JPH09148726A

JPH09148726A - はんだ付け装置

Info

Publication number: JPH09148726A
Application number: JP30399795A
Authority: JP
Inventors: Takaharu Iijima; 孝晴飯島
Original assignee: NIHON DENNETSU KK; Nihon Dennetsu Co Ltd
Current assignee: NIHON DENNETSU KK; Nihon Dennetsu Co Ltd
Priority date: 1995-11-22
Filing date: 1995-11-22
Publication date: 1997-06-06
Anticipated expiration: 2015-11-22
Also published as: JP3213224B2

Abstract

(57)【要約】【課題】はんだの融解時の溶融はんだの吹き出しを防
止する。【解決手段】はんだ付けの際に配線基板１と噴流波２
４とが接触する領域に開口部２６を形成し開口部２６以
外の部分には溶融はんだ５が流通できない程度の通気孔
２９を多数形成した遮蔽板２７で覆ったものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、はんだ槽内のはんだを
融解する際に生ずることがある溶融はんだの吹き上げを
防止するとともに、被はんだ付けワークの反りも併せて
防止するはんだ付け装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】はんだ槽のはんだをヒータ等の加熱手段
で溶解させる際に、ごく、まれではあるが溶融はんだが
はんだ槽から吹き出すことがある。これは、溶融はんだ
が凝固する際にたまたま滞留していた大気やガスがはん
だ溶融時の加熱によって膨張・高圧化し、結果として溶
融はんだを吹き出すことによるものである。

【０００３】このような溶融はんだの吹き出しが発生す
ると、配線基板等の被はんだ付けワークを搬送するため
のコンベアに付着したり、はんだ付け装置内を汚したり
するため清掃する必要がある。

【０００４】そのため、このような溶融はんだの吹き出
しを防止する技術開発が行われている。例えば、特開平
５−３１８１０４号公報の技術や実開平７−２６０５９
号公報の技術である。

【０００５】これらの技術は、はんだ融解時にガスの通
路を確保できるように、はんだ槽内の位置によるはんだ
の融解順序を制御しようとする技術である。具体的に
は、はんだ槽に貯溜されるはんだの表面部分が先行して
融解するように制御する技術である。

【０００６】他方、配線基板が溶融はんだに接触した際
に発生する反りを防止する技術がある。例えば、バーで
配線基板を支持する実公昭６１−２１１７０号公報の技
術、ワイヤで支持する実開平３−４２３６８号公報の技
術、ローラで支持する実公昭５５−３８６１８号公報の
技術、等がある。

【０００７】図１０は、はんだ付けプロセスをチャンバ
で覆って窒素ガス（Ｎ₂ ガス）を供給し、低酸素濃度下
ではんだ付けを行うことができるように構成された従来
のはんだ付け装置の一例を示す側断面図である。

【０００８】この図において、１は被はんだ付けワーク
としての配線基板で、搬送コンベア２により矢印Ａ方向
に搬送される。３ははんだ槽全体を示すもので、槽体４
内には溶融はんだ（固体状態の場合も同一符号で示す）
５が貯溜されている。６は１次噴流ノズル、７は２次噴
流ノズル、８は１次噴流波、９は２次噴流波、１０，１
１はポンプで、図１０においては羽根車で図示してあ
る。１２は前記はんだ５を加熱する加熱用ヒータ、１３
はフレーム、１４は前記はんだ槽３のエレベータ装置、
１５はチャンバで、上部チャンバ１５Ａ、下部チャンバ
１５Ｂからなる。１６は前記下部チャンバ１５Ｂに形成
されたチャンバ開口部、１７はスカート部、１８は前記
はんだ槽３の上部開口面、１９はバー、２０は前記バー
１９の支柱である。

【０００９】すなわち、下部チャンバ１５Ｂに形成され
たチャンバ開口部１６にはスカート部１７を設けてあ
り、このスカート部１７をはんだ槽３の溶融はんだ５内
に浸漬することでチャンバ１５部分の封止性を確保して
いる。そして、この例では槽体４に１次噴流波８を形成
する１次噴流ノズル６と２次噴流波９を形成する２次噴
流ノズル７とを設けてある。

