JPH09159586A - 排ガスサンプリング装置 - Google Patents
排ガスサンプリング装置Info
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- JPH09159586A JPH09159586A JP34524695A JP34524695A JPH09159586A JP H09159586 A JPH09159586 A JP H09159586A JP 34524695 A JP34524695 A JP 34524695A JP 34524695 A JP34524695 A JP 34524695A JP H09159586 A JPH09159586 A JP H09159586A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低倍率稀釈化が可能で、周囲温度の変化によ
る影響も少なく、ダスト等による詰まりも生じ難く且つ
高速応答可能な排ガスサンプリング装置を提供する。 【解決手段】 フィルタ１ｃを充填しプロ−プチャンバ
１１と稀釈チャンバ１２を形成しサンプルガス導入部１
ｂを設けた採取点稀釈プロ−ブ１と、調圧弁２ｂと抵抗
管２ｃを配置し先端部をプロ−ブチャンバ１１と稀釈チ
ャンバ１２に開口配置し且つブロ−バックライン１０を
設けた定流量稀釈エアユニット２と、稀釈チャンバ１２
内に端部を配置した管路３ａと該管路３ａに配置される
フィルタ３ｂと吸引用ポンプ３ｃと調圧弁３ｄ及び抵抗
管３ｅとで構成される定流量サンプリングユニット３
と、前記定流量稀釈エアユニット２に配置される電磁弁
２ｄ，２ｆや定流量サンプリングユニット３のポンプ３
ｃを制御する制御装置４と、で構成される。
る影響も少なく、ダスト等による詰まりも生じ難く且つ
高速応答可能な排ガスサンプリング装置を提供する。 【解決手段】 フィルタ１ｃを充填しプロ−プチャンバ
１１と稀釈チャンバ１２を形成しサンプルガス導入部１
ｂを設けた採取点稀釈プロ−ブ１と、調圧弁２ｂと抵抗
管２ｃを配置し先端部をプロ−ブチャンバ１１と稀釈チ
ャンバ１２に開口配置し且つブロ−バックライン１０を
設けた定流量稀釈エアユニット２と、稀釈チャンバ１２
内に端部を配置した管路３ａと該管路３ａに配置される
フィルタ３ｂと吸引用ポンプ３ｃと調圧弁３ｄ及び抵抗
管３ｅとで構成される定流量サンプリングユニット３
と、前記定流量稀釈エアユニット２に配置される電磁弁
２ｄ，２ｆや定流量サンプリングユニット３のポンプ３
ｃを制御する制御装置４と、で構成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ボイラやごみ焼
却炉等の煙道排ガス成分を分析する際に使用される排ガ
スサンプリング装置、特にダストの詰まりが少なく高速
応答可能で低倍率稀釈でも精度の良いサンプリングが可
能な排ガスサンプリング装置に関する。
却炉等の煙道排ガス成分を分析する際に使用される排ガ
スサンプリング装置、特にダストの詰まりが少なく高速
応答可能で低倍率稀釈でも精度の良いサンプリングが可
能な排ガスサンプリング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ボイラやごみ焼却炉から排出される排気
ガスを分析する際には、煙道より試料ガスを採取して一
定比率に稀釈する排ガスサンプリング装置が用いられ
る。通常、煙道中の排ガスは高温状態であり、ダストや
水分を多量に含んでいるので冷却状態になると水分が凝
縮してドレンとなり、これに排ガス成分が溶解して測定
誤差の原因となる。従って、煙道排ガスを採取分析する
際には一定の高温（恒温）（１００°Ｃ〜１３０°Ｃ）
状態に加熱配管して分析する。また、排ガス中に水分が
存在してもエアにより稀釈すればそれだけ水分の影響も
軽減することができる。
ガスを分析する際には、煙道より試料ガスを採取して一
定比率に稀釈する排ガスサンプリング装置が用いられ
る。通常、煙道中の排ガスは高温状態であり、ダストや
水分を多量に含んでいるので冷却状態になると水分が凝
縮してドレンとなり、これに排ガス成分が溶解して測定
誤差の原因となる。従って、煙道排ガスを採取分析する
際には一定の高温（恒温）（１００°Ｃ〜１３０°Ｃ）
状態に加熱配管して分析する。また、排ガス中に水分が
存在してもエアにより稀釈すればそれだけ水分の影響も
軽減することができる。
【０００３】図２は、従来の排ガスサンプリング装置の
構成例である。即ち、ベンチュリ管状に形成したエジェ
クタ２０に音速ノズル２１により加圧稀釈用エアを高速
で噴出させ、同時に該エジェクタ２０の空間２０ａに通
じる管路２２に配置したフィルタ２３及び臨界ノズル
