JPH09143168A - 2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体および3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリルの製造方法 - Google Patents

2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体および3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリルの製造方法

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JPH09143168A
JPH09143168A JP32799695A JP32799695A JPH09143168A JP H09143168 A JPH09143168 A JP H09143168A JP 32799695 A JP32799695 A JP 32799695A JP 32799695 A JP32799695 A JP 32799695A JP H09143168 A JPH09143168 A JP H09143168A
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JP
Japan
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hydrogen cyanide
derivative
diamino
reaction
daan
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JP32799695A
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Michinori Takebayashi
道典 武林
Atsushi Yanagisawa
篤 柳沢
Hiroshi Takahashi
弘 高橋
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Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬、農薬等の含窒素化合物の中間体として
有用な、2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体(以
下DAANと言う)の製造方法および、(蛍光)色素、
蛍光染料、光変換材料及びプテリジン誘導体の合成中間
体として有用な、3,6−ジアミノ−2,5−ピラジン
ジカルボニトリル(以下SDPKと言う)を簡便かつ安
価に製造することを目的とする。 【解決手段】 シアン化水素と一般式RSH(式中、R
はアリール基、アルキル基、アラルキル基またはアルケ
ニル基を示す。)で表される化合物とを反応させること
を特徴とする、一般式〔1〕 【化1】 (式中Rは前記と同一の意味を示す。)で表されるDA
ANの製造方法、および生成したDAANを単離するこ
となく酸性条件下で反応させることを特徴とするSDP
Kの製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬等の中
間体として有用な、一般式〔1〕
【0002】
【化3】
【0003】(式中、Rはアリール基、アルキル基、ア
ラルキル基またはアルケニル基を示す。)で表される
2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体(以下DAA
Nと言う)の製造方法および3,6−ジアミノ−2,5
−ピラジンジカルボニトリル(以下、SDPKと言う)
の製造方法に関する。SDPKは、医薬、農薬等の含窒
素化合物の中間体として有用なばかりではなく、それ自
身(蛍光)色素として有用であり、また、蛍光染料、光
変換材料及びプテリジン誘導体等の合成中間体としても
有用な化合物である。
【0004】
【従来の技術】従来一般式〔1〕
【0005】
【化4】
【0006】(式中Rは前記と同一の意味を示す。)で
表される2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体(以
下、DAANと言う)は下記反応式に示される方法に従
って、製造されていた(WO88/01264)。
【0007】
【化5】
【0008】
【化6】 すなわち、シアン化水素とジスルフィド類とを反応させ
るか、又は高価な2−アミノマロノニトリルとジスルフ
ィド類、チオール類あるいはチオ酢酸エステル類との反
応により製造されていた。
【0009】一方、SDPKはフリーのDAANに酸を
用いて処理することにより製造されていた(WO91/
03469、特開平7−258225)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従来、SDPKの製造
は、シアン化水素とジスルフィド類からDAANを製造
する第一工程、次いで二分子のDAANの酸化的二量化
反応によってSDPKを製造する第二工程から成り、2
つの反応は段階的あるいは連続的に行われていた。しか
しジスルフィド類は比較的高価なため、工業的な原料と
して不利であるという問題点を抱えていた。このような
