JPH0915503A - 微分干渉顕微鏡 - Google Patents
微分干渉顕微鏡Info
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- JPH0915503A JPH0915503A JP7188510A JP18851095A JPH0915503A JP H0915503 A JPH0915503 A JP H0915503A JP 7188510 A JP7188510 A JP 7188510A JP 18851095 A JP18851095 A JP 18851095A JP H0915503 A JPH0915503 A JP H0915503A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 微分干渉像のコントラストを調整することの
できる微分干渉顕微鏡を提供すること。 【構成】 被検物体が鏡面であるときに検光子に達する
反射光が円偏光になるように構成され、検光子は、アナ
ライザ角が可変の偏光ビームスプリッターを有し、光検
出手段は、偏光ビームスプリッターを透過した光を検出
するための第1光検出器と、偏光ビームスプリッターで
反射された光を検出するための第2光検出器とを有し、
像形成手段は、第1光検出器の出力と第2光検出器の出
力との差に基づいて、偏光ビームスプリッターのアナラ
イザ角に応じたコントラストを有する微分干渉像を形成
する。
できる微分干渉顕微鏡を提供すること。 【構成】 被検物体が鏡面であるときに検光子に達する
反射光が円偏光になるように構成され、検光子は、アナ
ライザ角が可変の偏光ビームスプリッターを有し、光検
出手段は、偏光ビームスプリッターを透過した光を検出
するための第1光検出器と、偏光ビームスプリッターで
反射された光を検出するための第2光検出器とを有し、
像形成手段は、第1光検出器の出力と第2光検出器の出
力との差に基づいて、偏光ビームスプリッターのアナラ
イザ角に応じたコントラストを有する微分干渉像を形成
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は微分干渉顕微鏡に関し、
特にICパターンや金属表面などの観察に適したレーザ
ー走査型微分干渉顕微鏡に関する。
特にICパターンや金属表面などの観察に適したレーザ
ー走査型微分干渉顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡と
して、本出願人の出願による特開平3−91709号公
報に開示されているように、公知の結像型微分干渉顕微
鏡の構成をレーザー走査光学系に移し変えた構成のもの
が知られている。この公報に開示のレーザー走査型微分
干渉顕微鏡によれば、フレアーが少ないなどのレーザー
走査顕微鏡に特有のメリットを得ることができる。
して、本出願人の出願による特開平3−91709号公
報に開示されているように、公知の結像型微分干渉顕微
鏡の構成をレーザー走査光学系に移し変えた構成のもの
が知られている。この公報に開示のレーザー走査型微分
干渉顕微鏡によれば、フレアーが少ないなどのレーザー
走査顕微鏡に特有のメリットを得ることができる。
【0003】また、O plus E誌の1992年10月号におい
て 70 〜72ページに開示されている、レーザー走査型微
分干渉顕微鏡を応用した非接触表面粗さ計では、従来の
検光子に代えて偏光ビームスプリッターを用い、この偏
光ビームスプリッターの透過光と反射光とを同時に検出
している。そして、透過光の検出信号と反射光の検出信
号との差信号に基づいて微分干渉像を形成することによ
り、被検物体の反射率変化が像に及ぼす影響を抑えてい
る。
て 70 〜72ページに開示されている、レーザー走査型微
分干渉顕微鏡を応用した非接触表面粗さ計では、従来の
検光子に代えて偏光ビームスプリッターを用い、この偏
光ビームスプリッターの透過光と反射光とを同時に検出
している。そして、透過光の検出信号と反射光の検出信
号との差信号に基づいて微分干渉像を形成することによ
り、被検物体の反射率変化が像に及ぼす影響を抑えてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
公報に開示された従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡
では、得られる微分干渉像は従来の結像型微分干渉顕微
鏡で得られる像と何ら変わらなかった。また、上述の文
献に開示された従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡で
は、反射率変化の影響を抑えた微分干渉像を得ることが
できる。しかしながら、得られる微分干渉像のコントラ
ストは一定であり、必ずしも最高のコントラストが得ら
れるとは限らず、またコントラストの調整も不可能だっ
た。
公報に開示された従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡
では、得られる微分干渉像は従来の結像型微分干渉顕微
鏡で得られる像と何ら変わらなかった。また、上述の文
献に開示された従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡で
は、反射率変化の影響を抑えた微分干渉像を得ることが
できる。しかしながら、得られる微分干渉像のコントラ
ストは一定であり、必ずしも最高のコントラストが得ら
れるとは限らず、またコントラストの調整も不可能だっ
た。
【0005】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、微分干渉像のコントラストを調整することの
できる微分干渉顕微鏡を提供することを目的とする。
のであり、微分干渉像のコントラストを調整することの
できる微分干渉顕微鏡を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、空間的にコヒーレントな光を供
給するための光源と、該光源からの光を被検物体上に集
光するための対物レンズと、該対物レンズを介して前記
被検物体上の異なる位置に2つの光スポットを形成する
ために前記光源からの入射光をその偏光成分によって2
つの光に分割するための少なくとも1つの複屈折プリズ
ムと、前記2つの光スポットを前記被検物体上で走査す
るための走査手段と、前記2つの光スポットに対する前
記被検物体からの反射光または透過光のうち一方を入射
し、該一方の光のうち特定の偏光成分を選択するための
