JPH09133802A - 反射防止フィルター - Google Patents
反射防止フィルターInfo
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- JPH09133802A JPH09133802A JP7289928A JP28992895A JPH09133802A JP H09133802 A JPH09133802 A JP H09133802A JP 7289928 A JP7289928 A JP 7289928A JP 28992895 A JP28992895 A JP 28992895A JP H09133802 A JPH09133802 A JP H09133802A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐汚染性、滑り性、耐摩耗性等の問題点を解
決する反射防止フィルターを提供する。 【解決手段】 反射防止フィルター1は、透明基材2
と、この透明基材2の上に設けられた単層或いは複層の
反射防止膜3と、これら反射防止膜3の表面に化1を含
む表面処理剤5を被膜させた表面処理層とを備える。 【化1】 したがって、以上のように構成された反射防止フィルタ
ー1は、反射防止膜3の表面に化1に示した長鎖炭化水
素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン
化合物を含む表面処理剤5が被膜されることによって、
フォスファゼン化合物の持つ潤滑性が反射防止フィルタ
ー1の表面に付与される。
決する反射防止フィルターを提供する。 【解決手段】 反射防止フィルター1は、透明基材2
と、この透明基材2の上に設けられた単層或いは複層の
反射防止膜3と、これら反射防止膜3の表面に化1を含
む表面処理剤5を被膜させた表面処理層とを備える。 【化1】 したがって、以上のように構成された反射防止フィルタ
ー1は、反射防止膜3の表面に化1に示した長鎖炭化水
素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン
化合物を含む表面処理剤5が被膜されることによって、
フォスファゼン化合物の持つ潤滑性が反射防止フィルタ
ー1の表面に付与される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた耐汚染性、
耐擦傷性、耐加工性、滑り性、耐摩耗性等を有する反射
防止フィルターに関する。
耐擦傷性、耐加工性、滑り性、耐摩耗性等を有する反射
防止フィルターに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、CRT用の前面板、液晶ディスプ
レイ等には、防眩用途として反射防止フィルターが提供
されてきた。この反射防止フィルターには、ガラス板も
しくはプラスチック板上に反射防止膜として無機多層薄
膜を設けディスプレイ前面に設置するタイプ、プラスチ
ックフィルムに反射防止膜として無機多層薄膜を設け、
このフィルムをガラス板或いはプラスチック板に貼り合
わせ、それをディスプレイ前面に設置するタイプ、反射
防止膜として無機多層薄膜を設けたプラスチックフィル
ムを直接ディスプレイ表面に貼り合わせるタイプがあ
る。
レイ等には、防眩用途として反射防止フィルターが提供
されてきた。この反射防止フィルターには、ガラス板も
しくはプラスチック板上に反射防止膜として無機多層薄
膜を設けディスプレイ前面に設置するタイプ、プラスチ
ックフィルムに反射防止膜として無機多層薄膜を設け、
このフィルムをガラス板或いはプラスチック板に貼り合
わせ、それをディスプレイ前面に設置するタイプ、反射
防止膜として無機多層薄膜を設けたプラスチックフィル
ムを直接ディスプレイ表面に貼り合わせるタイプがあ
る。
【0003】従来の反射防止フィルターには、透明基材
上に2層の反射防止膜を有するもの(特開昭58―46
301号公報及び特開昭59―50401号公報に記
載)と、透明基材上に3層の反射防止膜を有するもの
(特開昭59―49501号公報及び特開昭59―50
401号公報に記載)と透明基板上に4層の反射防止膜
を有するもの(特開昭61―168899号公報に記
載)がある。
上に2層の反射防止膜を有するもの(特開昭58―46
301号公報及び特開昭59―50401号公報に記
載)と、透明基材上に3層の反射防止膜を有するもの
(特開昭59―49501号公報及び特開昭59―50
401号公報に記載)と透明基板上に4層の反射防止膜
を有するもの(特開昭61―168899号公報に記
載)がある。
【0004】透明基材としては、ガラス、プラスチック
等の成形物やシート、フィルム等が用いられてきた。と
くにプラスチック基材は、あらかじめ付着性、硬度、耐
薬品性、耐久性、染色性などの物性を向上、付与させる
目的で被覆材を施されることもある。ただしこれらの被
覆材は、透明基材の透明性を損なわないものである。
等の成形物やシート、フィルム等が用いられてきた。と
くにプラスチック基材は、あらかじめ付着性、硬度、耐
薬品性、耐久性、染色性などの物性を向上、付与させる
目的で被覆材を施されることもある。ただしこれらの被
覆材は、透明基材の透明性を損なわないものである。
【0005】また、反射防止膜には、無機酸化物が透明
基材上に蒸着されたもの、或いは液状組成物として有機
材料に無機系微粒子を混入したものや、無機系材料に無
機系微粒子を混入したものが透明基材上に塗布されたも
のがある。
基材上に蒸着されたもの、或いは液状組成物として有機
材料に無機系微粒子を混入したものや、無機系材料に無
機系微粒子を混入したものが透明基材上に塗布されたも
のがある。
【0006】無機酸化物、例えばSiO2等は、透明基
材上に真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法などに代表される物理的蒸着(physica
lvapour deposition,PVD)法に
より被膜形成される。
材上に真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法などに代表される物理的蒸着(physica
lvapour deposition,PVD)法に
より被膜形成される。
【0007】液状組成物は、透明基材上にカーテンフロ
ー塗装、浸漬塗装、スピン塗装等に代表される通常のコ
ーティング作業で用いられる方法により被膜形成され
る。液状組成物には、有機材料中に略30%の無機系微