（キャピラリノズル）２４より煙道排ガスから取り入れ
た試料ガスを稀釈し、一定比率に混合稀釈された混合サ
ンプリングガスをプロ−ブ２５により採取して分析計に
導入する。この場合、加圧稀釈用エアの流量をＱ1 と
し、前記臨界ノズル２４を通して採取される煙道排ガス
の流量をＱ2 とすると、稀釈比ρは、ρ＝（Ｑ1 ＋
Ｑ2 ）／Ｑ2 となる。このような排ガスサンプリング装
置によれば、プロ−ブ以後はクリ−ンなガスを分析装
置に供給することができる、稀釈比率の変更（グラス
オリフィスの交換）により分析計の測定レンジを変更せ
ず装置としての測定レンジが可変となる、プロ−ブ先
端からの校正が可能となる、等の利点がある。
構成例である。即ち、ベンチュリ管状に形成したエジェ
クタ２０に音速ノズル２１により加圧稀釈用エアを高速
で噴出させ、同時に該エジェクタ２０の空間２０ａに通
じる管路２２に配置したフィルタ２３及び臨界ノズル
（キャピラリノズル）２４より煙道排ガスから取り入れ
た試料ガスを稀釈し、一定比率に混合稀釈された混合サ
ンプリングガスをプロ−ブ２５により採取して分析計に
導入する。この場合、加圧稀釈用エアの流量をＱ1 と
し、前記臨界ノズル２４を通して採取される煙道排ガス
の流量をＱ2 とすると、稀釈比ρは、ρ＝（Ｑ1 ＋
Ｑ2 ）／Ｑ2 となる。このような排ガスサンプリング装
置によれば、プロ−ブ以後はクリ−ンなガスを分析装
置に供給することができる、稀釈比率の変更（グラス
オリフィスの交換）により分析計の測定レンジを変更せ
ず装置としての測定レンジが可変となる、プロ−ブ先
端からの校正が可能となる、等の利点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の排ガスサンプリング装置では、臨界ノズル２４前
のプロ−ブ等の空間により応答遅れが生じる、臨界ノ
ズル２４はキャピラリを使用しているため周囲の温度変
化による影響を受けやすく流量が変わり稀釈比精度が悪
い、臨界ノズルや加圧稀釈用エアの定流量化部品等が
高価であるため高価格である、低倍率稀釈が困難であ
る、等の問題がある。更に、従来の排ガスサンプリン
グ装置では、稀釈比率が高いため高感度の分析計が必要
である、特に、高稀釈比率であると排ガス中の酸素
（Ｏ2 ）濃度や炭酸ガス（ＣＯ2 ）濃度の測定が困難と
なり大気中の酸素や炭酸ガスの濃度変化の影響を受けや
すい、という問題もある。
成の排ガスサンプリング装置では、臨界ノズル２４前
のプロ−ブ等の空間により応答遅れが生じる、臨界ノ
ズル２４はキャピラリを使用しているため周囲の温度変
化による影響を受けやすく流量が変わり稀釈比精度が悪
い、臨界ノズルや加圧稀釈用エアの定流量化部品等が
高価であるため高価格である、低倍率稀釈が困難であ
る、等の問題がある。更に、従来の排ガスサンプリン
グ装置では、稀釈比率が高いため高感度の分析計が必要
である、特に、高稀釈比率であると排ガス中の酸素
（Ｏ2 ）濃度や炭酸ガス（ＣＯ2 ）濃度の測定が困難と
なり大気中の酸素や炭酸ガスの濃度変化の影響を受けや
すい、という問題もある。
【０００５】この発明は上記する課題に着目してなされ
たものであり、低倍率稀釈化が可能であり、周囲温度の
変化による影響も少なく、ダスト等による詰まりも生じ
難く且つ高速応答可能な排ガスサンプリング装置を提供
することを目的としている。
たものであり、低倍率稀釈化が可能であり、周囲温度の
変化による影響も少なく、ダスト等による詰まりも生じ
難く且つ高速応答可能な排ガスサンプリング装置を提供
することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、この発明は上記す
る課題を解決するために、排ガスサンプリング装置が、
本体１ａの先端部にサンプルガス導入部１ｂを設け内部
にフィルタ１ｃを充填すると共に該フィルタ１ｃの前部
にプロ−ブチャンバ１１を後部に稀釈チャンバ１２をそ
れぞれ形成した採取点稀釈プロ−ブ１と、先端部（２ａ
1 ）を前記採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブチャンバ１
１に開口配置し途中に接続した分岐管路の先端部（２ａ
2 ）を稀釈チャンバ１２に開口配置した管路２ａと該管
路２ａに配置される調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの間に接続され端部を
前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに開口配置
し且つ途中に電磁弁２ｆを配置したブロ−バックライン
１０とで構成される定流量稀釈エアユニット２と、前記
採取点稀釈プロ−ブ１の稀釈チャンバ１２内に端部を配
