JPH09133807A - 樹脂ブラックマトリックスの形成方法 - Google Patents
樹脂ブラックマトリックスの形成方法Info
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- JPH09133807A JPH09133807A JP28873095A JP28873095A JPH09133807A JP H09133807 A JPH09133807 A JP H09133807A JP 28873095 A JP28873095 A JP 28873095A JP 28873095 A JP28873095 A JP 28873095A JP H09133807 A JPH09133807 A JP H09133807A
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- green
- red
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- black matrix
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮光能が高く、画素との重なり部分に突起が
なく、かつ平坦性が良好な樹脂ブラックマトリックス
を、簡便な方法で形成する。 【解決手段】 赤、緑および青の各画素が予め所定形状
に形成された透明基材上に、カチオン重合性化合物、黒
色顔料、光酸発生剤および溶剤を含む黒色レジストを、
赤、緑および青の各画素間の隙間が埋まるように全面塗
布して、乾燥し、次に前記基材の非塗布面(背面)より
紫外光を露光し、露光後熱硬化および現像を行うことに
より、赤、緑および青各画素間に遮光層(ブラックマト
リックス)を形成させる。
なく、かつ平坦性が良好な樹脂ブラックマトリックス
を、簡便な方法で形成する。 【解決手段】 赤、緑および青の各画素が予め所定形状
に形成された透明基材上に、カチオン重合性化合物、黒
色顔料、光酸発生剤および溶剤を含む黒色レジストを、
赤、緑および青の各画素間の隙間が埋まるように全面塗
布して、乾燥し、次に前記基材の非塗布面(背面)より
紫外光を露光し、露光後熱硬化および現像を行うことに
より、赤、緑および青各画素間に遮光層(ブラックマト
リックス)を形成させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶ディス
プレイやカラービデオカメラなどに使用されるカラーフ
ィルターのブラックマトリックスを形成する方法に関す
るものである。
プレイやカラービデオカメラなどに使用されるカラーフ
ィルターのブラックマトリックスを形成する方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイ用やビデオカメラ用の
カラーフィルターにおいて、その高コントラスト化およ
び高精彩化のためにブラックマトリックスを形成するこ
とは、今や必須となっている。ブラックマトリックスを
形成する方法は、クロムなどの金属膜を用いる方法と、
黒色樹脂を用いる方法の二つに大別できる。
カラーフィルターにおいて、その高コントラスト化およ
び高精彩化のためにブラックマトリックスを形成するこ
とは、今や必須となっている。ブラックマトリックスを
形成する方法は、クロムなどの金属膜を用いる方法と、
黒色樹脂を用いる方法の二つに大別できる。
【0003】金属膜を用いる場合、赤(R)、緑(G)
および青(B)の各色の画素形成に先立ち、透明基板上
にスパッタリングによりクロムなどの金属膜を設け、そ
の後フォトリソグラフィー工程およびエッチング工程を
経て、ブラックマトリックスの形成を行う方式が一般的
である。しかしこの方法は、真空成膜設備を要し、また
工程数が多いため、製造コストが高くなる。さらには、
最終的にディスプレイなどとしたときに、金属膜特有の
反射のため、画面が見にくくなるという欠点を有する。
および青(B)の各色の画素形成に先立ち、透明基板上
にスパッタリングによりクロムなどの金属膜を設け、そ
の後フォトリソグラフィー工程およびエッチング工程を
経て、ブラックマトリックスの形成を行う方式が一般的
である。しかしこの方法は、真空成膜設備を要し、また
工程数が多いため、製造コストが高くなる。さらには、
最終的にディスプレイなどとしたときに、金属膜特有の
反射のため、画面が見にくくなるという欠点を有する。
【0004】一方、黒色樹脂を用いる方法においては、
黒色の感光性樹脂を用いる方法が最も一般的である。こ
の場合、黒色感光性樹脂によるブラックマトリックスを
予めフォトリソグラフィーにより形成し、このブラック
マトリックス間に、赤、緑および青の各画素を順次フォ
トリソグラフィーにより形成していく方法が多く採用さ
れている。この方法による場合、ブラックマトリックス
層と各画素との境界部から光漏れが発生するのを防止す
るため、ブラックマトリックス層と各画素の端面を一部
重ね合わせる必要がある。現状では、この重なり部分が
0.5〜1μm 程度の厚みを有する突起状の盛り上がりと
なっており、特にオーバーコートレス仕様のカラーフィ
ルターの場合、この突起が透明電極断線の原因や液晶配
向の乱れの原因になるといわれ、問題視されている。
黒色の感光性樹脂を用いる方法が最も一般的である。こ
の場合、黒色感光性樹脂によるブラックマトリックスを
予めフォトリソグラフィーにより形成し、このブラック
マトリックス間に、赤、緑および青の各画素を順次フォ
トリソグラフィーにより形成していく方法が多く採用さ
れている。この方法による場合、ブラックマトリックス
層と各画素との境界部から光漏れが発生するのを防止す
るため、ブラックマトリックス層と各画素の端面を一部
重ね合わせる必要がある。現状では、この重なり部分が
0.5〜1μm 程度の厚みを有する突起状の盛り上がりと
なっており、特にオーバーコートレス仕様のカラーフィ
ルターの場合、この突起が透明電極断線の原因や液晶配
向の乱れの原因になるといわれ、問題視されている。
【0005】この重なり部分の突起を回避するため、特
開平 1-293306 号公報には、顔料分散感光性樹脂を用い
て、赤、緑および青の各画素をフォトリソグラフィーに
より予め形成したあと、これらの画素上に、各画素間の
隙間が埋まるように黒色感光性樹脂を全面塗布し、透明
基材面より露光(背面露光)し、赤、緑および青の各画
素間にブラックマトリックスを埋め込む方法が提案され
ている。この方法は、平坦性も良好であり、さらに金属
膜を用いる方法に比べ、コスト的にも、また低反射であ
るという点でも有利である。しかしこの方法において
は、黒色感光性樹脂として汎用されているラジカル重合
タイプのアクリル樹脂等を選択した場合、大気雰囲気下
では非露光面の酸素による重合阻害効果が非常に大き
く、十分な遮光能を確保できる膜厚まで硬化を進めるこ
とが難しい。
開平 1-293306 号公報には、顔料分散感光性樹脂を用い
て、赤、緑および青の各画素をフォトリソグラフィーに
より予め形成したあと、これらの画素上に、各画素間の
隙間が埋まるように黒色感光性樹脂を全面塗布し、透明
基材面より露光(背面露光)し、赤、緑および青の各画
素間にブラックマトリックスを埋め込む方法が提案され
ている。この方法は、平坦性も良好であり、さらに金属
膜を用いる方法に比べ、コスト的にも、また低反射であ
るという点でも有利である。しかしこの方法において
は、黒色感光性樹脂として汎用されているラジカル重合
タイプのアクリル樹脂等を選択した場合、大気雰囲気下
では非露光面の酸素による重合阻害効果が非常に大き
く、十分な遮光能を確保できる膜厚まで硬化を進めるこ