粒子を分散させたもの、或いは無機系材料で溶剤に分散
または溶解しうるか、それ自体液状であるもの、また
は、かかる有機材料と無機系材料の混合物が用いられて
いる。
ー塗装、浸漬塗装、スピン塗装等に代表される通常のコ
ーティング作業で用いられる方法により被膜形成され
る。液状組成物には、有機材料中に略30%の無機系微
粒子を分散させたもの、或いは無機系材料で溶剤に分散
または溶解しうるか、それ自体液状であるもの、また
は、かかる有機材料と無機系材料の混合物が用いられて
いる。
【0008】無機系微粒子は、有機材料中に分散された
場合、有機材料が硬化、或いは乾燥して反射防止膜とな
った際に堅い表面硬度を与える。さらに、無機系微粒子
は、溶剤に分散または溶解しうるか、それ自体液状であ
る無機系材料中にも分散される。この場合も、無機系微
粒子は、無機系材料が硬化、或いは乾燥して反射防止膜
となった際に堅い表面硬度を与える。
場合、有機材料が硬化、或いは乾燥して反射防止膜とな
った際に堅い表面硬度を与える。さらに、無機系微粒子
は、溶剤に分散または溶解しうるか、それ自体液状であ
る無機系材料中にも分散される。この場合も、無機系微
粒子は、無機系材料が硬化、或いは乾燥して反射防止膜
となった際に堅い表面硬度を与える。
【0009】上述の反射防止フィルターにおいて、反射
防止膜は、無機酸化物或いは無機系微粒子のために、そ
の表面の硬度は高いが、耐汚染性、耐摩耗性、滑り性、
撥水性等の表面物性が満足できるものでなかった。
防止膜は、無機酸化物或いは無機系微粒子のために、そ
の表面の硬度は高いが、耐汚染性、耐摩耗性、滑り性、
撥水性等の表面物性が満足できるものでなかった。
【0010】したがって、反射防止膜の表面は、各種表
面処理剤を被膜形成させ表面物性を向上させていた。こ
の表面処理剤は、表面に蒸着され反射防止フィルター表
面に滑り性、撥水性を与える目的で、例えば、ポリテト
ラフルオロエチレン等のフッ素系が用いられてきた(特
開平3―266801号公報)。
面処理剤を被膜形成させ表面物性を向上させていた。こ
の表面処理剤は、表面に蒸着され反射防止フィルター表
面に滑り性、撥水性を与える目的で、例えば、ポリテト
ラフルオロエチレン等のフッ素系が用いられてきた(特
開平3―266801号公報)。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
表面が反射防止膜からなる反射防止フィルターは、汚れ
が付き易く、また、表面の滑り性が悪いために傷が付き
やすくなるといった問題点があった。
表面が反射防止膜からなる反射防止フィルターは、汚れ
が付き易く、また、表面の滑り性が悪いために傷が付き
やすくなるといった問題点があった。
【0012】また、上述の表面処理剤で反射防止膜を被
覆した反射防止フィルターは、水に対する撥水性は向上
するが、摩擦或いは摩耗に対して満足する結果は得られ
ていなかった。
覆した反射防止フィルターは、水に対する撥水性は向上
するが、摩擦或いは摩耗に対して満足する結果は得られ
ていなかった。
【0013】そこで、本発明は、耐汚染性、滑り性、耐
摩耗性等の係る問題点を解決する反射防止フィルターを
提供することを目的とする。
摩耗性等の係る問題点を解決する反射防止フィルターを
提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】この目的を達成した本発
明に係る反射防止フィルターは、透明基材と、上記透明
基材の上に設けられた単層或いは複層の反射防止膜と、
上記反射防止膜の最外隔膜の表面に化2で示される表面
処理剤を被膜させた表面処理層とを備える。
明に係る反射防止フィルターは、透明基材と、上記透明
基材の上に設けられた単層或いは複層の反射防止膜と、
上記反射防止膜の最外隔膜の表面に化2で示される表面
処理剤を被膜させた表面処理層とを備える。
【0015】
【化2】
【0016】したがって、以上のように構成された反射
防止フィルターは、反射防止膜の表面に化2に示した長
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォス
ファゼン化合物を含む表面処理剤が被膜されることによ
って、フォスファゼン化合物の持つ潤滑性が反射防止フ
ィルターの表面に付与される。
防止フィルターは、反射防止膜の表面に化2に示した長
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォス
ファゼン化合物を含む表面処理剤が被膜されることによ
って、フォスファゼン化合物の持つ潤滑性が反射防止フ
ィルターの表面に付与される。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る反射防止フィ
ルターの実施の形態を図を用いて詳細に説明する。例え
ば、放送受信用テレビに代表される画像表示装置は、コ
ンピュータ応用情報システムの展開で近年急激に多様化
が進行している。ここで画像とは、文字、数字、図形等
の静止及び運動画像であって人間が視覚的に感知しうる
ものを指す。
ルターの実施の形態を図を用いて詳細に説明する。例え
ば、放送受信用テレビに代表される画像表示装置は、コ
ンピュータ応用情報システムの展開で近年急激に多様化
が進行している。ここで画像とは、文字、数字、図形等
の静止及び運動画像であって人間が視覚的に感知しうる
ものを指す。
【0018】画像表示装置は、外光制御(外光の光路中
において眼にはいる光量を制御する)または発光制御
(発光体の入力エネルギーを制御する)方式により情報
を視覚化し、直視または投影によって画像とするもので
ある。これらの例としては、陰極線管(CRT)、レー
ザーディスプレイ、ホトクロミックディスプレイ、エレ
クトロミックディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズ
マディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、ライト
バルブなどがある。さらに、本発明係る反射防止フィル
ターは、前述の各種表示装置に限られるものではなく、
機器等の前面に反射防止フィルターを有する前面板を配
したものも含まれる。
において眼にはいる光量を制御する)または発光制御
(発光体の入力エネルギーを制御する)方式により情報
を視覚化し、直視または投影によって画像とするもので
ある。これらの例としては、陰極線管(CRT)、レー
ザーディスプレイ、ホトクロミックディスプレイ、エレ
クトロミックディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズ
マディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、ライト
バルブなどがある。さらに、本発明係る反射防止フィル
ターは、前述の各種表示装置に限られるものではなく、
機器等の前面に反射防止フィルターを有する前面板を配
したものも含まれる。
【0019】図1に示すように、反射防止フィルター1
は、透明基材2の上に2層からなる反射防止膜3が形成
されるとともに、反射防止膜3の上に表面処理剤5が被
膜形成されて構成される。また、図2に示すように、反
射防止フィルター1は、透明基材2の上に3層からなる
反射防止膜4が形成されるとともに、反射防止膜4の上
に表面処理剤5が被膜形成されて構成される。
は、透明基材2の上に2層からなる反射防止膜3が形成
されるとともに、反射防止膜3の上に表面処理剤5が被
膜形成されて構成される。また、図2に示すように、反
射防止フィルター1は、透明基材2の上に3層からなる
反射防止膜4が形成されるとともに、反射防止膜4の上
に表面処理剤5が被膜形成されて構成される。
【0020】反射防止フィルター1は、表面に耐汚染
性、滑り性、耐摩耗性、手垢の付きにくさといった表面
物性を付与するために、化2に示された長鎖炭化水素基
或いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン化合
物を含む表面処理剤5を塗布する。フォスファゼン化合
物は、化2に示すように、置換基R及び/またはQに長
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルが結合してい
る。なお、化2に示す置換基R及びQは、同一であって
も異なっても良い。また、化2に示すのnは、6以下の
正の整数または0であっても良い。
性、滑り性、耐摩耗性、手垢の付きにくさといった表面
物性を付与するために、化2に示された長鎖炭化水素基
或いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン化合
物を含む表面処理剤5を塗布する。フォスファゼン化合
物は、化2に示すように、置換基R及び/またはQに長
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルが結合してい
る。なお、化2に示す置換基R及びQは、同一であって
も異なっても良い。また、化2に示すのnは、6以下の
正の整数または0であっても良い。
【0021】フルオロポリエーテルは、表面処理剤5の
性能である濡れ性を向上させるため存在している方が良
いが、とくに存在しなくても良い。したがって、フルオ
ロポリエーテル/炭化水素の比は、0以上なら良いが溶
媒への溶解度を考慮すると5以下であることが好まし
い。また、フルオロポリエーテルには、以下に示すよう
な官能基が用いられるが、これらに限ったものではな
い。
性能である濡れ性を向上させるため存在している方が良
いが、とくに存在しなくても良い。したがって、フルオ
ロポリエーテル/炭化水素の比は、0以上なら良いが溶
媒への溶解度を考慮すると5以下であることが好まし
い。また、フルオロポリエーテルには、以下に示すよう
な官能基が用いられるが、これらに限ったものではな
い。
【0022】単官能基のフルオロポリエーテルとして
は、F(CF2CF2CF2O)n、CF3(OCF(C
F3)CF2)m(OCF2)j、F(C(CF3)FCF2
O)k等があり、多官能基のフルオロポリエーテルとし
ては、(OC2F4)p(OCF2)q等がある。
は、F(CF2CF2CF2O)n、CF3(OCF(C
F3)CF2)m(OCF2)j、F(C(CF3)FCF2
O)k等があり、多官能基のフルオロポリエーテルとし
ては、(OC2F4)p(OCF2)q等がある。
【0023】ここで、上記化学式のj、m、n、k、
p、qは、1以上の整数を示す。
p、qは、1以上の整数を示す。
【0024】さらに、長鎖炭化水素基は、非極性溶媒で
ある揮発性溶媒に対する溶解度を考慮すると、炭素数は
10以上であることが好ましい。しかしながら、フォス
ファゼン化合物は、化2に示す置換基R及びQのうち、
少なくとも一方が炭素数10以上の長鎖炭化水素基であ
れば良く、他方がメチル基であっても表面処理剤5とし
ての性能に影響はない。
ある揮発性溶媒に対する溶解度を考慮すると、炭素数は
10以上であることが好ましい。しかしながら、フォス
ファゼン化合物は、化2に示す置換基R及びQのうち、
少なくとも一方が炭素数10以上の長鎖炭化水素基であ
れば良く、他方がメチル基であっても表面処理剤5とし
ての性能に影響はない。
【0025】塗布方法は、通常のコーティング作業で用
いられる方法が可能であるが、反射防止効果の均一性、
さらには反射干渉色のコントロールという観点からスピ
ン塗布、浸漬塗布、カーテンフロー塗布等が用いられ
る。また、塗布方法としては、作業性の点から紙、布な
どに表面処理剤5を含浸させて塗布流延させる方法も用
いられる。
いられる方法が可能であるが、反射防止効果の均一性、
さらには反射干渉色のコントロールという観点からスピ
ン塗布、浸漬塗布、カーテンフロー塗布等が用いられ
る。また、塗布方法としては、作業性の点から紙、布な
どに表面処理剤5を含浸させて塗布流延させる方法も用
いられる。
【0026】上述の塗布方法において、塗布される表面
は、洗浄されていることが好ましい。洗浄方法には、界
面活性剤による汚れの除去、有機溶剤による脱脂、フレ
オンによる蒸気洗浄等が用いられる。また、塗布される
表面は、表面処理剤5の密着性、耐久性の向上のために
前処理を施すことが有効である。例えば、前処理は、活
性ガス、酸またはアルカリ等による薬品処理が挙げられ
る。
は、洗浄されていることが好ましい。洗浄方法には、界
面活性剤による汚れの除去、有機溶剤による脱脂、フレ
オンによる蒸気洗浄等が用いられる。また、塗布される
表面は、表面処理剤5の密着性、耐久性の向上のために
前処理を施すことが有効である。例えば、前処理は、活
性ガス、酸またはアルカリ等による薬品処理が挙げられ
る。
【0027】また、表面処理剤5は、化2に示された長
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォス
ファゼン化合物が揮発性溶媒に希釈されて調整される。
