JPH09138364A - 光走査装置及び異物検査装置 - Google Patents
光走査装置及び異物検査装置Info
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- JPH09138364A JPH09138364A JP7317130A JP31713095A JPH09138364A JP H09138364 A JPH09138364 A JP H09138364A JP 7317130 A JP7317130 A JP 7317130A JP 31713095 A JP31713095 A JP 31713095A JP H09138364 A JPH09138364 A JP H09138364A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、被光束照射物に対して物理的に安定
した光走査を行い得る光走査装置及び異物検査装置を実
現するものである。 【解決手段】回転軸と平行な第一の光軸に沿つて入射さ
れる入射光束を、第一の光軸に対して第一の角度をなす
第一の光束と第一の光軸に対して第二の角度をなす第二
の光束とに波面分割すると共に、波面分割の中心位置を
基準とした回転軸の回転方向に第一の光束及び第二の光
束をそれぞれ偏向して被光束照射物（被検査物）に入射
させ、回転軸と第一の光軸との相対的な角度偏差に基づ
いて第一の角度及び第二の角度の両方又はいずれか一方
が変化して生じる面振れ誤差を補償して第一の角度及び
第二の角度を一定値に維持する光偏向手段を設けたこと
により、回転駆動手段の回転軸に静的又は動的な軸振れ
が生じた場合においても、被光束照射物に対して物理的
に安定して走査させ得る。
した光走査を行い得る光走査装置及び異物検査装置を実
現するものである。 【解決手段】回転軸と平行な第一の光軸に沿つて入射さ
れる入射光束を、第一の光軸に対して第一の角度をなす
第一の光束と第一の光軸に対して第二の角度をなす第二
の光束とに波面分割すると共に、波面分割の中心位置を
基準とした回転軸の回転方向に第一の光束及び第二の光
束をそれぞれ偏向して被光束照射物（被検査物）に入射
させ、回転軸と第一の光軸との相対的な角度偏差に基づ
いて第一の角度及び第二の角度の両方又はいずれか一方
が変化して生じる面振れ誤差を補償して第一の角度及び
第二の角度を一定値に維持する光偏向手段を設けたこと
により、回転駆動手段の回転軸に静的又は動的な軸振れ
が生じた場合においても、被光束照射物に対して物理的
に安定して走査させ得る。
Description
【０００１】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段 発明の実施の形態 （１）第１実施例 （１−１）原理（図１（Ａ）〜図３） （１−２）第１実施例による異物検査装置の構成（図４
〜図６） （１−３）第１実施例の動作 （１−４）第１実施例の効果 （２）第２実施例 （２−１）原理（図７（Ａ）〜図９） （２−２）第２実施例による異物検査装置の構成（図１
０） （２−３）第２実施例の動作 （２−４）第２実施例の効果 （３）他の実施例 発明の効果
〜図６） （１−３）第１実施例の動作 （１−４）第１実施例の効果 （２）第２実施例 （２−１）原理（図７（Ａ）〜図９） （２−２）第２実施例による異物検査装置の構成（図１
０） （２−３）第２実施例の動作 （２−４）第２実施例の効果 （３）他の実施例 発明の効果
【０００２】
【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置及び異
物検査装置に関し、例えば液晶製造用のマスク等の大型
基板の表面に付着した異物の有無を検出する装置に適用
して好適なものである。
物検査装置に関し、例えば液晶製造用のマスク等の大型
基板の表面に付着した異物の有無を検出する装置に適用
して好適なものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の異物検査装置における基
板上の異物の有無を検出する光学的手段として図１１
（Ａ）及び（Ｂ）に示すような光走査装置１が用いられ
ている。なお、図１１（Ａ）は正面図であり、図１１
（Ｂ）は下面図である。光走査装置１は、装置内に固定
されたモータ２と当該モータ２の駆動軸２Ａと一体に矢
印ａで示す方向に回転されるロータリミラー３から構成
されている。ロータリミラー３は２つの平面ミラーでな
る第１及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂを有し、当該第１
及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂはモータ２の駆動軸２Ａ
と平行な光軸ｎに対してそれぞれ角度ｂ1 及びｂ2 をな
す。
板上の異物の有無を検出する光学的手段として図１１
（Ａ）及び（Ｂ）に示すような光走査装置１が用いられ
ている。なお、図１１（Ａ）は正面図であり、図１１
（Ｂ）は下面図である。光走査装置１は、装置内に固定
されたモータ２と当該モータ２の駆動軸２Ａと一体に矢
印ａで示す方向に回転されるロータリミラー３から構成
されている。ロータリミラー３は２つの平面ミラーでな
る第１及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂを有し、当該第１
及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂはモータ２の駆動軸２Ａ
と平行な光軸ｎに対してそれぞれ角度ｂ1 及びｂ2 をな
す。
【０００４】この場合、光軸ｎに沿つて入射される入射
光束Ｉ0 は、ロータリミラー３の第１及び第２の反射面
３Ａ及び３Ｂによつて２等分に波面分割されると共に反
射されて、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に分離
して進行する。これら第１及び第２の反射光束Ｉ1 及び
Ｉ2 は、光軸ｎとモータ２の駆動軸２Ａとが平行関係に
あるとき、光軸ｎに対してそれぞれ角度θ1 及びθ2 を
なし、これらは次式
光束Ｉ0 は、ロータリミラー３の第１及び第２の反射面
３Ａ及び３Ｂによつて２等分に波面分割されると共に反
射されて、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に分離
して進行する。これら第１及び第２の反射光束Ｉ1 及び
Ｉ2 は、光軸ｎとモータ２の駆動軸２Ａとが平行関係に
あるとき、光軸ｎに対してそれぞれ角度θ1 及びθ2 を
なし、これらは次式
【数１】
【数２】 で表される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで光走査装置１
において、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的
又は動的に軸振れを生じるおそれがある。この結果、駆
動軸２Ａが矢印ｃで示す方向に偏移して当該駆動軸２Ａ
と光軸ｎとの相対的な角度偏差がδとなる場合には、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 の光軸ｎに対する角
度θ1 及びθ2 はそれぞれ角度θ1 ′、角度θ2 ′と変
化し、これらは次式
において、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的
又は動的に軸振れを生じるおそれがある。この結果、駆
動軸２Ａが矢印ｃで示す方向に偏移して当該駆動軸２Ａ
と光軸ｎとの相対的な角度偏差がδとなる場合には、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 の光軸ｎに対する角
度θ1 及びθ2 はそれぞれ角度θ1 ′、角度θ2 ′と変
化し、これらは次式
【数３】
【数４】 で表される。
【０００６】このようにモータ２の駆動軸２Ａが静的又
は動的な軸振れが生じた場合、当該駆動軸２Ａが光軸ｎ
に対して偏移するに伴つてロータリミラー３の反射角３
Ａ及び３Ｂも面振れが生じることとなる。この結果、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 の光軸ｎに対する角
度も変化して基板（図示せず）上に照射し得なくなるお
それがあり、かくして基板上の異物の有無を検出するこ
とが困難となる問題があつた。
は動的な軸振れが生じた場合、当該駆動軸２Ａが光軸ｎ
に対して偏移するに伴つてロータリミラー３の反射角３
Ａ及び３Ｂも面振れが生じることとなる。この結果、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 の光軸ｎに対する角
度も変化して基板（図示せず）上に照射し得なくなるお
それがあり、かくして基板上の異物の有無を検出するこ
とが困難となる問題があつた。
【０００７】また第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2
をそれぞれモータ２の駆動軸２Ａに対して同一角度に反
射させる場合、例えば式（１）及び式（２）においてθ
1 ＝θ2 となるような条件で反射させる場合には、第１
及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂの光軸ｎに対する角度精
度をそれぞれ独立して向上させる必要があつた。
をそれぞれモータ２の駆動軸２Ａに対して同一角度に反
射させる場合、例えば式（１）及び式（２）においてθ
1 ＝θ2 となるような条件で反射させる場合には、第１
及び第２の反射面３Ａ及び３Ｂの光軸ｎに対する角度精
度をそれぞれ独立して向上させる必要があつた。
【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、被光束照射物（被検査物）に対して物理的に安定し
た光走査を行うと共に、被光束照射物（被検査物）が大
きい場合にも対応でき、かつ精度良く異物を検出するこ
とができる光走査装置及び異物検査装置を提案しようと
するものである。
で、被光束照射物（被検査物）に対して物理的に安定し
た光走査を行うと共に、被光束照射物（被検査物）が大
きい場合にも対応でき、かつ精度良く異物を検出するこ
とができる光走査装置及び異物検査装置を提案しようと
するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、回転軸２Ａを有する回転駆動手段
２と、回転軸２Ａと平行な第一の光軸ｎに沿つて入射さ
れる入射光束Ｉ0 を、第一の光軸ｎに対して第一の角度
をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎに対して第二の角
度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割すると共に、波面
分割の中心位置を基準とした回転軸２Ａの回転方向に第
一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそれぞれ偏向して被
光束照射物３２に入射させ、さらに回転軸２Ａと第一の
光軸ｎとの相対的な角度偏差に基づいて第一の角度及び