問題点を解決するため、ジスルフィド類に代わる安価な
原料が望まれていた。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明はシアン化水素と
一般式RSH(Rは前記と同じ意味を示す。)で表され
るチオール類とを反応させることを特徴とするDAAN
の製造方法およびDAANを単離することなく酸性条件
下で反応させることを特徴とするSDPKの製造方法で
ある。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の反応はチオール類とシア
ン化水素とを塩基の存在下有機溶媒中又は無溶媒で反応
させDAANを製造する。さらに、DAANを単離する
ことなく、塩基除去後、酸を添加し、空気雰囲気中反応
を行なうことによってSDPKを製造する。
【0013】第一工程の反応ではジスルフィド類の副生
を抑えるため、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中で行う
必要がある。反応溶媒は、条件によっては使用しなくて
もよいが、使用する場合には酢酸エチルや酢酸ブチル等
のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメト
キシエタン(DME)やテトラヒドロフラン(THF)
等のエーテル類、ベンゼンやトルエンやキシレン等の炭
化水素類、ジクロロメタンやクロロホルム等のハロゲン
化炭化水素類、メタノールやエタノール等のアルコール
類、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセト
アミド(DMAC)、N−メチルピロリジノン(NM
P)あるいはジメチルスルホキシド(DMSO)が使用
できる。塩基としてはトリメチルアミン、ジメチルエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジンあるいは1,8
−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセン(D
BU)等の有機塩基、ナトリウムまたはカリウムのシア
ン化物、水酸化物あるいは炭酸塩等の無機塩基が使用で
きる。
【0014】反応における塩基量は反応条件によって大
きく異なるが、チオール類に対し、0.1から2モル当
量の範囲で使用する。反応温度は0〜50℃好ましくは
20〜40℃の範囲が適しており、大気圧下で反応を行
なう。
【0015】チオール類を完全に消費しDAANにする
にはシアン化水素は最低チオール類に対し3モル当量必
要となる。反応を円滑に進めるためには3モル当量以上
が必要で、3〜6モル当量の範囲が適している。
【0016】塩基の除去は蒸留によって留去するか水洗
あるいは酸洗浄することにより行なう。塩基が残ってい
ると次のSDPK製造において収率低下をもたらすので
十分取除く必要がある。蒸留の場合、温度を上げ過ぎる
とDAANが分解する恐れがあるので、40℃以下の温
度で留去できるよう減圧下で行うのが望ましい。その際
用いた塩基と共沸する溶媒を加えて共沸留去すればさら
に効果的である。水洗の場合は1ないし数回行ない、酸
洗浄の場合は使用した塩基を中和するのに必要な量の酸
を用いて行なう。酸洗浄に用いる酸としては例えば塩酸
が使用でき、濃塩酸でも適当に薄めた希塩酸でも使用で
きる。酸洗浄の場合は中和熱が出るのでDAANの分解
を押さえるため40℃以下、好ましくは20℃以下で行
なう。又、反応溶媒が水溶性の場合は非水溶性の有機溶
媒を添加する必要がある。
【0017】DAANからSDPKを製造する際に用い
られる溶媒としては、前反応で用いた有機溶媒、もし水
溶性なら水洗あるいは酸洗浄したときに添加した非水溶
性の有機溶媒が基本溶媒となるが、以下の溶媒が使用で
きる。酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル類、アセト
ニトリル等のニトリル類、DMEやTHF等のエーテル
類、ベンゼンやトルエンやキシレン等の炭化水素類、ク
ロロホルムやジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素
類、メタノールやエタノール等のアルコール類、DMF
やDMACやNMP等のアミド類、DMSOあるいは水
が使用でき、これらは混合して使ってもよい。
【0018】酸としては無機酸、有機酸等たいていの酸
は使用可能だがピクリン酸、トリクロロ酢酸等を使用す
るのが好ましい。酸の量としては有機溶媒中ではDAA
Nに対し0.1から1モル当量好ましくは0.2から
0.6モル当量の範囲が適しており、水中の場合は酸性
度(pH)が2から5、好ましくは3から4の範囲が適
している。反応温度は室温付近の10〜40℃が適して
いる。また、本反応は酸化的二量化の縮合反応と考えら
れる。したがって、系を酸化的な雰囲気にする必要があ
る。空気と接触させるだけでよいが、積極的に空気や酸
素を吹き込んだほうが望ましい。
【0019】本化合物の構造はNMR,IR,Mass
等のデーターや本化合物の誘導体を合成し、単結晶X線
構造解析等から決定した。以下、実施例によって本発明
を更に具体的に説明する。
【0020】
【実施例】
実施例1 窒素雰囲気下、チオフェノール14.3g(130mm
ol)、アセトニトリル5ml、トリエチルアミン5.
