JPH09147779A - 電磁偏向器 - Google Patents
電磁偏向器Info
- Publication number
- JPH09147779A JPH09147779A JP7301267A JP30126795A JPH09147779A JP H09147779 A JPH09147779 A JP H09147779A JP 7301267 A JP7301267 A JP 7301267A JP 30126795 A JP30126795 A JP 30126795A JP H09147779 A JPH09147779 A JP H09147779A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electromagnetic deflector
- deflection coil
- coil
- direction deflection
- loop
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/152—Magnetic means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 励磁用のコイルを設計上の目標位置に高精度
に配置できる電磁偏向器を提供する。 【解決手段】 円筒状の絶縁円筒２の側面に対向するよ
うに１対のループ状の溝を形成し、これらの溝に金属３
Ａ，３Ｂを埋め込んでＸ方向偏向コイル１Ｘとする。Ｘ
方向偏向コイル１Ｘの内部に相似な構成で且つループ状
の金属が直交するように配置されたＹ方向偏向コイルを
収納し、且つＸ方向偏向コイル１Ｘをフェライト製の円
筒状のコアの内部に収納することによって２軸の電磁偏
向器を構成する。
に配置できる電磁偏向器を提供する。 【解決手段】 円筒状の絶縁円筒２の側面に対向するよ
うに１対のループ状の溝を形成し、これらの溝に金属３
Ａ，３Ｂを埋め込んでＸ方向偏向コイル１Ｘとする。Ｘ
方向偏向コイル１Ｘの内部に相似な構成で且つループ状
の金属が直交するように配置されたＹ方向偏向コイルを
収納し、且つＸ方向偏向コイル１Ｘをフェライト製の円
筒状のコアの内部に収納することによって２軸の電磁偏
向器を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子ビー
ム、又はイオンビーム等の荷電粒子線を低収差で偏向す
るための電磁偏向器に関する。
ム、又はイオンビーム等の荷電粒子線を低収差で偏向す
るための電磁偏向器に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば走査型電子顕微鏡では、試料上で
電子ビームを高速に、且つ高精度に走査するために偏向
器が使用されている。また、半導体集積回路等の原版と
してのマスクパターンを半導体ウエハ等の基板上に転写
するための分割転写方式の電子線縮小転写装置では、マ
スクパターン中の複数の小領域中の転写すべき小領域に
電子ビームを照射するための視野選択用偏向器、及びマ
スクパターン中の１つの小領域を通過した電子ビームを
基板上の対応する転写領域に導くための偏向器が使用さ
れている。斯かる偏向器の内で低収差で電子ビームを偏
向する必要がある用途には、励磁用のコイルによって発
生する磁場で電子ビームを偏向する電磁偏向器が主に使
用されている。
電子ビームを高速に、且つ高精度に走査するために偏向
器が使用されている。また、半導体集積回路等の原版と
してのマスクパターンを半導体ウエハ等の基板上に転写
するための分割転写方式の電子線縮小転写装置では、マ
スクパターン中の複数の小領域中の転写すべき小領域に
電子ビームを照射するための視野選択用偏向器、及びマ
スクパターン中の１つの小領域を通過した電子ビームを
基板上の対応する転写領域に導くための偏向器が使用さ
れている。斯かる偏向器の内で低収差で電子ビームを偏
向する必要がある用途には、励磁用のコイルによって発
生する磁場で電子ビームを偏向する電磁偏向器が主に使
用されている。
【０００３】従来の励磁用のコイルは、断面形状が円形
或いはほぼ正方形で、且つ絶縁被覆が施された銅線を巻
回して形成され、そのコイルを例えばフェライト製の円
筒状のコアの内側に対向するように１対固定することに
よって、所定方向に電子ビームを偏向する電磁偏向器が
形成されていた。また、通常は、直交する２方向に独立
に電子ビームを偏向する必要があるため、例えば円筒状
のコア内に２対のコイルを互いに直交するように配置し
て固定していた。
或いはほぼ正方形で、且つ絶縁被覆が施された銅線を巻
回して形成され、そのコイルを例えばフェライト製の円
筒状のコアの内側に対向するように１対固定することに
よって、所定方向に電子ビームを偏向する電磁偏向器が
形成されていた。また、通常は、直交する２方向に独立
に電子ビームを偏向する必要があるため、例えば円筒状
のコア内に２対のコイルを互いに直交するように配置し
て固定していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の電磁
偏向器においては、コアの内側に１対のそれぞれ銅線を
巻回してなるコイルを固定する際に、それら１対のコイ
ルをそれぞれ設計上の目標位置に高精度に位置決めして
固定するのが困難であった。そのため、それらのコイル
に所定の電流を供給しても、偏向収差（偏向歪）が残存
するという不都合があった。
偏向器においては、コアの内側に１対のそれぞれ銅線を
巻回してなるコイルを固定する際に、それら１対のコイ
ルをそれぞれ設計上の目標位置に高精度に位置決めして
固定するのが困難であった。そのため、それらのコイル
に所定の電流を供給しても、偏向収差（偏向歪）が残存
するという不都合があった。
【０００５】また、直交する２方向に電子ビームを偏向
するための従来の電磁偏向器では、コアの内面に２対の
コイルを正確に直交して配置するのが困難であり、偏向
方向が目標とする方向からずれるという不都合があっ
た。本発明は斯かる点に鑑み、励磁用のコイルを設計上
の目標位置に高精度に配置できる電磁偏向器を提供する