第二の角度の両方又はいずれか一方が変化して生じる面
振れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角度を一定値
に維持する光偏向手段１１、９１とを設け、回転駆動手
段２は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏
向された第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被光束照
射物３２を走査するように、回転軸２Ａを中心として光
偏向手段１１、９１を一体に回転させるようにした。
め本発明においては、回転軸２Ａを有する回転駆動手段
２と、回転軸２Ａと平行な第一の光軸ｎに沿つて入射さ
れる入射光束Ｉ0 を、第一の光軸ｎに対して第一の角度
をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎに対して第二の角
度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割すると共に、波面
分割の中心位置を基準とした回転軸２Ａの回転方向に第
一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそれぞれ偏向して被
光束照射物３２に入射させ、さらに回転軸２Ａと第一の
光軸ｎとの相対的な角度偏差に基づいて第一の角度及び
第二の角度の両方又はいずれか一方が変化して生じる面
振れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角度を一定値
に維持する光偏向手段１１、９１とを設け、回転駆動手
段２は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏
向された第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被光束照
射物３２を走査するように、回転軸２Ａを中心として光
偏向手段１１、９１を一体に回転させるようにした。
【００１０】また本発明においては、被検査物３２の被
検査面３２Ａに付着した異物の有無を検査する異物検査
装置２０、１００において、光束Ｌ１を発射する光源２
５と、回転軸２Ａを有する回転駆動手段２と、光束Ｌ１
の光路上に配置され、回転軸２Ａと平行な第一の光軸ｎ
に沿つて入射される入射光束Ｉ0 を、第一の光軸ｎに対
して第一の角度をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎに
対して第二の角度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割す
ると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸２Ａ
の回転方向に第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそれ
ぞれ偏向して被検査物３２の被検査面３２Ａに入射さ
せ、さらに回転軸２Ａと第一の光軸ｎとの相対的な角度
偏差に基づいて第一の角度及び第二の角度の両方又はい
ずれか一方が変化して生じる面振れ誤差を補償して第一
の角度及び第二の角度を一定値に維持する光偏向手段１
１、９１と、被検査物３２の被検査面３２Ａに付着した
異物により発生される第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ
2 の散乱光を受光し、受光した散乱光の強度に応じた電
気信号を出力する受光手段５１〜６７と、受光手段５１
〜６７から供給される電気信号に基づいて異物を検出す
る信号処理手段４０、４１とを設け、回転駆動手段２
は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏向さ
れた第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被検査物３２
の被検査面３２Ａを走査するように、回転軸２Ａを中心
として光偏向手段１１、９１を一体に回転させるように
した。
検査面３２Ａに付着した異物の有無を検査する異物検査
装置２０、１００において、光束Ｌ１を発射する光源２
５と、回転軸２Ａを有する回転駆動手段２と、光束Ｌ１
の光路上に配置され、回転軸２Ａと平行な第一の光軸ｎ
に沿つて入射される入射光束Ｉ0 を、第一の光軸ｎに対
して第一の角度をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎに
対して第二の角度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割す
ると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸２Ａ
の回転方向に第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそれ
ぞれ偏向して被検査物３２の被検査面３２Ａに入射さ
せ、さらに回転軸２Ａと第一の光軸ｎとの相対的な角度
偏差に基づいて第一の角度及び第二の角度の両方又はい
ずれか一方が変化して生じる面振れ誤差を補償して第一
の角度及び第二の角度を一定値に維持する光偏向手段１
１、９１と、被検査物３２の被検査面３２Ａに付着した
異物により発生される第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ
2 の散乱光を受光し、受光した散乱光の強度に応じた電
気信号を出力する受光手段５１〜６７と、受光手段５１
〜６７から供給される電気信号に基づいて異物を検出す
る信号処理手段４０、４１とを設け、回転駆動手段２
は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏向さ
れた第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被検査物３２
の被検査面３２Ａを走査するように、回転軸２Ａを中心
として光偏向手段１１、９１を一体に回転させるように
した。
【００１１】さらに本発明においては、光走査装置２
１、１０１は、光偏向手段１１、９１によつて偏向され
た入射光束Ｉ0 が被光束照射物（被検査物）３２に対し
て一定の偏光状態となるように入射光束Ｉ0 の偏光状態
を調整する偏光状態調整手段２３を設け、回転駆動手段
２は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏向
された第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被光束照射
物（被検査物）３２を走査するように、回転軸２Ａを中
心として光偏向手段１１、９１及び偏光状態調整手段２
３を一体に回転させるようにした。
１、１０１は、光偏向手段１１、９１によつて偏向され
た入射光束Ｉ0 が被光束照射物（被検査物）３２に対し
て一定の偏光状態となるように入射光束Ｉ0 の偏光状態
を調整する偏光状態調整手段２３を設け、回転駆動手段
２は、光偏向手段１１、９１によつて波面分割され偏向
された第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 が被光束照射
物（被検査物）３２を走査するように、回転軸２Ａを中
心として光偏向手段１１、９１及び偏光状態調整手段２
３を一体に回転させるようにした。
【００１２】このように回転軸２Ａと平行な第一の光軸
ｎに沿つて入射される入射光束Ｉ0を、第一の光軸ｎに
対して第一の角度をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎ
に対して第二の角度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割
すると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸２
Ａの回転方向に第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそ
れぞれ偏向して被光束照射物３２に入射させ、回転軸２
Ａと第一の光軸ｎとの相対的な角度偏差に基づいて第一
の角度及び第二の角度の両方又はいずれか一方が変化し
て生じる面振れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角
度を一定値に維持する光偏向手段１１、９１を設けたこ
とにより、回転駆動手段２の回転軸２Ａに静的又は動的
な軸振れが生じた場合においても、第１及び第２の光束
Ｉ1 及びＩ2 は当該軸振れによる影響を受けることなく
被光束照射物（被検査物）３２に対して物理的に安定し
て走査させることができる。さらに光偏向手段１１、９
１によつて偏向された入射光束Ｉ0 が被光束照射物（被
検査物）３２に対して一定の偏光状態となるように入射
光束Ｉ0 の偏光状態を調整する偏光状態調整手段２３を
光走査装置２１、１０１に設けたことにより、被光束照
射物（被検査物）が大きい場合にも対応でき、かつ精度
良く異物を検出することができる。
ｎに沿つて入射される入射光束Ｉ0を、第一の光軸ｎに
対して第一の角度をなす第一の光束Ｉ1 と第一の光軸ｎ
に対して第二の角度をなす第二の光束Ｉ2 とに波面分割
すると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸２
Ａの回転方向に第一の光束Ｉ1 及び第二の光束Ｉ2 をそ
れぞれ偏向して被光束照射物３２に入射させ、回転軸２
Ａと第一の光軸ｎとの相対的な角度偏差に基づいて第一
の角度及び第二の角度の両方又はいずれか一方が変化し
て生じる面振れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角
度を一定値に維持する光偏向手段１１、９１を設けたこ
とにより、回転駆動手段２の回転軸２Ａに静的又は動的
な軸振れが生じた場合においても、第１及び第２の光束
Ｉ1 及びＩ2 は当該軸振れによる影響を受けることなく
被光束照射物（被検査物）３２に対して物理的に安定し
て走査させることができる。さらに光偏向手段１１、９
１によつて偏向された入射光束Ｉ0 が被光束照射物（被
検査物）３２に対して一定の偏光状態となるように入射
光束Ｉ0 の偏光状態を調整する偏光状態調整手段２３を
光走査装置２１、１０１に設けたことにより、被光束照
射物（被検査物）が大きい場合にも対応でき、かつ精度
良く異物を検出することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下図面について本発明の一実施
例を詳述する。
例を詳述する。
【００１４】（１）第１実施例 （１−１）原理 図１１（Ａ）及び（Ｂ）との対応部分に同一符号を付し
て示す図１（Ａ）及び（Ｂ）において、光走査装置１０
は従来の光走査装置１と異なり、ロータリミラー１１の
２つの平面ミラーでなる第１及び第２の反射面１１Ａ及
び１１Ｂは、モータ２の駆動軸２Ａと平行な光軸ｎに対
して共に同一の角度ｄをなす。
て示す図１（Ａ）及び（Ｂ）において、光走査装置１０
は従来の光走査装置１と異なり、ロータリミラー１１の