検光子と、該検光子を介して選択された光を検出するた
めの光検出手段と、該光検出手段の出力に基づいて前記
被検物体の微分干渉像を形成するための像形成手段とを
備えた微分干渉顕微鏡において、前記微分干渉顕微鏡
は、前記被検物体が前記2つの光に対して相対的に強度
および位相を変化させないときに前記検光子に達する一
方の光が円偏光になるように構成され、前記検光子は、
アナライザ角が可変の偏光ビームスプリッターを有し、
前記光検出手段は、前記偏光ビームスプリッターを透過
した光を検出するための第1光検出器と、前記偏光ビー
ムスプリッターで反射された光を検出するための第2光
検出器とを有し、前記像形成手段は、前記第1光検出器
の出力と前記第2光検出器の出力との差に基づいて、前
記偏光ビームスプリッターのアナライザ角に応じたコン
トラストを有する微分干渉像を形成することを特徴とす
る微分干渉顕微鏡を提供する。
に、本発明においては、空間的にコヒーレントな光を供
給するための光源と、該光源からの光を被検物体上に集
光するための対物レンズと、該対物レンズを介して前記
被検物体上の異なる位置に2つの光スポットを形成する
ために前記光源からの入射光をその偏光成分によって2
つの光に分割するための少なくとも1つの複屈折プリズ
ムと、前記2つの光スポットを前記被検物体上で走査す
るための走査手段と、前記2つの光スポットに対する前
記被検物体からの反射光または透過光のうち一方を入射
し、該一方の光のうち特定の偏光成分を選択するための
検光子と、該検光子を介して選択された光を検出するた
めの光検出手段と、該光検出手段の出力に基づいて前記
被検物体の微分干渉像を形成するための像形成手段とを
備えた微分干渉顕微鏡において、前記微分干渉顕微鏡
は、前記被検物体が前記2つの光に対して相対的に強度
および位相を変化させないときに前記検光子に達する一
方の光が円偏光になるように構成され、前記検光子は、
アナライザ角が可変の偏光ビームスプリッターを有し、
前記光検出手段は、前記偏光ビームスプリッターを透過
した光を検出するための第1光検出器と、前記偏光ビー
ムスプリッターで反射された光を検出するための第2光
検出器とを有し、前記像形成手段は、前記第1光検出器
の出力と前記第2光検出器の出力との差に基づいて、前
記偏光ビームスプリッターのアナライザ角に応じたコン
トラストを有する微分干渉像を形成することを特徴とす
る微分干渉顕微鏡を提供する。
【0007】本発明の好ましい態様によれば、前記検光
子は、光軸に対して固定された偏光ビームスプリッター
と、該偏光ビームスプリッターの入射側に配置され且つ
偏光回転角が可変の旋光子とを有する。この場合、前記
偏光回転角が可変の旋光子は、光軸に対して回転可能な
1/2波長板であることが好ましい。
子は、光軸に対して固定された偏光ビームスプリッター
と、該偏光ビームスプリッターの入射側に配置され且つ
偏光回転角が可変の旋光子とを有する。この場合、前記
偏光回転角が可変の旋光子は、光軸に対して回転可能な
1/2波長板であることが好ましい。
【0008】
【作用】一般に、微分干渉顕微鏡では、被検物体上に存
在する幾何学的な段差に対して、ほぼ微分像に等しいコ
ントラストを与えることができる。しかしながら、被検
物体上に存在する一般的な段差は、単に表面の凹凸(幾
何学的な段差)だけからなるわけではない。たとえば、
ガラス基板上に蒸着されたクロームのパターンを考える
と、蒸着面の境界においてクローム膜厚に相当する幾何
学的段差が存在するだけではなく、光の反射率も段差の
両側において大きく変化している。
在する幾何学的な段差に対して、ほぼ微分像に等しいコ
ントラストを与えることができる。しかしながら、被検
物体上に存在する一般的な段差は、単に表面の凹凸(幾
何学的な段差)だけからなるわけではない。たとえば、
ガラス基板上に蒸着されたクロームのパターンを考える
と、蒸着面の境界においてクローム膜厚に相当する幾何
学的段差が存在するだけではなく、光の反射率も段差の
両側において大きく変化している。
【0009】このように、一般の段差は、入射する光の
位相および振幅をともに変調するという性質を有する。
したがって、互いに異なる段差に対しては、位相および
振幅の変調される度合も当然に異なってくる。こうした
様々な段差に対して、固定した光学系を介して常に最良
のコントラストを有する微分干渉像を得ることはできな
い。しかしながら、本発明の発明者らは、種々研究を重
ねた結果、従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡の構成
に簡易な新規構成を付加することにより、いかなる段差
に対しても最良のコントラストの微分干渉像を得ること
のできる微分干渉顕微鏡に想到した。
位相および振幅をともに変調するという性質を有する。
したがって、互いに異なる段差に対しては、位相および
振幅の変調される度合も当然に異なってくる。こうした
様々な段差に対して、固定した光学系を介して常に最良
のコントラストを有する微分干渉像を得ることはできな
い。しかしながら、本発明の発明者らは、種々研究を重
ねた結果、従来のレーザー走査型微分干渉顕微鏡の構成
に簡易な新規構成を付加することにより、いかなる段差
に対しても最良のコントラストの微分干渉像を得ること
のできる微分干渉顕微鏡に想到した。
【0010】以下、本発明の微分干渉顕微鏡の作用を理
論的に説明する。なお、段差は基本的に1次元特性を有
するため、以下の解析では光学系を含めすべてを1次元
的に取り扱う。実際の光学系は2次元特性を有するが、
後述の各式に対して直交する座標系を導入するだけで2
次元化を容易に行うことができることはいうまでもな
い。また、以下の作用および実施例の説明において、空
間的にコヒーレントな光としてレーザー光を用いるもの
とする。
論的に説明する。なお、段差は基本的に1次元特性を有
するため、以下の解析では光学系を含めすべてを1次元
的に取り扱う。実際の光学系は2次元特性を有するが、
後述の各式に対して直交する座標系を導入するだけで2
次元化を容易に行うことができることはいうまでもな
い。また、以下の作用および実施例の説明において、空
間的にコヒーレントな光としてレーザー光を用いるもの
とする。
【0011】被検物体上に一次元座標xを設定し、原点
x=0に段差が存在するものとする。物体はx=0を除
いて平坦であり、物体の複素振幅分布O(x)が次の式
(1)で与えられるものとする。
x=0に段差が存在するものとする。物体はx=0を除
いて平坦であり、物体の複素振幅分布O(x)が次の式