置した管路３ａとフィルタ３ｂと吸引用ポンプ３ｃと調
圧弁３ｄと抵抗管３ｅとで構成される定流量サンプリン
グユニット３と、前記定流量稀釈エアユニット２の電磁
弁２ｄとブロ−バックラインの電磁弁２ｆ及び前記定流
量サンプリングユニット３のポンプ３ｃとを制御する制
御装置４と、を具備することを特徴とする。
る課題を解決するために、排ガスサンプリング装置が、
本体１ａの先端部にサンプルガス導入部１ｂを設け内部
にフィルタ１ｃを充填すると共に該フィルタ１ｃの前部
にプロ−ブチャンバ１１を後部に稀釈チャンバ１２をそ
れぞれ形成した採取点稀釈プロ−ブ１と、先端部（２ａ
1 ）を前記採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブチャンバ１
１に開口配置し途中に接続した分岐管路の先端部（２ａ
2 ）を稀釈チャンバ１２に開口配置した管路２ａと該管
路２ａに配置される調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの間に接続され端部を
前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに開口配置
し且つ途中に電磁弁２ｆを配置したブロ−バックライン
１０とで構成される定流量稀釈エアユニット２と、前記
採取点稀釈プロ−ブ１の稀釈チャンバ１２内に端部を配
置した管路３ａとフィルタ３ｂと吸引用ポンプ３ｃと調
圧弁３ｄと抵抗管３ｅとで構成される定流量サンプリン
グユニット３と、前記定流量稀釈エアユニット２の電磁
弁２ｄとブロ−バックラインの電磁弁２ｆ及び前記定流
量サンプリングユニット３のポンプ３ｃとを制御する制
御装置４と、を具備することを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の具体的実施例に
ついて図面を参照して説明する。図１はこの発明の排ガ
スサンプリング装置の構成を示す配置図である。この排
ガスサンプリング装置は、採取点稀釈プロ−ブ１と、定
流量稀釈エアユニット２と、定流量サンプリングユニッ
ト３と、稀釈エアの流量や採取された稀釈混合ガスの流
量等のエアや稀釈混合ガス全体の流れを制御する制御装
置（演算処理装置（ＣＰＵ））４と、より構成される。
更に、該排ガスサンプリング装置には、校正用ガスを供
給するスパンガス供給ライン５が設けられている。
ついて図面を参照して説明する。図１はこの発明の排ガ
スサンプリング装置の構成を示す配置図である。この排
ガスサンプリング装置は、採取点稀釈プロ−ブ１と、定
流量稀釈エアユニット２と、定流量サンプリングユニッ
ト３と、稀釈エアの流量や採取された稀釈混合ガスの流
量等のエアや稀釈混合ガス全体の流れを制御する制御装
置（演算処理装置（ＣＰＵ））４と、より構成される。
更に、該排ガスサンプリング装置には、校正用ガスを供
給するスパンガス供給ライン５が設けられている。
【０００８】前記採取点稀釈プロ−ブ１は、プロ−ブの
本体１ａと、該プロ−ブ本体１ａの先端部に形成され煙
道６の途中に配置されサンプルガスを取り入れるサンプ
ルガス導入部１ｂと、フィルタ１ｃを充填し後部に稀釈
ガス排出部１ｄを設けプロ−ブ本体１ａ内に、前部にプ
ロ−ブチャンバ１１が形成され且つ後部に稀釈チャンバ
１２が形成されるよう配置される枠体１ｅと、で構成さ
れている。即ち、該採取点稀釈プロ−ブ１では、フィル
タ１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１でサンプルガスと
稀釈用エアとが混合され、このサンプルガスと稀釈用エ
アの混合稀釈ガスはフィルタ１ｃ通過後も稀釈チャンバ
１２で更に後述する管路２ａ2 から排出される稀釈エア
で稀釈されることになる。尚、前記フィルタ１ｃとして
は、石英バルクフィルタを用いると、連続使用による詰
まりの発生を防止することができる。
本体１ａと、該プロ−ブ本体１ａの先端部に形成され煙
道６の途中に配置されサンプルガスを取り入れるサンプ
ルガス導入部１ｂと、フィルタ１ｃを充填し後部に稀釈
ガス排出部１ｄを設けプロ−ブ本体１ａ内に、前部にプ
ロ−ブチャンバ１１が形成され且つ後部に稀釈チャンバ
１２が形成されるよう配置される枠体１ｅと、で構成さ
れている。即ち、該採取点稀釈プロ−ブ１では、フィル
タ１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１でサンプルガスと
稀釈用エアとが混合され、このサンプルガスと稀釈用エ
アの混合稀釈ガスはフィルタ１ｃ通過後も稀釈チャンバ
１２で更に後述する管路２ａ2 から排出される稀釈エア
で稀釈されることになる。尚、前記フィルタ１ｃとして
は、石英バルクフィルタを用いると、連続使用による詰