ことを第１の目的とする。更に本発明は、２つのそれぞ
れ所定の偏向方向を有するコイルを高精度に所定角度で
交差して配置することができ、電子ビーム等の荷電粒子
線を２次元的に目標とする方向に正確に偏向できる電磁
偏向器を提供することを第２の目的とする。
するための従来の電磁偏向器では、コアの内面に２対の
コイルを正確に直交して配置するのが困難であり、偏向
方向が目標とする方向からずれるという不都合があっ
た。本発明は斯かる点に鑑み、励磁用のコイルを設計上
の目標位置に高精度に配置できる電磁偏向器を提供する
ことを第１の目的とする。更に本発明は、２つのそれぞ
れ所定の偏向方向を有するコイルを高精度に所定角度で
交差して配置することができ、電子ビーム等の荷電粒子
線を２次元的に目標とする方向に正確に偏向できる電磁
偏向器を提供することを第２の目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による第１の電磁
偏向器は、例えば図１及び図３に示すように、筒状の絶
縁体（２）の側面部に形成された解放端を有するループ
状の溝（２ａ，２ｂ）に、導電体（３Ａ，３Ｂ）を埋め
込んで形成されたコイルを有するものである。斯かる本
発明によれば、筒状の絶縁体（２）の側面には、機械加
工或いはフォトリソグラフィ加工等によって高い位置精
度で溝（２ａ，２ｂ）が形成され、この溝に導電体（３
Ａ，３Ｂ）が埋め込まれる。この際に、例えば絶縁体
（２）の側面部に対向するように所定の開き角で形成さ
れた２つのループ状の溝（２ａ，２ｂ）に、導電体（３
Ａ，３Ｂ）を埋め込んで形成されたコイルを、例えば図
２に示すように、円筒状の強磁性体よりなるコア（６）
の内面に配置して、導電体（３Ａ，３Ｂ）に電流を流す
ことによって、荷電粒子線を所定の方向に偏向するため
の電磁偏向器が構成される。このとき、励磁用のコイル
としての導電体（３Ａ，３Ｂ）を設計上の目標位置に正
確に配置でき、設計通りの偏向磁場を発生できる。
偏向器は、例えば図１及び図３に示すように、筒状の絶
縁体（２）の側面部に形成された解放端を有するループ
状の溝（２ａ，２ｂ）に、導電体（３Ａ，３Ｂ）を埋め
込んで形成されたコイルを有するものである。斯かる本
発明によれば、筒状の絶縁体（２）の側面には、機械加
工或いはフォトリソグラフィ加工等によって高い位置精
度で溝（２ａ，２ｂ）が形成され、この溝に導電体（３
Ａ，３Ｂ）が埋め込まれる。この際に、例えば絶縁体
（２）の側面部に対向するように所定の開き角で形成さ
れた２つのループ状の溝（２ａ，２ｂ）に、導電体（３
Ａ，３Ｂ）を埋め込んで形成されたコイルを、例えば図
２に示すように、円筒状の強磁性体よりなるコア（６）
の内面に配置して、導電体（３Ａ，３Ｂ）に電流を流す
ことによって、荷電粒子線を所定の方向に偏向するため
の電磁偏向器が構成される。このとき、励磁用のコイル
としての導電体（３Ａ，３Ｂ）を設計上の目標位置に正
確に配置でき、設計通りの偏向磁場を発生できる。
【０００７】また、本発明による第２の電磁偏向器は、
例えば図２に示すように、同心円状に配置された複数個
の筒状の絶縁体の側面部に形成されたそれぞれ解放端を
有するループ状の溝に、それぞれ導電体を埋め込んで形
成されたコイルを有するものである。即ち、本発明の第
２の電磁偏向器は、それぞれ本発明の第１の電磁偏向器
に使用されるコイル（３Ａ，３Ｂ）と同じ複数個のコイ
ルを同心円状に組み合わせたものである。この際に、複
数個のコイルの間に絶縁性の同心円状の円筒（７）を配
置し、且つ外側に強磁性体よりなる円筒状のコア（６）
を配置することによって荷電粒子線を２次元的に偏向で
きる電磁偏向器が構成される。それら複数個のコイルを
相対的に回転するだけでこれら複数個のコイルの相対角
度を調整でき、複数個のコイルの相対角度を高精度に目
標値に設定できる。従って、荷電粒子線を２次元的に正
確に目標とする方向に偏向できる。
例えば図２に示すように、同心円状に配置された複数個
の筒状の絶縁体の側面部に形成されたそれぞれ解放端を
有するループ状の溝に、それぞれ導電体を埋め込んで形
成されたコイルを有するものである。即ち、本発明の第
２の電磁偏向器は、それぞれ本発明の第１の電磁偏向器
に使用されるコイル（３Ａ，３Ｂ）と同じ複数個のコイ
ルを同心円状に組み合わせたものである。この際に、複
数個のコイルの間に絶縁性の同心円状の円筒（７）を配
置し、且つ外側に強磁性体よりなる円筒状のコア（６）
を配置することによって荷電粒子線を２次元的に偏向で
きる電磁偏向器が構成される。それら複数個のコイルを
相対的に回転するだけでこれら複数個のコイルの相対角
度を調整でき、複数個のコイルの相対角度を高精度に目
標値に設定できる。従って、荷電粒子線を２次元的に正
確に目標とする方向に偏向できる。
【０００８】この場合、複数個の筒状の絶縁体の相対角
度をノックピン（８Ａ，８Ｂ）で固定することが望まし
い。更に、それら複数個の絶縁体の内の１つのノックピ
ン用の穴を長穴としておくことによって、相対角度を微
調整して最良の位置で固定できる。また、筒状の絶縁体
（２）の側面部のループ状の溝（２ａ，２ｂ）に埋め込
まれる導電体（３Ａ，３Ｂ）は、銅及び銀よりなる金属
群から選択される１つの金属であることが望ましい。金
属であれば、ループ状の溝（２ａ，２ｂ）中に例えば電
気メッキ等によって容易に埋め込むことができる。更
に、導電体（３Ａ，３Ｂ）が銅であれば、特に電気メッ
キが容易で且つ廉価である。また、導電体（３Ａ，３
Ｂ）が銀であれば、特に電気伝導度が良好であるため、
特に小型で且つ高精度な電磁偏向器が必要な用途に好適
である。
度をノックピン（８Ａ，８Ｂ）で固定することが望まし
い。更に、それら複数個の絶縁体の内の１つのノックピ
ン用の穴を長穴としておくことによって、相対角度を微
調整して最良の位置で固定できる。また、筒状の絶縁体
（２）の側面部のループ状の溝（２ａ，２ｂ）に埋め込
まれる導電体（３Ａ，３Ｂ）は、銅及び銀よりなる金属
群から選択される１つの金属であることが望ましい。金
属であれば、ループ状の溝（２ａ，２ｂ）中に例えば電
気メッキ等によって容易に埋め込むことができる。更