(1)で与えられるものとする。
【数1】
【0012】式(1)において、aおよびbは、それぞ
れx≦0の領域およびx>0の領域における物体の反射
率の平方根(すなわち振幅反射率)である。また、Ψは
段差によって生じる入射光の位相変化量である。次い
で、この段差位置における微分干渉像の強度Iを求め
る。段差位置すなわちx=0において、微分干渉顕微鏡
によって被検物体上に形成された2つのレーザースポッ
トは、段差を挟んでその両側の対称な位置にある。すな
わち、2つのレーザースポット間の距離を2δとすれ
ば、第1のスポット中心はx=δにあり、第2のスポッ
ト中心はx=−δにある。
れx≦0の領域およびx>0の領域における物体の反射
率の平方根(すなわち振幅反射率)である。また、Ψは
段差によって生じる入射光の位相変化量である。次い
で、この段差位置における微分干渉像の強度Iを求め
る。段差位置すなわちx=0において、微分干渉顕微鏡
によって被検物体上に形成された2つのレーザースポッ
トは、段差を挟んでその両側の対称な位置にある。すな
わち、2つのレーザースポット間の距離を2δとすれ
ば、第1のスポット中心はx=δにあり、第2のスポッ
ト中心はx=−δにある。
【0013】まず、第1スポットについて考える。物体
上でのレーザースポットの振幅分布をu(x)とすれ
ば、第1スポットの回折により方向余弦α方向に回折さ
れる光の複素振幅P1 は、次の式(2)で与えられる。
上でのレーザースポットの振幅分布をu(x)とすれ
ば、第1スポットの回折により方向余弦α方向に回折さ
れる光の複素振幅P1 は、次の式(2)で与えられる。
【数2】
【0014】同様に、第2スポットについて、その回折
により方向余弦α方向に回折される光の複素振幅P
2 は、次の式(3)で与えられる。
により方向余弦α方向に回折される光の複素振幅P
2 は、次の式(3)で与えられる。
【数3】
【0015】レーザー光射出点(光源)から検光子の直
前までの間の光学系が第1スポットに対応する光と第2
スポットに対応する光とに与える位相差(すなわち被検
物体として鏡面を用いたときに検光子直前における両ス
ポットに対応する光の位相差)をθとし、検光子(偏光
ビームスプリッター)の方位角(アナライザ角)をφと
すると、検光子(偏光ビームスプリッター)の透過光強
度iT および反射光強度iR は、次の式(4)および
(5)でそれぞれ与えられる。
前までの間の光学系が第1スポットに対応する光と第2
スポットに対応する光とに与える位相差(すなわち被検
物体として鏡面を用いたときに検光子直前における両ス
ポットに対応する光の位相差)をθとし、検光子(偏光
ビームスプリッター)の方位角(アナライザ角)をφと
すると、検光子(偏光ビームスプリッター)の透過光強
度iT および反射光強度iR は、次の式(4)および
(5)でそれぞれ与えられる。
【0016】
【数4】
【数5】
【0017】実際には、レンズの開口数NAよりも小さ
い方向余弦の回折光はすべて受光される。したがって、
透過光全強度IT および反射光全強度IR は、次の式
(6)および(7)でそれぞれ与えられる。
い方向余弦の回折光はすべて受光される。したがって、
透過光全強度IT および反射光全強度IR は、次の式
(6)および(7)でそれぞれ与えられる。
【0018】
【数6】
【数7】
【0019】したがって、透過光全強度IT と反射光全
強度IR との差信号Sは、次の式(8)で与えられる。
強度IR との差信号Sは、次の式(8)で与えられる。
【数8】
【0020】式(8)に式(1)〜(7)を代入する
と、次の式(9)に示す関係が得られる。
と、次の式(9)に示す関係が得られる。
【数9】
【0021】本発明では、式(9)において位相差θ=
π/2と設定することにより、次の式(10)で示す関係
が成立する。
π/2と設定することにより、次の式(10)で示す関係
が成立する。
【数10】
【0022】なお、式(10)において、Cは物体に依存
しない装置定数であり、次の式(11)で与えられる。
しない装置定数であり、次の式(11)で与えられる。
【数11】
【0023】式(10)の右辺は、次の式(12)に示すよ
うに、ベクトルの内積の形で表される。
うに、ベクトルの内積の形で表される。
【数12】
【0024】したがって、段差位置における差信号S
は、アナライザ角φが次の式(13)を満たすときに最大
となる。
は、アナライザ角φが次の式(13)を満たすときに最大
となる。
【数13】 また、式(12)を参照すれば、式(13)を満たすφに±π/
4を加えたアナライザ角において、段差位置における差
信号Sが最小(ゼロ)になることがわかる。
4を加えたアナライザ角において、段差位置における差
信号Sが最小(ゼロ)になることがわかる。
【0025】以下、本発明において位相差θ=π/2と
設定する理由について説明する。まず、式(9)の右辺
において位相差θを含む部分 cos(θ+Ψ)は、θ=π
/2と設定することにより、式(10)に示すように sin
Ψとして差信号Sに含まれるようになる。こうして、微
小段差に応じた微小な位相差Ψに対する差信号Sの感度
は、位相差θ=π/2と設定することにより最も良好に
なる。換言すれば、位相差θ=π/2と設定することに
より、微小段差に対するコントラストを大きくすること
ができる。
設定する理由について説明する。まず、式(9)の右辺
において位相差θを含む部分 cos(θ+Ψ)は、θ=π
/2と設定することにより、式(10)に示すように sin
Ψとして差信号Sに含まれるようになる。こうして、微
小段差に応じた微小な位相差Ψに対する差信号Sの感度
は、位相差θ=π/2と設定することにより最も良好に
なる。換言すれば、位相差θ=π/2と設定することに
より、微小段差に対するコントラストを大きくすること
ができる。
【0026】次いで、位相差θ=π/2と設定すること
により、段差の両側のエッジに対するコントラストを同
時に最大(または最小)にすることができる。段差部分
の振幅反射率をbとし、その両側の平坦部の振幅反射率
をaとすると、一方のエッジでは振幅反射率がaからb
へ変化するとともに段差による位相差が0からΨに変化
する。また、他方のエッジでは振幅反射率がbからaへ
変化するとともに段差による位相差がΨから0に変化す
る。
により、段差の両側のエッジに対するコントラストを同
時に最大(または最小)にすることができる。段差部分
の振幅反射率をbとし、その両側の平坦部の振幅反射率
をaとすると、一方のエッジでは振幅反射率がaからb