【００１０】なお、図１０においても特開平５−３１８
１０４号公報や実開平７−２６０５９号公報等の吹き出
し防止技術を実施してあるが省略して図示していない。

【００１１】また、バー１９は搬送コンベア２で搬送さ
れる配線基板１が各噴流波８，９に接触した際に生ずる
反りを支持・防止するための部材であり、チャンバ１５
に設けられた支柱２０間に掛け渡して構成している。

【００１２】なお、エレベータ装置１４ははんだ槽３を
上下方向に移動させ、その高さ調節を行うとともにチャ
ンバ１５内のメンテナンス時に使用するものである。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の特開
平５−３１８０４号公報や実開平７−２６０５９号公報
の吹き出し防止技術においても優れて吹き出しを防止す
ることができる。本発明の目的の一つはこれをさらに徹
底させることにある。

【００１４】特に、図１０に示すような従来のはんだ付
け装置にあっては、溶融はんだ５が吹き出すとその溶融
はんだ５がチャンバ１５内や搬送コンベア２に付着し、
清掃作業が行いにくい。また、清掃のためにチャンバ１
５を開放するとチャンバ１５内に大気が流入してしま
い、特定の目的とする酸素濃度に制御された雰囲気が乱
れ、再び安定した雰囲気に戻るまでには所要の時間が必
要となり、この時間中は配線基板１のはんだ付け作業を
行うことができなくなるという問題点があった。

【００１５】また、配線基板１の反りを防止するバー１
９がチャンバ開口部１６を渡るように設けなければなら
ないので、その全長Ｌも長くなる。このため、薄く細く
形成されるバー１９は配線基板１を支持するときに撓み
や捩じれを生じやすく、その支持性の低下を生じやす
い。このことは、図示しないワイヤーやローラ等で配線
基板１を支持する機構においても同様である。すなわ
ち、それら部材を張架あるいは支持する部材のアームを
チャンバに設けなければならず、そのためにアームを長
くしなければならないという問題点があるためである。

【００１６】本発明の目的は、はんだ融解時の溶融はん
だの吹き出しを従来にも増して徹底して防止し、また、
配線基板の反りを従来の反り防止装置よりも確実に防止
できるはんだ付け装置を実現することによって、その操
作環境を一層良好なものとし、そして品質の高い配線基
板を製造できるはんだ付け装置を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明のはんだ付け装置
は、はんだ付けの際に必要となる部分、すなわち配線基
板等の被はんだ付けワークと噴流波等の溶融はんだとが
接触する領域に開口部を形成するとともに、開口部以外
の部分に溶融はんだが流通できない程度の通気孔を多数
形成した遮蔽板で覆ったものである。

【００１８】また、はんだ付けプロセス部分をチャンバ
で覆ったはんだ付け装置においても同様に遮蔽板で覆っ
たものであり、さらに、この遮蔽板にも溶融はんだが流
通できない程度の孔を設けたものであり、また、遮蔽板
と溶融はんだの液面との間に不活性ガスを供給する不活
性ガス供給手段を設けたものである。

【００１９】また、はんだ槽とチャンバのスカート部と
の隙間を隙間防止用の側部遮蔽板で覆ったものである。
さらに、その遮蔽板に配線基板の反りを防止するバー等
の支持部材を設けるように構成したところに特徴があ
る。

【００２０】

【作用】本発明の請求項１に記載の発明は、はんだ付け
作業に必要となる領域以外は遮蔽板で覆ってあるので、
万が一にも溶融はんだが吹き出したとしても、この遮蔽
板で遮蔽できるようになり、溶融はんだの吹き出しによ
る汚れを未然に防止することができるとともに、遮蔽板
に透孔を形成したことにより遮蔽板を挟んだ上下の両領
域の雰囲気のみが通気孔を介して流通できるので、これ
ら両領域の雰囲気の均一性を確保できるようになる。例
えば、被はんだ付けワークと溶融はんだが接触する領域
にＮ₂ ガス等の不活性ガスを吹き付けてはんだ付け性を
改善する技術があるが、この場合においても吹き付けら
れたＮ₂ ガスが遮蔽板の通気孔を流通することができ、
低酸素濃度の雰囲気を溶融はんだ液面においても得るこ
とができる。