とが難しい。
【0006】そこで、特開平 5-34517号公報や特開平 7
-120610 号公報には、黒色レジスト塗布面からの露光と
透明基材側からの露光(背面露光)を併用しながら、画
像重なり部分での突起の生成を回避し、かつ十分な遮光
能を確保できる膜厚まで硬化を進める方法が提案されて
いる。しかしながら、この方法は、製造工程が増えるう
え、製造装置も煩雑となるため、必ずしも実用的とはい
えない。
-120610 号公報には、黒色レジスト塗布面からの露光と
透明基材側からの露光(背面露光)を併用しながら、画
像重なり部分での突起の生成を回避し、かつ十分な遮光
能を確保できる膜厚まで硬化を進める方法が提案されて
いる。しかしながら、この方法は、製造工程が増えるう
え、製造装置も煩雑となるため、必ずしも実用的とはい
えない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このような状況のもと
で、本発明の目的は、遮光能が高く、かつ画素との重な
り部分に突起がなく、平坦性が良好な樹脂ブラックマト
リックスを、簡便な方法で形成することにある。
で、本発明の目的は、遮光能が高く、かつ画素との重な
り部分に突起がなく、平坦性が良好な樹脂ブラックマト
リックスを、簡便な方法で形成することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を行った結果、特定組成の黒
色レジストを用い、全面塗布および背面露光の方式を採
用することにより、優れた結果が得られることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意研究を行った結果、特定組成の黒
色レジストを用い、全面塗布および背面露光の方式を採
用することにより、優れた結果が得られることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち本発明は、予め赤、緑および青の
各画素が形成された透明基材上に、カチオン重合性化合
物、黒色顔料、光酸発生剤、および溶剤を含む黒色レジ
ストを、赤、緑および青の各画素間の隙間がすべて埋ま
るように全面塗布して、乾燥し、次に前記基材の非塗布
面(透明基材面)より紫外光を露光し、露光後熱硬化お
よび現像を行うことにより、赤、緑および青の各画素間
に遮光層(ブラックマトリックス)を形成させる方法を
提供するものである。
各画素が形成された透明基材上に、カチオン重合性化合
物、黒色顔料、光酸発生剤、および溶剤を含む黒色レジ
ストを、赤、緑および青の各画素間の隙間がすべて埋ま
るように全面塗布して、乾燥し、次に前記基材の非塗布
面(透明基材面)より紫外光を露光し、露光後熱硬化お
よび現像を行うことにより、赤、緑および青の各画素間
に遮光層(ブラックマトリックス)を形成させる方法を
提供するものである。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明においては、カチオン重合
性化合物、黒色顔料、光酸発生剤および溶剤を含む黒色
レジストを用いる。この黒色レジストの成分であるカチ
オン重合性化合物は、カチオンを連鎖担体としてビニル
重合を起こす化合物であれば、いかなるものでもよい
が、特に後の光硬化性やアルカリ現像性に優れることか
ら、下記一般式(I)で示される化合物が好ましく用い
られる。
性化合物、黒色顔料、光酸発生剤および溶剤を含む黒色
レジストを用いる。この黒色レジストの成分であるカチ
オン重合性化合物は、カチオンを連鎖担体としてビニル
重合を起こす化合物であれば、いかなるものでもよい
が、特に後の光硬化性やアルカリ現像性に優れることか
ら、下記一般式(I)で示される化合物が好ましく用い
られる。
【0011】
【0012】式中、平均繰り返し数nは0以上20以下
の値をとり、R1、R2、R3 、R4 、R5 およびR6 は
それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アリー
ル、アラルキル、アルコキシ、アリーロキシまたはシク
ロアルキルを表し、それぞれのQは独立に、−OHまた
は−OROCH=CH2 (ここで、Rは1〜12個の炭
素原子を有するアルキレンを表す)で示される基を表す
が、−OH/−OROCH=CH2 のモル比は10/9
0〜90/10である。
の値をとり、R1、R2、R3 、R4 、R5 およびR6 は
それぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アリー
ル、アラルキル、アルコキシ、アリーロキシまたはシク
ロアルキルを表し、それぞれのQは独立に、−OHまた
は−OROCH=CH2 (ここで、Rは1〜12個の炭
素原子を有するアルキレンを表す)で示される基を表す
が、−OH/−OROCH=CH2 のモル比は10/9
0〜90/10である。
【0013】一般式(I)において、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 およびR6 は、すべてが同一でも、一
部が同一でも、またすべてが異なっていてもよく、それ
ぞれ、水素、ハロゲン、アルキル、アリール、アラルキ
ル、アルコキシ、アリーロキシまたはシクロアルキを表
す。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素などが、ア
ルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どを包含する1〜6個程度の炭素原子を有するものが、
アリールとしては、フェニル、トリル、ナフチルなどを
包含する6〜16個程度の炭素原子を有するものが、ア
ラルキルとしては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒド
リルなどを包含する7〜16個程度の炭素原子を有する
ものが、アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシなどを包含する1〜6個程度の炭素原子を有す
るものが、アリーロキシとしては、フェノキシ、ナフト
キシ、アンスロキシなどを包含する6〜16個程度の炭
素原子を有するものが、またシクロアルキルとしては、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどを包含する3〜1
2個程度の炭素原子を有するものが、それぞれ例示され
る。
R3 、R4 、R5 およびR6 は、すべてが同一でも、一
部が同一でも、またすべてが異なっていてもよく、それ
ぞれ、水素、ハロゲン、アルキル、アリール、アラルキ
ル、アルコキシ、アリーロキシまたはシクロアルキを表
す。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素などが、ア
ルキルとしては、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どを包含する1〜6個程度の炭素原子を有するものが、
アリールとしては、フェニル、トリル、ナフチルなどを
包含する6〜16個程度の炭素原子を有するものが、ア
ラルキルとしては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒド
リルなどを包含する7〜16個程度の炭素原子を有する
ものが、アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシなどを包含する1〜6個程度の炭素原子を有す
るものが、アリーロキシとしては、フェノキシ、ナフト