揮発性溶媒は、とくに限定されないが、使用にあたって
は組成物の安定性、塗布面に対する濡れ性、揮発性等を
考慮して決められるべきものである。揮発性溶媒は、化
2の置換基R及びQで示した側鎖がフルオロポリエーテ
ルのみでなる場合、フロン或いはパーフルオロアルカン
系に限られる。しかし、揮発性溶媒は、置換基R及びQ
が長鎖炭化水素基を含有する場合、化2に示されたフォ
スファゼン化合物がエーテル、アルコール、アセトン等
の通常の有機溶剤に溶解するため、数種類の有機溶剤の
混合物として用いることができる。
鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持つフォス
ファゼン化合物が揮発性溶媒に希釈されて調整される。
揮発性溶媒は、とくに限定されないが、使用にあたって
は組成物の安定性、塗布面に対する濡れ性、揮発性等を
考慮して決められるべきものである。揮発性溶媒は、化
2の置換基R及びQで示した側鎖がフルオロポリエーテ
ルのみでなる場合、フロン或いはパーフルオロアルカン
系に限られる。しかし、揮発性溶媒は、置換基R及びQ
が長鎖炭化水素基を含有する場合、化2に示されたフォ
スファゼン化合物がエーテル、アルコール、アセトン等
の通常の有機溶剤に溶解するため、数種類の有機溶剤の
混合物として用いることができる。
【0028】さらに、化2に示された長鎖炭化水素基或
いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン化合物
からなる表面処理剤5の膜厚は、とくに限定されること
はないが、反射防止性と水に対する静止接触角とのバラ
ンス及び表面硬度との関係から0.5nmから10nm
が好ましい。
いはフルオロポリエーテルを持つフォスファゼン化合物
からなる表面処理剤5の膜厚は、とくに限定されること
はないが、反射防止性と水に対する静止接触角とのバラ
ンス及び表面硬度との関係から0.5nmから10nm
が好ましい。
【0029】上述のように形成された表面処理剤5は、
透明基材2上に設けられた反射防止膜上に塗布される。
透明基材2上に設けられた反射防止膜上に塗布される。
【0030】透明基材2は、反射防止効果が透明基材2
の一方主面で十分である場合、透明基材の他方主面が不
透明なもので覆われていても本発明で言うところの透明
基材2として使用できる。また、透明基材2は、有機高
分子からなる基材であればいかなるものでも良いが透明
性、屈折率、分散などの光学特性、耐衝撃性、耐熱性、
耐久性などの物性の観点から、ポリメチルメタクリレー
ト及びその共重合体、ポリカーボネート、ジエチレング
リコールビスアクリルカーボネート(CR−39)、
(臭素化)ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート
重合体及びその共重合体、(臭素化)ビスフェノールA
のモノ(メタ)アクリレートのウレタン変性モノマーの
重合体及びその共重合体、ポリエステルとくにポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及び不
飽和ポリエステル、アクリロニトリルースチレン共重合
体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アラミ
ド系樹脂が好ましい。
の一方主面で十分である場合、透明基材の他方主面が不
透明なもので覆われていても本発明で言うところの透明
基材2として使用できる。また、透明基材2は、有機高
分子からなる基材であればいかなるものでも良いが透明
性、屈折率、分散などの光学特性、耐衝撃性、耐熱性、
耐久性などの物性の観点から、ポリメチルメタクリレー
ト及びその共重合体、ポリカーボネート、ジエチレング
リコールビスアクリルカーボネート(CR−39)、
(臭素化)ビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート
重合体及びその共重合体、(臭素化)ビスフェノールA
のモノ(メタ)アクリレートのウレタン変性モノマーの
重合体及びその共重合体、ポリエステルとくにポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート及び不
飽和ポリエステル、アクリロニトリルースチレン共重合
体、塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アラミ
ド系樹脂が好ましい。
【0031】反射防止層3は、主に無機酸化物としてS
iO2が用いられるが、他にAl2O 3、ZrO2,TiO
2,SiO,HfO2,ZnO,In2O3/SnO2,T
iO,Ti2O3、Y3O3,Sb2O3,MgO,CeO2
などの無機酸化物が適用される。これらの無機酸化物に
よって形成される反射防止膜3は、表面がSiO2であ
ることが好ましい。SiO2によって形成された反射防
止膜3は、表面の硬度が十分であり、本発明の目的であ
る耐摩耗性の向上さらには摩耗に対する耐久性の向上が
図られる。
iO2が用いられるが、他にAl2O 3、ZrO2,TiO
2,SiO,HfO2,ZnO,In2O3/SnO2,T
iO,Ti2O3、Y3O3,Sb2O3,MgO,CeO2
などの無機酸化物が適用される。これらの無機酸化物に
よって形成される反射防止膜3は、表面がSiO2であ
ることが好ましい。SiO2によって形成された反射防
止膜3は、表面の硬度が十分であり、本発明の目的であ
る耐摩耗性の向上さらには摩耗に対する耐久性の向上が
図られる。
【0032】また、反射防止膜3の光学的膜厚は、反射
防止効果以外に要求される性能によって決定されるべき
ものであるが、とくに反射防止効果を最大限にするため
に以下のような条件がある。ここで光学的膜厚とは、被
膜形成材料の屈折率と膜厚の積で定義されるものであ
る。
防止効果以外に要求される性能によって決定されるべき
ものであるが、とくに反射防止効果を最大限にするため
に以下のような条件がある。ここで光学的膜厚とは、被
膜形成材料の屈折率と膜厚の積で定義されるものであ
る。
【0033】2層からなる反射防止膜3の場合、透明基
材2側の第1層3Aの屈折率は、図1に示したように、
透明基材2と第1層3Aの上に設けられた第2層3Bと
のいずれよりも高い屈折率を有するものである。そし
て、第1層3A及び第2層3Bの光学的膜厚は、次の条
件を満たしている。
材2側の第1層3Aの屈折率は、図1に示したように、
透明基材2と第1層3Aの上に設けられた第2層3Bと
