が炉室（６）とされた熱間等方圧
   加圧装置（１）によって、炉室（６）内の被処理物
   （８）に対して高温高圧の圧媒ガスを作用させて熱間等
   方圧加圧処理を行った後、前記圧媒ガスを前記高圧容器
   （２）内で循環させて前記炉室（６）内を冷却する熱間
   等方圧加圧装置（１）の冷却方法において、冷却処理前
   半では、前記圧媒ガスを断熱層（５）内部を上昇して断
   熱層（５）と高圧容器（２）との間の空間を下降する流
   れで循環させ、冷却処理後半では、前記圧媒ガスを炉室
   （６）内を上昇して断熱層（５）と高圧容器（２）との
   間の空間を下降する流れで循環させることを特徴とする
   熱間等方圧加圧装置の冷却方法。
5. 【請求項５】 冷却処理前半及び後半を通じて、更に前
   記圧媒ガスを炉室（６）内で対流する流れでも循環させ
   ることを特徴とする請求項４記載の熱間等方圧加圧装置
   の冷却方法。