２つの平面ミラーでなる第１及び第２の反射面１１Ａ及
び１１Ｂは、モータ２の駆動軸２Ａと平行な光軸ｎに対
して共に同一の角度ｄをなす。
【００１５】図２は、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに
対して軸振れを生じていない場合において、光軸ｎに沿
つて入射される入射光束Ｉ0 と第２の反射光束Ｉ2 との
関係を示す。この場合、入射光束Ｉ0 は第１の反射面１
１Ａに反射した後、さらに第２の反射面１１Ｂに反射し
て第２の反射光束Ｉ2 として進行する。
対して軸振れを生じていない場合において、光軸ｎに沿
つて入射される入射光束Ｉ0 と第２の反射光束Ｉ2 との
関係を示す。この場合、入射光束Ｉ0 は第１の反射面１
１Ａに反射した後、さらに第２の反射面１１Ｂに反射し
て第２の反射光束Ｉ2 として進行する。
【００１６】入射光束Ｉ0 は光軸ｎと平行でなるため第
１の反射面１１Ａに対して角度ｄをなし、これにより第
２の反射光束Ｉ2 が第２の反射面１１Ｂに対してなす角
度をｅとした場合、幾何学的に角度ｅは次式
１の反射面１１Ａに対して角度ｄをなし、これにより第
２の反射光束Ｉ2 が第２の反射面１１Ｂに対してなす角
度をｅとした場合、幾何学的に角度ｅは次式
【数５】 で表される。従つて第２の反射光束Ｉ2 が光軸ｎに対し
てなす角度をθとした場合、角度θは次式
てなす角度をθとした場合、角度θは次式
【数６】 で表される。
【００１７】ここで図３は、モータ２の駆動軸２Ａが光
軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じ、当該駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して角度δだけ傾いた場合を示す。こ
の場合、光軸ｎと平行でなる入射光束Ｉ0 は第１の反射
面１１Ａに対して角度ｄ1 をなし、光軸ｎと第２の反射
面１１Ｂとのなす角度をｄ2 とした場合に、角度ｄ1 及
び角度ｄ2 の関係は、次式
軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じ、当該駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して角度δだけ傾いた場合を示す。こ
の場合、光軸ｎと平行でなる入射光束Ｉ0 は第１の反射
面１１Ａに対して角度ｄ1 をなし、光軸ｎと第２の反射
面１１Ｂとのなす角度をｄ2 とした場合に、角度ｄ1 及
び角度ｄ2 の関係は、次式
【数７】 で表される。また第２の反射光束Ｉ2 が第２の反射面１
１Ｂに対してなす角度をｅ1 とした場合、幾何学的に角
度ｅ1 は、式（７）を代入して得られる次式
１Ｂに対してなす角度をｅ1 とした場合、幾何学的に角
度ｅ1 は、式（７）を代入して得られる次式
【数８】 で表され、さらに第２の反射光束Ｉ2 の光軸ｎに対する
角度θは、式（７）及び式（８）を代入して得られる次
式
角度θは、式（７）及び式（８）を代入して得られる次
式
【数９】 で表される。
【００１８】このように第２の反射光束Ｉ2 の光軸ｎに
対する角度θは、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対し
て傾いた場合の当該傾き角度δの値にかかわらず常に一
定値を示すことがわかる。この結果、モータ２の駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じて
も、第２の反射光束Ｉ2 は第２の反射面１１Ｂの面振れ
による影響を受けずに済む。また上述の場合と同様にし
て、入射光束Ｉ0 が第１の反射面１１Ａに入射する場合
においても、第１の反射光束Ｉ1 は第１の反射面１１Ａ
の面振れによる影響を受けずに済む。
対する角度θは、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対し
て傾いた場合の当該傾き角度δの値にかかわらず常に一
定値を示すことがわかる。この結果、モータ２の駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じて
も、第２の反射光束Ｉ2 は第２の反射面１１Ｂの面振れ
による影響を受けずに済む。また上述の場合と同様にし
て、入射光束Ｉ0 が第１の反射面１１Ａに入射する場合
においても、第１の反射光束Ｉ1 は第１の反射面１１Ａ
の面振れによる影響を受けずに済む。
【００１９】（１−２）第１実施例による異物検査装置
の構成 次に、この光走査装置１０を適用した異物検査装置につ
いて説明する。図４に示す異物検査装置２０において、
光走査装置２１は光走査装置１０と異なり、ロータリミ
ラー１１、箱体２２及びλ／４波長板２３でなる光学ユ
ニツト２４がモータ２の駆動軸２Ａと一体に回転し得る
ように設けられている。光学ユニツト２４において、箱
体２２の上端内側面にはロータリミラー１１が固着され
ると共に、箱体２２の下側面には駆動軸２Ａと同軸上に
形成された窓を覆うように外側からλ／４波長板２３が
固着されている。
の構成 次に、この光走査装置１０を適用した異物検査装置につ
いて説明する。図４に示す異物検査装置２０において、
光走査装置２１は光走査装置１０と異なり、ロータリミ
ラー１１、箱体２２及びλ／４波長板２３でなる光学ユ
ニツト２４がモータ２の駆動軸２Ａと一体に回転し得る
ように設けられている。光学ユニツト２４において、箱
体２２の上端内側面にはロータリミラー１１が固着され
ると共に、箱体２２の下側面には駆動軸２Ａと同軸上に
形成された窓を覆うように外側からλ／４波長板２３が
固着されている。
【００２０】この異物検査装置２０では、レーザ光源２
５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ１を、λ
／４波長板２６を介して円偏光波に位相変調した後、反
射ミラー２７に反射してビームエキスパンダレンズ系２
５に入射し、当該ビームエキスパンダレンズ系２５にお
いて拡大された後、レンズ２９を介して所定の開口角α
で集束される入射光束Ｉ0 として装置内に固定された反
射ミラー３０を介して光学ユニツト２４に入射する。
５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ１を、λ
／４波長板２６を介して円偏光波に位相変調した後、反
射ミラー２７に反射してビームエキスパンダレンズ系２
５に入射し、当該ビームエキスパンダレンズ系２５にお
いて拡大された後、レンズ２９を介して所定の開口角α
で集束される入射光束Ｉ0 として装置内に固定された反
射ミラー３０を介して光学ユニツト２４に入射する。
【００２１】光学ユニツト２４に入射された入射光束Ｉ
0 は、λ／４波長板２３によつて、電気ベクトルの振動
方向が光軸ｎと第１又は第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂ
とを含む平面Ｚｎ1 又はＺｎ2 に直交するような直線偏
光波に位相変調される。
0 は、λ／４波長板２３によつて、電気ベクトルの振動
方向が光軸ｎと第１又は第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂ
とを含む平面Ｚｎ1 又はＺｎ2 に直交するような直線偏
光波に位相変調される。
【００２２】この後ロータリミラー１１の第１及び第２
の反射面１１Ａ及び１１Ｂにおいて反射され、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 としてそれぞれ箱体２２の
下側面に形成された窓を介してステージ３１上に載置さ
れた被検査基板３２の被検査面３２Ａに対してＳ偏光波
として入射する。このとき第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 は、モータ２の駆動に伴う光学ユニツト２４の
回転に応じて被検査基板３２の被検査面３２Ａを円弧状
に走査する。
の反射面１１Ａ及び１１Ｂにおいて反射され、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 としてそれぞれ箱体２２の
下側面に形成された窓を介してステージ３１上に載置さ
れた被検査基板３２の被検査面３２Ａに対してＳ偏光波
として入射する。このとき第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 は、モータ２の駆動に伴う光学ユニツト２４の
回転に応じて被検査基板３２の被検査面３２Ａを円弧状
に走査する。
【００２３】この被検査基板３２が載置されたステージ
３１においては、モータ３３と同期して駆動するアクチ
ユエータ３４により、光学ユニツト２４が180 〔°〕回
転する毎にステージ３１を矢印ｘで示す方向に移動し得
るようになされ、かくして第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを全面に亘
つて走査し得るようになされている。
３１においては、モータ３３と同期して駆動するアクチ
ユエータ３４により、光学ユニツト２４が180 〔°〕回
転する毎にステージ３１を矢印ｘで示す方向に移動し得
るようになされ、かくして第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを全面に亘
つて走査し得るようになされている。
【００２４】またステージ３１の周囲には、図５に示す
ように、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が被検査
基板３２の被検査面３２Ａを走査する際に当該被検査面
３２Ａに発生した散乱光を互いに異なる空間方向から受
光し得るように、集光レンズ及び受光素子からなる受光
部５１〜６７が光走査線Ｃを斜め上から見込むように等
間隔で円弧状に複数並設されている。さらにこれら各受
光部５１〜６７の受光結果を処理するための信号処理部
４０及び制御部４１が設けられている。
ように、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が被検査
基板３２の被検査面３２Ａを走査する際に当該被検査面
３２Ａに発生した散乱光を互いに異なる空間方向から受
光し得るように、集光レンズ及び受光素子からなる受光
部５１〜６７が光走査線Ｃを斜め上から見込むように等
間隔で円弧状に複数並設されている。さらにこれら各受
光部５１〜６７の受光結果を処理するための信号処理部
４０及び制御部４１が設けられている。
【００２５】このときこれら各受光部５１〜６７の配設
位置には、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が被検
査基板３２の被検査面３２Ａに形成されたパターンのエ
ツジを照射した場合に発生する散乱光が強い指向性を伴
うのに対して、異物による散乱光は当該異物からあらゆ
る方向に広がることを考慮して、被検査基板３２の被検
査面３２Ａに形成されたパターンのエツジからの散乱光
を受光しないように選定されている。
位置には、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が被検