【００２１】また、請求項２に記載の発明は、チャンバ
に形成されたチャンバの開口部のうち、はんだ付け作業
に必要となる領域以外は遮蔽板で覆ってあるので、万が
一にも溶融はんだが吹き出したとしてもこの遮蔽板で遮
蔽できるようになり、したがって搬送コンベアに付着す
ることもなくなり、チャンバを開放しての清掃作業を行
う必要もなくなる。

【００２２】また、請求項３に記載の発明は、遮蔽板を
挟んだ上下の両領域の雰囲気のみが通気孔を流通できる
ので、請求項２に記載の作用に加えてこれら両領域の雰
囲気の均一性を確保できるようになる。

【００２３】例えば、チャンバ内にはＮ₂ ガス等の不活
性ガスを供給して低酸素濃度の雰囲気を形成することが
行われているが、このような場合においても、遮蔽板の
通気孔を通って不活性ガスがはんだ槽の溶融はんだ液面
にも到達し、低酸素濃度の雰囲気を溶融はんだ液面にお
いても得ることができるようになる。

【００２４】また、請求項４に記載の発明は、スカート
部によって封止され、さらに遮蔽板によって覆われたは
んだ槽内の溶融はんだの液面に、積極的に不活性ガスを
供給することによって前記溶融はんだの液面の酸素濃度
が著しく低くなり、はんだの酸化によるドロスの発生量
を大幅に抑制することができるようになる。

【００２５】また、請求項５に記載の発明は、はんだ槽
とチャンバのスカート部との隙間から溶融はんだが吹き
出さないようにすることができる。

【００２６】さらに、請求項６に記載の発明は、被はん
だ付けワークと溶融はんだとが接触する領域の最も近い
位置から反り防止手段を設けることができるので、反り
防止手段の撓みや捩じれを少なくすることができるよう
になり、確実に被はんだ付けワークを支持して反りを防
止することができる。

【００２７】

【実施例】次に、本発明によるはんだ付け装置を、実際
上どのように具体化できるかを実施例で説明する。

【００２８】〔実施例１〕図１（ａ），（ｂ）は、本発
明の第１の実施例を示す図で、図１（ａ）は側断面図、
図１（ｂ）ははんだ槽の斜視図である。これらの図で図
１０と同一符号は同一部分を示す。

【００２９】すなわち、はんだ槽２１の槽体２２内には
はんだ５を収容してあり、噴流ノズル２３からポンプ
（羽根車で示す）２５で溶融はんだ５を噴出させて噴流
波２４を形成するとともに、搬送コンベア２で配線基板
１を矢印Ａ方向へ搬送しながら噴流波２４に接触させて
はんだ付けを行うはんだ付け装置である。

【００３０】また、図１においても従来の技術である特
開平５−３１８１０４号公報や実開平７−２６０５９号
公報等の吹き出し防止技術を実施してあるが、省略して
図示していない。なお、これらの従来技術と本実施例と
は併用しても併用しなくてもよい。

【００３１】そして、この実施例では、配線基板１と噴
流波２４とが接触する領域、すなわち、噴流ノズル２３
とその周辺領域に開口部２６を設けた遮蔽板２７ではん
だ槽２１の上部開口面２８を覆ったものである。これに
より、噴流ノズル２３からの溶融はんだ５の吹き出し以
外は遮蔽板２７により遮蔽され、溶融はんだ５がはんだ
槽２１の外部に漏れ出すことがなくなる。

【００３２】また、遮蔽板２７は単なる板状の部材では
なく、溶融はんだ５の流通を阻止する程度の通気孔２９
を多数設けることにより、遮蔽板２７で区画される上下
の領域間にも雰囲気が流通するようになっており、例え
ば、配線基板１と溶融はんだ５とが接触する領域に不活
性ガスを吹き付けてはんだ付け性を改善する場合に、不
活性ガスが遮蔽板２７の通気孔２９を通過することがで
き、低酸素濃度の雰囲気を溶融はんだ５の液面に得るこ
とができる。すなわち、遮蔽板２７を挟んだ上下の両領
域の雰囲気の均一性を保持することができる。