に、導電体（３Ａ，３Ｂ）が銅であれば、特に電気メッ
キが容易で且つ廉価である。また、導電体（３Ａ，３
Ｂ）が銀であれば、特に電気伝導度が良好であるため、
特に小型で且つ高精度な電磁偏向器が必要な用途に好適
である。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明による電磁偏向器の
実施の形態の一例につき図１〜図３を参照して説明す
る。本例は、荷電粒子線としての電子ビームを直交する
２方向（これをＸ方向、Ｙ方向とする）に独立に偏向す
る電磁偏向器に本発明を適用したものである。
実施の形態の一例につき図１〜図３を参照して説明す
る。本例は、荷電粒子線としての電子ビームを直交する
２方向（これをＸ方向、Ｙ方向とする）に独立に偏向す
る電磁偏向器に本発明を適用したものである。
【００１０】図１は、本例の電子ビームをＸ方向に偏向
するための偏向コイル（以下、「Ｘ方向偏向コイル」と
呼ぶ）１Ｘを示し、この図１において、例えばセラミッ
クス、又はポリイミド等の合成樹脂等の絶縁材料からな
る円筒状の絶縁円筒２は、外径が後述の円筒状のコアの
内面に隙間なく収まるように、且つ内径が外径と同心度
良く加工されている。そして、絶縁円筒２の側面に対向
するように、それぞれ絶縁円筒２の中心軸に対して円周
角θでループ状（より正確にはサドルの輪郭のような形
状）に銅よりなる金属３Ａ及び３Ｂが埋め込まれてい
る。円周角θは例えば１２０°である。これらの金属３
Ａ及び３Ｂは絶縁円筒２の端部で開いており、不図示で
あるが、その開いた部分にそれぞれ励磁用の電流を供給
するための１対のリード線が接続されている。また、絶
縁円筒２の側面に対向するように、絶縁円筒２の中心軸
に対して回転方向に長い１対の長穴よりなるノック穴
（図１では一方のノック穴２ｃのみが現れている）が設
けられている。
するための偏向コイル（以下、「Ｘ方向偏向コイル」と
呼ぶ）１Ｘを示し、この図１において、例えばセラミッ
クス、又はポリイミド等の合成樹脂等の絶縁材料からな
る円筒状の絶縁円筒２は、外径が後述の円筒状のコアの
内面に隙間なく収まるように、且つ内径が外径と同心度
良く加工されている。そして、絶縁円筒２の側面に対向
するように、それぞれ絶縁円筒２の中心軸に対して円周
角θでループ状（より正確にはサドルの輪郭のような形
状）に銅よりなる金属３Ａ及び３Ｂが埋め込まれてい
る。円周角θは例えば１２０°である。これらの金属３
Ａ及び３Ｂは絶縁円筒２の端部で開いており、不図示で
あるが、その開いた部分にそれぞれ励磁用の電流を供給
するための１対のリード線が接続されている。また、絶
縁円筒２の側面に対向するように、絶縁円筒２の中心軸
に対して回転方向に長い１対の長穴よりなるノック穴
（図１では一方のノック穴２ｃのみが現れている）が設
けられている。
【００１１】次に、図１のＸ方向偏向コイル１Ｘの製造
方法の一例につき図３を参照して説明する。図３に示す
ように、先ず外径及び内径を設計値通りに加工した絶縁
体よりなる絶縁円筒２を用意し、絶縁円筒２の側面に対
向するように１対のループ状で端部が開いた溝２ａ及び
２ｂを穿設する。更に、溝２ａ，２ｂに対して所定の位
置関係で対向するように、絶縁円筒２の中心軸に対して
回転方向に長い１対の長穴よりなるノック穴を穿設す
る。この際に、溝２ａ，２ｂ及びノック穴は切削加工等
の機械加工によって極めて高精度に形成することができ
る。
方法の一例につき図３を参照して説明する。図３に示す
ように、先ず外径及び内径を設計値通りに加工した絶縁
体よりなる絶縁円筒２を用意し、絶縁円筒２の側面に対
向するように１対のループ状で端部が開いた溝２ａ及び
２ｂを穿設する。更に、溝２ａ，２ｂに対して所定の位
置関係で対向するように、絶縁円筒２の中心軸に対して
回転方向に長い１対の長穴よりなるノック穴を穿設す
る。この際に、溝２ａ，２ｂ及びノック穴は切削加工等
の機械加工によって極めて高精度に形成することができ
る。
【００１２】なお、絶縁体としての絶縁円筒２をポリイ
ミド等の感光性樹脂から形成した場合には、フォトリソ
グラフィ工程によって溝２ａ，２ｂとノック穴とを形成
しても良い。この場合、この感光性樹脂からなる絶縁円
筒２の外周に、溝２ａ，２ｂに対応するコイルパターン
とノック穴に対応するパターンとが形成されたマスクを
取り付けて平行性のよい紫外線等で感光させた後、現像
することによって、溝２ａ，２ｂとノック穴とが形成さ
れる。
ミド等の感光性樹脂から形成した場合には、フォトリソ
グラフィ工程によって溝２ａ，２ｂとノック穴とを形成
しても良い。この場合、この感光性樹脂からなる絶縁円
筒２の外周に、溝２ａ，２ｂに対応するコイルパターン
とノック穴に対応するパターンとが形成されたマスクを
取り付けて平行性のよい紫外線等で感光させた後、現像
することによって、溝２ａ，２ｂとノック穴とが形成さ
れる。
【００１３】次に、絶縁円筒２の内側にほぼ収まるアル
ミニウム製の円筒のパイプ４を用意して、パイプ４の側
面上で絶縁円筒２の溝２ａ，２ｂに対応する位置に溝２
ａ，２ｂより少し幅広の電気伝導度の良好な金属膜（図
３では一方の金属膜５Ａのみが現れている）を被着し、
これらの金属膜にリード線を接続する。金属膜５Ａ等を
被着するためには、例えば化学メッキ処理、又はスパッ
タリング等が使用できる。その後、パイプ４を金属膜５
Ａが溝２ａを覆うように絶縁円筒２中に収め、絶縁円筒
２及びパイプ４を銅メッキ用のメッキ槽中に入れて、金
属膜５Ａ等と銅板よりなる電極との間に電流を流して電
気的な銅メッキを施す。そして、メッキ層が絶縁円筒２
の外径より十分はみ出すまで電気メッキを施して、絶縁
円筒２及びパイプ４をメッキ槽から取り出した後、例え
ば切削加工によって、絶縁円筒２の外径に合わせて溝２
ａ，２ｂから外部にはみ出した銅を削り取る。これによ
って、溝２ａ，２ｂ内に銅よりなる金属３Ａ，３Ｂが埋
め込まれる。その後、図３に示すように、絶縁円筒２の
先端部で溝２ａ，２ｂの解放端を含む部分２ｄを削り落
とす。
ミニウム製の円筒のパイプ４を用意して、パイプ４の側
面上で絶縁円筒２の溝２ａ，２ｂに対応する位置に溝２
