JPH09157761A - コールドペレットの水分調整方法 - Google Patents

コールドペレットの水分調整方法

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JPH09157761A
JPH09157761A JP33770695A JP33770695A JPH09157761A JP H09157761 A JPH09157761 A JP H09157761A JP 33770695 A JP33770695 A JP 33770695A JP 33770695 A JP33770695 A JP 33770695A JP H09157761 A JPH09157761 A JP H09157761A
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JP
Japan
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water content
water
amount
cold
dust
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP33770695A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Okazaki
潤 岡崎
Toshiharu Takashima
俊治 高嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPH09157761A publication Critical patent/JPH09157761A/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Landscapes

  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Manufacture Of Iron (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コールドペレットの利用を促進し、それによ
ってダストのリサイクル量を増加させ、製鉄法に安価な
原料を供給するため、コールドペレット中の水分を低下
させる方法を提供する。 【解決手段】 コールドペレット4にマイクロ波を照射
し、100〜150℃に加熱してコールドペレット4中
の水分を1wt%以下に低下させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、製鉄用コールドペ
レットを高炉等で使用するに当たり、ペレットに含まれ
ている水分の最適化を図るための水分調整方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】製鉄所内から発生するダストは年々増加
しており、埋立廃棄困難な状況にある。この発生ダスト
はT.Feが40〜50wt%の高Fe原料であるか
ら、その資源化は不可避となっている。しかし、発生ダ
ストの粒径は50〜100μmと微細なので、バインダ
ーとしてセメントあるいは生石灰を添加し、これを混
合、造粒して直径が10〜15mm程度の粒子に加工し
たコールドペレット(CP)を得、これを高炉原料用、
転炉用、及び高炉によらない冷鉄源溶解法用として使用
している。
【0003】しかしながら、ダストを造粒する際には、
ある程度の水分を添加しなければならない。その結果、
出来上がったCPの水分は、例えば造粒直後で8wt
%、1次養生(3日)後で通常6wt%程度になり、養
生期間中に雨が降ったりすれば7wt%程度になる。こ
のCPを高炉に使用する際には、通常は表面が水分で濡
れているために高炉装入前に実施する篩作業の効率を低
下させるとともに、そこに含まれている水分が蒸発する
ときに熱を奪ってしまうため、シャフト中断に低温熱保
存帯を形成し、これが原料の炉内粉化の引金となる。従
って、CPの使用量は装入原料の3%程度に制限されて
いる。また、このCPを転炉に用いる際には、溶鋼の脱
珪処理の冷却材の一つとして鉱石、スクラップと一緒に
使用されている。しかし、水分を含んでいると、装入し
た際にヒュームが発生し、1チャージにつき100kg
程度のダストを発生させてしまう。従って、使用量は溶
鋼の2%程度に制限されている。
【0004】このように使用量を制限していくと、所内
のダスト量は増加していく。従って、CPの水分を低下
させることは、CPの生産量を確保し、安価であるダス
トを使用することで鉄鉱石量を減らすことができ、素材
費の低減にもつながるわけである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】そこで、もし脱水する
となれば、大型のドライヤーをCP搬送工程の終盤に設
置する必要があり、設備費用及び消費電力の面からデメ
リットが大きい。従って、現在は、生石灰等のバインダ
ー添加量を増やし、造粒能力を増強してCP含有水分を
低減している。しかしながら、バインダーは高価である
ためその使用量には限界があり、水分値は使用直前でせ
いぜい5〜7wt%である。
【0006】一方、特開平7−150260号公報に
は、鉄鉱石にマイクロ波を照射して鉄鉱石中の結合水を
脱水する方法が記載されている。しかし、これは300
〜500℃の結合水分解温度まで鉱石を加熱する方法で
あり、CP表面の濡れに代表されるような持込み水分を
蒸発させるものではない。
【0007】本発明は、CPの利用を促進し、それによ
ってダストのリサイクル量を増加させ、製鉄法に安価な
原料を供給するため、CP中の水分を低下させる方法を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のCPの水分調整
方法は、CPにマイクロ波を照射し、100〜150℃
に加熱してCP中水分を1wt%以下に低下させること