【００３３】なお、通気孔２９の大きさは、遮蔽板２７
の板厚や溶融はんだ５の温度や雰囲気の組成（酸素濃度
等）等によっても異なるが、例えば通気孔２９の直径を
０．５ｍｍ以下にすることが望ましい。

【００３４】図２（ａ），（ｂ），（ｃ）は、図１の遮
蔽板の他の態様を示す図で、図２（ａ）は遮蔽板に円形
の通気孔を形成した態様を示す斜視図、図２（ｂ）は長
孔形の通気孔を形成した態様を示す斜視図、図２（ｃ）
は図２（ａ）のＩ−Ｉ線による断面図である。

【００３５】これらの図において、遮蔽板３１は上部遮
蔽板３１Ａと下部遮蔽板３１Ｂには多数の通気孔、すな
わち、図２（ａ）に示す円形の通気孔３３、または図２
（ｂ）に示す長孔形の通気孔３４を形成するとともに、
これらの遮蔽板３１Ａと３１Ｂの２枚をスぺーサ３２に
より隙間を設けて重ね、上部遮蔽板３１Ａに設けた各孔
３３，３４が下部遮蔽板３１Ｂの各孔３３，３４のない
部分、すなわち面によって陰になるように構成すれば、
各通気孔の３３，３４の大きさを前記のような直径０．
５ｍｍ以下の大きさに限定する必要がなく、遮蔽板３１
の製作も容易となる。

【００３６】また、３５，３６は前記各遮蔽板３１Ａ，
３１Ｂの第１，第２の開口部で、２槽式のはんだ槽３に
適用されるものである。

【００３７】〔実施例２〕図３は、本発明の第２の実施
例を示す側断面図である。また、図４（ａ），（ｂ），
（ｃ）は、図３のチャンバ部分の詳細を示す図で、図４
（ａ）は全体の斜視図、図４（ｂ）は図４（ａ）の遮蔽
板の斜視図、図４（ｃ）は側部遮蔽板の斜視図である。
また、図５は、不活性ガス供給手段を備えた遮蔽板の斜
視図である。これらの図において、図１０と同一符号は
同一部分を示す。

【００３８】すなわち、図３の第２実施例のはんだ付け
装置は、低酸素濃度雰囲気中ではんだ付けを行うはんだ
付け装置であり、はんだ付けプロセス部分をチャンバ１
５で覆って不活性ガス供給ノズル４１からＮ₂ ガス等の
不活性ガスを供給するように構成してある。また、チャ
ンバの開口部１６にはスカート部１７を設けてあり、こ
のスカート部１７をはんだ槽３の溶融はんだ５内に浸漬
することでチャンバ１５の封止性を確保している。

【００３９】そして、スカート部１７の上側部分に凸条
に飛びだした支持部材４２を設け、この支持部材４２に
遮蔽板４３を着脱自在に載置する構成である。なお、遮
蔽板４３の大きさはチャンバ開口部１６の大きさと略同
じ大きさであり、１次噴流波８および２次噴流波９と搬
送コンベア２で搬送される配線基板１とが接触する領域
部分にそれぞれの第１の開口部４４と第２の開口部４５
とを設けたものである。

【００４０】さらに、はんだ槽３の上側の上部チャンバ
１５Ａにも開口部４６を設けてあり、この開口部４６に
は蓋４７を設けた構成としてある。そして、この開口部
４６の大きさは遮蔽板４３の大きさよりも寸法上大きい
ものとし、開口部４６を通して遮蔽板４３の着脱を行う
ことができるように構成する。また、遮蔽板４３および
蓋４７には図４に示すようにそれぞれ取手４８，４９を
設けて着脱作業を容易に行えるように構成してある。

【００４１】他方、はんだ槽３の槽体４と下部チャンバ
１５Ｂのスカート部１７との間の隙間５０にも隙間５０
を覆う側部遮蔽板５１を槽体４に固着して設けてある。
なお、この側部遮蔽板５１と下部チャンバ１５Ｂのスカ
ート部１７とは摺動自在に接触させた構成としている。