ａ，２ｂより少し幅広の電気伝導度の良好な金属膜（図
３では一方の金属膜５Ａのみが現れている）を被着し、
これらの金属膜にリード線を接続する。金属膜５Ａ等を
被着するためには、例えば化学メッキ処理、又はスパッ
タリング等が使用できる。その後、パイプ４を金属膜５
Ａが溝２ａを覆うように絶縁円筒２中に収め、絶縁円筒
２及びパイプ４を銅メッキ用のメッキ槽中に入れて、金
属膜５Ａ等と銅板よりなる電極との間に電流を流して電
気的な銅メッキを施す。そして、メッキ層が絶縁円筒２
の外径より十分はみ出すまで電気メッキを施して、絶縁
円筒２及びパイプ４をメッキ槽から取り出した後、例え
ば切削加工によって、絶縁円筒２の外径に合わせて溝２
ａ，２ｂから外部にはみ出した銅を削り取る。これによ
って、溝２ａ，２ｂ内に銅よりなる金属３Ａ，３Ｂが埋
め込まれる。その後、図３に示すように、絶縁円筒２の
先端部で溝２ａ，２ｂの解放端を含む部分２ｄを削り落
とす。
【００１４】そして、絶縁円筒２及びパイプ４をリン酸
液に長時間浸す等してアルミニウム製のパイプ４を溶解
させて除去することによって、図１に示すＸ方向偏向コ
イル１Ｘが製造される。その後、金属３Ａ，３Ｂの解放
端に不図示のリード線が接続される。このように本例で
は電気メッキ処理を行っているため、絶縁円筒２の溝２
ａ，２ｂ内に容易に金属３Ａ，３Ｂを埋め込むことがで
きる。また、図３に示す絶縁円筒２の先端の部分２ｄを
メッキ処理後に切り落としているため、図１に示すよう
に、金属３Ａで囲まれた部分２ｅが加工中に離脱するこ
とがない。
液に長時間浸す等してアルミニウム製のパイプ４を溶解
させて除去することによって、図１に示すＸ方向偏向コ
イル１Ｘが製造される。その後、金属３Ａ，３Ｂの解放
端に不図示のリード線が接続される。このように本例で
は電気メッキ処理を行っているため、絶縁円筒２の溝２
ａ，２ｂ内に容易に金属３Ａ，３Ｂを埋め込むことがで
きる。また、図３に示す絶縁円筒２の先端の部分２ｄを
メッキ処理後に切り落としているため、図１に示すよう
に、金属３Ａで囲まれた部分２ｅが加工中に離脱するこ
とがない。
【００１５】次に、電子ビームをＹ方向に偏向するため
のＹ方向偏向コイル１Ｙ（図２参照）を形成する。この
Ｙ方向偏向コイル１Ｙは、Ｘ方向偏向コイル１Ｘと同様
の構成であるが、外径がＸ方向偏向コイル１Ｘの内径よ
り所定の厚さ分だけ小さく加工されている。また、Ｙ方
向偏向コイル１Ｙの側面には、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの
１対のノック穴（２ｃ等）に対して９０°回転した位置
関係で１対の円形のノック穴が形成されている。
のＹ方向偏向コイル１Ｙ（図２参照）を形成する。この
Ｙ方向偏向コイル１Ｙは、Ｘ方向偏向コイル１Ｘと同様
の構成であるが、外径がＸ方向偏向コイル１Ｘの内径よ
り所定の厚さ分だけ小さく加工されている。また、Ｙ方
向偏向コイル１Ｙの側面には、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの
１対のノック穴（２ｃ等）に対して９０°回転した位置
関係で１対の円形のノック穴が形成されている。
【００１６】その後、図２に示すように、Ｘ方向偏向コ
イル１Ｘの外径に隙間なく嵌合する内径を有するフェラ
イト製の円筒状のコア６と、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの内
径及びＹ方向偏向コイル１Ｙの外径にそれぞれ隙間なく
嵌合する絶縁体よりなる円筒状のスペーサ７とを用意す
る。スペーサ７の側面にも１対の長穴よりなるノック穴
を形成しておく。そして、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの内面
にスペーサ７を介してＹ方向偏向コイル１Ｙを収め、Ｘ
方向偏向コイル１Ｘ、スペーサ７、及びＹ方向偏向コイ
ル１Ｙのそれぞれの１対のノック穴に対して絶縁体より
なる円筒状のノックピン８Ａ及び８Ｂを打ち込み、Ｘ方
向偏向コイル１Ｘの金属３Ａ，３ＢとＹ方向偏向コイル
１Ｙの金属とが９０°で交差するように、両偏向コイル
１Ｘ，１Ｙの相対回転角を調整する。なお、機械加工等
の精度が高い場合には、Ｘ方向偏向コイル１Ｘのノック
穴（２ｃ等）も円形として、端にノックピン８Ａ，８Ｂ
を打ち込むだけでも、両偏向コイル１Ｘ，１Ｙを高い直
交度で直交させることができる。
イル１Ｘの外径に隙間なく嵌合する内径を有するフェラ
イト製の円筒状のコア６と、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの内
径及びＹ方向偏向コイル１Ｙの外径にそれぞれ隙間なく
嵌合する絶縁体よりなる円筒状のスペーサ７とを用意す
る。スペーサ７の側面にも１対の長穴よりなるノック穴
を形成しておく。そして、Ｘ方向偏向コイル１Ｘの内面
にスペーサ７を介してＹ方向偏向コイル１Ｙを収め、Ｘ
方向偏向コイル１Ｘ、スペーサ７、及びＹ方向偏向コイ
ル１Ｙのそれぞれの１対のノック穴に対して絶縁体より
なる円筒状のノックピン８Ａ及び８Ｂを打ち込み、Ｘ方
向偏向コイル１Ｘの金属３Ａ，３ＢとＹ方向偏向コイル
１Ｙの金属とが９０°で交差するように、両偏向コイル
１Ｘ，１Ｙの相対回転角を調整する。なお、機械加工等
の精度が高い場合には、Ｘ方向偏向コイル１Ｘのノック
穴（２ｃ等）も円形として、端にノックピン８Ａ，８Ｂ
を打ち込むだけでも、両偏向コイル１Ｘ，１Ｙを高い直
交度で直交させることができる。
【００１７】そのように両偏向コイル１Ｘ，１Ｙを直交
させた状態で、Ｘ方向偏向コイル１Ｘをコア６の内面に
収めることによって、本例の直交する２方向に独立に電
子ビームを偏向できる２軸の電磁偏向器が完成する。本
例のようにコア６の内部に、サドルの輪郭のような形状
に金属３Ａ，３Ｂが埋め込まれたＸ方向偏向コイル１Ｘ
を収めた電磁偏向器は、いわゆるコア付きのサドルタイ
プの偏向器の一種とみなすことができる。
させた状態で、Ｘ方向偏向コイル１Ｘをコア６の内面に
収めることによって、本例の直交する２方向に独立に電
子ビームを偏向できる２軸の電磁偏向器が完成する。本
