JPH09162147A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 設備コストを安価に抑えた上で、上手側処理
槽から下手側処理槽への基板の移行時に、処理液が完全
に乾燥してしまわない状態で必要かつ充分に液切りを行
い得るようにする。 【解決手段】 上手側処理槽２と下手側処理槽３との間
に設けられた仕切壁１３と、この仕切壁１３に設けられ
た基板Ｂを通す開口部１４と、この開口部１４を通して
基板Ｂを略水平姿勢で上記上手側処理槽２から下手側処
理槽３に搬送するローラ１５とが備えられ、上記開口部
１４には、基板Ｂの搬送方向に直交した方向に延び、か
つ、基板Ｂの処理液の供給された面に気体を吹きつける
エアーナイフ部４０が設けられ、このエアーナイフ部４
０は、上手側エアーナイフ４１と下手側エアーナイフ４
２とを有し、各エアーナイフ４１，４２のノズル４１
ｃ，４２ｃを先端側が互いに接近する方向に向けて傾斜
させている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、略水平方向に搬送
される基板に処理液を供給する複数の処理槽が連設され
てなる基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶や半導体等の基板は、複数の処理槽
が連設された処理槽内に、コンベヤベルトやローラ等の
搬送手段によって略水平姿勢で順番に搬送され、各処理
槽内で各種の処理液が供給されることによって所定の処
理が施される。上記処理液は、例えば、現像液、洗浄
液、エッチング液、剥離液、純水など性状の異なる液が
用いられ、各処理槽では異なった処理液が供給される。
上記各処理槽間には基板を通す開口部を備えた仕切壁が
設けられ、上記開口部によって処理槽間の基板の搬送を
可能にしているとともに、仕切壁によって隣接した処理
槽の処理液が混ざり合わないようにしている。

【０００３】しかしながら、上手側処理槽において処理
液を供給された基板が開口部を通って下手側処理槽に搬
送されると、下手側処理槽に移行した基板には上手側の
処理液が付着しているため、下手側処理槽において基板
上で上手側の処理液と下手側の処理液とが相互に混ざり
合い、下手側の処理液の性状が変化して基板が処理不良
になるという不都合が生じる。特に上手側処理液に薬液
を用いている場合は、下手側処理層の処理液が上手側処
理液に混入すると、性状変化が大きく、処理品質が大き
く劣化する。

【０００４】このような不都合を回避する対策の採用さ
れた基板処理装置として、上手側処理槽の出口部分に基
板の表裏面に対向したエアーナイフを設けるとともに、
下手側処理槽の入口部分にも同様のエアーナイフを設
け、これらエアーナイフからの基板表裏面への気体の吐
出によって上手側の処理液が下手側処理槽に移行しない
ようにした液切り装置や、上手側および下手側の処理槽
の出口部分および入口部分に基板の表裏を横断するよう
に液切りローラを設け、この液切りローラによる液切り
によって上手側および下手側の処理液が混ざり合わない
ようにした液切り装置が知られている。さらにこれら以
外に、各処理槽での処理液供給が完了した時点で基板の
搬送を一旦停止し、基板を傾斜させて液切りを行うよう
にしたものが知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記上手側
処理槽および下手側処理槽の双方の内部にエアーナイフ
が設けられているものは、エアーナイフ間の距離が大き
くなり、かつエアーーの供給量が過剰になり易く、基板
が乾燥して表裏に斑点状あるいは帯状のムラが生じる可
能性があり、このムラに付着したパーティクルが乾燥に
よって基板の表面に固着し、除去が困難な状態になると
いう問題点を有していた。そこで、基板を半乾き状態に
すればよいが、この調節は非常に困難であった。

【０００６】また、上記液切りローラを設けるものにあ
っては、液切りローラ間の隙間調整が難しく、基板とロ
ーラとの間隔が狭すぎると、ローラに付着した空気中の
浮遊物が基板表面に転写され、逆に基板とローラとの間
隔が広すぎると、基板の液切りが不十分になるという問
題点を有していた。

【０００７】また、上記基板を傾斜させて液切りを行う
ようにしたものにあっては、処理槽内の搬送経路中に基
板を傾斜させるための機構が必要になり、装置が複雑に
なって設備コストが嵩むとともに、基板の傾斜と元の水
平姿勢への復元とに時間を要し、基板の処理効率が低下
するという問題点を有していた。