のいずれよりも高い屈折率を有するものである。そし
て、第1層3A及び第2層3Bの光学的膜厚は、次の条
件を満たしている。
【0034】 第1層3A mλ/4×0.7<n1d1<mλ/4×1.3 第2層3B nλ/4×0.7<n2d2<nλ/4×1.3 (ここでn1,n2はそれぞれ第1層3A、第2層3Bの
屈折率、d1,d2はそれぞれ第1層3A、第2層3Bの
膜厚(nm単位)、mは正の整数、nは正の奇数、λは
可視周辺領域内で任意の基準波長(nm単位)であ
る。)また、3層からなる反射防止膜4の場合、透明基
材2側の第1層4Aの屈折率は、図2に示したように、
透明基材2の屈折率よりの高くかつ第1層4Aの上に設
けられた第2層4Bの屈折率よりも低く設定されてい
る。さらに、第2層4Bの上に設けられた第3層4Cの
屈折率は、第1層4A及び第2層4Aよりも低い屈折率
を有するものである。そして、第1層4A、第2層4B
及び第3層4Cの光学的膜厚は、次の条件を満たしてい
る。
屈折率、d1,d2はそれぞれ第1層3A、第2層3Bの
膜厚(nm単位)、mは正の整数、nは正の奇数、λは
可視周辺領域内で任意の基準波長(nm単位)であ
る。)また、3層からなる反射防止膜4の場合、透明基
材2側の第1層4Aの屈折率は、図2に示したように、
透明基材2の屈折率よりの高くかつ第1層4Aの上に設
けられた第2層4Bの屈折率よりも低く設定されてい
る。さらに、第2層4Bの上に設けられた第3層4Cの
屈折率は、第1層4A及び第2層4Aよりも低い屈折率
を有するものである。そして、第1層4A、第2層4B
及び第3層4Cの光学的膜厚は、次の条件を満たしてい
る。
【0035】 第1層4A lλ/4×0.7<n1d1<lλ/4×1.3 第2層4B mλ/4×0.7<n2d2<mλ/4×1.3 第3層4C nλ/4×0.7<n3d3<nλ/4×1.3 (ここでn1,n2,n3はそれぞれ第1層4A、第2層
4B、第3層4Cの屈折率、d1,d2,d3はそれぞれ
第1層4A、第2層4B、第3層4Cの膜厚(nm単
位)、lは正の整数、mは正の整数、nは正の奇数、λ
は可視周辺領域内で任意の基準波長(nm単位)であ
る。)また、無機酸化物からなる反射防止膜3は、上述
の無機系材料を真空蒸着法、イオンプレーティング法、
スパッタリング法に代表される物理的蒸着法(Phys
ical Vapour Deposition、PV
D)法で被膜化することにより得られる。
4B、第3層4Cの屈折率、d1,d2,d3はそれぞれ
第1層4A、第2層4B、第3層4Cの膜厚(nm単
位)、lは正の整数、mは正の整数、nは正の奇数、λ
は可視周辺領域内で任意の基準波長(nm単位)であ
る。)また、無機酸化物からなる反射防止膜3は、上述
の無機系材料を真空蒸着法、イオンプレーティング法、
スパッタリング法に代表される物理的蒸着法(Phys
ical Vapour Deposition、PV
D)法で被膜化することにより得られる。
【0036】また、反射防止膜3には、液状組成物とし
て透明基材2上に塗布することにより被膜形成するもの
もある。この場合、液状組成物は、塗布作業する際の適
用温度で10ポアズ以下、好ましくは1ポアズ以下の粘
度をもつものが用いられる。塗布方法としては、通常の
コーティング作業で用いられる方法が可能であるが、膜
厚をコントロールする観点から、カーテンフロー塗装、
浸漬塗装、スピン塗装等が好ましい。
て透明基材2上に塗布することにより被膜形成するもの
もある。この場合、液状組成物は、塗布作業する際の適
用温度で10ポアズ以下、好ましくは1ポアズ以下の粘
度をもつものが用いられる。塗布方法としては、通常の
コーティング作業で用いられる方法が可能であるが、膜
厚をコントロールする観点から、カーテンフロー塗装、
浸漬塗装、スピン塗装等が好ましい。
【0037】この液状組成物は、被膜として屈折率の条
件を満たしそれ自身またはそれが溶媒に分散または溶解
するものであれば良いが、とくに有機材料ないしは有機
材料中に透明性を損なわない程度無機系微粒子を分散さ
せたもの、被膜形成性を持つ無機系材料で溶媒に分散ま
たは溶解するか、それ自身液状であるもの、上記の有機
材料と上記の無機系材料の混合物のいずれかが用いられ
る。
件を満たしそれ自身またはそれが溶媒に分散または溶解
するものであれば良いが、とくに有機材料ないしは有機
材料中に透明性を損なわない程度無機系微粒子を分散さ
せたもの、被膜形成性を持つ無機系材料で溶媒に分散ま
たは溶解するか、それ自身液状であるもの、上記の有機
材料と上記の無機系材料の混合物のいずれかが用いられ
る。
【0038】有機材料には、比較的屈折率の高い物質と
してポリカーボネート等の各種重合体組成物、メラミン
樹脂等の各種硬化性樹脂形成組成物、芳香族イソシアネ
ート等のウレタン形成組成物等がある。また、有機材料
には、比較的屈折率の低い物質として芳香環を含まない
アクリル系を含むビニル系共重合体、フッ素置換された
各種ポリマー、芳香環を含まないポリエステル系重合体
繊維系誘導体、シリコーン系ポリマー炭化水素系ポリマ
ー等がある。
してポリカーボネート等の各種重合体組成物、メラミン
樹脂等の各種硬化性樹脂形成組成物、芳香族イソシアネ
ート等のウレタン形成組成物等がある。また、有機材料
には、比較的屈折率の低い物質として芳香環を含まない
アクリル系を含むビニル系共重合体、フッ素置換された
各種ポリマー、芳香環を含まないポリエステル系重合体
繊維系誘導体、シリコーン系ポリマー炭化水素系ポリマ
ー等がある。
【0039】無機系微粒子を分散させた有機材料は、無
機系微粒子が高屈折率を有するために、高屈折率をもつ
反射防止膜3を形成する際にも上述の比較的屈折率の低
い物質が用いられる。なお、無機系微粒子を分散または
溶解させた有機材料には、有機置換されたケイ素化合物
も含まれる。
機系微粒子が高屈折率を有するために、高屈折率をもつ
反射防止膜3を形成する際にも上述の比較的屈折率の低
い物質が用いられる。なお、無機系微粒子を分散または
溶解させた有機材料には、有機置換されたケイ素化合物
も含まれる。
【0040】被膜形成性を持ち溶媒に分散または溶解す
るか、それ自身液状である無機系材料には、比較的屈折
率の高い物質として、各種元素のアルコキシド、有機酸
の塩、配位性化合物と結合した配位化合物がある。これ
らの例としては、チタンテトラエトキシド等の金属アル
コレート化合物、ジブトキシチタニウムビスアセチルア
アセトネート等のキレート化合物、炭酸ジルコニールア
ンモニウム等の活性無機ポリマーが用いられる。また、
