JPH09143696A - 真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置Info
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- JPH09143696A JPH09143696A JP30127795A JP30127795A JPH09143696A JP H09143696 A JPH09143696 A JP H09143696A JP 30127795 A JP30127795 A JP 30127795A JP 30127795 A JP30127795 A JP 30127795A JP H09143696 A JPH09143696 A JP H09143696A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 蒸着膜の制御範囲を拡大するとともに、蒸着
膜が変化するまでの応答時間を短縮することができる真
空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置を提供する。 【解決手段】 ルツボ１０，１１に収容された蒸発材料
１２，１３の湯面に電子ビーム２を照射して加熱、蒸発
させて、真空チャンバー内を連続して走行する帯状の基
板１に、蒸発材料１２，１３を蒸着して被膜を成形する
ものであって、ルツボ１０，１１のそれぞれに対し、基
板１の進行方向の上流側と下流側の両側に、基板１の進
行方向と交差する方向に設けられた蒸気流規制板１４〜
１７と、その各蒸気流規制板１４〜１７を昇降させるア
クチュエータ１８〜２１と、その各アクチュエータ１８
〜２１を制御する制御装置と、を有し、蒸気流規制板１
４〜１７を昇降させることにより、蒸気の広がりを規制
し、蒸着膜の蒸発材料の混合割合を調節する、ことを特
徴とする。
膜が変化するまでの応答時間を短縮することができる真
空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置を提供する。 【解決手段】 ルツボ１０，１１に収容された蒸発材料
１２，１３の湯面に電子ビーム２を照射して加熱、蒸発
させて、真空チャンバー内を連続して走行する帯状の基
板１に、蒸発材料１２，１３を蒸着して被膜を成形する
ものであって、ルツボ１０，１１のそれぞれに対し、基
板１の進行方向の上流側と下流側の両側に、基板１の進
行方向と交差する方向に設けられた蒸気流規制板１４〜
１７と、その各蒸気流規制板１４〜１７を昇降させるア
クチュエータ１８〜２１と、その各アクチュエータ１８
〜２１を制御する制御装置と、を有し、蒸気流規制板１
４〜１７を昇降させることにより、蒸気の広がりを規制
し、蒸着膜の蒸発材料の混合割合を調節する、ことを特
徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続して走行する
基板に蒸発材料を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置
の成膜方法および真空蒸着装置に関するものである。
基板に蒸発材料を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置
の成膜方法および真空蒸着装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着（vacuum vapor deposition)
は、真空中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を基板
（被処理材）の表面に凝固させて被膜を作る成膜プロセ
スである。かかる成膜プロセスにおいて、蒸着用金属
（蒸発材料）を加熱するために電子ビームを用い、帯状
の連続して走行する基板に金属を蒸着させる連続真空蒸
着装置が従来から知られている。この連続真空蒸着装置
は、通常の湿式メッキでは扱えない窒化物、炭化物、酸
化物などの蒸着が可能であり、かつ付着速度が大きいな
どの長所を有している。
は、真空中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発金属を基板
（被処理材）の表面に凝固させて被膜を作る成膜プロセ
スである。かかる成膜プロセスにおいて、蒸着用金属
（蒸発材料）を加熱するために電子ビームを用い、帯状
の連続して走行する基板に金属を蒸着させる連続真空蒸
着装置が従来から知られている。この連続真空蒸着装置
は、通常の湿式メッキでは扱えない窒化物、炭化物、酸
化物などの蒸着が可能であり、かつ付着速度が大きいな