【０００８】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、小型で簡易な構成でもっ
て、上手側処理槽から下手側処理槽への基板の移行時
に、処理液が完全に乾燥してしまわない状態で必要かつ
充分に液切りを行うことが可能な基板処理装置を提供す
ることを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基板を通過させる開口部を備えた仕切壁を介して形成さ
れ、それぞれ異なる処理液を供給する上手側処理槽およ
び下手側処理槽と、上記開口部を通して上手側処理槽か
ら下手側処理槽に基板を搬送する搬送手段と、上記開口
部で処理液を液切りすべく基板に気体を吹き付ける気体
供給手段とを備えてなる基板処理装置において、上記気
体供給手段は、仕切壁の上手側と下手側とにそれぞれ上
記開口部に臨むように向けられ、かつ、基板に対し上手
側吐出位置と下手側吐出位置とに向かって気体を吐出す
るように設けられた上手側ノズルと下手側ノズルとを有
し、上記上手側吐出位置と下手側吐出位置とが略一致す
るように上記上手側ノズルと下手側ノズルとが配置設定
されていることを特徴とするものである。

【００１０】この発明によれば、搬送手段によって水平
姿勢で上手側処理槽に導入された基板に処理液が供給さ
れ、この処理液によって所定の処理が施されたのち、仕
切壁に設けられた開口部を通って下手側処理槽に送り込
まれ、ここで上記上手側処理液とは異なった種類の処理
液が供給され、この処理液で所定の処理が施される。

【００１１】そして、基板が開口部を通過するに際し、
基板には上手側ノズルから上手側吐出位置に向かって、
また下手側ノズルから下手側吐出位置に向かって気体が
吐出され、しかも両吐出位置は略一致するように設定さ
れているため、開口部に位置した基板の上部には、上手
側ノズルから吹き出された気体と、下手側ノズルから吹
き出された気体とが衝突して乱流が形成され、この乱流
の形成された部分は上手側および下手側の処理槽内より
も高圧になっているとともに、乱流形成部分から上手側
および下手側の処理槽内に向かった気流が発生する。

【００１２】そして、この気流によって基板の処理液被
供給面に存在する処理液が吹き飛ばされ、これによって
開口部に位置した基板に上手側処理槽の処理液と、下手
側処理槽の処理液とが相互に混ざり合わない境界域が形
成される。この境界域の存在によって、上手側処理槽か
ら下手側処理槽に送り込まれる基板に残留した上手側処
理槽の処理液が下手側処理槽内に混入されることはな
く、両処理液の混合による基板処理に対する悪影響が回
避される。同様に下手側処理層の処理液が上手側処理層
に混入することもない。

【００１３】しかも、上手側気体吹出し口から吹き出さ
れた気体と、下出側吹出し口から吹き出された気体とは
基板の処理液被供給面上で相互に交差、あるいは衝突し
合うため、上記境界域の基板搬送方向の幅寸法は、従来
の上手側および下手側ノズルから互いに離間する方向に
気体を吐出するようにした境界域に比較して小さくなっ
ている。従って、境界域における基板の処理液被供給面
の完全な乾燥を抑制することができ、基板が完全に乾燥
することによるムラの発生を確実に抑制することが可能
になる。

【００１４】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、上記上手側吐出位置と下手側吐出位置とが
上記開口部の開口面上で一致していることを特徴とする
ものである。

【００１５】この発明によれば、基板上における上手側
処理槽の処理液と、下手側処理槽の処理液とが相互に混
ざり合わない境界域の基板搬送方向の幅寸法を最小にす
ることが可能になる。

【００１６】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、上記上手側ノズルと下手側ノズル
とは、それぞれ上記開口部に臨む角度が同一に設定され
ていることを特徴とするものである。