査基板３２の被検査面３２Ａに形成されたパターンのエ
ツジを照射した場合に発生する散乱光が強い指向性を伴
うのに対して、異物による散乱光は当該異物からあらゆ
る方向に広がることを考慮して、被検査基板３２の被検
査面３２Ａに形成されたパターンのエツジからの散乱光
を受光しないように選定されている。
【００２６】これら各受光部５１〜６７の出力信号は、
図６に示すように、信号処理部４０内に設けられた信号
切換部７０に供給される。信号切換部７０は、制御部４
１から与えられた光学ユニツト２４の回転角度を表す角
度情報信号Ｓ１に基づいて、１７個の受光部のうち回転
角度に対応する検査点からの散乱光を受光することので
きる３つの受光部を選択し、当該選択した３つの受光部
からの電気信号Ｓ２〜Ｓ４をそれぞれゲイン可変アンプ
７１〜７３に供給する。
図６に示すように、信号処理部４０内に設けられた信号
切換部７０に供給される。信号切換部７０は、制御部４
１から与えられた光学ユニツト２４の回転角度を表す角
度情報信号Ｓ１に基づいて、１７個の受光部のうち回転
角度に対応する検査点からの散乱光を受光することので
きる３つの受光部を選択し、当該選択した３つの受光部
からの電気信号Ｓ２〜Ｓ４をそれぞれゲイン可変アンプ
７１〜７３に供給する。
【００２７】因みに実際上、受光部５１〜６７のうち光
走査線上のある１点（検査点）からの散乱光を同時に受
光することができるのは、３つの隣接する受光部のみで
ある。従つて、光学ユニツト２４の回転角度に依存する
検査点の位置に応じて、検査点からの光を同時に受光す
ることができる３つの隣接する受光部が１７個の受光部
から適宜選択される。
走査線上のある１点（検査点）からの散乱光を同時に受
光することができるのは、３つの隣接する受光部のみで
ある。従つて、光学ユニツト２４の回転角度に依存する
検査点の位置に応じて、検査点からの光を同時に受光す
ることができる３つの隣接する受光部が１７個の受光部
から適宜選択される。
【００２８】ここで実験結果によれば、電気信号Ｓ２〜
Ｓ４は、光学ユニツト２４の回転角度すなわち光走査線
Ｃ上の第１又は第２の反射光束Ｉ1 又はＩ2 の位置に依
存して変動する。このためゲイン可変アンプ７１〜７３
は、制御部４１から与えられた角度情報信号Ｓ５〜Ｓ７
に基づいて電気信号Ｓ２〜Ｓ４をゲイン補正することに
より、光学ユニツト２４の回転角度に依存することなく
ほぼ一定の信号レベルを有する電気信号Ｓ８〜Ｓ１０を
得る。
Ｓ４は、光学ユニツト２４の回転角度すなわち光走査線
Ｃ上の第１又は第２の反射光束Ｉ1 又はＩ2 の位置に依
存して変動する。このためゲイン可変アンプ７１〜７３
は、制御部４１から与えられた角度情報信号Ｓ５〜Ｓ７
に基づいて電気信号Ｓ２〜Ｓ４をゲイン補正することに
より、光学ユニツト２４の回転角度に依存することなく
ほぼ一定の信号レベルを有する電気信号Ｓ８〜Ｓ１０を
得る。
【００２９】ゲイン補正後の電気信号Ｓ８〜Ｓ１０は、
それぞれゲイン可変アンプ７１〜７３から最小値選択器
７４に供給され、当該最小値選択器７４において電気信
号Ｓ８〜Ｓ１０の各信号レベルのうち最小の信号レベル
を求め、これを最小値信号Ｓ１５として制御部４１に供
給する。制御部４１は、最小値信号Ｓ１５に基づいて被
検査基板３２の被検査面３２Ａにおける異物の大きさを
特定する。なお異物の大きさを特定するのに最小値を用
いたことにより、パターンのエツジと異物とが共存して
いる場合に当該エツジからのノイズを消すことができ
る。
それぞれゲイン可変アンプ７１〜７３から最小値選択器
７４に供給され、当該最小値選択器７４において電気信
号Ｓ８〜Ｓ１０の各信号レベルのうち最小の信号レベル
を求め、これを最小値信号Ｓ１５として制御部４１に供
給する。制御部４１は、最小値信号Ｓ１５に基づいて被
検査基板３２の被検査面３２Ａにおける異物の大きさを
特定する。なお異物の大きさを特定するのに最小値を用
いたことにより、パターンのエツジと異物とが共存して
いる場合に当該エツジからのノイズを消すことができ
る。
【００３０】一方、ゲイン補正後の電気信号Ｓ８〜Ｓ１
０は、それぞれゲイン可変アンプ７１〜７３からコンパ
レータ７５〜７７に供給される。コンパレータ７５〜７
７は、電気信号Ｓ８〜Ｓ１０を基準電圧７８に基づく電
気的ノイズや光学的ノイズのレベルから見て十分に高い
所定の閾値と比較することにより、各電気信号Ｓ８〜Ｓ
１０を２値化し、これらをそれぞれ２値化信号Ｓ１１〜
Ｓ１３としてアンド（ＡＮＤ）回路７９に供給する。
０は、それぞれゲイン可変アンプ７１〜７３からコンパ
レータ７５〜７７に供給される。コンパレータ７５〜７
７は、電気信号Ｓ８〜Ｓ１０を基準電圧７８に基づく電
気的ノイズや光学的ノイズのレベルから見て十分に高い
所定の閾値と比較することにより、各電気信号Ｓ８〜Ｓ
１０を２値化し、これらをそれぞれ２値化信号Ｓ１１〜
Ｓ１３としてアンド（ＡＮＤ）回路７９に供給する。
【００３１】アンド回路７９は、２値化信号Ｓ１１〜Ｓ
１３が全て論理「Ｈ」となるとき、すなわち全て基準電
圧７８に基づく所定の閾値を越えたとき、異物検出信号
Ｓ１４を制御部４１に出力する。制御部４１は、この異
物検出信号Ｓ１をトリガとして最小値選択器７４から最
小値信号Ｓ１５を取り込み、当該最小値信号Ｓ１５から
得られる最小の信号レベルに基づいて異物の大きさを決
定し、さらに被検査面３２Ａの異物の位置と共に異物の
大きさ及び形状等でなる異物表示信号Ｓ１６を外部に設
けられたデイスプレイ８０に送出して表示させる。
１３が全て論理「Ｈ」となるとき、すなわち全て基準電
圧７８に基づく所定の閾値を越えたとき、異物検出信号
Ｓ１４を制御部４１に出力する。制御部４１は、この異
物検出信号Ｓ１をトリガとして最小値選択器７４から最
小値信号Ｓ１５を取り込み、当該最小値信号Ｓ１５から
得られる最小の信号レベルに基づいて異物の大きさを決
定し、さらに被検査面３２Ａの異物の位置と共に異物の
大きさ及び形状等でなる異物表示信号Ｓ１６を外部に設
けられたデイスプレイ８０に送出して表示させる。
【００３２】（１−３）第１実施例の動作 以上の構成において、この異物検査装置２０では、レー
ザ光源２５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ
１をλ／４波長板２６によつて円偏光波に位相変調した
後、これを反射ミラー２７、ビームエキスパンダレンズ
系２５、レンズ２９及び反射ミラー３０でなる光学系を
介して光走査装置２１の光学ユニツト２４にモータ２の
駆動軸２Ａと光軸ｎを一致させて入射させる。
ザ光源２５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ
１をλ／４波長板２６によつて円偏光波に位相変調した
後、これを反射ミラー２７、ビームエキスパンダレンズ
系２５、レンズ２９及び反射ミラー３０でなる光学系を
介して光走査装置２１の光学ユニツト２４にモータ２の
駆動軸２Ａと光軸ｎを一致させて入射させる。
【００３３】次いでこの入射光束Ｉ0 を光学ユニツト２
４のλ／４波長板２３により直線偏光波でなる光ビーム
に変換し、これをロータリミラー１１の第１及び第２の
反射面１１Ａ及び１１Ｂにおいて被検査基板３２の被検
査面３２Ａに向けて発射すると共に、この際モータ２を
駆動して光学ユニツト２４を回転させることにより、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に被検査基板３２の
被検査面３２Ａを走査させる。
４のλ／４波長板２３により直線偏光波でなる光ビーム
に変換し、これをロータリミラー１１の第１及び第２の
反射面１１Ａ及び１１Ｂにおいて被検査基板３２の被検
査面３２Ａに向けて発射すると共に、この際モータ２を
駆動して光学ユニツト２４を回転させることにより、第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に被検査基板３２の
被検査面３２Ａを走査させる。
【００３４】さらにこのとき被検査基板３２の被検査面
３２Ａに発生する散乱光を複数の受光素子を有する受光
部５１〜６７によつて受光し、これら受光部５１〜６７
の出力に基づいて信号処理部４０において異物の有無を
検出する。
３２Ａに発生する散乱光を複数の受光素子を有する受光
部５１〜６７によつて受光し、これら受光部５１〜６７
の出力に基づいて信号処理部４０において異物の有無を
検出する。
【００３５】さらにこの異物検査装置２０では、上述の
ように、光走査装置２１から発射される入射光束Ｉ0 の
電気ベクトルの振動方向が光軸ｎと第１又は第２の反射
面１１Ａ及び１１Ｂとを含む平面Ｚｎ1 又はＺｎ2 に直
交するような直線偏光波に位相変調され、従つて第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光走査装置２１の光学
ユニツト２４の回転角に関わらず常にＳ偏光波として被
検査基板３２の被検査面３２Ａに入射する。
ように、光走査装置２１から発射される入射光束Ｉ0 の
電気ベクトルの振動方向が光軸ｎと第１又は第２の反射
面１１Ａ及び１１Ｂとを含む平面Ｚｎ1 又はＺｎ2 に直
交するような直線偏光波に位相変調され、従つて第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光走査装置２１の光学
ユニツト２４の回転角に関わらず常にＳ偏光波として被
検査基板３２の被検査面３２Ａに入射する。
【００３６】この場合、例えば被検査基板３２が液晶基
板などのようにガラス材から形成されている場合にはＳ
偏光波よりもＰ偏光波の方が反射率が高く、また被検査
基板３２の被検査面３２Ａに金属材からなるパターンが
形成されている場合には、このパターンのエツジにおい
てＳ偏光波よりもＰ偏光波の散乱光の方が多く発生し易
いことが知られている。従つてこの異物検査装置２０で
は、被検査基板３２の被検査面３２Ａに入射させる光ビ
ームの偏光状態を考慮していなかつた従来の異物検査装
置に比べて、より精度良く異物を検査することができ
る。
板などのようにガラス材から形成されている場合にはＳ
偏光波よりもＰ偏光波の方が反射率が高く、また被検査
基板３２の被検査面３２Ａに金属材からなるパターンが
形成されている場合には、このパターンのエツジにおい
てＳ偏光波よりもＰ偏光波の散乱光の方が多く発生し易
いことが知られている。従つてこの異物検査装置２０で
は、被検査基板３２の被検査面３２Ａに入射させる光ビ
ームの偏光状態を考慮していなかつた従来の異物検査装
置に比べて、より精度良く異物を検査することができ
る。
【００３７】またロータリミラー１１を互いに非直角で
なる第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの２つの平
面ミラーから構成したことにより、モータ２の駆動軸２
Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合、第１及び２の
反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光軸ｎに対してなす角度は、共
に第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂのなす角度に