キシ、アンスロキシなどを包含する6〜16個程度の炭
素原子を有するものが、またシクロアルキルとしては、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどを包含する3〜1
2個程度の炭素原子を有するものが、それぞれ例示され
る。
【0014】一般式(I)中のQは、それぞれ−OHま
たは−OROCH=CH2 (ここにRは前記の意味を表
す)であり、両者は、モル比が (−OH)/(−OROCH=CH2 )=10/90〜
90/10 となる範囲で変化しうる。ここで、Rとしては、メチレ
ン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレン、
ヘキシレン、ノニレン、ドデシレンなどの直鎖または分
岐鎖状のアルキレンを挙げることができる。
たは−OROCH=CH2 (ここにRは前記の意味を表
す)であり、両者は、モル比が (−OH)/(−OROCH=CH2 )=10/90〜
90/10 となる範囲で変化しうる。ここで、Rとしては、メチレ
ン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレン、
ヘキシレン、ノニレン、ドデシレンなどの直鎖または分
岐鎖状のアルキレンを挙げることができる。
【0015】一般式(I)において、nは平均繰り返し
数を表し、0〜20の範囲の値をとることができるが、
なかでも0〜10の範囲が好ましい。nの値が20を越
えると、その化合物の溶剤に対する溶解性が低下するの
で好ましくない。
数を表し、0〜20の範囲の値をとることができるが、
なかでも0〜10の範囲が好ましい。nの値が20を越
えると、その化合物の溶剤に対する溶解性が低下するの
で好ましくない。
【0016】一般式(I)で示されるカチオン重合性化
合物は、例えば、一般式(II)
合物は、例えば、一般式(II)
【0017】
【0018】(式中、n、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 およびR6 は前記の意味を表す)で示される多価フェ
ノール系化合物と、一般式(III)
5 およびR6 は前記の意味を表す)で示される多価フェ
ノール系化合物と、一般式(III)
【0019】XROCH=CH2 (III)
【0020】(式中、Xはハロゲンを表し、Rは前記の
意味を表す)で示されるハロアルキルビニルエーテルを
反応させることにより、製造できる。
意味を表す)で示されるハロアルキルビニルエーテルを
反応させることにより、製造できる。
【0021】一般式(II)で示される多価フェノール系
化合物は、一般に、2価フェノール系化合物とヒドロキ
シベンズアルデヒド系化合物との反応によって、得るこ
とができる。2価フェノール系化合物の例としては、レ
ゾルシン、2−メチルレゾルシン、5−メチルレゾルシ
ン、カテコール、3−メチルカテコール、ヒドロキノ
ン、メチルヒドロキノンなどが挙げられる。ヒドロキシ
ベンズアルデヒド系化合物の例としては、2−ヒドロキ
シベンズアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−ヒドロキシ
−3−メチルベンズアルデヒドなどが挙げられる。ま
た、一般式(I)で示されるカチオン重合性化合物を製
造するために、一般式(II)で示される多価フェノール
系化合物との反応に供される一般式(III) で示されるハ
ロアルキルビニルエーテルは、先に定義したXおよびR
を有する各種の化合物であることができるが、なかでも
2−クロロエチルビニルエーテルが最も一般的である。
化合物は、一般に、2価フェノール系化合物とヒドロキ
シベンズアルデヒド系化合物との反応によって、得るこ
とができる。2価フェノール系化合物の例としては、レ
ゾルシン、2−メチルレゾルシン、5−メチルレゾルシ
ン、カテコール、3−メチルカテコール、ヒドロキノ
ン、メチルヒドロキノンなどが挙げられる。ヒドロキシ
ベンズアルデヒド系化合物の例としては、2−ヒドロキ
シベンズアルデヒド、3−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、4−ヒドロキシベンズアルデヒド、4−ヒドロキシ
−3−メチルベンズアルデヒドなどが挙げられる。ま
た、一般式(I)で示されるカチオン重合性化合物を製
造するために、一般式(II)で示される多価フェノール
系化合物との反応に供される一般式(III) で示されるハ
ロアルキルビニルエーテルは、先に定義したXおよびR
を有する各種の化合物であることができるが、なかでも
2−クロロエチルビニルエーテルが最も一般的である。
【0022】多価フェノール系化合物(II)とハロアル
キルビニルエーテル(III) との反応に際しては、適当な
縮合剤、例えば、無水炭酸ナトリウム、水素化ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
のような無機塩基、金属ナトリウムのようなアルカリ金
属、ナトリウムメチラートのようなアルカリ金属アルコ
ラート、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチルベン
ジルアンモニウムクロライドのような四級アンモニウム
塩などを添加して、反応性を高めることができる。これ
らの縮合剤は、多価フェノール系化合物(II)中のOH
基1グラム当量に対し、0.1〜10モルの範囲、好まし
くは0.3〜2モルの範囲で使用することにより、高い反
応促進効果が得られる。
キルビニルエーテル(III) との反応に際しては、適当な
縮合剤、例えば、無水炭酸ナトリウム、水素化ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
のような無機塩基、金属ナトリウムのようなアルカリ金
属、ナトリウムメチラートのようなアルカリ金属アルコ
ラート、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、
テトラエチルアンモニウムクロライド、トリブチルベン
ジルアンモニウムクロライドのような四級アンモニウム
塩などを添加して、反応性を高めることができる。これ
らの縮合剤は、多価フェノール系化合物(II)中のOH
基1グラム当量に対し、0.1〜10モルの範囲、好まし
くは0.3〜2モルの範囲で使用することにより、高い反
応促進効果が得られる。
【0023】多価フェノール系化合物(II)とハロアル
キルビニルエーテル(III) との反応は、不活性溶媒、例
えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミドのような溶媒中で行うことが
できる。反応温度には特別な制約はないが、一般には室
温から130℃程度の範囲が好ましい。
キルビニルエーテル(III) との反応は、不活性溶媒、例
えば、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミドのような溶媒中で行うことが
できる。反応温度には特別な制約はないが、一般には室
温から130℃程度の範囲が好ましい。
【0024】反応終了後は、任意の手段で目的物を単離
し、また必要により精製することができる。例えば、室
温で反応を行った場合はそのまま、またそれより高い温
度で反応を行った場合は反応液を室温まで冷却したあ
と、トルエンやメチルイソブチルケトンなどで有機層を
抽出し、数回水洗することで、未反応の多価フェノール
系化合物(II)や無機塩を除去し、有機層を無水硫酸ナ
トリウムなどの乾燥剤で乾燥したあと、減圧濃縮するこ
とにより、目的物を取得することができる。もちろんこ