例のようにコア６の内部に、サドルの輪郭のような形状
に金属３Ａ，３Ｂが埋め込まれたＸ方向偏向コイル１Ｘ
を収めた電磁偏向器は、いわゆるコア付きのサドルタイ
プの偏向器の一種とみなすことができる。
【００１８】また、本例のＸ方向偏向コイル１Ｘ、及び
Ｙ方向偏向コイル１Ｙは共に１ターンのコイルであるた
め、アンペア・ターン数を大きくするには電流を増す必
要がある。但し、駆動電源の都合等で電流値を減らした
い場合には、例えば上記のＸ方向偏向コイル１Ｘと同心
円状で相似のコイルを何層にも重ね、それらのループ状
の金属を外部で直列に接続して電流を供給するようにし
てもよい。
Ｙ方向偏向コイル１Ｙは共に１ターンのコイルであるた
め、アンペア・ターン数を大きくするには電流を増す必
要がある。但し、駆動電源の都合等で電流値を減らした
い場合には、例えば上記のＸ方向偏向コイル１Ｘと同心
円状で相似のコイルを何層にも重ね、それらのループ状
の金属を外部で直列に接続して電流を供給するようにし
てもよい。
【００１９】次に、図２の電磁偏向器を電子線縮小転写
装置に適用した場合の構成例につき図３を参照して説明
する。図３は、本例の電子線縮小転写装置を示し、この
図３において、マスクＭのパターン領域は直交する２方
向（これをＸ方向、Ｙ方向とする）に所定ピッチで複数
の小領域に分割され、それら複数の小領域中の１つの小
領域に不図示の照明系から電子ビームが照射されてい
る。その１つの小領域を通過した電子ビーム１６は、上
段の２軸の電磁偏向器１１によって偏向された後、電磁
レンズよりなる投影レンズ１２によって集束され、その
後下段の２軸の電磁偏向器１３によって偏向されて、電
子線レジストが塗布されたウエハＷ上の対応する転写領
域に集束される。これによって、マスクＭ上の１つの小
領域内のパターンが縮小倍率β（βは例えば１／４）で
縮小されて、ウエハＷ上の対応する転写領域に反転して
転写される。また、投影レンズ１２の下端付近に電子線
源の像であるクロスオーバ１４が形成されている。更
に、マスクＭ上で光軸に対して対称な位置にある小領域
のパターンをウエハＷ上に転写する際には、その小領域
を通過した電子ビーム（主光線で示す）１５は、電磁偏
向器１１，１３によって電子ビーム１６と対称に偏向さ
れる。
装置に適用した場合の構成例につき図３を参照して説明
する。図３は、本例の電子線縮小転写装置を示し、この
図３において、マスクＭのパターン領域は直交する２方
向（これをＸ方向、Ｙ方向とする）に所定ピッチで複数
の小領域に分割され、それら複数の小領域中の１つの小
領域に不図示の照明系から電子ビームが照射されてい
る。その１つの小領域を通過した電子ビーム１６は、上
段の２軸の電磁偏向器１１によって偏向された後、電磁
レンズよりなる投影レンズ１２によって集束され、その
後下段の２軸の電磁偏向器１３によって偏向されて、電
子線レジストが塗布されたウエハＷ上の対応する転写領
域に集束される。これによって、マスクＭ上の１つの小
領域内のパターンが縮小倍率β（βは例えば１／４）で
縮小されて、ウエハＷ上の対応する転写領域に反転して
転写される。また、投影レンズ１２の下端付近に電子線
源の像であるクロスオーバ１４が形成されている。更
に、マスクＭ上で光軸に対して対称な位置にある小領域
のパターンをウエハＷ上に転写する際には、その小領域
を通過した電子ビーム（主光線で示す）１５は、電磁偏
向器１１，１３によって電子ビーム１６と対称に偏向さ
れる。
【００２０】本例では、２軸の電磁偏向器１１及び１３
は、それぞれ図２の２軸の電磁偏向器と相似な構成とな
っている。即ち、上段の電磁偏向器１１は、強磁性体よ
りなる円筒状のコア６Ａの内部に順次図１のＸ方向偏向
コイル１Ｘと相似のＸ方向偏向コイル１ＸＡ、絶縁性の
円筒７Ａ、及びＹ方向偏向コイル１ＹＡを収めて構成さ
れ、下段の電磁偏向器１３も、円筒状のコア６Ｂの内部
に順次図１のＸ方向偏向コイル１Ｘと相似のＸ方向偏向
コイル１ＸＢ、絶縁性の円筒７Ｂ、及びＹ方向偏向コイ
ル１ＹＢを収めて構成されている。また、Ｘ方向偏向コ
イル１ＸＡ，１ＸＢとＹ方向偏向コイル１ＹＡ，１ＹＢ
とはそれぞれ直交し、Ｘ方向偏向コイル１ＸＡ及び１Ｘ
Ｂは互いに同じ角度で配置されている。
は、それぞれ図２の２軸の電磁偏向器と相似な構成とな
っている。即ち、上段の電磁偏向器１１は、強磁性体よ
りなる円筒状のコア６Ａの内部に順次図１のＸ方向偏向
コイル１Ｘと相似のＸ方向偏向コイル１ＸＡ、絶縁性の
円筒７Ａ、及びＹ方向偏向コイル１ＹＡを収めて構成さ
れ、下段の電磁偏向器１３も、円筒状のコア６Ｂの内部
に順次図１のＸ方向偏向コイル１Ｘと相似のＸ方向偏向
コイル１ＸＢ、絶縁性の円筒７Ｂ、及びＹ方向偏向コイ
ル１ＹＢを収めて構成されている。また、Ｘ方向偏向コ
イル１ＸＡ，１ＸＢとＹ方向偏向コイル１ＹＡ，１ＹＢ
とはそれぞれ直交し、Ｘ方向偏向コイル１ＸＡ及び１Ｘ
Ｂは互いに同じ角度で配置されている。
【００２１】更に、マスクＭからウエハＷへの縮小倍率
がβであるため、ウエハ側の電磁偏向器１３の形状（内
外径、及び高さ等）は、マスク側の電磁偏向器１１の形
状に対して寸法比がβ倍の相似形とした。また、クロス
オーバ１４からウエハ側の電磁偏向器１３の中心１３ａ
までの距離は、クロスオーバ１４からマスク側の電磁偏
向器１１の中心１１ａまでの距離のβ倍とした。具体的
に、縮小倍率βが１／４であるときには、ウエハ側の電
磁偏向器１３はマスク側の電磁偏向器１１に対して各部
の寸法が１／４倍の相似形となり、クロスオーバ１４か
ら電磁偏向器１３の中心１３ａまでの距離は、クロスオ
ーバ１１から電磁偏向器１１の中心１１ａまでの距離の
１／４倍となる。
がβであるため、ウエハ側の電磁偏向器１３の形状（内
外径、及び高さ等）は、マスク側の電磁偏向器１１の形
状に対して寸法比がβ倍の相似形とした。また、クロス
オーバ１４からウエハ側の電磁偏向器１３の中心１３ａ
までの距離は、クロスオーバ１４からマスク側の電磁偏
向器１１の中心１１ａまでの距離のβ倍とした。具体的
に、縮小倍率βが１／４であるときには、ウエハ側の電
磁偏向器１３はマスク側の電磁偏向器１１に対して各部