どの長所を有している。
【０００３】図６は従来の真空蒸着装置の全体構成図で
ある。図に示す真空蒸着装置は、入側と出側に設けられ
る真空シール装置、予備加熱室、成膜室などからなり、
大気圧でアンコイラーから巻き戻された鋼板などからな
るストリップ（基板１）を入側真空シール装置を通して
真空状態とし、予備加熱室で予備加熱した後、成膜室で
成膜し、成膜後に出側真空シール装置を通し真空状態を
解除して大気圧中に取り出し、リコイラーで巻き取るよ
うになっている。
ある。図に示す真空蒸着装置は、入側と出側に設けられ
る真空シール装置、予備加熱室、成膜室などからなり、
大気圧でアンコイラーから巻き戻された鋼板などからな
るストリップ（基板１）を入側真空シール装置を通して
真空状態とし、予備加熱室で予備加熱した後、成膜室で
成膜し、成膜後に出側真空シール装置を通し真空状態を
解除して大気圧中に取り出し、リコイラーで巻き取るよ
うになっている。
【０００４】成膜室は、電子ビーム２を放射する電子銃
３と、蒸発材料４を収容する複数のルツボ５と、それら
のルツボ５を内蔵し真空排気された真空チャンバー６と
からなり、その蒸発材料４の湯面に電子ビーム２を照射
して加熱、蒸発させて、真空チャンバー６内を連続して
走行する帯状の基板１に、蒸発材料４を蒸着して被膜
（以下、蒸着膜という）を成形している。なお、電子ビ
ーム２は、図示しない偏向磁極装置により発生する磁界
により、偏向されて蒸発材料４の湯面に照射されてい
る。
３と、蒸発材料４を収容する複数のルツボ５と、それら
のルツボ５を内蔵し真空排気された真空チャンバー６と
からなり、その蒸発材料４の湯面に電子ビーム２を照射
して加熱、蒸発させて、真空チャンバー６内を連続して
走行する帯状の基板１に、蒸発材料４を蒸着して被膜
（以下、蒸着膜という）を成形している。なお、電子ビ
ーム２は、図示しない偏向磁極装置により発生する磁界
により、偏向されて蒸発材料４の湯面に照射されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した真空蒸着装置
において、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部における
蒸発材料の混合割合は、電子銃の出力を変えたり、電子
ビームの照射位置、照射時間などのパターンを変えたり
することにより蒸気の広がりを変えて調節していた。し
かし、このように電子ビームを制御する真空蒸着装置の
成膜方法では、電子ビームの変更により、蒸発材料の温
度が変化し、蒸発材料の蒸発量が変化し、蒸気の広がり
が変化し、ようやく蒸着膜が変化する、という段階を踏
まなければ、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部におけ
る蒸発材料の混合割合を調節することができなかった。
したがって、電子ビームの変更から蒸着膜が変化するま
での応答時間が長く、さらに、その時々の蒸発材料の蒸
気密度分布により蒸気の広がりは変化するため、その時
の成り行きに任せるしかなく、所望の蒸着膜を成形する
ことができず、蒸着膜を制御できる範囲が非常に狭い、
などの問題点があった。
において、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部における
蒸発材料の混合割合は、電子銃の出力を変えたり、電子
ビームの照射位置、照射時間などのパターンを変えたり
することにより蒸気の広がりを変えて調節していた。し
かし、このように電子ビームを制御する真空蒸着装置の
成膜方法では、電子ビームの変更により、蒸発材料の温
度が変化し、蒸発材料の蒸発量が変化し、蒸気の広がり
が変化し、ようやく蒸着膜が変化する、という段階を踏
まなければ、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部におけ
る蒸発材料の混合割合を調節することができなかった。
したがって、電子ビームの変更から蒸着膜が変化するま
での応答時間が長く、さらに、その時々の蒸発材料の蒸
気密度分布により蒸気の広がりは変化するため、その時
の成り行きに任せるしかなく、所望の蒸着膜を成形する
ことができず、蒸着膜を制御できる範囲が非常に狭い、
などの問題点があった。
【０００６】本発明は、上記課題を解決するために創案
されたものである。すなわち、蒸着膜の制御範囲を拡大
するとともに、蒸着膜が変化するまでの応答時間を短縮
することができる真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸
着装置を提供することを目的とする。
されたものである。すなわち、蒸着膜の制御範囲を拡大