【００４２】これにより、各噴流ノズル６，７からの溶
融はんだ５の吹き出し以外は遮蔽板４３により遮蔽さ
れ、はんだ槽３の外部に漏れ出すことがなくなる。した
がって、搬送コンベア２に溶融はんだ５が付着すること
は極めてまれになり、実質的にこのような障害は防止さ
れ、この障害の回復のためにチャンバ１５を開放して清
掃作業を行うことも不要となる。その結果、清掃作業に
ともなうチャンバ１５内雰囲気への大気の流入、生産の
停止、等を回避することができるようになる。

【００４３】また、単なる板状の部材ではなく、図１や
図２に例示したような溶融はんだ５の流通を阻止する通
気孔２９，３３，３４を多数設けた遮蔽板４３を使用す
ることにより、遮蔽板４３で区画される上下の領域間に
も不活性ガス雰囲気が流通するようになり、槽体４内の
溶融はんだ５の液面にも低酸素濃度の雰囲気を維持する
ことができる。

【００４４】さらに、図５のようにカプラ５２を遮蔽板
４３に固着し、このカプラ５２を介して不活性ガス供給
パイプ５３のカプラ５４を接続すれば、遮蔽板４３の下
部すなわち図３の溶融はんだ５の液面側にフレッシュな
不活性ガスを供給することができるようになる。

【００４５】すなわち、図５のように遮蔽板４３の下面
側に不活性ガスを供給する装置を併用すれば、はんだ槽
３内の溶融はんだ５の液面も積極的に低酸素濃度雰囲気
とすることが可能となり、ドロスの発生を従前にも増し
て抑制することができるようになる。

【００４６】〔実施例３〕図６，図７は、本発明の第３
の実施例を示す図で、図６は側断面図、図７は図６の遮
蔽板の開口部周辺を示す斜視図で、図１と同一符号は同
一部分を示す。

【００４７】図６の第３の実施例は図１の第１の実施例
に配線基板１の反り防止手段を設けたものであり、反り
防止手段としてバー６１を使用した例を示している。す
なわち、遮蔽板２７の開口部２６に隣接して案内レール
６２を配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差させ
て設け、案内レール６２には摺動自在のスライダ６３を
設けてある。このスライダ６３は固定用ねじ６４の締緩
により移動して所定の位置に固定することができる。ま
た、スライダ６３には係合孔６５が設けてあり、バー６
１を着脱自在に係合し固定できるように構成してある。

【００４８】このように、バー６１は基台６６にねじ６
７等により固定し、基台６６には前記スライダ６３に設
けた係合孔６５に係合する係合ピン６８を設ける。これ
により、バー６１形状の反り防止手段は図示しないロー
ラ状の反り防止手段等に容易に交換することができる構
成である。

【００４９】このように遮蔽板２７の開口部２６に隣接
して配線基板１の反り防止手段を設けることができるの
で、最短距離で配線基板１を支持して反り防止をするこ
とができるようになり、反り防止手段の撓みや捩じれの
影響を受けにくく、今まで以上に配線基板１の反りを防
止することができるようになる。

【００５０】〔実施例４〕図８は、本発明の第４の実施
例を示す側断面図で、図を判りやすくするために下部チ
ャンバ１５Ｂのスカート部１７のみを示してある。この
図において図３，図７と同一符号は同一部分を示す。

【００５１】図８の第４の実施例は図３の第２の実施例
に配線基板１の反り防止するバー７１からなる反り防止
手段を設けたものであり、反り防止手段の構成は図６，
図７の第３の実施例と同じである。ただし、図３の第２
の実施例は１次噴流波８と２次噴流波９とを形成できる
はんだ付け装置であるので、図８の第４の実施例におい
ても遮蔽板４３に設けた２つの開口部４４，４５の間に
も案内レール６２とスライダ６３を設け、反り防止手段
すなわちバー７１を３点で支持する構成としている。