【００１７】この発明によれば、上手側ノズルおよび下
手側ノズルの仕様を同一にすることが可能になり、設備
コストの低減を図り得るようになる。

【００１８】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置１の一実施形態を示す説明図である。基板処理装置１
は、複数の処理槽１１が相互に隣接するように並設され
て形成されている。各処理槽１１は、上部に基板Ｂを処
理する直方体形状の基板処理室１２を有している。各基
板処理室１２は仕切壁１３を挟んで互いに形成され、こ
の仕切壁１３には基板Ｂを通過させる開口部１４が形成
されている。基板Ｂは、これらの開口部１４を通って図
１の左方の処理槽１１から右方の処理槽１１に向かって
順次搬送されるようになっている。基板処理室１２の下
部にはすり鉢形状の漏斗部１２ａが設けられ、これによ
って基板Ｂに供給された処理液が集液されるようにして
いる。

【００１９】各処理槽１１内には、基板Ｂの搬送方向に
直交した軸心を有するローラ（搬送手段）１５が設けら
れている。これらローラ１５は、基板処理室１２内で上
記開口部１４とほぼ同一の高さ位置に設定されて並設さ
れている。基板Ｂは、これらローラ１５上に載置された
状態でローラ１５の回転駆動により開口部１４を通って
上手側の処理槽１１から下手側の処理槽１１に移動する
ようになっている。以下、図１においては、中央部分の
左側の処理槽１１を上手側処理槽２、右側の処理槽１１
を下手側処理槽３と呼ぶ。

【００２０】上記上手側処理槽２は、基板処理室１２内
のローラ１５列の上方に配設された散液管２１を有して
おり、この散液管２１からローラ１５上の基板Ｂの表面
に向けて上手側処理液Ｘが供給されるようにしている。
この上手側処理液Ｘの供給によって基板Ｂの表面に所定
の処理が施されるようになっている。基板Ｂの処理に使
用された上手側処理液Ｘは、基板Ｂの縁部から落下し、
漏斗部１２ａを介してその下部に設けられた液留タンク
２２に回収されるようになっている。

【００２１】この液留タンク２２と上記散液管２１との
間には、液留タンク２２内の上手側処理液Ｘを散液管２
１に供給する上手側処理液供給管路２３が配設されてお
り、この上手側処理液供給管路２３には、上流側から処
理液供給ポンプ２３ａおよびフィルタ２３ｂが設けら
れ、上記処理液供給ポンプ２３ａの駆動によって液留タ
ンク２２内の上手側処理液Ｘが循環使用されるようにな
っている。

【００２２】上記下手側処理槽３は、基板処理室１２内
のローラ１５列の上方に配設された散液管３１を有して
いる。この散液管３１からローラ１５上の基板Ｂの表面
に向けて下手側処理液Ｙが供給されるようにしている。
この下手側処理液Ｙの供給によって基板Ｂの表面に所定
の処理が施されるようになっている。そして、基板Ｂの
処理に使用された下手側処理液Ｙは、基板Ｂの縁部から
落下し、漏斗部１２ａを介してその下部に設けられた液
留タンク３２に回収されるようになっている。

【００２３】本実施形態においては、上手側処理液Ｘと
しては基板を処理するための現像、エッチング剥離等、
所定の薬液が用いられ、下手側処理液Ｙとしては、基板
上の上記薬液を洗浄除去するための洗浄用薬液や純水等
の洗浄水が用いられている。

【００２４】この液留タンク３２と上記散液管３１との
間には、液留タンク３２内の下手側処理液Ｙを散液管３
１に供給する下手側処理液供給管路３３が配設されてお
り、この下手側処理液供給管路３３には、上流側から処
理液供給ポンプ３３ａおよびフィルタ３３ｂが設けら
れ、上記処理液供給ポンプ３３ａの駆動によって液留タ
ンク３２内の下手側処理液Ｙが循環使用されるようにな
っている。

【００２５】上記各処理槽２，３の近傍には、開口部１
４を通過する基板Ｂの表面に気体を吹き付けるための気
体供給手段４が設けられている。この気体供給手段４
は、上記開口部１４の上縁の仕切壁１３に取り付けられ
たエアーナイフ部４０（図２参照）と、このエアーナイ
フ部４０に気体供給管路４４を通して気体を供給する気
体源４３とを有している。