よつて決定され、従つて駆動軸２Ａの光軸ｎに対する偏
移の度合いに関わらず常に一定値を示す。この結果、モ
ータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸
振れを生じても、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2
は共に第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの面振れ
による影響を受けることなく光走査され得る。
なる第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの２つの平
面ミラーから構成したことにより、モータ２の駆動軸２
Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合、第１及び２の
反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光軸ｎに対してなす角度は、共
に第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂのなす角度に
よつて決定され、従つて駆動軸２Ａの光軸ｎに対する偏
移の度合いに関わらず常に一定値を示す。この結果、モ
ータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸
振れを生じても、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2
は共に第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの面振れ
による影響を受けることなく光走査され得る。
【００３８】（１−４）第１実施例の効果 以上の構成によれば、円偏光波でなる入射光束Ｉ0 をλ
／４波長板２６において偏光状態が一定の直線偏光波の
第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に変換すると共
に、当該第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査
基板３２の被検査面３２Ａに入射するようにロータリミ
ラー１１で偏向すると共にこれらλ／４波長板２３及び
ロータリミラー１１をモータ２によつて入射光束Ｉ0 の
光軸ｎを回転軸２Ａとして回転させるようにして第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査基板３２の被検
査面３２Ａに走査させるようにしたことにより、被検査
基板３２が大きい場合にも対応できると共に、精度良く
異物を検出することができる。
／４波長板２６において偏光状態が一定の直線偏光波の
第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に変換すると共
に、当該第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査
基板３２の被検査面３２Ａに入射するようにロータリミ
ラー１１で偏向すると共にこれらλ／４波長板２３及び
ロータリミラー１１をモータ２によつて入射光束Ｉ0 の
光軸ｎを回転軸２Ａとして回転させるようにして第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査基板３２の被検
査面３２Ａに走査させるようにしたことにより、被検査
基板３２が大きい場合にも対応できると共に、精度良く
異物を検出することができる。
【００３９】さらにロータリミラー１１を互いに非直角
でなる第１及び第２の反射面１１Ａ及の２つの平面ミラ
ーから構成したことにより、モータ２の駆動軸２Ａに静
的又は動的な軸振れが生じた場合においても、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2は共に第１及び第２の反射
面１１Ａ及び１１Ｂのなす角度によつて決定され、従つ
て第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの面振れによ
る影響を受けることなく光走査され得る異物検査装置を
実現することができる。
でなる第１及び第２の反射面１１Ａ及の２つの平面ミラ
ーから構成したことにより、モータ２の駆動軸２Ａに静
的又は動的な軸振れが生じた場合においても、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2は共に第１及び第２の反射
面１１Ａ及び１１Ｂのなす角度によつて決定され、従つ
て第１及び第２の反射面１１Ａ及び１１Ｂの面振れによ
る影響を受けることなく光走査され得る異物検査装置を
実現することができる。
【００４０】（２）第２実施例 （２−１）原理 図１（Ａ）及び（Ｂ）との対応部分に同一符号を付して
示す図７（Ａ）及び（Ｂ）において、光走査装置９０は
第１実施例の光走査装置１０と異なり、ロータリミラー
１１は４つの平面ミラーでなる第１〜第４の反射面９１
Ａ〜９１Ｄから構成され、第１及び第２の反射面９１Ａ
及び９１Ｂはモータ２の駆動軸２Ａと平行な光軸ｎに対
して共に同一の角度ｐをなすと共に、第３及び第４の反
射面９１Ｃ及び９１Ｄは光軸ｎに直交する同一平面を形
成している。
示す図７（Ａ）及び（Ｂ）において、光走査装置９０は
第１実施例の光走査装置１０と異なり、ロータリミラー
１１は４つの平面ミラーでなる第１〜第４の反射面９１
Ａ〜９１Ｄから構成され、第１及び第２の反射面９１Ａ
及び９１Ｂはモータ２の駆動軸２Ａと平行な光軸ｎに対
して共に同一の角度ｐをなすと共に、第３及び第４の反
射面９１Ｃ及び９１Ｄは光軸ｎに直交する同一平面を形
成している。
【００４１】図８は、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに
対して軸振れを生じていない場合において、光軸ｎに沿
つて入射される入射光束Ｉ0 と第１の反射光束Ｉ1 との
関係を示す。この場合、入射光束Ｉ0 は第１の反射面９
１Ａに反射した後、さらに第３の反射面９１Ｃに反射し
て第１の反射光束Ｉ1 として進行する。
対して軸振れを生じていない場合において、光軸ｎに沿
つて入射される入射光束Ｉ0 と第１の反射光束Ｉ1 との
関係を示す。この場合、入射光束Ｉ0 は第１の反射面９
１Ａに反射した後、さらに第３の反射面９１Ｃに反射し
て第１の反射光束Ｉ1 として進行する。
【００４２】入射光束Ｉ0 は光軸ｎと平行でなるため第
１の反射面１１Ａに対して角度ｐをなし、これにより第
１の反射光束Ｉ1 が第３の反射面９１Ｃに対してなす角
度をｑとした場合、幾何学的に角度ｑは次式
１の反射面１１Ａに対して角度ｐをなし、これにより第
１の反射光束Ｉ1 が第３の反射面９１Ｃに対してなす角
度をｑとした場合、幾何学的に角度ｑは次式
【数１０】 で表される。従つて第１の反射光束Ｉ1 が光軸ｎに対し
てなす角度をθとした場合、角度θは次式
てなす角度をθとした場合、角度θは次式
【数１１】 で表される。
【００４３】ここで図９は、モータ２の駆動軸２Ａが光
軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じ、当該駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して角度δだけ傾いた場合を示す。こ
の場合、光軸ｎと平行でなる入射光束Ｉ0 が第１の反射
面９１Ａに対してなす角度をｐ1 とした場合に、角度ｐ
1 は次式
軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じ、当該駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して角度δだけ傾いた場合を示す。こ
の場合、光軸ｎと平行でなる入射光束Ｉ0 が第１の反射
面９１Ａに対してなす角度をｐ1 とした場合に、角度ｐ
1 は次式
【数１２】 で表される。また第１の反射光束Ｉ1 と第３の反射面９
１Ｃとのなす角度をｑ1とした場合に、角度ｑ1 は次式
１Ｃとのなす角度をｑ1とした場合に、角度ｑ1 は次式
【数１３】 で表される。さらに第１の反射光束Ｉ1 の光軸ｎに対す
る角度θは、式（１２）及び式（１３）を代入して得ら
れる次式
る角度θは、式（１２）及び式（１３）を代入して得ら
れる次式
【数１４】 で表される。
【００４４】このように第１の反射光束Ｉ1 の光軸ｎに
対する角度θは、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対し
て傾いた場合の当該傾き角度δの値にかかわらず常に一
定値を示すことがわかる。この結果、モータ２の駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じて
も、第１の反射光束Ｉ1 は第１及び第３の反射面９１Ａ
及び９１Ｃの面振れによる影響を受けずに済む。また上
述の場合と同様にして、入射光束Ｉ0 が第２の反射面９
１Ｂに入射する場合においても、第２の反射光束Ｉ2 は
第２及び第４の反射面９１Ｂ及び９１Ｄの面振れによる
影響を受けずに済む。
対する角度θは、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対し
て傾いた場合の当該傾き角度δの値にかかわらず常に一
定値を示すことがわかる。この結果、モータ２の駆動軸
２Ａが光軸ｎに対して静的又は動的に軸振れを生じて
も、第１の反射光束Ｉ1 は第１及び第３の反射面９１Ａ
及び９１Ｃの面振れによる影響を受けずに済む。また上
述の場合と同様にして、入射光束Ｉ0 が第２の反射面９
１Ｂに入射する場合においても、第２の反射光束Ｉ2 は
第２及び第４の反射面９１Ｂ及び９１Ｄの面振れによる
影響を受けずに済む。
【００４５】（２−２）第２実施例による異物検査装置
の構成 次に、この光走査装置９０を適用した異物検査装置につ
いて説明する。図４との対応部分に同一符号を付した図
１０に示す異物検査装置１００において、光走査装置１
０１は光走査装置９０と異なり、ロータリミラー９１、
箱体１０２及びλ／４波長板２３でなる光学ユニツト１
０３がモータ２の駆動軸２Ａと一体に回転し得るように
設けられている。
の構成 次に、この光走査装置９０を適用した異物検査装置につ
いて説明する。図４との対応部分に同一符号を付した図
１０に示す異物検査装置１００において、光走査装置１
０１は光走査装置９０と異なり、ロータリミラー９１、
箱体１０２及びλ／４波長板２３でなる光学ユニツト１
０３がモータ２の駆動軸２Ａと一体に回転し得るように
設けられている。
【００４６】光学ユニツト１０３において、箱体１０２
の上端内側面にはロータリミラー９１が固着されると共
に、箱体１０２の下側面には駆動軸２Ａと同軸上に形成
された窓を覆うように外側からλ／４波長板２３が固着
されている。
の上端内側面にはロータリミラー９１が固着されると共
に、箱体１０２の下側面には駆動軸２Ａと同軸上に形成
された窓を覆うように外側からλ／４波長板２３が固着
されている。
【００４７】この異物検査装置１００では、レーザ光源