【００５２】また、遮蔽板４３の端部４３ａにはねじを
形成したカラー７２を設け、そしてこのカラー７２を通
して高さ調節用のねじ７３を設け、スカート部１７に設
けた支持部材４２と遮蔽板４３との間隔を高さ調節用ね
じ７３の突き出し長さで調節することによって、遮蔽板
４３の高さおよび仰角を任意に調節することができるよ
うに構成している。これにより、図３に示す各噴流波
８，９の高さ調節を行った際のはんだ槽３の高さ調節、
および搬送コンベア２の搬送仰角を調節した際の配線基
板１の搬送角度に合わせて、遮蔽板４３の位置や仰角を
自在に調節することができるように構成している。

【００５３】そしてその動作は図６，７の第３の実施例
と同様であり、今まで以上に配線基板１の反りを防止す
ることができるようになる。

【００５４】〔実施例５〕図９は、本発明の第５の実施
例を示す斜視図で、遮蔽板２７の開口部２６の周辺の斜
視図である。

【００５５】すなわち、図９の第５の実施例は図６，７
の第３の実施例および図８の第４の実施例の案内レール
６２およびスライダ６３に代えて、送りねじ８２による
スライド機構８１を使用し、このスライド機構８１をエ
ンコーダ８３付きのモータ８４で回転駆動することによ
って、バー６１等の配線基板の反り防止手段の位置を遠
隔操作により調節・設定できるようにしたものである。

【００５６】また、８５は前記送りねじ８２に螺合され
たスライダ、８６は前記送りねじ８２の軸受、８７はプ
ーリ、８８はローラチェーンである。その他、図７と同
一符号は同一部分を示す。

【００５７】このような例は、図３のチャンバ１５内の
低酸素濃度雰囲気中ではんだ付けを行うはんだ付け装置
にあっては特に有効であり、チャンバ１５を開放するこ
となく配線基板１の支持位置を任意に調節・設定するこ
とができるので、初期設定のみならず配線基板の形状や
大きさを変更した際にもチャンバ１５内の雰囲気を乱す
ことなく、生産工程を一時的に停止することなく、短時
間に位置調節とその設定を行うことができるようにな
る。

【００５８】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば各請求項
に対応して次のような効果がある。

【００５９】本発明にかかる請求項１記載の発明は、溶
融はんだの吹き出しによる障害発生を今まで以上に確実
に防止する事ができるようになるとともに、遮蔽板に区
画される上下の両領域の雰囲気を同質に保つことができ
るようになり、また、被はんだ付けワークと溶融はんだ
が接触する領域に不活性ガスを吹き付けたりして、低酸
素濃度雰囲気中ではんだ付けを行う場合においては、ド
ロスの発生を抑制することができるので、はんだ付け装
置の運転操作環境の向上を図ることができるようにな
る。

【００６０】また、請求項２記載の発明は、チャンバを
備えた低酸素濃度雰囲気中ではんだ付けを行うはんだ付
け装置においても、溶融はんだの吹き出しによる障害発
生を今まで以上に確実に防止することができるようにな
る。その結果、万が一にも溶融はんだの吹き出し現象が
発生したとしても、チャンバを開放して清掃作業、すな
わち、障害除去作業が不要となり、それに原因するはん
だ付け装置の運転休止もなくなる。したがって、障害に
よる生産性の低下がなくなるとともに優れた運転操作環
境を備えたはんだ付け装置が実現する。

【００６１】また、請求項３記載の発明は、遮蔽板に区
画される上下の両領域の雰囲気を同質に保つことができ
るので、請求項２記載の効果に加えてドロスの発生も抑
制することができるようになる。

【００６２】また、請求項４記載の発明は、はんだ槽の
溶融はんだ液面にフレッシュな不活性ガスが直接に供給
されるので、より一層優れたドロス発生抑制効果があ
る。

【００６３】また、請求項５記載の発明は、はんだ槽の
槽体とチャンバのスカート部との隙間から溶融はんだが
吹き出さないようになるので、請求項２ないし請求項４
のいずれかに記載の効果を一層徹底したものとすること
ができる。

【００６４】また、請求項６記載の発明は、請求項１な
いし請求項５のいずれかに記載の効果に加えて、配線基
板等の被はんだ付けワークの反り発生を今まで以上に確
実に防止することができるようになり、品質の高いはん
だ付けを行うことができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す図である。