の方法に限定されるわけではなく、その他任意の方法が
採用できる。
し、また必要により精製することができる。例えば、室
温で反応を行った場合はそのまま、またそれより高い温
度で反応を行った場合は反応液を室温まで冷却したあ
と、トルエンやメチルイソブチルケトンなどで有機層を
抽出し、数回水洗することで、未反応の多価フェノール
系化合物(II)や無機塩を除去し、有機層を無水硫酸ナ
トリウムなどの乾燥剤で乾燥したあと、減圧濃縮するこ
とにより、目的物を取得することができる。もちろんこ
の方法に限定されるわけではなく、その他任意の方法が
採用できる。
【0025】以上説明したようなカチオン重合性化合
物、好ましくは一般式(I)で示される化合物は、黒色
レジスト中の全固形分に対して、5〜90重量%の範囲
で、さらには20〜80重量%の範囲で用いるのが好ま
しい。
物、好ましくは一般式(I)で示される化合物は、黒色
レジスト中の全固形分に対して、5〜90重量%の範囲
で、さらには20〜80重量%の範囲で用いるのが好ま
しい。
【0026】本発明で用いる黒色レジストは、このよう
なカチオン重合性化合物に加えて、黒色顔料、光酸発生
剤および溶剤を含有する。黒色顔料の具体例としては、
カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、硫化ビス
マスのような無機顔料、 Mn2O3・CuO・Fe2O3、CoO・Cr2O3・Fe
2O3、CuO・Mn2O3・Cr2O3、CuO・Cr2O3 のような複合金属酸化物、カラーインデックス(C.I.)
ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7のよ
うな有機顔料などが挙げられる。またこれらの黒色顔料
に、赤、緑、青など、他の顔料を混合して使用すること
もできる。本発明で用いる黒色レジスト中の顔料の量
は、レジスト中の全固形分に対して、一般的には10〜
80重量%、好ましくは20〜80重量%、さらに好ま
しくは25〜65重量%の範囲である。
なカチオン重合性化合物に加えて、黒色顔料、光酸発生
剤および溶剤を含有する。黒色顔料の具体例としては、
カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、硫化ビス
マスのような無機顔料、 Mn2O3・CuO・Fe2O3、CoO・Cr2O3・Fe
2O3、CuO・Mn2O3・Cr2O3、CuO・Cr2O3 のような複合金属酸化物、カラーインデックス(C.I.)
ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7のよ
うな有機顔料などが挙げられる。またこれらの黒色顔料
に、赤、緑、青など、他の顔料を混合して使用すること
もできる。本発明で用いる黒色レジスト中の顔料の量
は、レジスト中の全固形分に対して、一般的には10〜
80重量%、好ましくは20〜80重量%、さらに好ま
しくは25〜65重量%の範囲である。
【0027】光酸発生剤は、各種波長の光、例えば紫外
線の作用により酸を発生する任意の化合物であることが
できる。具体的には、それぞれ酸発生基を有するs−ト
リアジン化合物、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホ
ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、
ケイ素化合物/アルミニウム錯体などが例示される。こ
れらをそれぞれ単独で、または2種以上組み合わせて用
いることができるが、本発明においては、光酸発生剤の
少なくとも1種として、s−トリアジン化合物を用いる
のが好ましい。 光酸発生剤となるs−トリアジン化合
物の具体例としては、2−(4−メトキシフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)トリアジン、2−
(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)トリアジン、2−(4−メキシキ−1−ナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)トリアジン、
2−ピペロニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)ト
リアジンなど、さらには、溶剤への溶解性を向上させる
ため、骨格中に臭素原子が導入された2−(2−ブロモ
−4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)トリアジンなどが挙げられる。もちろんこれら
のs−トリアジン化合物は、先に挙げた他の光酸発生剤
と併用することができ、さらには、特定の色素などの増
感剤と併用することも可能である。光酸発生剤の使用量
は、カチオン重合性化合物の量を基準に、2種以上の光
酸発生剤を併用する場合はそれらの合計量として、また
増感剤を併用する場合はそれを含めた量として、一般的
には0.2〜30重量%、好ましくは2〜20重量%の範
囲である。
線の作用により酸を発生する任意の化合物であることが
できる。具体的には、それぞれ酸発生基を有するs−ト
リアジン化合物、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホ
ニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、
ケイ素化合物/アルミニウム錯体などが例示される。こ
れらをそれぞれ単独で、または2種以上組み合わせて用
いることができるが、本発明においては、光酸発生剤の
少なくとも1種として、s−トリアジン化合物を用いる
のが好ましい。 光酸発生剤となるs−トリアジン化合
物の具体例としては、2−(4−メトキシフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)トリアジン、2−
(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)トリアジン、2−(4−メキシキ−1−ナフチ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)トリアジン、
2−ピペロニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)ト
リアジンなど、さらには、溶剤への溶解性を向上させる
ため、骨格中に臭素原子が導入された2−(2−ブロモ
−4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)トリアジンなどが挙げられる。もちろんこれら
のs−トリアジン化合物は、先に挙げた他の光酸発生剤
と併用することができ、さらには、特定の色素などの増
感剤と併用することも可能である。光酸発生剤の使用量
は、カチオン重合性化合物の量を基準に、2種以上の光
酸発生剤を併用する場合はそれらの合計量として、また
増感剤を併用する場合はそれを含めた量として、一般的
には0.2〜30重量%、好ましくは2〜20重量%の範
囲である。
【0028】溶剤は、この分野で通常用いられるもので
あることができる。その具体例としては、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテルのような
エチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのよう
なジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートの
ようなエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ートのようなプロピレングリコールアルキルエーテルア
セテート類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチ
ルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類;エタノール、プロパノール、
ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチ
レングリコール、グリセリンのようなアルコール類;酢
酸ブチル、乳酸エチルのようなエステル類;γ−ブチル
ラクトンのような環状エステル類などが挙げられる。こ
れらの溶剤は、それぞれ単独で、または2種類以上混合
して用いることができる。溶剤の好ましい使用量は、レ
ジスト中の全固形分に対して0.2〜20重量倍程度であ
る。
あることができる。その具体例としては、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテルのような
エチレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエ
ーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルのよう
なジエチレングリコールジアルキルエーテル類;メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートの
ようなエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ートのようなプロピレングリコールアルキルエーテルア
セテート類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチ
ルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類;エタノール、プロパノール、
ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチ
レングリコール、グリセリンのようなアルコール類;酢
酸ブチル、乳酸エチルのようなエステル類;γ−ブチル
ラクトンのような環状エステル類などが挙げられる。こ
れらの溶剤は、それぞれ単独で、または2種類以上混合
して用いることができる。溶剤の好ましい使用量は、レ
ジスト中の全固形分に対して0.2〜20重量倍程度であ
る。
【0029】さらにこの黒色レジストには、所望によ
り、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−7
(商品名“DBU”)のような3級アミン化合物または
その他の塩基性安定剤、レジスト塗布時の平滑性を向上
させるためのレベリング剤、黒色顔料の分散性を向上さ
せるための分散剤などを使用することが可能である。
り、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−7
(商品名“DBU”)のような3級アミン化合物または
その他の塩基性安定剤、レジスト塗布時の平滑性を向上
させるためのレベリング剤、黒色顔料の分散性を向上さ
せるための分散剤などを使用することが可能である。
【0030】本発明に使用される黒色レジストは、例え
ば以下のようにして調製できる。すなわち、予め黒色顔
料を、カチオン重合性化合物の一部および溶剤、また必
要に応じて分散剤と混合し、顔料の平均粒径が0.2μm
以下程度となるように、ビーズミルなどを用いて分散さ
せる。得られた顔料分散液(ミルベース)に、カチオン
重合性化合物の残り量、光酸発生剤および溶剤、さらに
は任意に使用されるその他の成分を所定の濃度となるよ
うに添加し、攪拌して、目的の黒色レジストが得られ
る。
ば以下のようにして調製できる。すなわち、予め黒色顔
料を、カチオン重合性化合物の一部および溶剤、また必
要に応じて分散剤と混合し、顔料の平均粒径が0.2μm
以下程度となるように、ビーズミルなどを用いて分散さ
せる。得られた顔料分散液(ミルベース)に、カチオン
重合性化合物の残り量、光酸発生剤および溶剤、さらに
は任意に使用されるその他の成分を所定の濃度となるよ
うに添加し、攪拌して、目的の黒色レジストが得られ
る。
【0031】本発明では、赤、緑および青の各画素が予
め所定形状に形成された透明基材上に、以上説明した黒
色レジストを用い、各画素間の隙間がすべて埋まるよ
う、この黒色レジストを全面塗布して乾燥し、次にこの
基材の非塗布面(透明基材面)より紫外光を露光し、露
光後熱硬化および現像を行うことにより、赤、緑および
青の各画素間にブラックマトリックスを形成させる。以
下、このようにして樹脂ブラックマトリックスを形成す
る方法について、詳細に説明する。
め所定形状に形成された透明基材上に、以上説明した黒
色レジストを用い、各画素間の隙間がすべて埋まるよ
う、この黒色レジストを全面塗布して乾燥し、次にこの
基材の非塗布面(透明基材面)より紫外光を露光し、露
光後熱硬化および現像を行うことにより、赤、緑および
青の各画素間にブラックマトリックスを形成させる。以
下、このようにして樹脂ブラックマトリックスを形成す
る方法について、詳細に説明する。
【0032】まず、所定形状の赤、緑および青の各画素
を形成するにあたっては、印刷法、染色法、顔料分散
法、電着法など公知の方法がいずれも使用できる。ま
た、このときの画素の形状については特に制限はなく、
ストライプ、ドット、トライアングルなど、いずれのパ
ターンで形成されていてもよい。
を形成するにあたっては、印刷法、染色法、顔料分散
法、電着法など公知の方法がいずれも使用できる。ま
た、このときの画素の形状については特に制限はなく、
ストライプ、ドット、トライアングルなど、いずれのパ
ターンで形成されていてもよい。
【0033】なお、赤、緑および青の各画素が形成され
た透明基材上に黒色レジストを塗布し、基材の非塗布面
(透明基材面)より背面露光を行う場合、各画素中を透
過する微量の紫外光が原因で、赤、緑および青の各画素
上に黒色の硬化膜が薄く残留する現象が見られることが
ある。そこで、このような現象を回避するため、各画素
中に紫外線吸収剤を混入するという提案もなされてい
る。このように、各画素中に紫外線吸収剤を存在させる
ことは、本発明においてももちろん可能である。ただ、
本発明で使用する黒色レジストはγ値が大きく、したが
って露光量の差による硬化度の差が非常に大きくでるた
め、赤、緑および青の各画素の紫外光透過率が10%程
度以下であれば、赤、緑および青の各画素側に細工をし
なくても、各画素上に黒色の硬化膜が薄く残留する現象
を回避できる。
た透明基材上に黒色レジストを塗布し、基材の非塗布面
(透明基材面)より背面露光を行う場合、各画素中を透
過する微量の紫外光が原因で、赤、緑および青の各画素
上に黒色の硬化膜が薄く残留する現象が見られることが
ある。そこで、このような現象を回避するため、各画素
中に紫外線吸収剤を混入するという提案もなされてい
る。このように、各画素中に紫外線吸収剤を存在させる
ことは、本発明においてももちろん可能である。ただ、
本発明で使用する黒色レジストはγ値が大きく、したが
って露光量の差による硬化度の差が非常に大きくでるた
め、赤、緑および青の各画素の紫外光透過率が10%程
度以下であれば、赤、緑および青の各画素側に細工をし
なくても、各画素上に黒色の硬化膜が薄く残留する現象
を回避できる。
【0034】赤、緑および青の各画素を形成したあと、