へ変化するとともに段差による位相差が0からΨに変化
する。また、他方のエッジでは振幅反射率がbからaへ
変化するとともに段差による位相差がΨから0に変化す
る。
【0027】すなわち、式(13)の右辺において、一方の
エッジと他方のエッジとでは、aとbとが入れ代わると
ともに位相差Ψの符号が逆になる。ところで、aとbと
を入れ代えるとともに位相差Ψの符号を逆にしても、式
(13)の右辺の値は変化しない。これは、一方のエッジの
コントラストを最大(または最小)にするアナライザ角
と他方のエッジのコントラストを最大(または最小)に
するアナライザ角とが等しいことを意味している。換言
すれば、位相差θ=π/2と設定することにより、同一
のアナライザ角で段差の両側のエッジに対するコントラ
ストを同時に最大(または最小)にすることができる。
エッジと他方のエッジとでは、aとbとが入れ代わると
ともに位相差Ψの符号が逆になる。ところで、aとbと
を入れ代えるとともに位相差Ψの符号を逆にしても、式
(13)の右辺の値は変化しない。これは、一方のエッジの
コントラストを最大(または最小)にするアナライザ角
と他方のエッジのコントラストを最大(または最小)に
するアナライザ角とが等しいことを意味している。換言
すれば、位相差θ=π/2と設定することにより、同一
のアナライザ角で段差の両側のエッジに対するコントラ
ストを同時に最大(または最小)にすることができる。
【0028】仮に、位相差θ=π/2ではなくθ=0と
設定すると、段差位置における差信号Sは、アナライザ
角φが次の式(14)を満たすときに最大となる。
設定すると、段差位置における差信号Sは、アナライザ
角φが次の式(14)を満たすときに最大となる。
【数14】
【0029】上述の式(14)において、aとbとを入れ
代えるとともに位相差Ψの符号を逆にすると、右辺の値
は変化してしまう。すなわち、本発明のように位相差θ
=π/2と設定しなければ、一方のエッジに対するコン
トラストを最大(または最小)にしても、その時のアナ
ライザ角に対して他方のエッジに対するコントラストは
最大(または最小)にならなくなってしまう。
代えるとともに位相差Ψの符号を逆にすると、右辺の値
は変化してしまう。すなわち、本発明のように位相差θ
=π/2と設定しなければ、一方のエッジに対するコン
トラストを最大(または最小)にしても、その時のアナ
ライザ角に対して他方のエッジに対するコントラストは
最大(または最小)にならなくなってしまう。
【0030】このように、本発明では、検光子の直前ま
でに光学系が2つのスポットに対応する光に加える位相
差をπ/2に、すなわち検光子に達する光が円偏光にな
るようにするとともに、偏光ビームスプリッターのアナ
ライザ角φを可変にする。こうして、任意の段差に対し
て段差位置における差信号を最大から最小まで変化させ
ることが、すなわち任意の段差に対して形成される微分
干渉像のコントラストを随時調整することができる。
でに光学系が2つのスポットに対応する光に加える位相
差をπ/2に、すなわち検光子に達する光が円偏光にな
るようにするとともに、偏光ビームスプリッターのアナ
ライザ角φを可変にする。こうして、任意の段差に対し
て段差位置における差信号を最大から最小まで変化させ
ることが、すなわち任意の段差に対して形成される微分
干渉像のコントラストを随時調整することができる。
【0031】
【実施例】以下、本発明の実施例を、添付図面に基づい
て説明する。図1は、本発明の第1実施例にかかる微分
干渉顕微鏡の構成を概略的に示す図である。図1の微分
干渉顕微鏡は、空間的にコヒーレントな光として、たと
えば図1の紙面に平行な偏光方向を有する直線偏光レー
ザービームを供給するレーザー光源1を備えている。レ
ーザー光源1からのレーザービームは、コリメートレン
ズ2を介して平行光となり、ハーフミラー3に入射す
る。
て説明する。図1は、本発明の第1実施例にかかる微分
干渉顕微鏡の構成を概略的に示す図である。図1の微分
干渉顕微鏡は、空間的にコヒーレントな光として、たと
えば図1の紙面に平行な偏光方向を有する直線偏光レー
ザービームを供給するレーザー光源1を備えている。レ
ーザー光源1からのレーザービームは、コリメートレン
ズ2を介して平行光となり、ハーフミラー3に入射す
る。
【0032】ハーフミラー3で図中下方に反射されたレ
ーザービームは、2次元走査装置4で空間的に偏向され
た後、ノマルスキープリズム5に入射する。ノマルスキ
ープリズム5は、入射レーザービームの偏光方向に対し
て45°で交差する光学軸を有し、入射レーザービーム
を偏光成分によって2つの光に分割するための複屈折プ
リズムである。ノマルスキープリズム5を介して2つに
分割された光は、対物レンズ6を介して集光され、ステ
ージ8上に載置された基板のような被検物体7上に2つ
のレーザースポットを形成する。
ーザービームは、2次元走査装置4で空間的に偏向され
た後、ノマルスキープリズム5に入射する。ノマルスキ
ープリズム5は、入射レーザービームの偏光方向に対し
て45°で交差する光学軸を有し、入射レーザービーム
を偏光成分によって2つの光に分割するための複屈折プ
リズムである。ノマルスキープリズム5を介して2つに
分割された光は、対物レンズ6を介して集光され、ステ
ージ8上に載置された基板のような被検物体7上に2つ
のレーザースポットを形成する。
【0033】このように、ノマルスキープリズム5の作
用によって、被検物体7上には僅かに間隔を隔てた2つ
のレーザースポットが形成される。そして、これら2つ
のレーザースポットは、2次元走査装置4の2次元偏向
作用により、物体7を2次元的に走査する。2つのレー
ザースポットに対する物体7からの2つの反射レーザー
ビームは、再び対物レンズ6を通過した後、ノマルスキ
ープリズム5を介して合成される。
用によって、被検物体7上には僅かに間隔を隔てた2つ
のレーザースポットが形成される。そして、これら2つ
のレーザースポットは、2次元走査装置4の2次元偏向
作用により、物体7を2次元的に走査する。2つのレー
ザースポットに対する物体7からの2つの反射レーザー
ビームは、再び対物レンズ6を通過した後、ノマルスキ
ープリズム5を介して合成される。
【0034】ここで、ノマルスキープリズム5は、2つ
のレーザースポットに対応する光に対して往復でπの整
数倍の位相差を加えるように、光軸に対する挿入位置が
規定されている。したがって、物体7が平坦で段差のな
い表面、すなわち鏡面である場合、ノマルスキープリズ
ム5を介した2つの反射レーザービームの位相差はπの