被膜形成性を持ち溶媒に分散または溶解するか、それ自
身液状である無機系材料には、比較的屈折率の低い物質
として、芳香環を含まない有機置換されたケイ素化合
物、各種アルキルシリケート類、コロイド状に分散され
たシリカゾル等の微粒子状シリカが用いられる。
るか、それ自身液状である無機系材料には、比較的屈折
率の高い物質として、各種元素のアルコキシド、有機酸
の塩、配位性化合物と結合した配位化合物がある。これ
らの例としては、チタンテトラエトキシド等の金属アル
コレート化合物、ジブトキシチタニウムビスアセチルア
アセトネート等のキレート化合物、炭酸ジルコニールア
ンモニウム等の活性無機ポリマーが用いられる。また、
被膜形成性を持ち溶媒に分散または溶解するか、それ自
身液状である無機系材料には、比較的屈折率の低い物質
として、芳香環を含まない有機置換されたケイ素化合
物、各種アルキルシリケート類、コロイド状に分散され
たシリカゾル等の微粒子状シリカが用いられる。
【0041】2層からなる反射防止膜3の場合、層構成
は、透明基材2の上に第1層3Aの液状組成物が塗布さ
れ、第1層3Aの上に第2層3Bの液状組成物が塗布さ
れる。この際、第1層3Aの液状組成物の屈折率は、透
明基材2の屈折率と第2層3Bの液状組成物の屈折率の
いずれよりも0.03以上、好ましくは0.05以上高
いものとする。
は、透明基材2の上に第1層3Aの液状組成物が塗布さ
れ、第1層3Aの上に第2層3Bの液状組成物が塗布さ
れる。この際、第1層3Aの液状組成物の屈折率は、透
明基材2の屈折率と第2層3Bの液状組成物の屈折率の
いずれよりも0.03以上、好ましくは0.05以上高
いものとする。
【0042】また、3層からなる反射防止膜4の場合、
層構成は、透明基材2の上に第1層4Aの液状組成物が
塗布され、第1層4Aの上に第2層4Bの液状組成物が
塗布され、第2層4Bの上に第3層4Cの液状組成物が
塗布される。この際、第1層4Aの液状組成物の屈折率
は、透明基材2の屈折率と第3層4Cの液状組成物の屈
折率のいずれよりも0.03以上、好ましくは0.05
以上高いものとする。一方、第2層4Bの液状組成物の
屈折率は、第1層4Aの液状組成物の屈折率よりも0.
03以上、好ましくは0.05以上とする。
層構成は、透明基材2の上に第1層4Aの液状組成物が
塗布され、第1層4Aの上に第2層4Bの液状組成物が
塗布され、第2層4Bの上に第3層4Cの液状組成物が
塗布される。この際、第1層4Aの液状組成物の屈折率
は、透明基材2の屈折率と第3層4Cの液状組成物の屈
折率のいずれよりも0.03以上、好ましくは0.05
以上高いものとする。一方、第2層4Bの液状組成物の
屈折率は、第1層4Aの液状組成物の屈折率よりも0.
03以上、好ましくは0.05以上とする。
【0043】なお、反射防止膜3及び反射防止層4の各
層の塗布の際、各層は、それぞれ接する層に対して化学
処理、物理処理をすることによって、付着性を向上させ
ることができる。
層の塗布の際、各層は、それぞれ接する層に対して化学
処理、物理処理をすることによって、付着性を向上させ
ることができる。
【0044】液状組成物は、上述の塗布方法により透明
基材2上に第1層3Aが塗布される。第2層3Bは、第
1層3Aが塗布され、硬化及び/または乾燥後に、塗布
しても良いが、予備的に硬化及び/または乾燥させてか
ら塗布しても良い。予備的に硬化及び/または乾燥させ
た場合、反射防止膜3は、すべての層が塗布された後に
同時に硬化及び/または乾燥される。
基材2上に第1層3Aが塗布される。第2層3Bは、第
1層3Aが塗布され、硬化及び/または乾燥後に、塗布
しても良いが、予備的に硬化及び/または乾燥させてか
ら塗布しても良い。予備的に硬化及び/または乾燥させ
た場合、反射防止膜3は、すべての層が塗布された後に
同時に硬化及び/または乾燥される。
【0045】以上のように構成された反射防止フィルタ
ー1は、表面処理剤5の下層が上述のような反射防止膜
3であったが、係る構成に限定されるものではない。
ー1は、表面処理剤5の下層が上述のような反射防止膜
3であったが、係る構成に限定されるものではない。
【0046】すなわち、表面処理剤5は、下層がハード
コート等の被膜材料に被膜されたものでも良い。むし
ろ、表面処理剤5は、下層の被膜材料等によって付着
性、硬度、耐薬品性、耐久性、染色性等の諸物性を向上
させることが可能である。
コート等の被膜材料に被膜されたものでも良い。むし
ろ、表面処理剤5は、下層の被膜材料等によって付着
性、硬度、耐薬品性、耐久性、染色性等の諸物性を向上
させることが可能である。
【0047】また、表面処理剤5は、特公昭150ー2
8092号公報、特公昭50ー28446号公報、特公
昭50ー39449号公報、特公昭51ー24368号
公報、特開昭52ー112698号公報、特公昭57ー
2735号公報に記載のプラスチック表面硬度化被膜上
に塗布することによって、硬度を向上させることができ
る。さらに、表面処理剤5は、(メタ)アクリル酸とペ
ンタエリスリトール等から合成されるアクリル系架橋物
の表面に塗布することができる。
8092号公報、特公昭50ー28446号公報、特公
昭50ー39449号公報、特公昭51ー24368号
公報、特開昭52ー112698号公報、特公昭57ー
2735号公報に記載のプラスチック表面硬度化被膜上
に塗布することによって、硬度を向上させることができ
る。さらに、表面処理剤5は、(メタ)アクリル酸とペ
ンタエリスリトール等から合成されるアクリル系架橋物
の表面に塗布することができる。
【0048】
【実施例】以下に本発明の具体的な実施例と該実施例の
性能を実証するための実験を示す。しかし、本発明は、
以下の実施例に限定されるものではない。
性能を実証するための実験を示す。しかし、本発明は、
以下の実施例に限定されるものではない。
【0049】実施例1 本実施例において用いた、フォスファゼン化合物は、化
2に示された化合物における置換基Rの構造を炭素数1
8のアルキル基とし、置換基QをCH2CF2(CF
2O)n(C2F4O)mCF2CH2として(n及びmは1
以上の整数)なるものである。
2に示された化合物における置換基Rの構造を炭素数1
8のアルキル基とし、置換基QをCH2CF2(CF
2O)n(C2F4O)mCF2CH2として(n及びmは1
以上の整数)なるものである。
【0050】表面処理剤5は、該フォスファゼン化合物
0.4重量部にヘキサン380重量部、アルコール20