【００２６】図２は、仕切壁１３の開口部１４に設けら
れたエアーナイフ部４０の一実施形態を示す一部切欠き
斜視図であり、図３はエアーナイフ部４０の横断面図で
ある。これらの図に示すように、エアーナイフ部４０
は、上手側エアーナイフ４１と下手側エアーナイフ４２
とを備えて形成されている。これらのエアーナイフ４
１，４２は、それぞれ上部に長手方向の全長に亘って中
実に形成された中実部４１ａ，４２ａ、これら中実部４
１ａ，４２ａの下部に水平方向に延びるように形成され
たエアー通路４１ｂ，４２ｂ、これらエアー通路４１
ｂ，４２ｂに連通した気体吹出し口４１ｄ，４２ｄを有
するノズル４１ｃ，４２ｃとを具備している。

【００２７】上記各エアーナイフ４１，４２は、長さ寸
法が少なくとも搬送中の基板Ｂを横断するように設定さ
れた所定厚みの直方体状の金属あるいは樹脂（ＰＶＣ
等）ブロックによって形成されている。一方、上記開口
部１４の上部に形成された仕切壁１３の下端縁部に、上
手側処理槽２内に向かって突出し、かつ、下方が開放し
た二股状の上手側ブラケット１３ａが設けられていると
ともに、同下手側処理槽内に向かって突出し、かつ、下
方が開放した二股状の下側ブラケット１３ｂが設けられ
ている。そして、各エアーナイフ４１，４２の中実部４
１ａ，４２ａがそれぞれのブラケット１３ａ，１３ｂに
嵌め込まれ、ボルト止めされた状態で固定されている。

【００２８】かかるエアーナイフ部４０がブラケット１
３ａ，１３ｂに固定された状態で、上記上手側気体吹出
し口４１ｄおよび下手側気体吹出し口４２ｄとその下部
を通過する基板Ｂとの間に若干の隙間が形成されるよう
にエアーナイフ部４０の取付位置が設定されており、こ
れによってエアーナイフ部４０と、基板Ｂとが相互に干
渉し合わないようになっている。

【００２９】そして、エアーナイフ部４０が仕切壁１３
に固定された状態で、上記上手側気体吹出し口４１ｄは
開口部１４を通過中の基板Ｂの下手側の表面に向くとと
もに、下手側気体吹出し口４２ｄは同基板Ｂの上手側の
表面に向くように方向設定され、上手側エアーナイフ４
１からは基板Ｂの表面の上手側吐出位置に、下手側エア
ーナイフ４２からは同下手側吐出位置に向けて気体供給
手段４から供給された気体が吐出されるようになってい
る。

【００３０】本実施形態においては、図３に示すよう
に、上手側ノズル４１ｃの気体吹出し方向に延びるノズ
ル中心線Ｓ１と基板Ｂの表面との間に形成される角度α
は、下手側ノズル４２ｃのノズル中心線Ｓ２と基板Ｂの
表面との間に形成される角度βよりも小さく設定され
（すなわちα＜β）、これによって上手側エアーナイフ
４１からの気流による下手側処理液層Ｙ１に対する押圧
力を、下手側エアーナイフ４２からの気流による上手側
処理液層Ｘ１に対する押圧力よりも大きくし、特に下手
側処理液Ｙ１が上手側処理槽２内に入り込むのを防止す
るようになっている。

【００３１】また、本実施形態においては、上手側ノズ
ル中心線Ｓ１と、下手側ノズル中心線Ｓ２とが基板Ｂの
表面であって、かつ、開口部１４の開口面上で互いに交
わるように、すなわち上手側吐出位置と下手側吐出位置
とが開口部１４の開口面上で一致するように各ノズル４
１ｃ，４２ｃの角度設定がなされ、これによって基板Ｂ
の表面に各処理液層Ｘ１，Ｙ１が存在しない境界域Ｒの
幅寸法ｄを小さくなるようにしている。

【００３２】一方、基板処理装置１の近傍には、図１お
よび図２に示すように、エアーナイフ部４０に高圧気体
を供給する気体源４３が配設されている。本実施形態で
は、気体源４３は高圧窒素ボンベが適用され、このボン
ベから各エアーナイフ４１，４２に高圧窒素ガスが供給
されるようになっている。具体的には、上記気体源４３
には気体供給管路４４が接続され、この気体供給管路４
４は下流端で上手側支管４４ａと下手側支管４４ｂとの
分岐されている。

