JPH09143726A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
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- JPH09143726A JPH09143726A JP30938495A JP30938495A JPH09143726A JP H09143726 A JPH09143726 A JP H09143726A JP 30938495 A JP30938495 A JP 30938495A JP 30938495 A JP30938495 A JP 30938495A JP H09143726 A JPH09143726 A JP H09143726A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続真空蒸着装置において無効蒸着物を減少
させ、蒸着被膜の膜厚を増加させる。 【解決手段】 蒸発材料を貯留するるつぼと、つるぼ内
の蒸発材料に電子ビームを照射して蒸発材料を加熱蒸発
させる電子銃と、るつぼと電子銃を収容し連続走行する
帯状の基板に蒸発材料を蒸着させる真空室とを備えてな
る連続真空蒸着装置において、つるぼの上方に基板の上
面に当接して基板の走行を案内する２本の昇降ルーパロ
ールと、該昇降ルーパロールを昇降させるアクチュエー
タとを備え、昇降ルーパロールを昇降させて基板をるつ
ぼに近接、離反させることを特徴とする連続真空蒸着装
置である。
させ、蒸着被膜の膜厚を増加させる。 【解決手段】 蒸発材料を貯留するるつぼと、つるぼ内
の蒸発材料に電子ビームを照射して蒸発材料を加熱蒸発
させる電子銃と、るつぼと電子銃を収容し連続走行する
帯状の基板に蒸発材料を蒸着させる真空室とを備えてな
る連続真空蒸着装置において、つるぼの上方に基板の上
面に当接して基板の走行を案内する２本の昇降ルーパロ
ールと、該昇降ルーパロールを昇降させるアクチュエー
タとを備え、昇降ルーパロールを昇降させて基板をるつ
ぼに近接、離反させることを特徴とする連続真空蒸着装
置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は鋼板やフィルムなど
の連続走行基板に金属などの蒸発材料を真空蒸着させる
連続真空蒸着装置に関する。
の連続走行基板に金属などの蒸発材料を真空蒸着させる
連続真空蒸着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着(Vacuum vapor deposition)
は、真空中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発材料を基板
（被処理材）の表面に蒸着させて被膜を作る成膜プロセ
スである。かかる成膜プロセスにおいて、蒸着用金属
（蒸発材料）を加熱するために電子ビームを用い、帯状
の連続して走行する基板に金属を蒸着させる連続真空蒸
着装置が従来から知られている。この連続真空蒸着装置
は、２種の金属の連続蒸着が可能であり、かつ付着速度
が大きいなどの長所を有している。
は、真空中で金属を加熱して蒸発させ、蒸発材料を基板
（被処理材）の表面に蒸着させて被膜を作る成膜プロセ
スである。かかる成膜プロセスにおいて、蒸着用金属
（蒸発材料）を加熱するために電子ビームを用い、帯状
の連続して走行する基板に金属を蒸着させる連続真空蒸
着装置が従来から知られている。この連続真空蒸着装置
は、２種の金属の連続蒸着が可能であり、かつ付着速度
が大きいなどの長所を有している。
【０００３】図３は従来の真空蒸着装置の全体構成図で
ある。図に示す真空蒸着装置は、入側と出側に設けられ
る真空シール装置、予備加熱室、成膜室などからなり、
大気圧でアンコイラーから巻き戻された鋼板などのスト
リップ（基板１）を入側真空シール装置を通して真空状
態とし、予備加熱室で予備加熱した後、成膜室で成膜
し、成膜後に出側真空シール装置を通し真空状態を解除
して大気圧中に取り出し、リコイラーで巻き取るように
なっている。なお、予備加熱室内では基板１は電子ビー
ムにより加熱される。
ある。図に示す真空蒸着装置は、入側と出側に設けられ
る真空シール装置、予備加熱室、成膜室などからなり、
大気圧でアンコイラーから巻き戻された鋼板などのスト
リップ（基板１）を入側真空シール装置を通して真空状
態とし、予備加熱室で予備加熱した後、成膜室で成膜
し、成膜後に出側真空シール装置を通し真空状態を解除
して大気圧中に取り出し、リコイラーで巻き取るように
なっている。なお、予備加熱室内では基板１は電子ビー
ムにより加熱される。
【０００４】成膜室は、電子ビーム２を放射する電子銃
３と、蒸発材料４を収容するるつぼ５と、それらを内蔵
し真空排気された真空室６とからなり、その蒸発材料４
の湯面に電子ビーム２を照射して加熱、蒸発させて、真
空室６内を連続して走行する帯状の基板１に、蒸発材料