するとともに、蒸着膜が変化するまでの応答時間を短縮
することができる真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸
着装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、電子ビ
ームを放射する電子銃と、蒸発材料を収容する複数のル
ツボと、それらのルツボを内蔵し真空排気された真空チ
ャンバーとを備え、その蒸発材料の湯面に電子ビームを
照射して加熱、蒸発させて、真空チャンバー内を連続し
て走行する帯状の基板に、蒸発材料を蒸着して被膜を成
形する真空蒸着装置の成膜方法において、上記複数のル
ツボのそれぞれに対し、蒸気の広がりを調節可能に規制
することにより、蒸着膜の蒸発材料の混合割合を調節す
る、ことを特徴とする真空蒸着装置の成膜方法が提供さ
れる。
ームを放射する電子銃と、蒸発材料を収容する複数のル
ツボと、それらのルツボを内蔵し真空排気された真空チ
ャンバーとを備え、その蒸発材料の湯面に電子ビームを
照射して加熱、蒸発させて、真空チャンバー内を連続し
て走行する帯状の基板に、蒸発材料を蒸着して被膜を成
形する真空蒸着装置の成膜方法において、上記複数のル
ツボのそれぞれに対し、蒸気の広がりを調節可能に規制
することにより、蒸着膜の蒸発材料の混合割合を調節す
る、ことを特徴とする真空蒸着装置の成膜方法が提供さ
れる。
【０００８】電子ビームを放射する電子銃と、蒸発材料
を収容する複数のルツボと、それらのルツボを内蔵し真
空排気された真空チャンバーとを備え、その蒸発材料の
湯面に電子ビームを照射して加熱、蒸発させて、真空チ
ャンバー内を連続して走行する帯状の基板に、蒸発材料
を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置において、上記
複数のルツボのそれぞれに対し、上記基板の進行方向の
上流側と下流側の両側に、上記基板の進行方向と交差す
る方向に設けられた蒸気流規制板と、その各蒸気流規制
板を昇降させるアクチュエータと、その各アクチュエー
タを制御する制御装置と、を有し、上記蒸気流規制板を
昇降させることにより、蒸気の広がりを規制し、蒸着膜
の蒸発材料の混合割合を調節する、ことを特徴とする真
空蒸着装置が提供される。
を収容する複数のルツボと、それらのルツボを内蔵し真
空排気された真空チャンバーとを備え、その蒸発材料の
湯面に電子ビームを照射して加熱、蒸発させて、真空チ
ャンバー内を連続して走行する帯状の基板に、蒸発材料
を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置において、上記
複数のルツボのそれぞれに対し、上記基板の進行方向の
上流側と下流側の両側に、上記基板の進行方向と交差す
る方向に設けられた蒸気流規制板と、その各蒸気流規制
板を昇降させるアクチュエータと、その各アクチュエー
タを制御する制御装置と、を有し、上記蒸気流規制板を
昇降させることにより、蒸気の広がりを規制し、蒸着膜
の蒸発材料の混合割合を調節する、ことを特徴とする真
空蒸着装置が提供される。
【０００９】上述の本発明の真空蒸着装置の成膜方法お
よび真空蒸着装置によれば、電子銃の出力を変えたり、
電子ビームの照射位置、照射時間などのパターンを変え
たりすることなく、蒸気流規制板により強制的に蒸気の
広がりを規制しているため、蒸気流規制板の昇降によ
り、瞬時に蒸気の広がりが変化し、蒸着膜が変化する。
したがって、蒸着膜の制御範囲を拡大するとともに、蒸
着膜が変化するまでの応答時間を短縮することができ
る。
よび真空蒸着装置によれば、電子銃の出力を変えたり、
電子ビームの照射位置、照射時間などのパターンを変え
たりすることなく、蒸気流規制板により強制的に蒸気の
広がりを規制しているため、蒸気流規制板の昇降によ
り、瞬時に蒸気の広がりが変化し、蒸着膜が変化する。
したがって、蒸着膜の制御範囲を拡大するとともに、蒸
着膜が変化するまでの応答時間を短縮することができ
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図１から図５を参照して説明する。なお、各図にお
いて従来と共通する部分には同一の符号を付して使用す
る。
態を図１から図５を参照して説明する。なお、各図にお
いて従来と共通する部分には同一の符号を付して使用す
る。
【００１１】本発明の真空蒸着装置の成膜方法および真
空蒸着装置は、図６に示した従来の真空蒸着装置とほぼ
同様の真空蒸着装置に適用されるものであり（説明は省
略する）、蒸発材料の蒸気の広がりを調節可能に規制す