【００３３】そして、上手側支管４４ａは、その下流端
が上手側開閉弁４５ａを介して上手側エアーナイフ４１
に接続されているとともに、下手側支管４４ｂは、その
下流端が下手側開閉弁４５ｂを介して下手側エアーナイ
フ４２に接続されている。従って、各開閉弁４５ａ，４
５ｂの開度を調節することによって各エアーナイフ４
１，４２から吐出される気体の吐出量を変更することが
可能になっている。

【００３４】本実施形態においては、上手側開閉弁４５
ａの開度を、下手側開閉弁４５ｂの開度よりも大きくし
ており、これによって上手側エアーナイフ４１からの気
体吐出量を下手側エアーナイフ４２からの気体吐出量よ
りも大きくし、下手側処理液Ｙの上手側処理槽２内への
混入を確実に防止するようにしている。かかる開閉操作
を行うことによって気体源４３からの高圧気体が気体供
給管路４４を通って各エアーナイフ４１，４２のエアー
通路４１ｂ，４２ｂに調整供給されるようにしている。

【００３５】上記構成の基板処理装置１によれば、ロー
ラ１５の駆動回転によって上手側処理槽２から下手側処
理槽３に搬送される基板Ｂは、仕切壁１３の開口部１４
を通過するに際し、その上面部はエアーナイフ部４０の
上手側気体吹出し口４１ｄからの気体の噴射を受けると
ともに、下手側気体吹出し口４２ｄからの気体の噴射を
受け、これによって基板Ｂの表面には仕切壁１３の直下
に、各エアーナイフ４１，４２からの気流と、下手側気
体吹出し口４２ｄからの気流の衝突による乱流域が形成
される。

【００３６】そして、基板Ｂの表面に形成された上手側
処理液層Ｘ１は、上記乱流からの上流側に向かう気流に
よって基板Ｂの表面を上流側に押し遣られた状態になる
ため、開口部１４を通過する基板Ｂの表面は上手側処理
液層Ｘ１が取り除かれた状態になる。また、散液ノズル
３１ａから基板Ｂの表面に供給された下手側処理液Ｙに
よる下手側処理液層Ｙ１は、上記乱流からの下流側に向
かう気流によって押圧され、下手側処理液層Ｙ１が上流
側に向かうことが阻止される。従って、基板Ｂ上におい
て上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙとが相互に混合し合
うことはない。

【００３７】しかも、上手側ノズル４１ｃと下手側ノズ
ル４２ｃとは、それらの先端が互いに接近するように傾
斜されているため、各気体吹出し口４１ｄ，４２ｄから
吐出された気体による基板Ｂ表面の境界域Ｒの幅寸法ｄ
は狭くなり、この部分での完全乾燥が確実に防止され
る。そして、基板Ｂの表面に上手側ノズル中心線Ｓ１と
下手側ノズル中心線Ｓ２との交差点を設定することによ
り、上記幅寸法ｄを最小にすることが可能になる。

【００３８】図４は、本発明の作用を説明するために図
１の要部を拡大した部分拡大説明図であり、（イ）は、
基板Ｂが開口部１４に到達する直前の状態、（ロ）は、
基板Ｂの下流端（右方）が開口部１４に到達した状態、
（ハ）は、基板Ｂが開口部１４を通過しつつある状態、
（ニ）は、基板Ｂが開口部１４を通過し、その上流端が
散液ノズル３１ａの下流側に搬送された状態をそれぞれ
示している。

【００３９】まず図４の（イ）に示すように、上手側処
理槽２にある基板Ｂが仕切壁１３の開口部１４に到達す
る直前においては、上手側処理槽２の散液管２１からの
上手側処理液Ｘの供給によって基板Ｂの表面全面には上
手側処理液層Ｘ１が形成された状態になっている。ま
た、下手側処理槽３の散液管３１から供給された下手側
処理液Ｙは、下部に基板Ｂがないためそのまま下手側処
理槽３の漏斗部１２ａに流下した状態になっている。さ
らに、エアーナイフ部４０の各気体吹出し口４１ｄ，４
２ｄから供給された気体は、矢印で示すように下部で互
いに交差した状態になっている。