を蒸着して被膜（以下、蒸着膜という）を形成してい
る。なお、電子ビーム２は、図示しない偏向電磁石によ
り発生する磁界により、偏向されて蒸発材料４の湯面に
照射されている。
３と、蒸発材料４を収容するるつぼ５と、それらを内蔵
し真空排気された真空室６とからなり、その蒸発材料４
の湯面に電子ビーム２を照射して加熱、蒸発させて、真
空室６内を連続して走行する帯状の基板１に、蒸発材料
を蒸着して被膜（以下、蒸着膜という）を形成してい
る。なお、電子ビーム２は、図示しない偏向電磁石によ
り発生する磁界により、偏向されて蒸発材料４の湯面に
照射されている。
【０００５】図２は成膜室の拡大図である。図に示すよ
うに真空室６内には基板の下方にシャッタ７が設けられ
ている。シャッタ７は連続真空蒸着装置の始動時に、る
つぼ５内の蒸発材料４を加熱溶融して蒸発が行われるま
での間に、るつぼ５からの輻射熱が停止して待機してい
る基板１に当って基板１が歪むのを防ぐために設けられ
ており、内部は水冷されている。シャッタ７は図示しな
いアクチュエータにより開閉するようになっている。な
お８はシャッタの両側に取付けられたローラ、９はロー
ラが走行するレール、１０はレールを支持するブラケッ
トで一端が真空室６の壁面に固着されている。
うに真空室６内には基板の下方にシャッタ７が設けられ
ている。シャッタ７は連続真空蒸着装置の始動時に、る
つぼ５内の蒸発材料４を加熱溶融して蒸発が行われるま
での間に、るつぼ５からの輻射熱が停止して待機してい
る基板１に当って基板１が歪むのを防ぐために設けられ
ており、内部は水冷されている。シャッタ７は図示しな
いアクチュエータにより開閉するようになっている。な
お８はシャッタの両側に取付けられたローラ、９はロー
ラが走行するレール、１０はレールを支持するブラケッ
トで一端が真空室６の壁面に固着されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した連続真空蒸着
装置において、蒸着被膜の膜厚をあげるために、基板１
をるつぼ５に近づけたいが電子銃３からの電子ビーム２
の軌道や基板１とるつぼ５の間にシャッタ７を設けねば
ならないなどの制約のため、基板１とるつぼ５の間はど
うしても数百ｍｍ程度離れてしまう。また膜厚をあげる
ためには電子銃３から放射される電子ビーム２のエネル
ギを増加させればよいが、エネルギを増加させてから膜
厚が厚くなるまでの時間がかかるのと、るつぼ５からの
蒸発量が増えても、その一部は基板１に蒸着せず、真空
室６の壁面などに付着する無効蒸着物になってしまう。
装置において、蒸着被膜の膜厚をあげるために、基板１
をるつぼ５に近づけたいが電子銃３からの電子ビーム２
の軌道や基板１とるつぼ５の間にシャッタ７を設けねば
ならないなどの制約のため、基板１とるつぼ５の間はど
うしても数百ｍｍ程度離れてしまう。また膜厚をあげる
ためには電子銃３から放射される電子ビーム２のエネル
ギを増加させればよいが、エネルギを増加させてから膜
厚が厚くなるまでの時間がかかるのと、るつぼ５からの
蒸発量が増えても、その一部は基板１に蒸着せず、真空
室６の壁面などに付着する無効蒸着物になってしまう。
【０００７】本発明は従来技術のかかる問題点に鑑み案
出されたもので、基板をるつぼに近づけることにより、
蒸着膜厚を増加させる連続真空蒸着装置を提供すること
を目的とする。
出されたもので、基板をるつぼに近づけることにより、
蒸着膜厚を増加させる連続真空蒸着装置を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の連続真空蒸着装置は、蒸発材料を貯留する
るつぼと、つるぼ内の蒸発材料に電子ビームを照射して
蒸発材料を加熱蒸発させる電子銃と、るつぼと電子銃を
収容し連続走行する帯状の基板に蒸発材料を蒸着させる
真空室とを備えてなる連続真空蒸着装置において、つる
ぼの上方に基板の上面に当接して基板の走行を案内する
２本の昇降ルーパロールと、該昇降ルーパロールを昇降
させるアクチュエータとを備え、昇降ルーパロールを昇
降させて基板をるつぼに近接、離反させるようになって
いる。
め、本発明の連続真空蒸着装置は、蒸発材料を貯留する
るつぼと、つるぼ内の蒸発材料に電子ビームを照射して
蒸発材料を加熱蒸発させる電子銃と、るつぼと電子銃を
収容し連続走行する帯状の基板に蒸発材料を蒸着させる
真空室とを備えてなる連続真空蒸着装置において、つる
ぼの上方に基板の上面に当接して基板の走行を案内する
２本の昇降ルーパロールと、該昇降ルーパロールを昇降
させるアクチュエータとを備え、昇降ルーパロールを昇
降させて基板をるつぼに近接、離反させるようになって
いる。
【０００９】さらに上記昇降ルーパロールの上流側およ
び下流側に基板の下面に当接する固定ルーパロールを設
けるのが好ましい。
び下流側に基板の下面に当接する固定ルーパロールを設
けるのが好ましい。