整数倍になる。換言すれば、2つのレーザースポットに
対する物体7からの2つの反射レーザービームは、ノマ
ルスキープリズム5を介して図1の紙面に平行な偏光方
向を有する直線偏光レーザービームに合成される。
のレーザースポットに対応する光に対して往復でπの整
数倍の位相差を加えるように、光軸に対する挿入位置が
規定されている。したがって、物体7が平坦で段差のな
い表面、すなわち鏡面である場合、ノマルスキープリズ
ム5を介した2つの反射レーザービームの位相差はπの
整数倍になる。換言すれば、2つのレーザースポットに
対する物体7からの2つの反射レーザービームは、ノマ
ルスキープリズム5を介して図1の紙面に平行な偏光方
向を有する直線偏光レーザービームに合成される。
【0035】ノマルスキープリズム5を介した合成レー
ザービームは、再び2次元走査装置4を介して平行光束
となり、ハーフミラー3に入射する。なお、2次元走査
装置4を介した平行光束は、2次元走査装置4の偏光作
用を2度受けることによって、空間中に静止した状態と
なる。
ザービームは、再び2次元走査装置4を介して平行光束
となり、ハーフミラー3に入射する。なお、2次元走査
装置4を介した平行光束は、2次元走査装置4の偏光作
用を2度受けることによって、空間中に静止した状態と
なる。
【0036】ハーフミラー3を透過した合成レーザービ
ームは、ミラー9を介して1/4波長板10に入射す
る。1/4波長板10は、物体7が鏡面である場合に1
/4波長板10に入射する合成直線偏光レーザービーム
の直線偏光方向に対して方位角π/4で位置決めされて
いる。したがって、物体7が鏡面である場合、1/4波
長板10を介したレーザービームは、円偏光となって、
光軸を中心として回転可能な1/2波長板11に入射す
る。
ームは、ミラー9を介して1/4波長板10に入射す
る。1/4波長板10は、物体7が鏡面である場合に1
/4波長板10に入射する合成直線偏光レーザービーム
の直線偏光方向に対して方位角π/4で位置決めされて
いる。したがって、物体7が鏡面である場合、1/4波
長板10を介したレーザービームは、円偏光となって、
光軸を中心として回転可能な1/2波長板11に入射す
る。
【0037】1/2波長板11を介したレーザービーム
は、偏光ビームスプリッター12で透過光と反射光とに
分離される。このように、1/2波長板11は偏光回転
角が可変の旋光子であり、回転可能な1/2波長板11
と固定された偏光ビームスプリッター12とにより、ア
ナライザ角が可変の偏光ビームスプリッターが構成され
ている。偏光ビームスプリッター12を透過した光は、
光検出器13で検出され、光電変換される。一方、偏光
ビームスプリッター12で反射された光は、光検出器1
4で検出され、光電変換される。
は、偏光ビームスプリッター12で透過光と反射光とに
分離される。このように、1/2波長板11は偏光回転
角が可変の旋光子であり、回転可能な1/2波長板11
と固定された偏光ビームスプリッター12とにより、ア
ナライザ角が可変の偏光ビームスプリッターが構成され
ている。偏光ビームスプリッター12を透過した光は、
光検出器13で検出され、光電変換される。一方、偏光
ビームスプリッター12で反射された光は、光検出器1
4で検出され、光電変換される。
【0038】光検出器13および光検出器14で光電変
換された電気信号は、それぞれ差動アンプ15に供給さ
れる。差動アンプ15では、光検出器13からの信号と
光検出器14からの信号とに基づいて差信号Sを求め、
求めた差信号Sを同期装置16に供給する。同期装置1
6は、2次元走査装置4の作動に応じたレーザースポッ
トの走査位置情報と差動アンプ15からの差信号Sとを
同期させて画像表示装置17に供給する。
換された電気信号は、それぞれ差動アンプ15に供給さ
れる。差動アンプ15では、光検出器13からの信号と
光検出器14からの信号とに基づいて差信号Sを求め、
求めた差信号Sを同期装置16に供給する。同期装置1
6は、2次元走査装置4の作動に応じたレーザースポッ
トの走査位置情報と差動アンプ15からの差信号Sとを
同期させて画像表示装置17に供給する。
【0039】画像表示装置17では、レーザースポット
の走査位置情報と差信号Sとに基づいて微分干渉像を形
成し、形成した微分干渉像を表示する。なお、画像表示
装置17で表示される微分干渉像のコントラストは、1
/2波長板11による偏光回転角に、ひいては偏光ビー
ムスプリッターのアナライザ角に依存して変化する。す
なわち、第1実施例では、1/2波長板11を光軸を中
心として適宜回転させることにより、得られる微分干渉
像のコントラストが変化する。
の走査位置情報と差信号Sとに基づいて微分干渉像を形
成し、形成した微分干渉像を表示する。なお、画像表示
装置17で表示される微分干渉像のコントラストは、1
/2波長板11による偏光回転角に、ひいては偏光ビー
ムスプリッターのアナライザ角に依存して変化する。す
なわち、第1実施例では、1/2波長板11を光軸を中
心として適宜回転させることにより、得られる微分干渉
像のコントラストが変化する。
【0040】なお、1/2波長板11による偏光回転角
すなわちアナライザ角が前述の式(13)のφを満たすと
きに、微分干渉像のコントラストを最大にすることがで
きる。また、前述の式(13)のφに±π/4を加えたア
ナライザ角を用いることにより、微分干渉像のコントラ
ストを最小にすることができる。すなわち、第1実施例
では、1/2波長板11を光軸を中心として適宜回転さ
せることにより、得られる微分干渉像のコントラストを
最大から最小まで随時調整することができる。
すなわちアナライザ角が前述の式(13)のφを満たすと
きに、微分干渉像のコントラストを最大にすることがで
きる。また、前述の式(13)のφに±π/4を加えたア
ナライザ角を用いることにより、微分干渉像のコントラ
ストを最小にすることができる。すなわち、第1実施例
では、1/2波長板11を光軸を中心として適宜回転さ
せることにより、得られる微分干渉像のコントラストを
最大から最小まで随時調整することができる。
【0041】図2は、本発明の第2実施例にかかる微分
干渉顕微鏡の構成を概略的に示す図である。図2の微分
干渉顕微鏡は、第1実施例の微分干渉顕微鏡と類似の構
成を有するが、第2実施例では加算アンプ21および選
択装置22が付設されている点だけが基本的に相違す
る。したがって、図2において、第1実施例の要素と同
様の機能を有する要素には、同じ参照符号を付してい
る。以下、第1実施例との相違点に着目して、第2実施
例の構成および動作を説明する。