２５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ１を、
λ／４波長板２６を介して円偏光波に位相変調した後、
反射ミラー２７に反射してビームエキスパンダレンズ系
２５に入射し、当該ビームエキスパンダレンズ系２５に
おいて拡大された後、レンズ２９を介して所定の開口角
αで集束される入射光束Ｉ0 として装置内に固定された
反射ミラー３０を介して光学ユニツト１０３に入射す
る。
２５から射出された直線偏光波でなる光ビームＬ１を、
λ／４波長板２６を介して円偏光波に位相変調した後、
反射ミラー２７に反射してビームエキスパンダレンズ系
２５に入射し、当該ビームエキスパンダレンズ系２５に
おいて拡大された後、レンズ２９を介して所定の開口角
αで集束される入射光束Ｉ0 として装置内に固定された
反射ミラー３０を介して光学ユニツト１０３に入射す
る。
【００４８】光学ユニツト１０３に入射された入射光軸
Ｉ0 は、λ／４波長板２３によつて、電気ベクトルの振
動方向が光軸ｎと第３又は第４の反射面９１Ｃ及び９１
Ｄとを含む平面Ｚｎ3 又はＺｎ4 に直交するような直線
偏光波に位相変調される。
Ｉ0 は、λ／４波長板２３によつて、電気ベクトルの振
動方向が光軸ｎと第３又は第４の反射面９１Ｃ及び９１
Ｄとを含む平面Ｚｎ3 又はＺｎ4 に直交するような直線
偏光波に位相変調される。
【００４９】この後ロータリミラー９１の第３又は第４
の反射面９１Ｃ及び９１Ｄにおいて反射され、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 としてそれぞれ箱体１０２
の下側面に形成された窓を介してステージ３１上に載置
された被検査基板３２の被検査面３２Ａに対してＳ偏光
波として入射する。このとき第１及び第２の反射光束Ｉ
1 及びＩ2 は、モータ２の駆動に伴う光学ユニツト１０
３の回転に応じて被検査基板３２の被検査面３２Ａを円
弧状に走査する。
の反射面９１Ｃ及び９１Ｄにおいて反射され、第１及び
第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 としてそれぞれ箱体１０２
の下側面に形成された窓を介してステージ３１上に載置
された被検査基板３２の被検査面３２Ａに対してＳ偏光
波として入射する。このとき第１及び第２の反射光束Ｉ
1 及びＩ2 は、モータ２の駆動に伴う光学ユニツト１０
３の回転に応じて被検査基板３２の被検査面３２Ａを円
弧状に走査する。
【００５０】この被検査基板３２が載置されたステージ
３１においては、モータ３３と同期して駆動するアクチ
ユエータ３４により、光学ユニツト２４が180 〔°〕回
転する毎にステージ３１を矢印ｘで示す方向に移動し得
るようになされ、かくして第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを全面に亘
つて走査し得るようになされている。
３１においては、モータ３３と同期して駆動するアクチ
ユエータ３４により、光学ユニツト２４が180 〔°〕回
転する毎にステージ３１を矢印ｘで示す方向に移動し得
るようになされ、かくして第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを全面に亘
つて走査し得るようになされている。
【００５１】また上述した第１実施例の場合と同様に、
ステージ３１の周囲には、第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを走査する
際に当該被検査面３２Ａに発生した散乱光を互いに異な
る空間方向から受光し得るように、集光レンズ及び受光
素子からなる受光部（図示せず）が光走査線を斜め上か
ら見込むように等間隔で円弧状に複数並設されている。
さらにこれら各受光部の受光結果を処理するための信号
処理部及び制御部（共に図示せず）が設けられている。
ステージ３１の周囲には、第１及び第２の反射光束Ｉ1
及びＩ2 が被検査基板３２の被検査面３２Ａを走査する
際に当該被検査面３２Ａに発生した散乱光を互いに異な
る空間方向から受光し得るように、集光レンズ及び受光
素子からなる受光部（図示せず）が光走査線を斜め上か
ら見込むように等間隔で円弧状に複数並設されている。
さらにこれら各受光部の受光結果を処理するための信号
処理部及び制御部（共に図示せず）が設けられている。
【００５２】（２−３）第２実施例の動作 以上の構成において、この異物検査装置１００では、レ
ーザ光源２５から射出された直線偏光波でなる光ビーム
Ｌ１をλ／４波長板２６によつて円偏光波に位相変調し
た後、これを反射ミラー２７、ビームエキスパンダレン
ズ系２５、レンズ２９及び反射ミラー３０でなる光学系
を介して光走査装置２１の光学ユニツト１０３にモータ
２の駆動軸２Ａと光軸ｎを一致させて入射させる。
ーザ光源２５から射出された直線偏光波でなる光ビーム
Ｌ１をλ／４波長板２６によつて円偏光波に位相変調し
た後、これを反射ミラー２７、ビームエキスパンダレン
ズ系２５、レンズ２９及び反射ミラー３０でなる光学系
を介して光走査装置２１の光学ユニツト１０３にモータ
２の駆動軸２Ａと光軸ｎを一致させて入射させる。
【００５３】次いでこの入射光束Ｉ0 を光学ユニツト１
０３のλ／４波長板２３により直線偏光波でなる光ビー
ムに変換し、これをロータリミラー９１の第３及び第４
の反射面９１Ｃ及び９１Ｄにおいて被検査基板３２の被
検査面３２Ａに向けて発射すると共に、この際モータ２
を駆動して光学ユニツト１０３を回転させることによ
り、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に被検査基板
３２の被検査面３２Ａを走査させる。
０３のλ／４波長板２３により直線偏光波でなる光ビー
ムに変換し、これをロータリミラー９１の第３及び第４
の反射面９１Ｃ及び９１Ｄにおいて被検査基板３２の被
検査面３２Ａに向けて発射すると共に、この際モータ２
を駆動して光学ユニツト１０３を回転させることによ
り、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に被検査基板
３２の被検査面３２Ａを走査させる。
【００５４】さらにこのとき被検査基板３２の被検査面
３２Ａに発生する散乱光を複数の受光素子を有する受光
部５１〜６７によつて受光し、これら受光部５１〜６７
の出力に基づいて信号処理部４０において異物の有無を
検出する。
３２Ａに発生する散乱光を複数の受光素子を有する受光
部５１〜６７によつて受光し、これら受光部５１〜６７
の出力に基づいて信号処理部４０において異物の有無を
検出する。
【００５５】さらにこの異物検査装置１００では、上述
のように、光走査装置１０１から発射される入射光束Ｉ
0 の電気ベクトルの振動方向が光軸ｎと第３又は第４の
反射面９１Ｃ及び９１Ｄとを含む平面Ｚｎ3 又はＺｎ4
に直交するような直線偏光波に位相変調され、従つて第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光走査装置１０１
の光学ユニツト１０３の回転角に関わらず常にＳ偏光波
として被検査基板３２の被検査面３２Ａに入射する。
のように、光走査装置１０１から発射される入射光束Ｉ
0 の電気ベクトルの振動方向が光軸ｎと第３又は第４の
反射面９１Ｃ及び９１Ｄとを含む平面Ｚｎ3 又はＺｎ4
に直交するような直線偏光波に位相変調され、従つて第
１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光走査装置１０１
の光学ユニツト１０３の回転角に関わらず常にＳ偏光波
として被検査基板３２の被検査面３２Ａに入射する。
【００５６】従つてこの異物検査装置１００では、被検
査基板３２の被検査面３２Ａに入射させる光ビームの偏
光状態を考慮していなかつた従来の異物検査装置に比べ
て、より精度良く異物を検査することができる。
査基板３２の被検査面３２Ａに入射させる光ビームの偏
光状態を考慮していなかつた従来の異物検査装置に比べ
て、より精度良く異物を検査することができる。
【００５７】またロータリミラー１１を互いに非直角で
なる第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂと同一平面
を形成する第３及び第４の反射面９１Ｃ及び９１Ｄとで
なる４つの平面ミラーから構成したことにより、モータ
２の駆動軸２Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合、
第１及び２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光軸ｎに対してな
す角度は、共に第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂ
のなす角度によつて決定され、従つて駆動軸２Ａの光軸
ｎに対する偏移の度合いに関わらず常に一定値を示す。
この結果、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的
又は動的に軸振れを生じても、第１及び第２の反射光束
Ｉ1 及びＩ2 は共に第１〜第４の反射面９１Ａ〜９１Ｄ
の面振れによる影響を受けることなく光走査され得る。
なる第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂと同一平面
を形成する第３及び第４の反射面９１Ｃ及び９１Ｄとで
なる４つの平面ミラーから構成したことにより、モータ
２の駆動軸２Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合、
第１及び２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 が光軸ｎに対してな
す角度は、共に第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂ
のなす角度によつて決定され、従つて駆動軸２Ａの光軸
ｎに対する偏移の度合いに関わらず常に一定値を示す。
この結果、モータ２の駆動軸２Ａが光軸ｎに対して静的
又は動的に軸振れを生じても、第１及び第２の反射光束
Ｉ1 及びＩ2 は共に第１〜第４の反射面９１Ａ〜９１Ｄ
の面振れによる影響を受けることなく光走査され得る。
【００５８】（２−４）第２実施例の効果 以上の構成によれば、円偏光波でなる入射光束Ｉ0 をλ
／４波長板２６において偏光状態が一定の直線偏光波の
第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に変換すると共
に、当該第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査
基板３２の被検査面３２Ａに入射するようにロータリミ
ラー９１で偏向すると共にこれらλ／４波長板２３及び
ロータリミラー９１をモータ２によつて入射光束Ｉ0 の
光軸ｎを回転軸２Ａとして回転させるようにして第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査基板３２の被検
査面３２Ａに走査させるようにしたことにより、被検査
基板３２が大きい場合にも対応できると共に、精度良く
異物を検出することができる。