【００１０】次に作用を説明する。るつぼ内の蒸発材料
の加熱・溶融が完了し、蒸発開始後シャッタを開き蒸着
を開始する。その後アクチュエータを作動させて昇降ル
ーパロールを下降させ基板をるつぼに近づける。基板を
るつぼに近づけることにより無効蒸着物が減少し、蒸着
膜の膜厚を厚くすることができる。
の加熱・溶融が完了し、蒸発開始後シャッタを開き蒸着
を開始する。その後アクチュエータを作動させて昇降ル
ーパロールを下降させ基板をるつぼに近づける。基板を
るつぼに近づけることにより無効蒸着物が減少し、蒸着
膜の膜厚を厚くすることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下本発明の一実施形態について
図面を参照しつつ説明する。図１は連続真空蒸着装置の
成膜室内の要部の側面図である。なお、図中１点鎖線で
昇降リルーパロールの上昇した状態を示し、２点鎖線で
シャッタが閉じているときに占める位置を示している。
図１において、従来技術として説明したものと同様のも
のは図２、図３と同じ符号を用いており、説明を省略す
る。図中１１は昇降ルーパロールで、るつぼ５の上方に
２本設けられており、基板１の上面に当接して基板の走
行を案内している。２本の昇降ルーパロール１１は共通
のブラケット１４により軸受箱（図示せず）が支持され
ている。ブラケット１４はアクチュエータ１３の先端に
固着されている。アクチュエータ１３はエヤシリンダで
あってもよいし、モータ駆動のねじ機構であってもよ
い。昇降ルーパロール１１はアクチュエータ１３によ
り、最上位置（図１の１点鎖線で示す）と最下位置（図
１の実線で示す）との間の任意の位置にすることができ
る。１５はアクチュエータ１３に指令記号１６を送る制
御器である。
図面を参照しつつ説明する。図１は連続真空蒸着装置の
成膜室内の要部の側面図である。なお、図中１点鎖線で
昇降リルーパロールの上昇した状態を示し、２点鎖線で
シャッタが閉じているときに占める位置を示している。
図１において、従来技術として説明したものと同様のも
のは図２、図３と同じ符号を用いており、説明を省略す
る。図中１１は昇降ルーパロールで、るつぼ５の上方に
２本設けられており、基板１の上面に当接して基板の走
行を案内している。２本の昇降ルーパロール１１は共通
のブラケット１４により軸受箱（図示せず）が支持され
ている。ブラケット１４はアクチュエータ１３の先端に
固着されている。アクチュエータ１３はエヤシリンダで
あってもよいし、モータ駆動のねじ機構であってもよ
い。昇降ルーパロール１１はアクチュエータ１３によ
り、最上位置（図１の１点鎖線で示す）と最下位置（図
１の実線で示す）との間の任意の位置にすることができ
る。１５はアクチュエータ１３に指令記号１６を送る制
御器である。
【００１２】次に作用を説明する。るつぼ５内の蒸発材
料４の電子ビーム２による加熱・溶融が完了し、蒸発を
開始した後シャッタ７を開く。そうすると蒸発材料４の
蒸気が基板１に達し蒸着が開始する。その状態で基板１
の走行を開始すると共に、アクチュエータ１３を作動さ
せて、昇降ルーパロール１１を下降させ、図中実線で示
すように基板１をるつぼ５に近づけた状態で走行させ
る。基板１をるつぼ５に近づけることにより、蒸発材料
４の蒸気がより多く基板に蒸着して無効蒸着物が減少
し、従って蒸着膜の膜厚を厚くできると共に、無効蒸着
物による真空室６の内壁面の汚れが少くなり、長時間の
連続運転が可能となる。
料４の電子ビーム２による加熱・溶融が完了し、蒸発を
開始した後シャッタ７を開く。そうすると蒸発材料４の
蒸気が基板１に達し蒸着が開始する。その状態で基板１
の走行を開始すると共に、アクチュエータ１３を作動さ
せて、昇降ルーパロール１１を下降させ、図中実線で示
すように基板１をるつぼ５に近づけた状態で走行させ
る。基板１をるつぼ５に近づけることにより、蒸発材料
４の蒸気がより多く基板に蒸着して無効蒸着物が減少
し、従って蒸着膜の膜厚を厚くできると共に、無効蒸着
物による真空室６の内壁面の汚れが少くなり、長時間の
連続運転が可能となる。
【００１３】本発明は以上述べた実施形態に限定される
ものではなく要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能
である。例えば図１ではるつぼ５は１台で示しているが
図２，図３に示すようにるつぼ５を２台並置してもよ
い。るつぼ５を２台並置した場合に昇降ルーパロール１
１はるつぼ１台につき２本づつ設けてもよいし、るつぼ
２台につき２本設けてもよい。また固定ルーパロールは
真空室６内に設けず、入，出側真空シール装置の最終ロ
ールまたは最初のロールと兼用してもよい。その場合に
は真空室の入，出口の形状が変ってくる。また２本の昇
降ルーパロール１１に共通のアクチュエータ１３を用い
ているが、別々のアクチュエータ１３としてもよい。
ものではなく要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能