【００４０】つぎに、図４の（ロ）に示す状態では、基
板Ｂの下流側の端部が開口部１４に到達し、一部が開口
部１４を通り越した状態になっている。この状態では、
エアーナイフ部４０の各エアーナイフ４１，４２から供
給された気体は基板Ｂの表面に先窄みで供給され、これ
によって基板Ｂの表面に形成されている上手側処理液層
Ｘ１は上流側（左方）に押し遣られた状態になる。

【００４１】つぎに、図４の（ハ）に示す状態では、基
板Ｂはその下流側が下手側処理槽３に相当長さ進入し、
下手側処理槽３の散液管３１からの下手側処理液Ｙが基
板Ｂの表面に供給される状態になっている。この状態で
は、各気体吹出し口４１ｄ，４２ｄから噴出し、交差す
ることによって形成された乱気流によって上手側処理液
層Ｘ１の下流側への進行が阻まれるとともに、下手側気
体吹出し口４２ｄから噴出した気体の気流によって下手
側処理液Ｙの上流側への進入が阻止され、これによって
エアーナイフ部４０の直下の基板Ｂ上には上手側処理液
Ｘと下手側処理液Ｙとが相互に混ざり合わない帯状の境
界域Ｒ（図２、図３）が形成された状態になっている。
この状態で基板Ｂの散液管３１より下流側に下手側処理
液層Ｙ１が順次形成されていく。

【００４２】そして、図４の（ニ）に示す状態では、基
板Ｂの上流端は下手側処理槽３の散液管３１からの下手
側処理液Ｙの吐出流の下側を通過し、これによって基板
Ｂの表面全面に下手側処理液層Ｙ１が形成された状態に
なっている。

【００４３】本実施形態の基板処理装置１は、以上詳述
したように、上手側処理槽２と下手側処理槽３とを仕切
る仕切壁１３に穿設された開口部１４の上縁部にエアー
ナイフ部４０が設けられ、開口部１４に搬送されてきた
基板Ｂを横断するように上手側気体吹出し口４１ｄおよ
び下手側気体吹出し口４２ｄから帯状の気流を先窄みで
噴出するようにしたものであるため、基板Ｂが開口部１
４を通過するに際し、上記上手側気体吹出し口４１ｄお
よび下手側気体吹出し口４２ｄからの上流側および下流
側に向かう気流によってエアーナイフ部４０の直下の基
板Ｂ上には上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙとが相互に
混ざり合わない境界域Ｒが形成される。

【００４４】従って、仕切壁１３の開口部１４を通過す
るに際し、基板Ｂの表面で上手側処理液Ｘと下手側処理
液Ｙとが相互に混ざり合うことが確実に防止されるとと
もに、境界域Ｒの幅寸法ｄ（図３）も従来に比べて非常
に小さくなっているため、基板Ｂの表面に散液管３１か
らの下手側処理液Ｙの散液が行われるまでの間で基板Ｂ
の表面が完全に乾燥することによるムラの発生が確実に
抑制されるとともに、完全な乾燥による浮遊ミストの基
板Ｂ表面への固着が確実に抑制される。

【００４５】本発明は、上記の実施形態のに限定される
ものではなく、下の実施形態をも採用し得るものであ
る。 （１）上記実施形態では、エアーナイフ部４０は、仕切
壁１３に穿設された開口部１４の上縁部にのみ設けられ
ているが、開口部１４の下縁部にも設けるようにし、下
縁部に設けたエアーナイフによって基板Ｂの裏面にも気
体を噴射するようにしてもよい。こうすることによっ
て、基板Ｂの裏面に上手側処理液Ｘが付着していても、
上手側処理液Ｘへの下手側処理液Ｙの混入が確実に抑制
される。

【００４６】（２）上記実施形態では、エアーナイフ部
４０から吹き出される気体に窒素が適用されているが、
本発明は、エアーナイフ部４０から噴出される気体が窒
素であることに限定されるものではなく、基板Ｂを処理
する処理液の種類によっては空気を用いてもよいし、そ
の他の不活性ガスを用いてもよい。また、場合によって
は水素等の還元性ガスを用いてもよい。