／４波長板２６において偏光状態が一定の直線偏光波の
第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 に変換すると共
に、当該第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査
基板３２の被検査面３２Ａに入射するようにロータリミ
ラー９１で偏向すると共にこれらλ／４波長板２３及び
ロータリミラー９１をモータ２によつて入射光束Ｉ0 の
光軸ｎを回転軸２Ａとして回転させるようにして第１及
び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を被検査基板３２の被検
査面３２Ａに走査させるようにしたことにより、被検査
基板３２が大きい場合にも対応できると共に、精度良く
異物を検出することができる。
【００５９】さらにロータリミラー１１を互いに非直角
でなる第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂと同一平
面を形成する第３及び第４の反射面９１Ｃ及び９１Ｄと
でなる４つの平面ミラーから構成したことにより、モー
タ２の駆動軸２Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合
においても、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 は共
に第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂのなす角度に
よつて決定され、従つて第１〜第４の反射面９１Ａ〜９
１Ｄの面振れによる影響を受けることなく光走査され得
る異物検査装置を実現することができる。
でなる第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂと同一平
面を形成する第３及び第４の反射面９１Ｃ及び９１Ｄと
でなる４つの平面ミラーから構成したことにより、モー
タ２の駆動軸２Ａに静的又は動的な軸振れが生じた場合
においても、第１及び第２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 は共
に第１及び第２の反射面９１Ａ及び９１Ｂのなす角度に
よつて決定され、従つて第１〜第４の反射面９１Ａ〜９
１Ｄの面振れによる影響を受けることなく光走査され得
る異物検査装置を実現することができる。
【００６０】（３）他の実施例 なお上述の実施例においては、ステージ３１の周囲に１
７個の受光部５１〜６７を設けた場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、１７個以外の所定数の受光
部を設けるようにしても良い。この場合、被検査基板３
２の被検査面３２Ａにおいて光学ユニツト２４の 180
〔°〕回転分に相当する走査線Ｃを形成する第１及び第
２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を受光し得るように、所定数
の受光部を並設するようにする。
７個の受光部５１〜６７を設けた場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、１７個以外の所定数の受光
部を設けるようにしても良い。この場合、被検査基板３
２の被検査面３２Ａにおいて光学ユニツト２４の 180
〔°〕回転分に相当する走査線Ｃを形成する第１及び第
２の反射光束Ｉ1 及びＩ2 を受光し得るように、所定数
の受光部を並設するようにする。
【００６１】また上述の実施例においては、ロータリミ
ラー１１、９１をそれぞれ光軸ｎを中心とする平面に対
して面対称でなる形状とした場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、このような面対称でなる形状でな
くとも良い。要は、光軸ｎに対して第１及び第２の反射
光束Ｉ1 及びＩ2 が第１及び第２の角度をなすように波
面分割されると共に、波面分割の中心位置を基準とした
回転軸２Ａの回転方向に第１及び第２の反射光束Ｉ1 及
びＩ2 をそれぞれ偏向して被検査基板３２の被検査面３
２Ａに入射させ、回転軸２Ａと光軸ｎとの相対的な角度
偏差に基づいて第１及び第２の角度の両方又はいずれか
一方が変化して生じる面振れ誤差を補償して第１及び第
２の角度を一定値に維持し得るように形成されたもので
あれば種々の形状のものを適用し得る。
ラー１１、９１をそれぞれ光軸ｎを中心とする平面に対
して面対称でなる形状とした場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、このような面対称でなる形状でな
くとも良い。要は、光軸ｎに対して第１及び第２の反射
光束Ｉ1 及びＩ2 が第１及び第２の角度をなすように波
面分割されると共に、波面分割の中心位置を基準とした
回転軸２Ａの回転方向に第１及び第２の反射光束Ｉ1 及
びＩ2 をそれぞれ偏向して被検査基板３２の被検査面３
２Ａに入射させ、回転軸２Ａと光軸ｎとの相対的な角度
偏差に基づいて第１及び第２の角度の両方又はいずれか
一方が変化して生じる面振れ誤差を補償して第１及び第
２の角度を一定値に維持し得るように形成されたもので
あれば種々の形状のものを適用し得る。
【００６２】さらに上述の実施例においては、偏光状態
調整手段としてλ／４波長板２３を用いた場合について
述べたが、本発明はこれに限らず、ロータリミラー１
１、９１によつて偏向された入射光束Ｉ0 が被検査基板
３２の被検査面３２Ａに対して一定の偏向状態となるよ
うに入射光束Ｉ0 の偏光状態を調整し得るのもであれば
種々のものを適用し得る。
調整手段としてλ／４波長板２３を用いた場合について
述べたが、本発明はこれに限らず、ロータリミラー１
１、９１によつて偏向された入射光束Ｉ0 が被検査基板
３２の被検査面３２Ａに対して一定の偏向状態となるよ
うに入射光束Ｉ0 の偏光状態を調整し得るのもであれば
種々のものを適用し得る。
【００６３】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、回転軸と
平行な第一の光軸に沿つて入射される入射光束を、第一
の光軸に対して第一の角度をなす第一の光束と第一の光
軸に対して第二の角度をなす第二の光束とに波面分割す
ると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸の回
転方向に第一の光束及び第二の光束をそれぞれ偏向して
被光束照射物（被検査物）に入射させ、回転軸と第一の
光軸との相対的な角度偏差に基づいて第一の角度及び第
二の角度の両方又はいずれか一方が変化して生じる面振
れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角度を一定値に
維持する光偏向手段を設けたことにより、回転駆動手段
の回転軸に静的又は動的な軸振れが生じた場合において
も、第１及び第２の光束は当該軸振れによる影響を受け
ることなく被光束照射物（被検査物）に対して物理的に
安定して走査させることができる光走査装置及び異物検
査装置を実現し得る。
平行な第一の光軸に沿つて入射される入射光束を、第一
の光軸に対して第一の角度をなす第一の光束と第一の光
軸に対して第二の角度をなす第二の光束とに波面分割す
ると共に、波面分割の中心位置を基準とした回転軸の回
転方向に第一の光束及び第二の光束をそれぞれ偏向して
被光束照射物（被検査物）に入射させ、回転軸と第一の
光軸との相対的な角度偏差に基づいて第一の角度及び第
二の角度の両方又はいずれか一方が変化して生じる面振
れ誤差を補償して第一の角度及び第二の角度を一定値に
維持する光偏向手段を設けたことにより、回転駆動手段
の回転軸に静的又は動的な軸振れが生じた場合において
も、第１及び第２の光束は当該軸振れによる影響を受け
ることなく被光束照射物（被検査物）に対して物理的に
安定して走査させることができる光走査装置及び異物検
査装置を実現し得る。
【００６４】さらに光偏向手段によつて偏向された入射
光束が被光束照射物（被検査物）に対して一定の偏光状
態となるように入射光束の偏光状態を調整する偏光状態
調整手段を光走査装置に設けたことにより、被光束照射
物（被検査物）が大きい場合にも対応でき、かつ精度良
く異物を検出することができる光走査装置及び異物検査
装置を実現し得る。
光束が被光束照射物（被検査物）に対して一定の偏光状
態となるように入射光束の偏光状態を調整する偏光状態
調整手段を光走査装置に設けたことにより、被光束照射
物（被検査物）が大きい場合にも対応でき、かつ精度良
く異物を検出することができる光走査装置及び異物検査
装置を実現し得る。
【図１】本発明の第１実施例による光走査装置の構成を
示す側面図及び下面図である。
示す側面図及び下面図である。
【図２】図１の光走査装置について正常時における反射
光束の様子を示す側面図である。
光束の様子を示す側面図である。
【図３】図１の光走査装置について軸振れ時における反
射光束の様子を示す側面図である。
射光束の様子を示す側面図である。
【図４】本発明の第１実施例による異物検査装置の全体
構成を示す側面図である。
構成を示す側面図である。
【図５】本発明の第１実施例による異物検査装置の全体
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図６】信号処理部の構成を示すブロツク図である。
【図７】本発明の第２実施例による光走査装置の構成を
示す側面図及び下面図である。
示す側面図及び下面図である。
【図８】図７の光走査装置について正常時における反射
光束の様子を示す側面図である。
光束の様子を示す側面図である。
【図９】図１の光走査装置について軸振れ時における反
射光束の様子を示す側面図である。
射光束の様子を示す側面図である。
【図１０】本発明の第１実施例による異物検査装置の全
体構成を示す側面図である。
体構成を示す側面図である。
【図１１】従来の光走査装置の構成を示す側面図及び下
面図である。
面図である。
１、１０、２１、９０、１０１……光走査装置、２……
モータ、２Ａ……駆動軸、３、１１、９１……ロータリ
ミラー、２０、１００……異物検査装置、２２、１０２
……箱体、２３、２６……λ／４波長板、２４、１０３
……光学ユニツト、２５……レーザ光源、３１……ステ
ージ、３２……被検査基板、３２Ａ……被検査面、４０
……信号処理部、４１……制御部、５１〜６７……受光
部。
モータ、２Ａ……駆動軸、３、１１、９１……ロータリ
ミラー、２０、１００……異物検査装置、２２、１０２
……箱体、２３、２６……λ／４波長板、２４、１０３
……光学ユニツト、２５……レーザ光源、３１……ステ
ージ、３２……被検査基板、３２Ａ……被検査面、４０
……信号処理部、４１……制御部、５１〜６７……受光
部。
Claims (10)
- 【請求項１】回転軸を有する回転駆動手段と、 前記回転軸と平行な第一の光軸に沿つて入射される入射
光束を、前記第一の光軸に対して第一の角度をなす第一
の光束と前記第一の光軸に対して第二の角度をなす第二
の光束とに波面分割すると共に、前記波面分割の中心位
置を基準とした前記回転軸の回転方向に前記第一の光束