である。例えば図１ではるつぼ５は１台で示しているが
図２，図３に示すようにるつぼ５を２台並置してもよ
い。るつぼ５を２台並置した場合に昇降ルーパロール１
１はるつぼ１台につき２本づつ設けてもよいし、るつぼ
２台につき２本設けてもよい。また固定ルーパロールは
真空室６内に設けず、入，出側真空シール装置の最終ロ
ールまたは最初のロールと兼用してもよい。その場合に
は真空室の入，出口の形状が変ってくる。また２本の昇
降ルーパロール１１に共通のアクチュエータ１３を用い
ているが、別々のアクチュエータ１３としてもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように本発明の連続真空蒸着
装置は、るつぼの上方に２本の昇降ルーパロールを設
け、昇降ルーパロールを昇降させて運転時に基板をるつ
ぼに近づけることができるので、無効蒸着物を減少さ
せ、基板への蒸着膜の膜厚を厚くすることができるなど
優れた効果がある。
装置は、るつぼの上方に２本の昇降ルーパロールを設
け、昇降ルーパロールを昇降させて運転時に基板をるつ
ぼに近づけることができるので、無効蒸着物を減少さ
せ、基板への蒸着膜の膜厚を厚くすることができるなど
優れた効果がある。
【図１】本発明の連続真空蒸着装置の成膜室の要部側面
図である。
図である。
【図２】従来の連続真空蒸着装置の成膜室の側面図であ
る。
る。
【図３】従来の連続真空蒸着装置の全体側面図である。
１ 基板 ２ 電子ビーム ３ 電子銃 ４ 蒸発材料 ５ るつぼ ６ 真空室 ７ シャッタ １１ 昇降ルーパロール １２ 固定ルーパロール １３ アクチュエータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 昭博 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社技術研究所内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニヤリ ングセンター内
Claims (2)
- 【請求項１】 蒸発材料を貯留するるつぼと、つるぼ内
の蒸発材料に電子ビームを照射して蒸発材料を加熱蒸発
させる電子銃と、るつぼと電子銃を収容し連続走行する
帯状の基板に蒸発材料を蒸着させる真空室とを備えてな
る連続真空蒸着装置において、つるぼの上方に基板の上
面に当接して基板の走行を案内する２本の昇降ルーパロ
ールと、該昇降ルーパロールを昇降させるアクチュエー
タとを備え、昇降ルーパロールを昇降させて基板をるつ
ぼに近接、離反させることを特徴とする連続真空蒸着装
置。 - 【請求項２】 昇降ルーパロールの上流および下流側
に、基板の下面に当接する固定ルーパロールを更に備え
てなる請求項１記載の連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30938495A JPH09143726A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30938495A JPH09143726A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143726A true JPH09143726A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17992364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30938495A Pending JPH09143726A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013145483A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日東電工株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
-
1995
- 1995-11-28 JP JP30938495A patent/JPH09143726A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013145483A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 日東電工株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
| JP2013209702A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Nitto Denko Corp | 蒸着装置及び蒸着方法 |
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