の寸法が１／４倍の相似形となり、クロスオーバ１４か
ら電磁偏向器１３の中心１３ａまでの距離は、クロスオ
ーバ１１から電磁偏向器１１の中心１１ａまでの距離の
１／４倍となる。
【００２２】この結果、２つの相似形の電磁偏向器１１
及び１３の内部を通過する電子ビーム１６の軌道が相似
形となり、偏向磁場と電子軌道との相似性が電子軌道全
体で保たれ、上段の電磁偏向器１１で残存している偏向
収差（設計通り正しく製作されていても残存している収
差）と、下段の電磁偏向器１３で残存している偏向収差
とが互いに打ち消される。従って、ウエハＷ上に転写さ
れるパターンの歪が小さくなる利点がある。この場合
の、電磁偏向器１１，１３で残存している偏向収差と
は、例えば偏向器の中心部と周辺部とで偏向磁場が異な
ることに起因する電磁偏向器に固有の収差である。
及び１３の内部を通過する電子ビーム１６の軌道が相似
形となり、偏向磁場と電子軌道との相似性が電子軌道全
体で保たれ、上段の電磁偏向器１１で残存している偏向
収差（設計通り正しく製作されていても残存している収
差）と、下段の電磁偏向器１３で残存している偏向収差
とが互いに打ち消される。従って、ウエハＷ上に転写さ
れるパターンの歪が小さくなる利点がある。この場合
の、電磁偏向器１１，１３で残存している偏向収差と
は、例えば偏向器の中心部と周辺部とで偏向磁場が異な
ることに起因する電磁偏向器に固有の収差である。
【００２３】なお、上述の実施の形態は本発明の電磁偏
向器を電子線縮小転写装置に適用したものであるが、本
発明の電磁偏向器は走査型電子顕微鏡等にも同様に適用
することができる。このように本発明は上述の実施の形
態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
の構成を取り得る。
向器を電子線縮小転写装置に適用したものであるが、本
発明の電磁偏向器は走査型電子顕微鏡等にも同様に適用
することができる。このように本発明は上述の実施の形
態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
の構成を取り得る。
【００２４】
【発明の効果】本発明の第１の電磁偏向器によれば、筒
状の絶縁体の側面部に形成される溝は、機械加工或いは
フォトリソグラフィ加工等によって高精度に位置決めで
きるため、その溝に埋め込まれた金属よりなるコイルの
設計上の目標位置に対する位置精度は、例えば銅線を巻
回したコイルに比べて数桁程度高くなる。従って、本発
明のコイルの製作誤差に帰因する偏向収差は、巻線コイ
ルの場合に比べて数桁程度小さくなる。
状の絶縁体の側面部に形成される溝は、機械加工或いは
フォトリソグラフィ加工等によって高精度に位置決めで
きるため、その溝に埋め込まれた金属よりなるコイルの
設計上の目標位置に対する位置精度は、例えば銅線を巻
回したコイルに比べて数桁程度高くなる。従って、本発
明のコイルの製作誤差に帰因する偏向収差は、巻線コイ
ルの場合に比べて数桁程度小さくなる。
【００２５】また、本発明の第２の電磁偏向器によれ
ば、本発明の第１の電磁偏向器のコイルを複数個同心円
状に重ねた構成であるため、複数個のコイルの相対角度
を正確に（高精度に）目標とする角度に設定できる。従
って、例えば２個のコイルを直交させることによって、
荷電粒子線を２次元的に目標とする方向に正確に偏向で
きる。
ば、本発明の第１の電磁偏向器のコイルを複数個同心円
状に重ねた構成であるため、複数個のコイルの相対角度
を正確に（高精度に）目標とする角度に設定できる。従
って、例えば２個のコイルを直交させることによって、
荷電粒子線を２次元的に目標とする方向に正確に偏向で
きる。
【００２６】次に、複数個の筒状の絶縁体の回転方向の
相対位置をノックピンで固定するようにした場合には、
複数個のコイルの相対角度を容易に且つ正確に目標とす
る角度に固定できる利点がある。また、筒状の絶縁体の
側面部のループ状の溝に埋め込まれる導電体が、銅及び
銀よりなる金属群から選択される１つの金属である場合
には、例えば電気メッキ等によって容易にその溝に埋め
込むことができる利点がある。更に、金属として銅を使
用するときには、廉価で且つ電気メッキを容易に行うこ
とができ、金属として銀を使用するときには、電気伝導
度が特に良好で電磁偏向器を小型化できる。
相対位置をノックピンで固定するようにした場合には、
複数個のコイルの相対角度を容易に且つ正確に目標とす
る角度に固定できる利点がある。また、筒状の絶縁体の
側面部のループ状の溝に埋め込まれる導電体が、銅及び
銀よりなる金属群から選択される１つの金属である場合
には、例えば電気メッキ等によって容易にその溝に埋め
込むことができる利点がある。更に、金属として銅を使
用するときには、廉価で且つ電気メッキを容易に行うこ
とができ、金属として銀を使用するときには、電気伝導
度が特に良好で電磁偏向器を小型化できる。
【図１】本発明による電磁偏向器の実施の形態の一例で
使用されるＸ方向偏向コイル１Ｘを示す斜視図である。
使用されるＸ方向偏向コイル１Ｘを示す斜視図である。
【図２】その実施の形態の一例における２軸の電磁偏向
器を示す斜視図である。
器を示す斜視図である。
【図３】図１のＸ方向偏向コイル１Ｘの製造工程の説明
に供する一部を切り欠いた斜視図である。
に供する一部を切り欠いた斜視図である。
【図４】図２の電磁偏向器が適用された電子線縮小転写
装置を示す構成図である。
装置を示す構成図である。
１Ｘ Ｘ方向偏向コイル １Ｙ Ｙ方向偏向コイル ２ 絶縁円筒 ２ａ，２ｃ 溝 ２ｃ ノック穴 ３Ａ，３Ｂ 金属 ６ コア ７ スペーサ Ｍ マスク Ｗ ウエハ １１，１３ ２軸の電磁偏向器 １２ 投影レンズ １４ クロスオーバ
Claims (4)
- 【請求項１】 筒状の絶縁体の側面部に形成された解放
端を有するループ状の溝に、導電体を埋め込んで形成さ
れたコイルを有することを特徴とする電磁偏向器。 - 【請求項２】 同心円状に配置された複数個の筒状の絶
縁体の側面部にそれぞれ形成された解放端を有するルー
プ状の溝に、それぞれ導電体を埋め込んで形成されたコ