ることにより、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部にお
ける蒸発材料の混合割合を調節し、蒸着膜の制御範囲を
拡大するとともに、蒸着膜が変化するまでの応答時間を
短縮しようとするものである。
空蒸着装置は、図６に示した従来の真空蒸着装置とほぼ
同様の真空蒸着装置に適用されるものであり（説明は省
略する）、蒸発材料の蒸気の広がりを調節可能に規制す
ることにより、蒸着膜の蒸着範囲や蒸着膜の合金部にお
ける蒸発材料の混合割合を調節し、蒸着膜の制御範囲を
拡大するとともに、蒸着膜が変化するまでの応答時間を
短縮しようとするものである。
【００１２】図１は、本発明の真空蒸着装置を示す構成
図である。なお、本図は図６で説明した真空蒸着装置の
真空チャンバー６内のみを図示したものである。図に示
す成膜装置は、２つのルツボ１０，１１に収容された蒸
発材料１２，１３の湯面に電子ビーム２を照射して加
熱、蒸発させて、真空チャンバー内を連続して走行する
帯状の基板１に、蒸発材料１２，１３を蒸着して被膜を
成形するものであって、ルツボ１０，１１のそれぞれに
対し、基板１の進行方向の上流側と下流側の両側に、基
板１の進行方向と交差する方向に設けられた蒸気流規制
板１４，１５，１６，１７と、その各蒸気流規制板１
４，１５，１６，１７を上昇または下降させるアクチュ
エータ１８，１９，２０，２１と、その各アクチュエー
タを制御する制御装置と、を有するものである。なお、
蒸発材料１２，１３の蒸気の広がりを一点鎖線で示して
いる。
図である。なお、本図は図６で説明した真空蒸着装置の
真空チャンバー６内のみを図示したものである。図に示
す成膜装置は、２つのルツボ１０，１１に収容された蒸
発材料１２，１３の湯面に電子ビーム２を照射して加
熱、蒸発させて、真空チャンバー内を連続して走行する
帯状の基板１に、蒸発材料１２，１３を蒸着して被膜を
成形するものであって、ルツボ１０，１１のそれぞれに
対し、基板１の進行方向の上流側と下流側の両側に、基
板１の進行方向と交差する方向に設けられた蒸気流規制
板１４，１５，１６，１７と、その各蒸気流規制板１
４，１５，１６，１７を上昇または下降させるアクチュ
エータ１８，１９，２０，２１と、その各アクチュエー
タを制御する制御装置と、を有するものである。なお、
蒸発材料１２，１３の蒸気の広がりを一点鎖線で示して
いる。
【００１３】図に示すように、ルツボ１０，１１は基板
１の進行方向の上流側と下流側とに平行に設置されてお
り、例えば、その上流側のルツボ１１には蒸発材料１３
として密着性のよいアルミニウムが収容されており、下
流側のルツボ１０には蒸発材料１２として耐食性の高い
アルミマンガンが収容されている。したがって、図の三
角形斜線部ではアルミニウムとアルミマンガンの蒸気が
混合しており、基板１にはアルミニウムとアルミマンガ
ンの合金膜が蒸着する。
１の進行方向の上流側と下流側とに平行に設置されてお
り、例えば、その上流側のルツボ１１には蒸発材料１３
として密着性のよいアルミニウムが収容されており、下
流側のルツボ１０には蒸発材料１２として耐食性の高い
アルミマンガンが収容されている。したがって、図の三
角形斜線部ではアルミニウムとアルミマンガンの蒸気が
混合しており、基板１にはアルミニウムとアルミマンガ
ンの合金膜が蒸着する。
【００１４】上記蒸気流規制板１４，１５，１６，１７
は、ルツボ１０，１１の長手方向とほぼ同じ長さを有し
ており、その下端に上記アクチュエータ１８，１９，２
０，２１の先端が連結され、各アクチュエータ１８，１
９，２０，２１の作動により、各蒸気流規制板１４，１
５，１６，１７は昇降する。このアクチュエータ１８，
１９，２０，２１の設置数は、その出力や蒸気流規制板
１４，１５，１６，１７の大きさなどの諸条件により、
１つの蒸気流規制板１４，１５，１６，１７に対して１
つでもよいし、複数でもよい。なお、アクチュエータ１
８，１９，２０，２１は、図示しない支持台により真空
チャンバー内に固定されている。
は、ルツボ１０，１１の長手方向とほぼ同じ長さを有し
ており、その下端に上記アクチュエータ１８，１９，２
０，２１の先端が連結され、各アクチュエータ１８，１
９，２０，２１の作動により、各蒸気流規制板１４，１
５，１６，１７は昇降する。このアクチュエータ１８，
１９，２０，２１の設置数は、その出力や蒸気流規制板
１４，１５，１６，１７の大きさなどの諸条件により、
１つの蒸気流規制板１４，１５，１６，１７に対して１
つでもよいし、複数でもよい。なお、アクチュエータ１
８，１９，２０，２１は、図示しない支持台により真空
チャンバー内に固定されている。
【００１５】上述したアクチュエータ１８，１９，２