黒色レジストの塗布を行う。塗布にあたっては、スピン
コート、ロールコート等公知の方法が使用でき、塗布方
式に特別の制約はないが、使用する塗布方式に合わせ
て、黒色レジストの粘度を適切な値に調整することは必
要である。塗布膜厚は、赤、緑および青の各画素間の隙
間にいわゆる白抜けが発生しないよう、その隙間が完全
に埋まり、かつ硬化後のブラックマトリックス膜厚が、
赤、緑および青の各画素の膜厚と同等程度となるよう
に、具体的には透明基材面より0.8〜1.5μm 程度とな
るようにするのが好ましい。
黒色レジストの塗布を行う。塗布にあたっては、スピン
コート、ロールコート等公知の方法が使用でき、塗布方
式に特別の制約はないが、使用する塗布方式に合わせ
て、黒色レジストの粘度を適切な値に調整することは必
要である。塗布膜厚は、赤、緑および青の各画素間の隙
間にいわゆる白抜けが発生しないよう、その隙間が完全
に埋まり、かつ硬化後のブラックマトリックス膜厚が、
赤、緑および青の各画素の膜厚と同等程度となるよう
に、具体的には透明基材面より0.8〜1.5μm 程度とな
るようにするのが好ましい。
【0035】黒色レジストの塗布終了後は、ホットプレ
ートやオーブンなどを用い、塗布された基材を50〜1
00℃で1〜10分間加熱(プリベーク)することによ
り、残存溶剤を除去する。その後、黒色レジストが塗布
されていない透明基材面、すなわち背面より露光を行
う。このとき、基材全面に均一に光線が照射される方法
で露光する。光源は、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、キセノンランプなど、40
0nm以下の波長の紫外光を発生するものであれば特に制
限なく使用できる。露光終了後、再度ホットプレートや
オーブンなどを用いて、露光後の基材を60〜120℃
で1〜60分間加熱(ポスト・エクスポージャー・ベー
ク)することにより、後硬化を行う。露光および後硬化
の条件は、現像後に得られる硬化膜の膜厚が、赤、緑お
よび青の各画素厚みとほぼ同等になるように設定され
る。
ートやオーブンなどを用い、塗布された基材を50〜1
00℃で1〜10分間加熱(プリベーク)することによ
り、残存溶剤を除去する。その後、黒色レジストが塗布
されていない透明基材面、すなわち背面より露光を行
う。このとき、基材全面に均一に光線が照射される方法
で露光する。光源は、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、キセノンランプなど、40
0nm以下の波長の紫外光を発生するものであれば特に制
限なく使用できる。露光終了後、再度ホットプレートや
オーブンなどを用いて、露光後の基材を60〜120℃
で1〜60分間加熱(ポスト・エクスポージャー・ベー
ク)することにより、後硬化を行う。露光および後硬化
の条件は、現像後に得られる硬化膜の膜厚が、赤、緑お
よび青の各画素厚みとほぼ同等になるように設定され
る。
【0036】後硬化終了後、現像を行って、赤、緑およ
び青の各画素のフォトマスク作用で未硬化のまま残存し
ている各画素上の黒色レジスト塗膜を除去する。この際
に用いる現像液は、希アルカリ水溶液、特に希水酸化ナ
トリウム水溶液が好ましい。現像にあたっては、ディッ
プ式、シャワー式、パドル式など、公知の任意の方法を
限定なく使用することができる。現像後は通常、純水に
よりリンスし、さらに乾燥を行う。また、現像および所
望のリンスを行ったあと、必要に応じて150〜230
℃で10〜60分間程度加熱(ポストベーク)して、再
度の後硬化を行うこともできる。このようにして、目的
のブラックマトリックスが形成されたカラーフィルター
が得られる。
び青の各画素のフォトマスク作用で未硬化のまま残存し
ている各画素上の黒色レジスト塗膜を除去する。この際
に用いる現像液は、希アルカリ水溶液、特に希水酸化ナ
トリウム水溶液が好ましい。現像にあたっては、ディッ
プ式、シャワー式、パドル式など、公知の任意の方法を
限定なく使用することができる。現像後は通常、純水に
よりリンスし、さらに乾燥を行う。また、現像および所
望のリンスを行ったあと、必要に応じて150〜230
℃で10〜60分間程度加熱(ポストベーク)して、再
度の後硬化を行うこともできる。このようにして、目的
のブラックマトリックスが形成されたカラーフィルター
が得られる。
【0037】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%およ
び部は、特にことわらないかぎり重量基準である。
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%およ
び部は、特にことわらないかぎり重量基準である。
【0038】合成例1(カチオン重合性化合物1の合
成) 還流冷却器、温度計、攪拌器および窒素導入装置を付し
た反応器に、カテコールと4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの縮合反応により得たOH当量67.9のノボラック
樹脂を27.2g、およびジメチルスルホキシドを50.0
g仕込んで溶解させたあと、粉末状水酸化ナトリウム1
0.0gおよび臭化テトラブチルアンモニウム5.4gを加
え、60℃で30分間攪拌した。次に反応器内温度を6
0℃に保持したまま、2−クロロエチルビニルエーテル
28.1gを20分で滴下し、さらに90℃で6時間保温
することにより反応を完結させた。
成) 還流冷却器、温度計、攪拌器および窒素導入装置を付し
た反応器に、カテコールと4−ヒドロキシベンズアルデ
ヒドの縮合反応により得たOH当量67.9のノボラック
樹脂を27.2g、およびジメチルスルホキシドを50.0
g仕込んで溶解させたあと、粉末状水酸化ナトリウム1
0.0gおよび臭化テトラブチルアンモニウム5.4gを加
え、60℃で30分間攪拌した。次に反応器内温度を6
0℃に保持したまま、2−クロロエチルビニルエーテル
28.1gを20分で滴下し、さらに90℃で6時間保温
することにより反応を完結させた。
【0039】85%リン酸水溶液1.5gで過剰の水酸化
ナトリウムを中和したあと、メチルイソブチルケトン3
00.0gおよび水300.0gを加えて、有機層へ目的物
を抽出し、水層へ無機塩を溶解させた。さらに、水30
0.0gによる水洗を5回繰り返したあと、無水硫酸ナト
リウムにより有機層を乾燥し、濾過後、メチルイソブチ
ルケトンを減圧留去することにより、目的物を35.0g
得た。
ナトリウムを中和したあと、メチルイソブチルケトン3
00.0gおよび水300.0gを加えて、有機層へ目的物
を抽出し、水層へ無機塩を溶解させた。さらに、水30
0.0gによる水洗を5回繰り返したあと、無水硫酸ナト
リウムにより有機層を乾燥し、濾過後、メチルイソブチ
ルケトンを減圧留去することにより、目的物を35.0g
得た。
【0040】その赤外吸収スペクトルから、1610cm
-1と975cm-1にビニル基に基づく吸収が、また120
0cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。さら
に、残存するフェノール性水酸基を中和滴定法により定
量し、ビニルエーテル置換率を算出したところ、置換率
は水酸基のうちの60モル%であった。得られた化合物
は次式の構造を有し、以下これを化合物1という。
-1と975cm-1にビニル基に基づく吸収が、また120
0cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。さら
に、残存するフェノール性水酸基を中和滴定法により定