まりの発生を防止することができる。
【０００９】次に、前記定流量稀釈エアユニット２は、
稀釈用のエアを流す管路２ａに配置される調圧弁２ｂと
エア流量を制限する抵抗管２ｃと該抵抗管２ｃの下流に
配置される電磁弁２ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの
間の管路２ａに接続された分岐管路２ｅと、該分岐管路
２ｅに電磁弁２ｆを配置して構成されるブロ−バックラ
イン１０と、で構成される。この場合の稀釈エアは露点
−２０°Ｃ程度（蒸発換算値）のドライエアが使用され
る。前記管路２ａは前方を二つの分岐管路２ａ1 ，２ａ
2 に分け、一方の分岐管路２ａ1 の先端部は前記採取点
稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの前方に形成されたプロ
−ブチャンバ１１に開口配置され、他方の分岐管路２ａ
2 の先端部は採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後
方に形成された稀釈チャンバ１２に開口配置されてい
る。また、前記ブロ−バックライン２１の分岐管路２ｅ
の先端部２ｅ1 は前記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ
１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１に開口配置してあ
る。このブロ−バックライン１０は前記フィルタ１ｃに
ダストが付着した場合に使用するものであって通常は電
磁弁２ｆは閉鎖状態となっている。
稀釈用のエアを流す管路２ａに配置される調圧弁２ｂと
エア流量を制限する抵抗管２ｃと該抵抗管２ｃの下流に
配置される電磁弁２ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの
間の管路２ａに接続された分岐管路２ｅと、該分岐管路
２ｅに電磁弁２ｆを配置して構成されるブロ−バックラ
イン１０と、で構成される。この場合の稀釈エアは露点
−２０°Ｃ程度（蒸発換算値）のドライエアが使用され
る。前記管路２ａは前方を二つの分岐管路２ａ1 ，２ａ
2 に分け、一方の分岐管路２ａ1 の先端部は前記採取点
稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの前方に形成されたプロ
−ブチャンバ１１に開口配置され、他方の分岐管路２ａ
2 の先端部は採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後
方に形成された稀釈チャンバ１２に開口配置されてい
る。また、前記ブロ−バックライン２１の分岐管路２ｅ
の先端部２ｅ1 は前記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ
１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１に開口配置してあ
る。このブロ−バックライン１０は前記フィルタ１ｃに
ダストが付着した場合に使用するものであって通常は電
磁弁２ｆは閉鎖状態となっている。
【００１０】前記定流量サンプリングユニット３は、前
記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後方に設けら
れた稀釈ガス排出部１ｄの前に端部を配置した管路３ａ
と、フィルタ（メンブレンフィルタ）３ｂと、混合稀釈
ガスを吸引するためのポンプ３ｃと、混合稀釈ガスを一
定の圧力に調整する調圧弁３ｄと、抵抗管３ｅと、で構
成される。
記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後方に設けら
れた稀釈ガス排出部１ｄの前に端部を配置した管路３ａ
と、フィルタ（メンブレンフィルタ）３ｂと、混合稀釈
ガスを吸引するためのポンプ３ｃと、混合稀釈ガスを一
定の圧力に調整する調圧弁３ｄと、抵抗管３ｅと、で構
成される。
【００１１】校正用ガスを供給するスパンガス供給ライ
ン５には管路５ａに電磁弁５ｂが配置されているが、該
管路５ａの先端部は、採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブ
チャンバ１１に開口配置したブロ−バックライン１０の
管路２ｅの先端部２ｅ1 に接合させてある。従って校正
ガスは該管路２ｅの先端部２ｅ1 より排出される。
ン５には管路５ａに電磁弁５ｂが配置されているが、該
管路５ａの先端部は、採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブ
チャンバ１１に開口配置したブロ−バックライン１０の
管路２ｅの先端部２ｅ1 に接合させてある。従って校正
ガスは該管路２ｅの先端部２ｅ1 より排出される。
【００１２】前記制御装置４は、前記定流量稀釈エアユ
ニット２の電磁弁２ｄと、ブロ−バックライン１０の分
岐管路２ｅに配置した電磁弁２ｆと、前記定流量サンプ
リングユニット３のポンプ３ｃ及びスパンガスライン５
の電磁弁５ｂとを制御する。
ニット２の電磁弁２ｄと、ブロ−バックライン１０の分
岐管路２ｅに配置した電磁弁２ｆと、前記定流量サンプ
リングユニット３のポンプ３ｃ及びスパンガスライン５
の電磁弁５ｂとを制御する。
【００１３】尚、図の破線で示すように、前記定流量稀
釈エアユニット２の調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄ及び定流量サンプリングユニット３のフィルタ３ｂと
ポンプ３ｃと調圧弁３ｄと抵抗管３ｅはケ−ス７内に収
容する。そして、特に、抵抗管２ｃ，３ｅは周囲又は雰
囲気温度による流量変化を押さえるため温調ブロック
８，９内に収納されている。
釈エアユニット２の調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄ及び定流量サンプリングユニット３のフィルタ３ｂと
ポンプ３ｃと調圧弁３ｄと抵抗管３ｅはケ−ス７内に収
容する。そして、特に、抵抗管２ｃ，３ｅは周囲又は雰
囲気温度による流量変化を押さえるため温調ブロック
８，９内に収納されている。
【００１４】この発明の排ガスサンプリング装置の構成
は、以上のようであるが、次にサンプルガスの採取と稀
釈混合ガスとして取り出す動作について説明する。 （１）定流量稀釈エアユニット２では、稀釈用エアは、
調圧弁２ｂで圧力を１〜２（ｋｇｆ／ｃｍ2 ）に設定し
抵抗管２ｃで定流量（ｑa ）とする。そして管路２ａの
一方の分岐管路２ａ1 の端部から前記採取点稀釈プロ−
ブ１のプロ−ブチャンバ１１内に稀釈用エアを排出さ
せ、また、他方の分岐管管路２ａ2 の端部からは稀釈チ
ャンバ１２内に稀釈用エアを排出させる。 （２）前記採取点稀釈プロ−ブ１で稀釈混合されたサン
プルガスは定流量サンプリングユニット３のポンプ３ｃ
で吸引される。そしてフィルタ３ｂを通過後調圧弁３ｄ
と抵抗管３ｅにより流量を一定流量（ｑs ）として分析
装置（図示せず）へ送り出す。 （３）定流量稀釈エアユニット２の電磁弁２ｄ，定流量
サンプリングユニット３のポンプ３ｃ等は制御装置４に
より制御される。そして定流量稀釈エアユニット２の調
圧弁２ｂ及び抵抗管２ｃで調整した流量ｑa と、定流量
サンプリングユニット３の調圧弁３ｄ及び抵抗管３ｅで
調整した流量ｑs との比ｑs ／ｑa をηとすると、η＝
１．１〜１．０５、即ち、稀釈比が１０〜２０倍となる
ように調整する。 （４）サンプルガスの長期吸引により採取点稀釈プロ−
ブ１のフィルタ（石英バルクフィルタ）１ｃにはダスト
が付着するが、定期的にブロ−バックライン１０の電磁
弁２ｆを『開』としてエアを吹き付けブロ−バックをか
けてプロ−ブチャンバ１１内に滞留していたダストを煙
道内へ戻す。前記フィルタ１ｃとして使用される石英バ
ルクフィルタはサンプルガス吸引量５０〜１００（ｍｌ
／ｍｉｎ）に対して表面積が極めて大きくダストの付着
に対して圧力損失は生じない。 （５）定流量稀釈エアユニット２及び定流量サンプリン
グユニット３のエア流量及びサンプルガス流量の安定性
と稀釈比は、定期的にスパンガスライン５の管路５ａよ
りスパンガスを導入して分析計指示値によりチェックす
る。
は、以上のようであるが、次にサンプルガスの採取と稀
釈混合ガスとして取り出す動作について説明する。 （１）定流量稀釈エアユニット２では、稀釈用エアは、
調圧弁２ｂで圧力を１〜２（ｋｇｆ／ｃｍ2 ）に設定し
抵抗管２ｃで定流量（ｑa ）とする。そして管路２ａの
一方の分岐管路２ａ1 の端部から前記採取点稀釈プロ−
ブ１のプロ−ブチャンバ１１内に稀釈用エアを排出さ
せ、また、他方の分岐管管路２ａ2 の端部からは稀釈チ
ャンバ１２内に稀釈用エアを排出させる。 （２）前記採取点稀釈プロ−ブ１で稀釈混合されたサン
プルガスは定流量サンプリングユニット３のポンプ３ｃ
で吸引される。そしてフィルタ３ｂを通過後調圧弁３ｄ
と抵抗管３ｅにより流量を一定流量（ｑs ）として分析
装置（図示せず）へ送り出す。 （３）定流量稀釈エアユニット２の電磁弁２ｄ，定流量
サンプリングユニット３のポンプ３ｃ等は制御装置４に
より制御される。そして定流量稀釈エアユニット２の調
圧弁２ｂ及び抵抗管２ｃで調整した流量ｑa と、定流量
サンプリングユニット３の調圧弁３ｄ及び抵抗管３ｅで
調整した流量ｑs との比ｑs ／ｑa をηとすると、η＝