０，２１は、パソコンなどの制御装置によりそれぞれ単
独に制御することができるようになっている。なお、こ
の制御装置は真空チャンバー外に設置されている。
０，２１は、パソコンなどの制御装置によりそれぞれ単
独に制御することができるようになっている。なお、こ
の制御装置は真空チャンバー外に設置されている。
【００１６】続いて、図２から図５を参照して本発明の
真空蒸着装置の成膜方法について説明する。なお、図１
に示すルツボ１０，１１の位置を基準とし、制御装置は
省略する。図２は、アクチュエータ１９，２０のみを作
動させて、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板１５およ
びルツボ１１の下流側の蒸気流規制板１６をほぼ同じ高
さまで上昇させたときの図である。図示するように蒸気
流規制板１５，１６を上昇させると、基板１下の蒸発材
料１２の上流側の蒸気の広がり、および蒸発材料１３の
下流側の蒸気の広がりを瞬時に狭めることができ、蒸発
材料１２，１３の混合割合（図の両矢印で示す部分）を
少なくすることができる。したがって、蒸発材料１２，
１３が基板１に蒸着した部分は厚く、混合した蒸発材料
１２，１３が基板１に蒸着した合金部は薄い蒸着膜を成
形することができる。また、蒸発材料１２，１３の温度
や蒸発量の変化などの物理現象を介在させることなく蒸
気の広がりを変化させることができるため、その膜厚が
変化するまでの応答時間を短縮することができる。な
お、図に示す状態において、ルツボ１０の下流側の蒸気
流規制板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流規制板
１７を昇降させて、蒸発材料１２，１３の蒸気の広がり
を調節してもよい。
真空蒸着装置の成膜方法について説明する。なお、図１
に示すルツボ１０，１１の位置を基準とし、制御装置は
省略する。図２は、アクチュエータ１９，２０のみを作
動させて、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板１５およ
びルツボ１１の下流側の蒸気流規制板１６をほぼ同じ高
さまで上昇させたときの図である。図示するように蒸気
流規制板１５，１６を上昇させると、基板１下の蒸発材
料１２の上流側の蒸気の広がり、および蒸発材料１３の
下流側の蒸気の広がりを瞬時に狭めることができ、蒸発
材料１２，１３の混合割合（図の両矢印で示す部分）を
少なくすることができる。したがって、蒸発材料１２，
１３が基板１に蒸着した部分は厚く、混合した蒸発材料
１２，１３が基板１に蒸着した合金部は薄い蒸着膜を成
形することができる。また、蒸発材料１２，１３の温度
や蒸発量の変化などの物理現象を介在させることなく蒸
気の広がりを変化させることができるため、その膜厚が
変化するまでの応答時間を短縮することができる。な
お、図に示す状態において、ルツボ１０の下流側の蒸気
流規制板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流規制板
１７を昇降させて、蒸発材料１２，１３の蒸気の広がり
を調節してもよい。
【００１７】また、図３は、アクチュエータ１９，２０
のみを作動させて、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板
１５およびルツボ１１の下流側の蒸気流規制板１６をほ
ぼ同じ高さまで下降させたときの図である。図示するよ
うに蒸気流規制板１５，１６を下降させると、基板１下
の蒸発材料１２の上流側の蒸気の広がり、および蒸発材
料１３の下流側の蒸気の広がりを瞬時に広げることがで
き、蒸発材料１２，１３の混合割合（図の両矢印で示す
部分）を多くすることができる。したがって、蒸発材料
１２，１３が基板１に蒸着した部分は薄く、混合した蒸
発材料１２，１３が基板１に蒸着した合金部は厚い蒸着
膜を成形することができる。また、蒸発材料１２，１３
の温度や蒸発量の変化などの物理現象を介在させること
なく蒸気の広がりを変化させることができるため、その
膜厚が変化するまでの応答時間を短縮することができ
る。なお、図に示す状態において、ルツボ１０の下流側
の蒸気流規制板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流
規制板１７を上昇または下降させて、蒸発材料１２，１
３の蒸気の広がりを調節してもよい。
のみを作動させて、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板
１５およびルツボ１１の下流側の蒸気流規制板１６をほ