量し、ビニルエーテル置換率を算出したところ、置換率
は水酸基のうちの60モル%であった。得られた化合物
は次式の構造を有し、以下これを化合物1という。
【0041】
【0042】式中、Qは−OHまたは−OCH2CH2O
CH=CH2 であって、両者のモル比は40/60であ
り、nの値は平均1.5である。
CH=CH2 であって、両者のモル比は40/60であ
り、nの値は平均1.5である。
【0043】合成例2(カチオン重合性化合物2の合
成) 還流冷却器、温度計、攪拌器および窒素導入装置を付し
た反応器に、2−メチルレゾルシンと4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドの縮合反応により得たOH当量72.7の
ノボラック樹脂を58.2g、およびジメチルスルホキシ
ドを152.0g仕込んで溶解させたあと、粉末状水酸化
ナトリウム16.7gおよび臭化テトラブチルアンモニウ
ム7.7gを加え、60℃で30分間攪拌した。次に反応
器内温度を60℃に保持したまま、2−クロロエチルビ
ニルエーテル51.2gを20分で滴下し、さらに70℃
で6時間保温することにより反応を完結させた。
成) 還流冷却器、温度計、攪拌器および窒素導入装置を付し
た反応器に、2−メチルレゾルシンと4−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドの縮合反応により得たOH当量72.7の
ノボラック樹脂を58.2g、およびジメチルスルホキシ
ドを152.0g仕込んで溶解させたあと、粉末状水酸化
ナトリウム16.7gおよび臭化テトラブチルアンモニウ
ム7.7gを加え、60℃で30分間攪拌した。次に反応
器内温度を60℃に保持したまま、2−クロロエチルビ
ニルエーテル51.2gを20分で滴下し、さらに70℃
で6時間保温することにより反応を完結させた。
【0044】85%リン酸水溶液6.0gで過剰の水酸化
ナトリウムを中和したあと、メチルイソブチルケトン2
50.0gおよび水400.0gを加えて、有機層へ目的物
を抽出し、水層へ無機塩を溶解させた。さらに、水40
0.0gによる水洗を5回繰り返したあと、無水硫酸ナト
リウムにより有機層を乾燥し、濾過後、メチルイソブチ
ルケトンを減圧留去することにより、目的物を80.4g
得た。
ナトリウムを中和したあと、メチルイソブチルケトン2
50.0gおよび水400.0gを加えて、有機層へ目的物
を抽出し、水層へ無機塩を溶解させた。さらに、水40
0.0gによる水洗を5回繰り返したあと、無水硫酸ナト
リウムにより有機層を乾燥し、濾過後、メチルイソブチ
ルケトンを減圧留去することにより、目的物を80.4g
得た。
【0045】その赤外吸収スペクトルから、1610cm
-1と975cm-1にビニル基に基づく吸収が、また120
0cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。さら
に、残存するフェノール性水酸基を中和滴定法により定
量し、ビニルエーテル置換率を算出したところ、置換率
は水酸基のうちの50モル%であった。得られた化合物
は次式の構造を有し、以下これを化合物2という。
-1と975cm-1にビニル基に基づく吸収が、また120
0cm-1にエーテル結合に基づく吸収が認められた。さら
に、残存するフェノール性水酸基を中和滴定法により定
量し、ビニルエーテル置換率を算出したところ、置換率
は水酸基のうちの50モル%であった。得られた化合物
は次式の構造を有し、以下これを化合物2という。
【0046】
【0047】式中、Qは−OHまたは−OCH2CH2O
CH=CH2 であって、両者のモル比は50/50であ
る。
CH=CH2 であって、両者のモル比は50/50であ
る。
【0048】実施例1および2ならびに比較例1 〈黒色レジスト配合〉表1に示す配合で、黒色レジスト
を調製した。なお、比較例1として、ラジカル重合タイ
プのアクリル樹脂系黒色レジストを用いた。各例におけ
るカーボンブラックの分散は、サンドミルを用いたビー
ズミル法により行い、最終的に得られたカーボンブラッ
クの平均粒径は、すべて0.1μm 以下であった。
を調製した。なお、比較例1として、ラジカル重合タイ
プのアクリル樹脂系黒色レジストを用いた。各例におけ
るカーボンブラックの分散は、サンドミルを用いたビー
ズミル法により行い、最終的に得られたカーボンブラッ
クの平均粒径は、すべて0.1μm 以下であった。
【0049】
【表1】 黒色レジストの組成 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 成分(部) 実施例1 実施例2 比較例1 ───────────────────────────────── 化合物1 8.4 − − 化合物2 − 8.4 − バインダーポリマー *1 − − 9.5 トリメチロールプロパントリアクリレート − − 9.5 TRIAZINE A *2 1.7 1.7 3.8 カーボンブラック *3 8.5 8.5 6.7 メチルアミルケトン 81.4 81.4 − プロピレングリコールモノ メチルエーテルアセテート − − 70.5 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ *1 バインダーポリマー:ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=60/40 (モル比)の共重合体、ポリスチレン換算重量平均分子量 48,000 *2 TRIAZINE A:商品名、PANCHIM 社製のカチオン性光重合開始剤、化合物名は 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3, 5−トリアジン *3 カーボンブラック:MA−100(三菱化学(株)製)
【0050】〈評 価〉予め赤、緑および青の各画素が
それぞれ約1μm の厚さで形成されたガラス基板を純水
により洗浄後、乾燥した。この基板の各画素が形成され
た面に、スピンコーターを用いて、上記黒色レジストの
塗布を行った。このとき、黒色レジストの膜厚は、硬化
および現像後に1μm となるように調整した。続いてオ
ーブンを用い、60℃で5分間プリベークした。プリベ
ーク終了後、高圧水銀ランプを用いて、ガラス基板の背
面(レジスト非塗布面)より、ガラス基板全面に紫外光
を照射した。露光はすべて大気雰囲気下で行い、酸素遮
断膜は使用しなかった。照射後、オーブンを用いて、1
00℃で3分間の後硬化を行い、2.3%水酸化ナトリウ
ム水溶液に60秒間ディップすることにより、現像を行
った。さらに、純水によりリンスし、乾燥後、200℃
で30分間ポストベークを行って、ブラックマトリック
スを得た。
それぞれ約1μm の厚さで形成されたガラス基板を純水
により洗浄後、乾燥した。この基板の各画素が形成され
た面に、スピンコーターを用いて、上記黒色レジストの
塗布を行った。このとき、黒色レジストの膜厚は、硬化
および現像後に1μm となるように調整した。続いてオ
ーブンを用い、60℃で5分間プリベークした。プリベ
ーク終了後、高圧水銀ランプを用いて、ガラス基板の背
面(レジスト非塗布面)より、ガラス基板全面に紫外光
を照射した。露光はすべて大気雰囲気下で行い、酸素遮
断膜は使用しなかった。照射後、オーブンを用いて、1
00℃で3分間の後硬化を行い、2.3%水酸化ナトリウ
ム水溶液に60秒間ディップすることにより、現像を行
った。さらに、純水によりリンスし、乾燥後、200℃
で30分間ポストベークを行って、ブラックマトリック
スを得た。
【0051】得られたそれぞれのブラックマトリックス