を特徴とするCPの水分調整方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】CPに含まれている水分の内訳
は、15%がバインダーの結晶水で、残りの85%が付
着水分である。水和物の水分は結晶水の形で存在し、付
着水分とは異なり、マイクロ波を照射しても分解、脱水
は殆どしないことが、図2に示すようなCa(OH)2
試薬を用いた実験から明らかになっている。そこで、水
分の85%を脱水すれば、付着水分のほぼ全量を脱水し
たことになる。
【0010】次に、CPの付着水分を蒸発除去するのに
適したマイクロ波の照射条件について説明する。
【0011】まず、照射出力は、10kW/CP−t以
上30kW/CP−t未満が望ましい。なぜならば、図
3に示すように、10kW/CP−t未満では、脱水率
が85%に達しておらず、30kW/CP−t以上で
は、急速に温度が上昇してCPが爆裂を起こすからであ
る。
【0012】次に照射時間は、図4に示すように、1分
/CP−t以上3分/CP−t以下が望ましい。なぜな
らば、1分/CP−t未満では脱水率が85%に達して
おらず、3分/CP−t超としても水分の減少代がほと
んど見られないからである。
【0013】照射面積は、原料層の表面積に合わせるの
が一番照射効率が高い。
【0014】照射位置は、図5に示すように、原料層の
表面から100mm以上150mm以下の距離だけ離し
て照射するのが望ましい。原料層の表面に近づくほど照
射効率は高くなるが、100mm未満の距離に近づきす
ぎると蒸発した水分が導波管内に入り込み、結露した水
にマイクロ波が吸収され、被照射物に対する脱水能が低
下してしまう。また、照射位置が150mm超となると
離れすぎで、照射効率が低下してしまうため脱水率も低
下する。
【0015】原料層の厚さは、図6に示すように、10
0mm以下であればマイクロ波照射によりほぼ均一に昇
温されて脱水率も一定値を示す。一方、層厚が100m
m超では、加熱温度が低くなり、脱水率も低下する。こ
れは、100mmより厚い層にはマイクロ波が十分に浸
透できないためである。
【0016】なお、本発明で使用するマイクロ波の周波
数は2450MHzであり、例えば家庭用電子レンジに
使用されている一般用のものと同じである。
【0017】以上のような照射条件でマイクロ波をCP
に照射することにより、CPは均一に100〜150℃
に加熱されて、CP中の水分のうち、少なくともその8
0%以上に当たる付着水分が蒸発して、水分量が1wt
%以下のCPとなる。
【0018】
【実施例】図1に示すようなバッチ式のマイクロ波照射
装置により、高炉用CP及び転炉用CPの付着水を除去
し、このCPを用いてそれぞれ実機使用試験を行った。
脱水条件としては、マイクロ波照射出力10kW/CP
−t、照射時間1分/CP−tとし、原料層の表面積を
1m2 とし、試料厚さを100mmとした。その結果、
CPは110℃に加熱され、水分1wt%以下となって
83%の脱水率が得られた。このCPを実機で使用した
結果、図7に示すように、高炉用CPの使用量が3%を
越えても高炉シャフト中段の温度は下がらなかった。ま
た、図8に示すように、転炉用CPについても、2%以
上使用してもほとんどヒュームは発生せず、ダストの発
生を抑制できた。
【0019】
【発明の効果】本発明により、CPの水分は1wt%以
下(脱水率で83%)となり、CPの使用量を増加でき
る。これによって、ダストの有効使用量を増加すること
ができるため、製鉄原料をより安価に供給することが可
能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施するための装置の例を示す図であ
る。
【図2】Ca(OH)2 試薬にマイクロ波を照射したと
きの照射時間と脱水率の関係を示す図である。
【図3】マイクロ波照射出力とCPの脱水率の関係を示
す図である。
【図4】マイクロ波照射時間とCPの脱水率の関係を示
す図である。
【図5】マイクロ波照射位置とCPの脱水率の関係を示
す図である。
【図6】マイクロ波照射時の原料層厚さと脱水率及び層
内温度の関係を示す図である。
【図7】CP配合率と高炉シャフト中段温度の関係を示
す図である。
【図8】CP配合率とダスト発生量の関係を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 マイクロ波発振器 2 導波管 3 加熱オーブン 4 CP

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コールドペレットにマイクロ波を照射
    し、100〜150℃に加熱してコールドペレット中水
    分を1wt%以下に低下させることを特徴とするコール
    ドペレットの水分調整方法。
JP33770695A 1995-12-04 1995-12-04 コールドペレットの水分調整方法 Withdrawn JPH09157761A (ja)

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JP33770695A JPH09157761A (ja) 1995-12-04 1995-12-04 コールドペレットの水分調整方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008260990A (ja) * 2007-04-11 2008-10-30 Jfe Steel Kk 原料切出しフィーダの制御方法および装置
CN100460531C (zh) * 2004-06-10 2009-02-11 济南钢铁股份有限公司 一种用于人造球团矿的烘干方法使用的烘干设备
JP2016151047A (ja) * 2015-02-18 2016-08-22 Jfeスチール株式会社 製鉄副原料の乾燥方法

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