ぼ同じ高さまで下降させたときの図である。図示するよ
うに蒸気流規制板１５，１６を下降させると、基板１下
の蒸発材料１２の上流側の蒸気の広がり、および蒸発材
料１３の下流側の蒸気の広がりを瞬時に広げることがで
き、蒸発材料１２，１３の混合割合（図の両矢印で示す
部分）を多くすることができる。したがって、蒸発材料
１２，１３が基板１に蒸着した部分は薄く、混合した蒸
発材料１２，１３が基板１に蒸着した合金部は厚い蒸着
膜を成形することができる。また、蒸発材料１２，１３
の温度や蒸発量の変化などの物理現象を介在させること
なく蒸気の広がりを変化させることができるため、その
膜厚が変化するまでの応答時間を短縮することができ
る。なお、図に示す状態において、ルツボ１０の下流側
の蒸気流規制板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流
規制板１７を上昇または下降させて、蒸発材料１２，１
３の蒸気の広がりを調節してもよい。
【００１８】さらに、図４は、アクチュエータ１８，２
１のみを作動させて、ルツボ１０の下流側の蒸気流規制
板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流規制板１７を
ほぼ同じ高さまで上昇させたときの図である。図示する
ように蒸気流規制板１４，１７を上昇させると、基板１
下の蒸発材料１２の下流側の蒸気の広がり、および蒸発
材料１３の上流側の蒸気の広がりを瞬時に狭めることが
でき、蒸発材料１２，１３の混合割合はそのままで、蒸
気全体の広がり（図の両矢印で示す部分）を狭くするこ
とができる。したがって、蒸発材料１２，１３が基板１
に蒸着した部分は薄い蒸着膜を成形することができる。
また、蒸発材料１２，１３の温度や蒸発量の変化などの
物理現象を介在させることなく蒸気の広がりを変化させ
ることができるため、その膜厚が変化するまでの応答時
間を短縮することができる。なお、図に示す状態におい
て、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板１５およびルツ
ボ１１の下流側の蒸気流規制板１６を上昇または下降さ
せて、蒸発材料１２，１３の蒸気の混合割合を変化させ
てもよい。
１のみを作動させて、ルツボ１０の下流側の蒸気流規制
板１４およびルツボ１１の上流側の蒸気流規制板１７を
ほぼ同じ高さまで上昇させたときの図である。図示する
ように蒸気流規制板１４，１７を上昇させると、基板１
下の蒸発材料１２の下流側の蒸気の広がり、および蒸発
材料１３の上流側の蒸気の広がりを瞬時に狭めることが
でき、蒸発材料１２，１３の混合割合はそのままで、蒸
気全体の広がり（図の両矢印で示す部分）を狭くするこ
とができる。したがって、蒸発材料１２，１３が基板１
に蒸着した部分は薄い蒸着膜を成形することができる。
また、蒸発材料１２，１３の温度や蒸発量の変化などの
物理現象を介在させることなく蒸気の広がりを変化させ
ることができるため、その膜厚が変化するまでの応答時
間を短縮することができる。なお、図に示す状態におい
て、ルツボ１０の上流側の蒸気流規制板１５およびルツ
ボ１１の下流側の蒸気流規制板１６を上昇または下降さ
せて、蒸発材料１２，１３の蒸気の混合割合を変化させ
てもよい。
【００１９】さらに、図５は、アクチュエータ２１のみ
を作動させて、ルツボ１１の上流側の蒸気流規制板１７
のみを下降させたときの図である。図示するように蒸気
流規制板１７を下降させると、蒸発材料１３の上流側の
蒸気の広がりを瞬時に広げることができ、蒸発材料１
２，１３の混合割合はそのままで、蒸発材料１３の蒸気
の広がり（図の両矢印で示す部分）のみを広くすること
ができる。したがって、蒸発材料１２が基板１に蒸着し
た部分は厚い蒸着膜を成形することができる。また、蒸
発材料１２，１３の温度や蒸発量の変化などの物理現象
を介在させることなく蒸気の広がりを変化させることが
できるため、その膜厚が変化するまでの応答時間を短縮
することができる。なお、図に示す状態において、ルツ
ボ１０の両側の蒸気流規制板１４，１５およびルツボ１
１の下流側の蒸気流規制板１６を上昇または下降させ
て、蒸発材料１２の蒸気の広がりを調節したり、蒸発材
料１２，１３の蒸気の混合割合を変化させてもよい。
を作動させて、ルツボ１１の上流側の蒸気流規制板１７
のみを下降させたときの図である。図示するように蒸気
流規制板１７を下降させると、蒸発材料１３の上流側の
蒸気の広がりを瞬時に広げることができ、蒸発材料１
２，１３の混合割合はそのままで、蒸発材料１３の蒸気
の広がり（図の両矢印で示す部分）のみを広くすること
ができる。したがって、蒸発材料１２が基板１に蒸着し