１．１〜１．０５、即ち、稀釈比が１０〜２０倍となる
ように調整する。 （４）サンプルガスの長期吸引により採取点稀釈プロ−
ブ１のフィルタ（石英バルクフィルタ）１ｃにはダスト
が付着するが、定期的にブロ−バックライン１０の電磁
弁２ｆを『開』としてエアを吹き付けブロ−バックをか
けてプロ−ブチャンバ１１内に滞留していたダストを煙
道内へ戻す。前記フィルタ１ｃとして使用される石英バ
ルクフィルタはサンプルガス吸引量５０〜１００（ｍｌ
／ｍｉｎ）に対して表面積が極めて大きくダストの付着
に対して圧力損失は生じない。 （５）定流量稀釈エアユニット２及び定流量サンプリン
グユニット３のエア流量及びサンプルガス流量の安定性
と稀釈比は、定期的にスパンガスライン５の管路５ａよ
りスパンガスを導入して分析計指示値によりチェックす
る。
【００１５】
【発明の効果】以上詳述したようにこの発明の排ガスサ
ンプリング装置によれば、低倍率の稀釈比で希釈精度が
高く、サンプルガス圧の変化による影響の少ないガスサ
ンプリングが可能となる。また、周囲温度変化による稀
釈率の影響も少なく安定したガスサンプリングを行うこ
とができる。この排ガスサンプリング装置ではダストの
詰まりによる稀釈比率の変化が少なく、ブロ−バック操
作によりダストを除去することができるので高ダストサ
ンプルにも使用することができる。更に、この発明の排
ガスサンプリング装置では稀釈用のエアをプロ−ブチャ
ンバ内にも分配することで高速応答型の稀釈プロ−ブを
提供することができる。
ンプリング装置によれば、低倍率の稀釈比で希釈精度が
高く、サンプルガス圧の変化による影響の少ないガスサ
ンプリングが可能となる。また、周囲温度変化による稀
釈率の影響も少なく安定したガスサンプリングを行うこ
とができる。この排ガスサンプリング装置ではダストの
詰まりによる稀釈比率の変化が少なく、ブロ−バック操
作によりダストを除去することができるので高ダストサ
ンプルにも使用することができる。更に、この発明の排
ガスサンプリング装置では稀釈用のエアをプロ−ブチャ
ンバ内にも分配することで高速応答型の稀釈プロ−ブを
提供することができる。
【図１】この発明の排ガスサンプリング装置の構成を示
す配置図である。
す配置図である。
【図２】従来の排ガスサンプリング装置の構成を示す配
置図である。
置図である。
１ 採取点稀釈プロ−ブ ２ 流量稀釈エ
アユニット １ａ プロ−ブ本体 ２ａ 管路 １ｂ サンプルガス導入部 ２ｂ 調圧弁 １ｃ フィルタ ２ｃ 抵抗管 １ｅ 枠体 ２ｄ 電磁弁 １１ プロ−ブチャンバ ２ｅ 分岐管路 １２ 稀釈チャンバ ２ｆ 電磁弁 ３ 定流量サンプリングユニット ４ 制御装置 ３ａ 管路 ５ スパンガ
ス供給ライン ３ｂ フィルタ ５ａ 管路 ３ｃ ポンプ ５ｂ 電磁弁 ３ｄ 調圧弁 １０ ブロ−バ
ックライン ３ｅ 抵抗管
アユニット １ａ プロ−ブ本体 ２ａ 管路 １ｂ サンプルガス導入部 ２ｂ 調圧弁 １ｃ フィルタ ２ｃ 抵抗管 １ｅ 枠体 ２ｄ 電磁弁 １１ プロ−ブチャンバ ２ｅ 分岐管路 １２ 稀釈チャンバ ２ｆ 電磁弁 ３ 定流量サンプリングユニット ４ 制御装置 ３ａ 管路 ５ スパンガ
ス供給ライン ３ｂ フィルタ ５ａ 管路 ３ｃ ポンプ ５ｂ 電磁弁 ３ｄ 調圧弁 １０ ブロ−バ
ックライン ３ｅ 抵抗管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 雅彦 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 清水 直仁 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 本体の先端部にサンプルガス導入部を設
け内部にフィルタを充填すると共に該フィルタの前部に
プロ−ブチャンバを後部に稀釈チャンバをそれぞれ形成
した採取点稀釈プロ−ブと、 先端部を前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに
開口配置し途中に接続した分岐管路の先端部を稀釈チャ
ンバに開口配置した管路と該管路に配置される調圧弁と
抵抗管と電磁弁と前記調圧弁と抵抗管の間に接続され端
部を前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに開口
配置し且つ途中に電磁弁を配置したブロ−バックライン
とで構成される定流量稀釈エアユニットと、 前記採取点稀釈プロ−ブの稀釈チャンバ内に端部を配置
した管路とフィルタと吸引用ポンプと調圧弁と抵抗管と
で構成される定流量サンプリングユニットと、 前記定流量稀釈エアユニットの電磁弁とブロ−バックラ