及び前記第二の光束をそれぞれ偏向して被光束照射物に
入射させ、さらに前記回転軸と前記第一の光軸との相対
的な角度偏差に基づいて前記第一の角度及び前記第二の
角度の両方又はいずれか一方が変化して生じる面振れ誤
差を補償して前記第一の角度及び前記第二の角度を一定
値に維持する光偏向手段とを具え、前記回転駆動手段
は、前記光偏向手段によつて波面分割され偏向された前
記第一の光束及び前記第二の光束が前記被光束照射物を
走査するように、前記回転軸を中心として前記光偏向手
段を一体に回転させることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項２】前記光偏向手段は、前記第一の光軸に対し
て第一の角度をなす第一の平面鏡と前記第一の光軸に対
して第二の角度をなす第二の平面鏡との２枚の平面鏡か
ら構成され、 前記第一の角度及び前記第二の角度は同一角度でなるこ
とを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。 - 【請求項３】前記光偏向手段は、前記第一の光軸に対し
て第一の角度をなす第一の平面鏡と、前記第一の光軸に
対して第二の角度をなす第二の平面鏡と、前記回転軸に
直交する反射面を有する第三の平面鏡との３枚の平面鏡
の組合せにより構成され、 前記第一の角度は前記第一の光束の前記第一の平面鏡及
び前記第三の平面鏡による反射角に基づいて決定される
と共に、前記第二の角度は前記第一の光束の前記第二の
平面鏡及び前記第三の平面鏡による反射角に基づいて決
定されることを特徴とする請求項１に記載の光走査装
置。 - 【請求項４】前記光走査装置は、前記光偏向手段によつ
て偏向された前記入射光束が前記被光束照射物に対して
一定の偏光状態となるように前記入射光束の偏光状態を
調整する偏光状態調整手段を具え、前記回転駆動手段
は、前記光偏向手段によつて波面分割され偏向された前
記第一の光束及び前記第二の光束が前記被光束照射物を
走査するように、前記回転軸を中心として前記光偏向手
段及び前記偏光状態調整手段を一体に回転させることを
特徴とする請求項１に記載の光走査装置。 - 【請求項５】前記偏光状態調整手段は、前記入射光束が
入射する前記光偏向手段の入射面と平行かつ前記回転軸
と直交する直線に対して、前記入射光束の偏光状態に応
じた所定角度だけ前記光偏向手段の前記入射面内におい
て光学軸が傾けられた波長板でなることを特徴とする請
求項４に記載の光走査装置。 - 【請求項６】被検査物の被検査面に付着した異物の有無
を検査する異物検査装置において、 光束を発射する光源と、 回転軸を有する回転駆動手段と、 前記光束の光路上に配置され、前記回転軸と平行な第一
の光軸に沿つて入射される入射光束を、前記第一の光軸
に対して第一の角度をなす第一の光束と前記第一の光軸
に対して第二の角度をなす第二の光束とに波面分割する
と共に、前記波面分割の中心位置を基準とした前記回転
軸の回転方向に前記第一の光束及び前記第二の光束をそ
れぞれ偏向して前記被検査物の前記被検査面に入射さ
せ、さらに前記回転軸と前記第一の光軸との相対的な角
度偏差に基づいて前記第一の角度及び前記第二の角度の
両方又はいずれか一方が変化して生じる面振れ誤差を補
償して前記第一の角度及び前記第二の角度を一定値に維
持する光偏向手段と、 前記被検査物の前記被検査面に付着した前記異物により
発生される前記第一の光束及び前記第二の光束の散乱光
を受光し、受光した散乱光の強度に応じた電気信号を出
力する受光手段と、 前記受光手段から供給される前記電気信号に基づいて前
記異物を検出する信号処理手段とを具え、前記回転駆動
手段は、前記光偏向手段によつて波面分割され偏向され
た前記第一の光束及び前記第二の光束が前記被検査物の
前記被検査面を走査するように、前記回転軸を中心とし
て前記光偏向手段を一体に回転させることを特徴とする
異物検査装置。 - 【請求項７】前記光偏向手段は、前記第一の光軸に対し
て第一の角度をなす第一の平面鏡と前記第一の光軸に対
して第二の角度をなす第二の平面鏡との２枚の平面鏡か
ら構成され、 前記第一の角度及び前記第二の角度は同一角度でなるこ
とを特徴とする請求項６に記載の異物検査装置。 - 【請求項８】前記光偏向手段は、前記第一の光軸に対し
て第一の角度をなす第一の平面鏡と、前記第一の光軸に
対して第二の角度をなす第二の平面鏡と、前記回転軸に
直交する反射面を有する第三の平面鏡との３枚の平面鏡
の組合せにより構成され、 前記第一の角度は前記第一の光束の前記第一の平面鏡及
び前記第三の平面鏡による反射角に基づいて決定される
と共に、前記第二の角度は前記第一の光束の前記第二の
平面鏡及び前記第三の平面鏡による反射角に基づいて決
定されることを特徴とする請求項６に記載の異物検査装
置。 - 【請求項９】前記光走査装置は、前記光偏向手段によつ
て偏向された前記入射光束が前記被光束照射物に対して
一定の偏光状態となるように前記入射光束の偏光状態を
調整する偏光状態調整手段を具え、前記回転駆動手段
は、前記光偏向手段によつて波面分割され偏向された前
記第一の光束及び前記第二の光束が前記被光束照射物を
走査するように、前記回転軸を中心として前記光偏向手
段及び前記偏光状態調整手段を一体に回転させることを
特徴とする請求項６に記載の異物検査装置。 - 【請求項１０】前記偏光状態調整手段は、前記入射光束
が入射する前記光偏向手段の入射面と平行かつ前記回転
軸と直交する直線に対して、前記入射光束の偏光状態に
応じた所定角度だけ前記光偏向手段の前記入射面内にお
いて光学軸が傾けられた波長板でなることを特徴とする
請求項９に記載の異物検査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7317130A JPH09138364A (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 光走査装置及び異物検査装置 |
| US08/715,638 US5736735A (en) | 1995-09-21 | 1996-09-18 | Optical scanning device and foreign matter inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7317130A JPH09138364A (ja) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | 光走査装置及び異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09138364A true JPH09138364A (ja) | 1997-05-27 |
Family
ID=18084781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7317130A Pending JPH09138364A (ja) | 1995-09-21 | 1995-11-10 | 光走査装置及び異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09138364A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003067226A1 (en) * | 2002-02-04 | 2003-08-14 | Therma-Wave Inc. | Rotating head ellipsometer |
| US6778273B2 (en) | 2001-03-30 | 2004-08-17 | Therma-Wave, Inc. | Polarimetric scatterometer for critical dimension measurements of periodic structures |
| JP2011179823A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
| WO2015151557A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置および検査方法 |
-
1995
- 1995-11-10 JP JP7317130A patent/JPH09138364A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6778273B2 (en) | 2001-03-30 | 2004-08-17 | Therma-Wave, Inc. | Polarimetric scatterometer for critical dimension measurements of periodic structures |
| US6909507B2 (en) | 2001-03-30 | 2005-06-21 | Therma-Wave, Inc. | Polarimetric scatterometry methods for critical dimension measurements of periodic structures |
| US7289219B2 (en) | 2001-03-30 | 2007-10-30 | Tokyo Electron Limited | Polarimetric scatterometry methods for critical dimension measurements of periodic structures |
| US7471392B2 (en) | 2001-03-30 | 2008-12-30 | Tokyo Electron Limited | Polarimetric scatterometry methods for critical dimension measurements of periodic structures |
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| US6882413B2 (en) | 2002-02-04 | 2005-04-19 | Therma-Wave, Inc. | Rotating head ellipsometer |
| JP2011179823A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
| WO2015151557A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置および検査方法 |
| JP2015197320A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査装置および検査方法 |
| US10228332B2 (en) | 2014-03-31 | 2019-03-12 | Hitachi High-Technologies Corporation | Defect inspection device and defect inspection method |
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