た部分は厚い蒸着膜を成形することができる。また、蒸
発材料１２，１３の温度や蒸発量の変化などの物理現象
を介在させることなく蒸気の広がりを変化させることが
できるため、その膜厚が変化するまでの応答時間を短縮
することができる。なお、図に示す状態において、ルツ
ボ１０の両側の蒸気流規制板１４，１５およびルツボ１
１の下流側の蒸気流規制板１６を上昇または下降させ
て、蒸発材料１２の蒸気の広がりを調節したり、蒸発材
料１２，１３の蒸気の混合割合を変化させてもよい。
【００２０】上述したように、本発明の真空蒸着装置の
成膜方法および真空蒸着装置によれば、蒸発材料１２，
１３の蒸気の広がりを種々に変化させることができるた
め、蒸着膜の制御範囲を大幅に拡大することができ、電
子銃の出力を変えたり、電子ビームの照射位置、照射時
間などのパターンを変えたりすることなく容易に所望の
蒸着膜を成形することができる。
成膜方法および真空蒸着装置によれば、蒸発材料１２，
１３の蒸気の広がりを種々に変化させることができるた
め、蒸着膜の制御範囲を大幅に拡大することができ、電
子銃の出力を変えたり、電子ビームの照射位置、照射時
間などのパターンを変えたりすることなく容易に所望の
蒸着膜を成形することができる。
【００２１】なお、本発明は上述した実施の形態に限定
されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更でき
ることは勿論である。
されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更でき
ることは勿論である。
【００２２】
【発明の効果】上述した本発明の真空蒸着装置の成膜方
法および真空蒸着装置によれば、それぞれのルツボの両
側に設けられた蒸気流規制板を昇降させることにより、
蒸発材料の蒸気の広がりを強制的に規制しているため、
蒸発材料の温度や蒸発量の変化などの物理現象を介在さ
せる必要がなく、さらに電子銃の出力などを変化させる
必要もない。したがって、蒸着膜の膜厚が変化するまで
の応答時間を大幅に短縮することができる。また、蒸発
材料の蒸気の広がりを自由に変化させることができるた
め、蒸着膜の制御範囲が大幅に拡大され、所望の蒸着膜
を容易に成形することができる、などの優れた効果を有
する。
法および真空蒸着装置によれば、それぞれのルツボの両
側に設けられた蒸気流規制板を昇降させることにより、
蒸発材料の蒸気の広がりを強制的に規制しているため、
蒸発材料の温度や蒸発量の変化などの物理現象を介在さ
せる必要がなく、さらに電子銃の出力などを変化させる
必要もない。したがって、蒸着膜の膜厚が変化するまで
の応答時間を大幅に短縮することができる。また、蒸発
材料の蒸気の広がりを自由に変化させることができるた
め、蒸着膜の制御範囲が大幅に拡大され、所望の蒸着膜
を容易に成形することができる、などの優れた効果を有
する。
【図１】本発明の真空蒸着装置を示す構成図である。
【図２】下流側のルツボの上流側の蒸気流規制板および
上流側のルツボの下流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで上昇させたときの図である。
上流側のルツボの下流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで上昇させたときの図である。
【図３】下流側のルツボの上流側の蒸気流規制板および
上流側のルツボの下流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで下降させたときの図である。
上流側のルツボの下流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで下降させたときの図である。
【図４】下流側のルツボの下流側の蒸気流規制板および
上流側のルツボの上流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで上昇させたときの図である。
上流側のルツボの上流側の蒸気流規制板をほぼ同じ高さ
まで上昇させたときの図である。
【図５】上流側のルツボの上流側の蒸気流規制板のみを
下降させたときの図である。
下降させたときの図である。
【図６】従来の真空蒸着装置の全体構成図である。
１ 基板 ２ 電子ビーム ３ 電子銃 ４ 蒸発材料 ５ ルツボ ６ 真空チャンバー １０，１１ ルツボ １２，１３ 蒸発材料 １４，１５，１６，１７ 蒸気流規制板 １８，１９，２０，２１ アクチュエータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 昭博 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重業株式会社技術研究所内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重業株式会社横浜エンジニアリン グセンター内