【図２】図１の遮蔽板の他の態様を示す図である。

【図３】本発明の第２の実施例を示す側断面図である。

【図４】図３のチャンバ部分の詳細を示す図である。

【図５】不活性ガス供給手段を備えた遮蔽板の斜視図で
ある。

【図６】本発明の第３の実施例を示す側断面図である。

【図７】図６の遮蔽板の開口部周辺を示す斜視図であ
る。

【図８】本発明の第４の実施例を示す側断面図である。

【図９】本発明の第５の実施例を示す側断面図である。

【図１０】従来のはんだ付け装置の一例を示す側断面図
である。

【符号の説明】

１配線基板２搬送コンベア３はんだ槽４槽体５溶融はんだ６１次噴流ノズル７２次噴流ノズル８１次噴流波９２次噴流波１０ポンプ１１ポンプ１２加熱用ヒータ１５チャンバ１５Ａ上部チャンバ１５Ｂ下部チャンバ１６チャンバ開口部１７スカート部１８上部開口面２１はんだ槽２２槽体２３噴流ノズル２４噴流波２５ポンプ２６開口部２７遮蔽板２８上部開口面２９通気孔４１不活性ガス供給ノズル４２支持部材４３遮蔽板４４第１の開口部４５第２の開口部５１側部遮蔽板５３不活性ガス供給パイプ６１バー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】槽体内に溶融はんだを貯溜し、この溶融
はんだを加熱する加熱用ヒータを備えたはんだ槽を設
け、前記溶融はんだを被はんだ付けワークに接触させて
はんだ付けを行うはんだ付け装置において、前記被はんだ付けワークが前記溶融はんだと接触する領
域に開口部を形成した遮蔽板で前記はんだ槽の上部開口
面を覆うとともに、前記遮蔽板には前記溶融はんだが流
通できない程度の通気孔を多数形成した、ことを特徴と
するはんだ付け装置。
【請求項２】少なくともはんだ付けプロセス部分をチ
ャンバで覆い、そして前記チャンバにははんだ槽の上部
開口面に臨む部分にチャンバ開口部を形成するととも
に、前記チャンバ開口部に前記はんだ槽内の溶融はんだ
に浸漬して前記チャンバを封止するスカート部を備えた
はんだ付け装置において、前記チャンバ開口部を、前記被はんだ付けワークが前記
溶融はんだと接触する領域に開口部を形成した遮蔽板で
覆った、ことを特徴とするはんだ付け装置。
【請求項３】少なくともはんだ付けプロセス部分をチ
ャンバで覆い、そして前記チャンバにははんだ槽の上部
開口面に臨む部分にチャンバ開口部を形成するととも
に、前記チャンバ開口部に前記はんだ槽内の溶融はんだ
に浸漬して前記チャンバを封止するスカート部を備えた
はんだ付け装置において、前記チャンバの開口部を、前記被はんだ付けワークが前
記溶融はんだと接触する領域に開口部を形成した遮蔽板
で覆うとともに、この遮蔽板には前記溶融はんだが流通
できない程度の通気孔を多数形成した、ことを特徴とす
るはんだ付け装置。
【請求項４】少なくともはんだ付けプロセス部分をチ
ャンバで覆い、そして前記チャンバにははんだ槽の上部
開口面に臨む部分にチャンバ開口部を形成するととも
に、前記チャンバ開口部に前記はんだ槽内の溶融はんだ
に浸漬して前記チャンバを封止するスカート部を備えた
はんだ付け装置において、前記チャンバの開口部を、被はんだ付けワークが前記溶
融はんだとを接触する領域に開口部を形成した遮蔽板で
覆うとともに、この遮蔽板と前記溶融はんだの液面との
間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を設け
た、ことを特徴とするはんだ付け装置。
【請求項５】はんだ槽とチャンバのスカート部との隙
間を覆う側部遮蔽板を設けた、ことを特徴とする請求項
２ないし４のいずれかに記載のはんだ付け装置。
【請求項６】はんだ槽の上部開口面を覆う遮蔽板には
被はんだ付けワークの反りを防止する反り防止手段を設
けた、ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに
記載のはんだ付け装置。