干渉顕微鏡の構成を概略的に示す図である。図2の微分
干渉顕微鏡は、第1実施例の微分干渉顕微鏡と類似の構
成を有するが、第2実施例では加算アンプ21および選
択装置22が付設されている点だけが基本的に相違す
る。したがって、図2において、第1実施例の要素と同
様の機能を有する要素には、同じ参照符号を付してい
る。以下、第1実施例との相違点に着目して、第2実施
例の構成および動作を説明する。
【0042】図2の微分干渉顕微鏡では、レーザー光源
1からのレーザービームは、コリメートレンズ2、ハー
フミラー3、2次元走査装置4、ノマルスキープリズム
5および対物レンズ6を介して、ステージ8上に載置さ
れた被検物体7上に2つのレーザースポットを形成す
る。2つのレーザースポットに対する物体7からの2つ
の反射レーザービームは、再び対物レンズ6を通過した
後、ノマルスキープリズム5を介して合成される。
1からのレーザービームは、コリメートレンズ2、ハー
フミラー3、2次元走査装置4、ノマルスキープリズム
5および対物レンズ6を介して、ステージ8上に載置さ
れた被検物体7上に2つのレーザースポットを形成す
る。2つのレーザースポットに対する物体7からの2つ
の反射レーザービームは、再び対物レンズ6を通過した
後、ノマルスキープリズム5を介して合成される。
【0043】ノマルスキープリズム5を介した合成レー
ザービームは、2次元走査装置4、ハーフミラー3、ミ
ラー9を介して、1/4波長板10に入射する。物体7
が鏡面である場合、1/4波長板10を介したレーザー
ビームが円偏光となって1/2波長板11に入射するこ
と、および1/2波長板11が光軸を中心として回転可
能である点は、第1実施例と同様である。次いで、偏光
ビームスプリッター12を透過した光は光検出器13で
検出され、偏光ビームスプリッター12で反射された光
は光検出器14で検出される。
ザービームは、2次元走査装置4、ハーフミラー3、ミ
ラー9を介して、1/4波長板10に入射する。物体7
が鏡面である場合、1/4波長板10を介したレーザー
ビームが円偏光となって1/2波長板11に入射するこ
と、および1/2波長板11が光軸を中心として回転可
能である点は、第1実施例と同様である。次いで、偏光
ビームスプリッター12を透過した光は光検出器13で
検出され、偏光ビームスプリッター12で反射された光
は光検出器14で検出される。
【0044】光検出器13および光検出器14で光電変
換された電気信号は、差動アンプ15および加算アンプ
21に供給される。差動アンプ15では光検出器13か
らの信号と光検出器14からの信号とに基づいて差信号
Sを求め、加算アンプ21では光検出器13からの信号
と光検出器14からの信号とに基づいて和信号Wを求め
る。差動アンプ15で求められた差信号Sおよび加算ア
ンプ21で求められた和信号Wは、選択装置22に供給
される。選択装置22は、差信号Sと和信号Wとのうち
いずれか一方の信号を選択して、同期装置16に供給す
る。
換された電気信号は、差動アンプ15および加算アンプ
21に供給される。差動アンプ15では光検出器13か
らの信号と光検出器14からの信号とに基づいて差信号
Sを求め、加算アンプ21では光検出器13からの信号
と光検出器14からの信号とに基づいて和信号Wを求め
る。差動アンプ15で求められた差信号Sおよび加算ア
ンプ21で求められた和信号Wは、選択装置22に供給
される。選択装置22は、差信号Sと和信号Wとのうち
いずれか一方の信号を選択して、同期装置16に供給す
る。
【0045】同期装置16は、2次元走査装置4の作動
に応じたレーザースポットの走査位置情報と選択装置2
2からの信号SまたはWと同期させて画像表示装置17
に供給する。画像表示装置17では、レーザースポット
の走査位置情報と信号SまたはWとに基づいて像を形成
し、形成した像を表示する。なお、選択装置22が差信
号Sを選択した場合には画像表示装置17には微分干渉
像が形成され、選択装置22が和信号Wを選択した場合
には画像表示装置17には明視野像が形成される。
に応じたレーザースポットの走査位置情報と選択装置2
2からの信号SまたはWと同期させて画像表示装置17
に供給する。画像表示装置17では、レーザースポット
の走査位置情報と信号SまたはWとに基づいて像を形成
し、形成した像を表示する。なお、選択装置22が差信
号Sを選択した場合には画像表示装置17には微分干渉
像が形成され、選択装置22が和信号Wを選択した場合
には画像表示装置17には明視野像が形成される。
【0046】選択装置22が差信号Sを選択した場合、
画像表示装置17で表示される微分干渉像のコントラス
トは、1/2波長板11による偏光回転角に、ひいては
偏光ビームスプリッターのアナライザ角に依存して変化
する。すなわち、第2実施例においても、1/2波長板
11を光軸を中心として適宜回転させることにより、得
られる微分干渉像のコントラストを最大から最小まで随
時調整することができる。
画像表示装置17で表示される微分干渉像のコントラス
トは、1/2波長板11による偏光回転角に、ひいては
偏光ビームスプリッターのアナライザ角に依存して変化
する。すなわち、第2実施例においても、1/2波長板
11を光軸を中心として適宜回転させることにより、得
られる微分干渉像のコントラストを最大から最小まで随
時調整することができる。
【0047】なお、上述の第1および第2実施例におけ
る2次元走査装置4として、振動ミラーや回転多面鏡や
音響光学素子などが公知である。しかしながら、2次元
走査装置4はこれらの公知手段に限定されるものではな
く、他の適当な偏向部材を用いることができることはい
うまでもない。また、上述の第1および第2実施例で
は、2次元走査装置4としてレーザービームを空間的に
偏向させる方式を用いているが、ステージ8を2次元的
に走査する方式を用いることもできる。
る2次元走査装置4として、振動ミラーや回転多面鏡や
音響光学素子などが公知である。しかしながら、2次元
走査装置4はこれらの公知手段に限定されるものではな
く、他の適当な偏向部材を用いることができることはい
うまでもない。また、上述の第1および第2実施例で
は、2次元走査装置4としてレーザービームを空間的に
偏向させる方式を用いているが、ステージ8を2次元的
に走査する方式を用いることもできる。
【0048】また、上述の第1および第2実施例では、
物体7からの反射光が2次元走査装置4を再び通過し、
レーザービームが空気中で静止状態になってハーフミラ
ー3に入射するように構成されている。しかしながら、