インの電磁弁及び前記定流量サンプリングユニットのポ
ンプとを制御する制御装置と、 を具備することを特徴とする排ガスサンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07345246A JP3076748B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 排ガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07345246A JP3076748B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 排ガスサンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09159586A true JPH09159586A (ja) | 1997-06-20 |
| JP3076748B2 JP3076748B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=18375299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07345246A Expired - Fee Related JP3076748B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | 排ガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3076748B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7243559B2 (en) * | 2001-07-10 | 2007-07-17 | Caterpillar Inc. | Exhaust gas particulate measuring system |
| JP2010085412A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Avl List Gmbh | 分析すべきガスを希釈ガスで希釈する装置 |
| JP2014215117A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-11-17 | 日本特殊陶業株式会社 | 微粒子測定装置 |
| CN105571909A (zh) * | 2014-10-28 | 2016-05-11 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种呼出气采集稳压流速控制装置及应用 |
| CN113776917A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-12-10 | 江苏优尔孚机电技术有限公司 | 一种集成式样气助抽稀释模块及其工作方法 |
-
1995
- 1995-12-06 JP JP07345246A patent/JP3076748B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7243559B2 (en) * | 2001-07-10 | 2007-07-17 | Caterpillar Inc. | Exhaust gas particulate measuring system |
| JP2010085412A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Avl List Gmbh | 分析すべきガスを希釈ガスで希釈する装置 |
| JP2014215117A (ja) * | 2013-04-24 | 2014-11-17 | 日本特殊陶業株式会社 | 微粒子測定装置 |
| CN105571909A (zh) * | 2014-10-28 | 2016-05-11 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种呼出气采集稳压流速控制装置及应用 |
| CN113776917A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-12-10 | 江苏优尔孚机电技术有限公司 | 一种集成式样气助抽稀释模块及其工作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3076748B2 (ja) | 2000-08-14 |
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