1g(37mmol)をフラスコに仕込み、攪拌下約1
0℃に氷冷した。これにシアン化水素18ml(459
mmol)を一時に加えた。時々氷冷しながら25℃で
1時間攪拌した。反応液をHPLCで分析したところ、
2,3−ジアミノ−3−(フェニルチオ)アクリロニト
リルの収率は62.8%であった。
【0021】実施例2 窒素雰囲気下、チオフェノール14.3g(130mm
ol)、トリエチルアミン20.2g(200mmo
l)をフラスコに仕込み、攪拌下約10℃に氷冷した。
これにシアン化水素16ml(408mmol)を一時
に加え、25℃で2時間反応させた後、実施例1と同様
に分析たところ、2,3−ジアミノ−3−(フェニルチ
オ)アクリロニトリルの収率は60.9%であった。
【0022】実施例3 窒素雰囲気下、チオフェノール14.3g(130mm
ol)、トリエチルアミン20.2g(200mmo
l)をフラスコに仕込み、攪拌下約10℃に氷冷した。
これにシアン化水素24ml(612mmol)を一時
に加え、30℃で2時間反応させた後、実施例1と同様
に分析たところ、2,3−ジアミノ−3−(フェニルチ
オ)アクリロニトリルの収率は67.4%であった。
【0023】実施例4 上記実施例2と同操作でDAANを合成した後、50m
mHgに減圧下、15〜25℃でトリエチルアミンを留
去した。さらにアセトニトリル25mlを加え50mm
Hgに減圧下、15〜25℃でトリエチルアミンを共沸
留去という操作を5回繰り返した後、アセトニトリル2
00ml、トリクロロ酢酸8g(49mmol)を加
え、激しく攪拌しながら4時間反応を行った。析出した
結晶を濾過し、アセトニトリル20ml、ヘキサン10
mlで洗浄、乾燥しSDPK3.9g(24mmol)
を得た。2分子のDAANから1分子のSDPKが生成
することを考慮し、チオフェノールからの通し収率は3
7%。
【0024】実施例5 窒素雰囲気下、チオフェノール2.76g(25.0m
mol)、アセトニトリル10ml、トリエチルアミン
2.53g(25.0mmol)をフラスコに仕込み、
攪拌下約5℃に氷冷した。これにシアン化水素5.9m
l(150mmol)を一時に加えた。30℃に昇温
し、同温度で3.5時間反応した。10℃に冷却し、酢
酸エチル30mlを加え、さらに2規定塩酸13mlを
少しずつ20℃を越えないように加えた。3分間攪拌し
た後、水層を取り除いた。引き続き激しく攪拌しながら
トリクロロ酢酸1.0g(6mmol)を加え、2時間
反応を行なった。析出した結晶をろ取し、酢酸エチル5
mlで3回洗浄した。減圧乾燥後SDPK 0.43g
(2.7mmol)を得た。チオフェノールから通し収
率は22%。
【0025】
【発明の効果】本発明により、安価にかつ簡便にチオー
ル類からDAANおよびSDPKを工業的に製造するこ
とができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シアン化水素と一般式RSH(式中、R
    はアリール基、アルキル基、アラルキル基またはアルケ
    ニル基を示す。)で表される化合物とを反応させること
    を特徴とする、一般式〔1〕 【化1】 (式中Rは前記と同一の意味を示す。)で表される2,
    3−ジアミノアクリロニトリル誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】 シアン化水素と一般式RSH(式中、R
    はアリール基、アルキル基、アラルキル基またはアルケ
    ニル基を示す。)で表される化合物とを反応させた後、
    生成する一般式〔1〕 【化2】 (式中Rは前記と同一の意味を示す。)で表される2,
    3−ジアミノアクリロニトリル誘導体を単離することな
    く酸性条件下で反応させることを特徴とする3,6−ジ
    アミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリルの製造方
    法。
JP32799695A 1995-11-22 1995-11-22 2,3−ジアミノアクリロニトリル誘導体および3,6−ジアミノ−2,5−ピラジンジカルボニトリルの製造方法 Pending JPH09143168A (ja)

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