このような構成は本発明において不可欠な要件ではな
い。反射光が2次元走査装置4を往復しない場合、1/
4波長板10、1/2波長板11、偏光ビームスプリッ
ター12および光検出器13,14が十分な開口を有
し、物体7からの反射光を遮ることなく通過または受光
することができるようにし、且つ走査に伴うレーザービ
ームの変位量が1/4波長板10、1/2波長板11、
偏光ビームスプリッター12の偏光素子としての作用を
著しく劣化させない程度に抑えた構成にすればよい。
物体7からの反射光が2次元走査装置4を再び通過し、
レーザービームが空気中で静止状態になってハーフミラ
ー3に入射するように構成されている。しかしながら、
このような構成は本発明において不可欠な要件ではな
い。反射光が2次元走査装置4を往復しない場合、1/
4波長板10、1/2波長板11、偏光ビームスプリッ
ター12および光検出器13,14が十分な開口を有
し、物体7からの反射光を遮ることなく通過または受光
することができるようにし、且つ走査に伴うレーザービ
ームの変位量が1/4波長板10、1/2波長板11、
偏光ビームスプリッター12の偏光素子としての作用を
著しく劣化させない程度に抑えた構成にすればよい。
【0049】さらに、上述の第1および第2実施例で
は、鏡面を観察したときに直線偏光レーザービームが1
/4波長板10に入射するように構成している。しかし
ながら、1/4波長板10の直前においてレーザービー
ムがすでに円偏光となるように、ノマルスキープリズム
5の光軸に対する挿入位置などを規定して光学系を調整
すれば、1/4波長板10を省略することができる。
は、鏡面を観察したときに直線偏光レーザービームが1
/4波長板10に入射するように構成している。しかし
ながら、1/4波長板10の直前においてレーザービー
ムがすでに円偏光となるように、ノマルスキープリズム
5の光軸に対する挿入位置などを規定して光学系を調整
すれば、1/4波長板10を省略することができる。
【0050】また、上述の第1および第2実施例では、
光軸を中心として回転可能な1/2波長板12の作用に
よって、固定された偏光ビームスプリッターのアナライ
ザ角を変化させている。しかしながら、1/2波長板1
2に限定されることなく、偏光回転作用のある旋光子と
して、たとえば磁気光学効果を用いたファラデーローテ
ータや電気光学効果を応用した旋光子を用いることもで
きる。さらに、偏光ビームスプリッター12と光検出器
13および14とが一体的に光軸回りに回転可能であれ
ば、1/2波長板11のような偏光回転が可変の旋光子
を省略することができることはいうまでもない。
光軸を中心として回転可能な1/2波長板12の作用に
よって、固定された偏光ビームスプリッターのアナライ
ザ角を変化させている。しかしながら、1/2波長板1
2に限定されることなく、偏光回転作用のある旋光子と
して、たとえば磁気光学効果を用いたファラデーローテ
ータや電気光学効果を応用した旋光子を用いることもで
きる。さらに、偏光ビームスプリッター12と光検出器
13および14とが一体的に光軸回りに回転可能であれ
ば、1/2波長板11のような偏光回転が可変の旋光子
を省略することができることはいうまでもない。
【0051】なお、上述の実施例では、被検物体の反射
光を検出するタイプの顕微鏡について説明したが、試料
を透過した光を検出するようにしても良い。その場合
は、図1を用いて説明すると、レーザー光源1、コリメ
ートレンズ2、2次元走査装置4、ノマルスキープリズ
ム5および対物レンズ6は、被検物体7の裏面から光を
照射するように配置される。さらに、試料を透過した光
の光路中に、対物レンズおよびノマルスキープリズムを
配置すれば良い。
光を検出するタイプの顕微鏡について説明したが、試料
を透過した光を検出するようにしても良い。その場合
は、図1を用いて説明すると、レーザー光源1、コリメ
ートレンズ2、2次元走査装置4、ノマルスキープリズ
ム5および対物レンズ6は、被検物体7の裏面から光を
照射するように配置される。さらに、試料を透過した光
の光路中に、対物レンズおよびノマルスキープリズムを
配置すれば良い。
【0052】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、任意の
段差に対してその微分干渉像のコントラストを随時変化
させることのできる差動型のレーザー走査型微分干渉顕
微鏡を実現することができる。本発明のコントラスト調
整機能により、いかなる段差に対しても最大のコントラ
ストで観察することが可能になるばかりでなく、観察者
にとって興味のない段差のコントラストを最小にするこ
とにより所望の段差の画像のみを残して観察することも
可能になる。このように、段差を選択して観察する本発
明の機能は、ICパターンなどの欠陥検査やごみ検査な
どにおいて大きな威力を発揮するものである。
段差に対してその微分干渉像のコントラストを随時変化
させることのできる差動型のレーザー走査型微分干渉顕
微鏡を実現することができる。本発明のコントラスト調
整機能により、いかなる段差に対しても最大のコントラ
ストで観察することが可能になるばかりでなく、観察者
にとって興味のない段差のコントラストを最小にするこ
とにより所望の段差の画像のみを残して観察することも
可能になる。このように、段差を選択して観察する本発
明の機能は、ICパターンなどの欠陥検査やごみ検査な
どにおいて大きな威力を発揮するものである。
【図1】本発明の第1実施例にかかる微分干渉顕微鏡の
構成を概略的に示す図である。
構成を概略的に示す図である。
【図2】本発明の第2実施例にかかる微分干渉顕微鏡の
構成を概略的に示す図である。
構成を概略的に示す図である。
1 レーザー光源 2 コリメートレンズ 3 ハーフミラー 4 2次元走査装置 5 ノマルスキープリズム 6 対物レンズ 7 被検物体 8 ステージ 9 ミラー 10 1/4波長板 11 1/2波長板 12 偏光ビームスプリッター 13,14 光検出器 15 差動アンプ 16 同期装置 17 画像表示装置 21 加算アンプ 22 選択装置
Claims (6)
- 【請求項1】 空間的にコヒーレントな光を供給するた
めの光源と、該光源からの光を被検物体上に集光するた
めの対物レンズと、該対物レンズを介して前記被検物体
上の異なる位置に2つの光スポットを形成するために前
記光源からの入射光をその偏光成分によって2つの光に
分割するための少なくとも1つの複屈折プリズムと、前
記2つの光スポットを前記被検物体上で走査するための
走査手段と、前記2つの光スポットに対する前記被検物