イルを有することを特徴とする電磁偏向器。 - 【請求項３】 請求項２記載の電磁偏向器であって、 前記複数個の筒状の絶縁体の回転方向の相対位置をノッ
クピンで固定するようにしたことを特徴とする電磁偏向
器。 - 【請求項４】 請求項１、２、又は３記載の電磁偏向器
であって、 前記筒状の絶縁体の側面部のループ状の溝に埋め込まれ
る導電体は、銅及び銀よりなる金属群から選択される１
つの金属であることを特徴とする電磁偏向器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7301267A JPH09147779A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 電磁偏向器 |
| US08/745,747 US5753922A (en) | 1995-11-20 | 1996-11-12 | Electromagnetic deflector |
| US08/943,842 US5994704A (en) | 1995-11-20 | 1997-10-03 | Electromagnetic deflector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7301267A JPH09147779A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 電磁偏向器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09147779A true JPH09147779A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17894764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7301267A Withdrawn JPH09147779A (ja) | 1995-11-20 | 1995-11-20 | 電磁偏向器 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5753922A (ja) |
| JP (1) | JPH09147779A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014183047A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-29 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 高スループット走査型偏向器及びその製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09147779A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 電磁偏向器 |
| JP3041600B2 (ja) * | 1998-05-19 | 2000-05-15 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 複合荷電粒子ビーム装置 |
| JP2992688B2 (ja) * | 1998-05-19 | 1999-12-20 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 複合荷電粒子ビーム装置 |
| KR100260773B1 (ko) * | 1998-06-11 | 2000-07-01 | 손욱 | 칼라 음극선관의 네크부 지자계 차폐 테이프 |
| US6153885A (en) * | 1999-06-03 | 2000-11-28 | Nikon Corporation | Toroidal charged particle deflector with high mechanical stability and accuracy |
| DE60035261T2 (de) * | 2000-05-17 | 2008-02-21 | Ict, Integrated Circuit Testing Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Sattelspulen |
| EP1296351A4 (en) * | 2000-06-27 | 2009-09-23 | Ebara Corp | INVESTIGATION DEVICE FOR LOADED PARTICLE RAYS AND METHOD FOR PRODUCING A COMPONENT ELEVATED WITH THIS INSPECTION DEVICE |
| EP2587515A1 (en) | 2000-06-27 | 2013-05-01 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| JP3993094B2 (ja) * | 2000-07-27 | 2007-10-17 | 株式会社荏原製作所 | シートビーム式検査装置 |
| US6617779B1 (en) | 2001-10-04 | 2003-09-09 | Samuel A. Schwartz | Multi-bend cathode ray tube |
| NZ518658A (en) * | 2002-04-30 | 2004-10-29 | Lionel Evans | Method of water treatment |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE91822T1 (de) * | 1986-04-24 | 1993-08-15 | Integrated Circuit Testing | Elektrostatisch-magnetische-linse fuer korpuskularstrahlgeraete. |