重量部を添加混合し、均一な溶液とした後、さらにメン
ブランフィルターでろ過を行い調製した。
0.4重量部にヘキサン380重量部、アルコール20
重量部を添加混合し、均一な溶液とした後、さらにメン
ブランフィルターでろ過を行い調製した。
【0051】透明基材2は、厚さ100μmのハードコ
ート付きポリエチレンテレフタラート(PET)フィル
ムを用いた。
ート付きポリエチレンテレフタラート(PET)フィル
ムを用いた。
【0052】反射防止膜3は、真空蒸着法によりPET
フィルムの片面に厚さ120nmのITOを第1層3A
としてプレ蒸着し、その上に第2層3BとしてSiO2
を厚さ70nm蒸着して形成した。
フィルムの片面に厚さ120nmのITOを第1層3A
としてプレ蒸着し、その上に第2層3BとしてSiO2
を厚さ70nm蒸着して形成した。
【0053】反射防止フィルター1は、反射防止膜3に
表面処理剤5を5cm/minの引き上げ速度でディプ
コーティングして得られた。
表面処理剤5を5cm/minの引き上げ速度でディプ
コーティングして得られた。
【0054】実施例2〜実施例10 本実施例において、フォスファゼン化合物は、化2に示
された長鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持
つフォスファゼン化合物として、置換基R及びQを表1
に示した構造としてなるものである。
された長鎖炭化水素基或いはフルオロポリエーテルを持
つフォスファゼン化合物として、置換基R及びQを表1
に示した構造としてなるものである。
【0055】
【表1】
【0056】そして、表面処理剤5は、これら実施例2
〜実施例10のフォスファゼン化合物を用いて、実施例
1と同様にして調製した。また、反射防止フィルター1
は、実施例1と同様にして得られた。
〜実施例10のフォスファゼン化合物を用いて、実施例
1と同様にして調製した。また、反射防止フィルター1
は、実施例1と同様にして得られた。
【0057】比較例1〜比較例3 比較のため、フォスファゼン化合物は、化2に示す置換
基R及びQが表2に示した構造を持つものとして実施例
1と同様にして得られた。
基R及びQが表2に示した構造を持つものとして実施例
1と同様にして得られた。
【0058】
【表2】
【0059】比較例4〜比較例8 本比較例において、反射防止フィルター1は、表面処理
剤5を被覆させないもの(比較例4)及び表面処理剤5
としてフッ素系樹脂を被覆させたもの(比較例5〜比較
例8)として実施例1と同様にして得られた。具体的に
は、ポリテトラフルオロエチレンを表面処理剤5として
比較例5、ポリビニリデンフルオライドを表面処理剤5
として比較例6、テトラフルオロエチレンーエチレン共
重合体を表面処理剤5として比較例7、及びクロロトリ
フルオロエチレンーエチレン共重合体を表面処理剤5と
して比較例8を得た。
剤5を被覆させないもの(比較例4)及び表面処理剤5
としてフッ素系樹脂を被覆させたもの(比較例5〜比較
例8)として実施例1と同様にして得られた。具体的に
は、ポリテトラフルオロエチレンを表面処理剤5として
比較例5、ポリビニリデンフルオライドを表面処理剤5
として比較例6、テトラフルオロエチレンーエチレン共
重合体を表面処理剤5として比較例7、及びクロロトリ
フルオロエチレンーエチレン共重合体を表面処理剤5と
して比較例8を得た。
【0060】性能評価試験 上述のようにして得られた実施例1〜実施例10及び比
較例1〜比較例8までの反射防止フィルター1について
性能試験を下記の方法で行った。
較例1〜比較例8までの反射防止フィルター1について
性能試験を下記の方法で行った。
【0061】1 耐汚染性試験 耐汚染性試験は、水道水5mlをフィルター面にしたた
らせ、室温雰囲気下で48時間放置し、その後、水垢を
布で拭いたときの水垢の残存状態を観察することにより
判断した。
らせ、室温雰囲気下で48時間放置し、その後、水垢を
布で拭いたときの水垢の残存状態を観察することにより
判断した。
【0062】結果は、水垢が除去できた時を良好とし、
除去できなかった時を不良とした。
除去できなかった時を不良とした。
【0063】2 滑り性試験 滑り性試験は、鉛筆でフィルター表面を引っかいたとき
の引っかかり具合により判断した。結果は、全く引っか
からないときを○、強く引っかくと引っかかる時を△、
弱く引っかいても引っかかるときを×とした。
の引っかかり具合により判断した。結果は、全く引っか
からないときを○、強く引っかくと引っかかる時を△、
弱く引っかいても引っかかるときを×とした。
【0064】3 耐摩耗試験 耐摩耗試験は、フィルター表面をスチールウール#00
00によって200g荷重下で30回擦った後に表面の
状態を観察することにより判断した。結果は、全く傷が
つかないときを○、細かい傷がつくときを△、著しく傷
がつくときを×とした。
00によって200g荷重下で30回擦った後に表面の
状態を観察することにより判断した。結果は、全く傷が
つかないときを○、細かい傷がつくときを△、著しく傷
がつくときを×とした。
【0065】4 手垢の付きにくさ試験 手垢の付きにくさ試験は、フィルター表面に指先を接触
させ、その後、表面の状態を観察することで判断した。
結果は、手垢が付いても目立たないときを○、手垢が付
いても簡単に除去できるときを△、手垢が付いた後が目
立つときを×とした。
させ、その後、表面の状態を観察することで判断した。
結果は、手垢が付いても目立たないときを○、手垢が付
いても簡単に除去できるときを△、手垢が付いた後が目
立つときを×とした。
【0066】試験結果 表3は、1〜4に示した試験について、実施例1から実
施例10までの試験結果を示している。
施例10までの試験結果を示している。
【0067】
【表3】
【0068】表4は、1〜4に示した試験について、比
較例1から比較例3までの試験結果を示している。
較例1から比較例3までの試験結果を示している。
【0069】
【表4】
【0070】表5は、1〜4に示した試験について、比
較例5から比較例8までの試験結果を示している。
較例5から比較例8までの試験結果を示している。
【0071】
【表5】
【0072】表3及び表4から明らかなように、表面処
理剤は、化2に示された長鎖炭化水素基或いはフルオロ
ポリエーテルを持つフォスファゼン化合物の場合におい
て、耐汚染性試験、滑り性試験、耐摩耗性試験、手垢の
付きにくさ試験においてすべて良好な結果が得られた。
また表3及び表5から明らかなように、表面処理剤は、