Claims (2)
- 【請求項１】 電子ビームを放射する電子銃と、蒸発材
料を収容する複数のルツボと、それらのルツボを内蔵し
真空排気された真空チャンバーとを備え、その蒸発材料
の湯面に電子ビームを照射して加熱、蒸発させて、真空
チャンバー内を連続して走行する帯状の基板に、蒸発材
料を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置の成膜方法に
おいて、 上記複数のルツボのそれぞれに対し、蒸気の広がりを調
節可能に規制することにより、蒸着膜の蒸発材料の混合
割合を調節する、ことを特徴とする真空蒸着装置の成膜
方法。 - 【請求項２】 電子ビームを放射する電子銃と、蒸発材
料を収容する複数のルツボと、それらのルツボを内蔵し
真空排気された真空チャンバーとを備え、その蒸発材料
の湯面に電子ビームを照射して加熱、蒸発させて、真空
チャンバー内を連続して走行する帯状の基板に、蒸発材
料を蒸着して被膜を成形する真空蒸着装置において、 上記複数のルツボのそれぞれに対し、上記基板の進行方
向の上流側と下流側の両側に、上記基板の進行方向と交
差する方向に設けられた蒸気流規制板と、その各蒸気流
規制板を昇降させるアクチュエータと、その各アクチュ
エータを制御する制御装置と、を有し、上記蒸気流規制
板を昇降させることにより、蒸気の広がりを規制し、蒸
着膜の蒸発材料の混合割合を調節する、ことを特徴とす
る真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30127795A JPH09143696A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30127795A JPH09143696A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143696A true JPH09143696A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17894892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30127795A Pending JPH09143696A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 真空蒸着装置の成膜方法および真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143696A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011047051A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | 化学量論的組成勾配層及び層構造の製造方法及び装置 |
| CN119506782A (zh) * | 2023-08-23 | 2025-02-25 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种调节金属蒸汽沉积宽度的真空镀膜装置及其控制方法 |
-
1995
- 1995-11-20 JP JP30127795A patent/JPH09143696A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011047051A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | 化学量論的組成勾配層及び層構造の製造方法及び装置 |
| CN119506782A (zh) * | 2023-08-23 | 2025-02-25 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种调节金属蒸汽沉积宽度的真空镀膜装置及其控制方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050822 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050826 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051216 |