につき、以下のようにして評価し、結果を表2に示し
た。
につき、以下のようにして評価し、結果を表2に示し
た。
【0052】 感度: 赤、緑および青の各画素間に1μm 厚のブラッ
クマトリックスが得られる最低露光量で表示した。 遮光率: マクベス社製の光学濃度計 TD-904 にて光学
濃度(OD値)を測定し、そのOD値で表示した。値が
大きいほど遮光性が高いことを意味する。
クマトリックスが得られる最低露光量で表示した。 遮光率: マクベス社製の光学濃度計 TD-904 にて光学
濃度(OD値)を測定し、そのOD値で表示した。値が
大きいほど遮光性が高いことを意味する。
【0053】
【表2】
【0054】実施例1および2については、大気雰囲気
下の露光においても、表2に示す感度で、いわゆる白抜
けがなく、かつ、赤、緑および青の各画素とブラックマ
トリックスとの間の平坦性が非常に高い樹脂ブラックマ
トリックスの形成が可能であった。またブラックマトリ
ックス層の遮光率も、1μm 厚で光学濃度3.0と十分高
いものであった。一方、比較例1については、非露光面
の酸素による重合阻害効果が非常に大きく、露光量を
1,000 mJ/cm2以上としても、ブラックマトリックス層
の厚みが0.5〜0.6μm 程度しか得られなかった。その
ため、適当な樹脂ブラックマトリックス層は形成できな
かった。
下の露光においても、表2に示す感度で、いわゆる白抜
けがなく、かつ、赤、緑および青の各画素とブラックマ
トリックスとの間の平坦性が非常に高い樹脂ブラックマ
トリックスの形成が可能であった。またブラックマトリ
ックス層の遮光率も、1μm 厚で光学濃度3.0と十分高
いものであった。一方、比較例1については、非露光面
の酸素による重合阻害効果が非常に大きく、露光量を
1,000 mJ/cm2以上としても、ブラックマトリックス層
の厚みが0.5〜0.6μm 程度しか得られなかった。その
ため、適当な樹脂ブラックマトリックス層は形成できな
かった。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、遮光能が高く、画素と
の重なり部分に突起がなく、平坦性が良好な樹脂ブラッ
クマトリックスが、簡便な方法で形成できる。
の重なり部分に突起がなく、平坦性が良好な樹脂ブラッ
クマトリックスが、簡便な方法で形成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/027 511 G03F 7/027 511 C2
Claims (5)
- 【請求項1】予め赤、緑および青の各画素が形成された
透明基材上に、カチオン重合性化合物、黒色顔料、光酸
発生剤および溶剤を含む黒色レジストを、赤、緑および
青の各画素間の隙間がすべて埋まるように全面塗布し
て、乾燥し、次に前記基材の非塗布面より紫外光を露光
し、露光後熱硬化および現像を行うことにより、赤、緑
および青の各画素間に遮光層を形成させることを特徴と
する樹脂ブラックマトリックスの形成方法。 - 【請求項2】カチオン重合性化合物が、下記一般式
(I) 〔式中、平均繰り返し数nは0以上20以下の値をと
り、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は、それ
ぞれ独立に、水素、ハロゲン、アルキル、アリール、ア
ラルキル、アルコキシ、アリーロキシまたはシクロアル
キルを表し、それぞれのQは独立に、−OHまたは−O
ROCH=CH2 (ここに、Rは1〜12個の炭素原子
を有するアルキレンを表す)で示される基を表すが、−
OH/−OROCH=CH2 のモル比は10/90〜9
0/10である〕で示される請求項1記載の方法。 - 【請求項3】光酸発生剤がs−トリアジン化合物を含有
する請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】黒色レジストが、その全固形分に対して、
5〜90重量%のカチオン重合性化合物および10〜8
0重量%の黒色顔料を含有し、カチオン重合性化合物に
対して、0.2〜30重量%の光酸発生剤を含有する請求
項1〜3のいずれかに記載の方法。 - 【請求項5】現像後、再度後硬化のために加熱する請求
項1〜4のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28873095A JPH09133807A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 樹脂ブラックマトリックスの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28873095A JPH09133807A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 樹脂ブラックマトリックスの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09133807A true JPH09133807A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=17733950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28873095A Pending JPH09133807A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 樹脂ブラックマトリックスの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09133807A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6342321B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of drying resinous composition layer, method of manufacturing color filter substrate using the same drying method, and liquid crystal display device |
| WO2025192572A1 (ja) * | 2024-03-12 | 2025-09-18 | 日産化学株式会社 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 |
-
1995
- 1995-11-07 JP JP28873095A patent/JPH09133807A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6342321B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of drying resinous composition layer, method of manufacturing color filter substrate using the same drying method, and liquid crystal display device |
| WO2025192572A1 (ja) * | 2024-03-12 | 2025-09-18 | 日産化学株式会社 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 |
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