化2に示された長鎖炭化水素基或いはフルオロポリエー
テルを持つフォスファゼン化合物の場合において、フッ
素系樹脂の場合よりも、耐汚染性試験、滑り性試験、耐
摩耗性試験、手垢の付きにくさ試験においてすべて良好
な結果が得られた。
理剤は、化2に示された長鎖炭化水素基或いはフルオロ
ポリエーテルを持つフォスファゼン化合物の場合におい
て、耐汚染性試験、滑り性試験、耐摩耗性試験、手垢の
付きにくさ試験においてすべて良好な結果が得られた。
また表3及び表5から明らかなように、表面処理剤は、
化2に示された長鎖炭化水素基或いはフルオロポリエー
テルを持つフォスファゼン化合物の場合において、フッ
素系樹脂の場合よりも、耐汚染性試験、滑り性試験、耐
摩耗性試験、手垢の付きにくさ試験においてすべて良好
な結果が得られた。
【0073】
【発明の効果】本発明に係る反射防止フィルターでは、
透明基材と、この透明基材の上に設けられた単層或いは
複層の反射防止膜と、これら反射防止膜の最外隔膜の表
面に化2で示される表面処理剤を被膜させた表面処理層
とを備えることにより、反射防止フィルターの表面の耐
汚染性、滑り性、耐摩耗性、手垢の付きにくさといった
表面物性を向上させることができる。
透明基材と、この透明基材の上に設けられた単層或いは
複層の反射防止膜と、これら反射防止膜の最外隔膜の表
面に化2で示される表面処理剤を被膜させた表面処理層
とを備えることにより、反射防止フィルターの表面の耐
汚染性、滑り性、耐摩耗性、手垢の付きにくさといった
表面物性を向上させることができる。
【図1】本発明に係る2層の反射防止膜からなる反射防
止フィルターの部分要部縦断面図である。
止フィルターの部分要部縦断面図である。
【図2】本発明に係る3層の反射防止膜からなる反射防
止フィルターの部分要部縦断面図である。
止フィルターの部分要部縦断面図である。
1. 反射防止フィルター 2. 透明基材 3.4.反射防止膜 5. 表面処理剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 富夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 透明基材と、 上記透明基材の上に設けられた単層或いは複層の反射防
止膜と、 上記反射防止膜の表面に化1で示されるフォスファゼン
化合物を含む表面処理剤を被膜させた表面処理層と、 を備える反射防止フィルター。 【化1】 - 【請求項2】 上記反射防止膜は、少なくともその表面
近傍部分が二酸化珪素を含む物質で構成されることを特
徴とした請求項1記載の反射防止フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7289928A JPH09133802A (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | 反射防止フィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7289928A JPH09133802A (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | 反射防止フィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09133802A true JPH09133802A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=17749576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7289928A Abandoned JPH09133802A (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | 反射防止フィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09133802A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| JP2009512905A (ja) * | 2005-10-24 | 2009-03-26 | アキュロン, インコーポレイテッド | 化学ワイプ |
| EP2044094A4 (en) * | 2006-07-13 | 2009-08-05 | Agency Science Tech & Res | PHOSPHAZINE COMPOUND, LUBRICANTS AND MAGNETIC RECORDING MEDIA COMPRISING SUCH A COMPOUND, METHOD OF PRODUCTION AND LUBRICATION METHOD |
| CN103360889A (zh) * | 2013-07-31 | 2013-10-23 | 陕西师范大学 | 石质彩绘加固剂 |
-
1995
- 1995-11-08 JP JP7289928A patent/JPH09133802A/ja not_active Abandoned
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| JP2009512905A (ja) * | 2005-10-24 | 2009-03-26 | アキュロン, インコーポレイテッド | 化学ワイプ |
| EP2044094A4 (en) * | 2006-07-13 | 2009-08-05 | Agency Science Tech & Res | PHOSPHAZINE COMPOUND, LUBRICANTS AND MAGNETIC RECORDING MEDIA COMPRISING SUCH A COMPOUND, METHOD OF PRODUCTION AND LUBRICATION METHOD |
| CN103360889A (zh) * | 2013-07-31 | 2013-10-23 | 陕西师范大学 | 石质彩绘加固剂 |
| CN103360889B (zh) * | 2013-07-31 | 2015-10-28 | 陕西师范大学 | 石质彩绘加固剂 |
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| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20060327 |