体からの反射光または透過光のうち一方を入射し、該一
方の光のうち特定の偏光成分を選択するための検光子
と、該検光子を介して選択された光を検出するための光
検出手段と、該光検出手段の出力に基づいて前記被検物
体の微分干渉像を形成するための像形成手段とを備えた
微分干渉顕微鏡において、 前記微分干渉顕微鏡は、前記被検物体が前記2つの光に
対して相対的に強度および位相を変化させないときに前
記検光子に達する一方の光が円偏光になるように構成さ
れ、 前記検光子は、アナライザ角が可変の偏光ビームスプリ
ッターを有し、 前記光検出手段は、前記偏光ビームスプリッターを透過
した光を検出するための第1光検出器と、前記偏光ビー
ムスプリッターで反射された光を検出するための第2光
検出器とを有し、 前記像形成手段は、前記第1光検出器の出力と前記第2
光検出器の出力との差に基づいて、前記偏光ビームスプ
リッターのアナライザ角に応じたコントラストを有する
微分干渉像を形成することを特徴とする微分干渉顕微
鏡。 - 【請求項2】 前記検光子は、光軸に対して固定された
偏光ビームスプリッターと、該偏光ビームスプリッター
の入射側に配置され且つ偏光回転角が可変の旋光子とを
有することを特徴とする請求項1に記載の微分干渉顕微
鏡。 - 【請求項3】 前記偏光回転角が可変の旋光子は、光軸
に対して回転可能な1/2波長板であることを特徴とす
る請求項2に記載の微分干渉顕微鏡。 - 【請求項4】 前記検光子は、光軸を中心として回転可
能な偏光ビームスプリッターを有し、 前記第1光検出器および前記第2光検出器は、前記偏光
ビームスプリッターと一体的に回転するように構成され
ていることを特徴とする請求項1に記載の微分干渉顕微
鏡。 - 【請求項5】 前記光源は、所定の偏光方向を有する直
線偏光を前記少なくとも1つの複屈折プリズムに供給
し、 前記被検物体が前記2つの光に対して相対的に強度およ
び位相を変化させないときに、前記少なくとも1つの複
屈折プリズムは、前記2つの光スポットに対する前記被
検物体からの一方の光を合成して直線偏光を生成し、前
記合成される2つの光の一方に対して他方がπの整数倍
の位相差を付与するように位置決めされ、 前記検光子の入射側には、前記少なくとも1つの複屈折
プリズムを介して合成された直線偏光を円偏光に変換す
るための1/4波長板が設けられていることを特徴とす
る請求項1乃至4のいずれか1項に記載の微分干渉顕微
鏡。 - 【請求項6】 前記被検物体が前記2つの光に対して相
対的に強度および位相を変化させないときに、前記検光
子に達する一方の光が円偏光になるように、前記少なく
とも1つの複屈折プリズムの光軸に対する挿入位置が規
定されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれ
か1項に記載の微分干渉顕微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7188510A JPH0915503A (ja) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 微分干渉顕微鏡 |
| US08/672,331 US5764363A (en) | 1995-06-30 | 1996-06-28 | Apparatus for observing a surface using polarized light |
| DE19626261A DE19626261A1 (de) | 1995-06-30 | 1996-06-28 | Beobachtungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7188510A JPH0915503A (ja) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 微分干渉顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0915503A true JPH0915503A (ja) | 1997-01-17 |
Family
ID=16224990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7188510A Pending JPH0915503A (ja) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 微分干渉顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0915503A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008180734A (ja) * | 2003-07-28 | 2008-08-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界センサおよびその調整方法 |
| JP2009258192A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Olympus Corp | 走査型レーザ顕微鏡 |
| KR101064672B1 (ko) * | 2009-08-18 | 2011-09-20 | 한국과학기술원 | 2방향 선주사 방식을 적용한 공초점 레이저 주사 현미경 및 이를 이용한 영상처리 방법 |
| CN105675541A (zh) * | 2016-01-13 | 2016-06-15 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | 一种具有轴向高分辨率的反射式共聚焦系统 |
| WO2023135681A1 (ja) * | 2022-01-12 | 2023-07-20 | 株式会社日立ハイテク | 表面検査装置 |
-
1995
- 1995-06-30 JP JP7188510A patent/JPH0915503A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008180734A (ja) * | 2003-07-28 | 2008-08-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電界センサおよびその調整方法 |
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