| US5264706A (en) * | 1991-04-26 | 1993-11-23 | Fujitsu Limited | Electron beam exposure system having an electromagnetic deflector configured for efficient cooling |
| JPH09147779A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-06 | Nikon Corp | 電磁偏向器 |
-
1995
- 1995-11-20 JP JP7301267A patent/JPH09147779A/ja not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-11-12 US US08/745,747 patent/US5753922A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-10-03 US US08/943,842 patent/US5994704A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014183047A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-29 | Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh | 高スループット走査型偏向器及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5753922A (en) | 1998-05-19 |
| US5994704A (en) | 1999-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09147779A (ja) | 電磁偏向器 | |
| JP7194572B2 (ja) | マルチ電子ビーム検査装置 | |
| JPH09223475A (ja) | 電磁偏向器、及び該偏向器を用いた荷電粒子線転写装置 | |
| JP2009081138A (ja) | マルチポールコイル | |
| JP2018190709A (ja) | 小型偏向磁石 | |
| US6153885A (en) | Toroidal charged particle deflector with high mechanical stability and accuracy | |
| US6802986B2 (en) | Low-aberration deflectors for use in charged-particle-beam optical systems, and methods for fabricating such deflectors | |
| US6455863B1 (en) | Apparatus and method for forming a charged particle beam of arbitrary shape | |
| JP2001203150A (ja) | ホローアパーチャ、荷電粒子線露光装置、荷電粒子線露光装置におけるビームの位置合わせ方法、荷電粒子線量の調整方法、荷電粒子線発生源の調整方法、及び半導体デバイスの製造方法 | |
| US6452193B1 (en) | Electron beam exposure apparatus, electron lens, and device manufacturing method | |
| JP2002175971A (ja) | 磁気レンズ、磁気シールド体の製造方法、荷電粒子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| EP2149145A2 (en) | Magnetic deflector for an electron column | |
| JP2001210540A (ja) | 電磁コイルの製造方法、それを用いた荷電粒子線露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 | |
| JPS6331895B2 (ja) | ||
| JP2001284239A (ja) | 荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JP3983013B2 (ja) | 電子線装置用の光学要素組立体、その光学要素組立体の加工方法及びそのような光学要素組立体を備えた電子線装置を用いるデバイス製造方法 | |
| JP3919255B2 (ja) | 電子ビーム露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2003077413A (ja) | 電子線装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法 | |
| JP3502002B2 (ja) | 電子線描画装置、電子線を用いた描画方法及び電磁コイルの製造方法 | |
| US6627899B2 (en) | Magnetic lenses, charged-particle-beam optical systems, and charged-particle-beam pattern-transfer apparatus | |
| JPS5854462B2 (ja) | 電子線偏向器 | |
| JP2006005161A (ja) | 電磁コイル板の製造方法、電磁コイル板、トロイダル型コイル構造体および荷電粒子線露光装置 | |
| JPS60216516A (ja) | 回転トランスの巻線形成方法 | |
| JP2007019242A (ja) | 偏向器、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JPS60257118A (ja) | 薄膜コイル形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030204 |