【００４７】（３）上記実施形態では、エアーナイフ部
４０の各気体吹出し口４１ｄ，４２ｄは、基板Ｂの搬送
方向に直交した方向（長手方向）に延びるスリット状の
開口によって形成されているが、各気体吹出し口４１
ｄ，４２ｄをスリット状にする代わりに、スポット状に
形成した気体吹出し口を長手方向に多数並設し、各スポ
ット条の気体吹出し口の基板Ｂでの吐出域が相互に重複
するように各気体吹出し口間の間隔設定を行うようにし
てもよい。

【００４８】（４）上記実施形態では、基板Ｂを搬送す
る搬送手段として駆動回転するローラ１５が用いられて
いるが、本発明は、搬送手段がローラ１５に限定される
ものではなく、コンベヤベルトを用いてもよい。この場
合、エアーナイフ部４０は、基板Ｂの上面側にのみ設け
られる。

【００４９】（５）上記実施形態では、基板Ｂに供給さ
れる処理液Ｘ，Ｙは、循環使用されるようにしている
が、本発明は、処理液Ｘ，Ｙが循環使用されることに限
定されるものではなく、基板Ｂに供給されたのち系外に
排出するようにしてもよい。

【００５０】（６）上記の実施形態では、上手側処理液
Ｘとしては基板を処理するための所定の薬液が用いら
れ、下手側処理液Ｙとしては、基板上の上記薬液を洗浄
除去するための洗浄水が用いられているが、本発明は、
上手側処理液Ｘとして薬液を用い、下手側処理液Ｙとし
て洗浄水を用いる場合にのみ適用されるものではなく、
上手側処理液Ｘとして洗浄水を用い、下手側処理液Ｙと
して薬液を用いる場合にも適用することができるし、さ
らに処理液の一方が洗浄水であることに限定されるもの
ではなく、双方ともに薬液あるいは洗浄液であってもよ
い。

【００５１】（７）上記の実施形態では、開口部１４に
おける基板Ｂ表面の上手側吐出位置と、下手側吐出位置
とを一致させているが、本発明は両吐出位置が一致して
いることに限定されるものではなく、上手側吐出位置と
下手側吐出位置とが若干離間または交差していてもよ
い。

【００５２】（８）上記の実施形態では、上手側ノズル
中心線Ｓ１の傾斜角度αと、下手側ノズル中心線Ｓ２の
傾斜角度βとは異ならせているが、両ノズル中心線Ｓ
１，Ｓ２の傾斜角度α，βを同一にしてもよい。こうす
ることによって、上手側エアーナイフ４１と下手側エア
ーナイフ４２とを同一仕様にすることが可能になり、こ
れによってエアーナイフ４１，４２が共用できるので、
製造コストを低減することが可能になる。

【００５３】

【発明の効果】上記請求項１記載の発明によれば、気体
供給手段は、仕切壁の上手側と下手側とにそれぞれ上記
開口部に臨むように向けられ、かつ、基板に対し上手側
吐出位置と下手側吐出位置とに向かって気体を吐出する
ように設けられた上手側ノズルと下手側ノズルとを有
し、上手側吐出位置と下手側吐出位置とが略一致するよ
うに上記上手側ノズルと下手側ノズルとが配置設定され
ているため、基板が開口部を通過するに際し、基板には
上手側ノズルから上手側吐出位置に向かって、また下手
側ノズルから下手側吐出位置に向かって気体が吐出され
る。そして、開口部に位置した基板の上部には、上手側
ノズルから吹き出された気体と、下手側ノズルから吹き
出された気体とが衝突して乱流が形成され、この乱流の
形成された部分は上手側および下手側の処理槽内よりも
高圧になっているとともに、乱流形成部分から上手側お
よび下手側の処理槽内に向かった気流が発生する。

【００５４】そして、この気流によって基板の処理液被
供給面に存在する処理液が吹き飛ばされ、これによって
開口部に位置した基板に上手側処理槽の処理液と、下手
側処理槽の処理液とが相互に混ざり合わない境界域が形
成される。この境界域の存在によって、上手側処理槽か
ら下手側処理槽に送り込まれる基板に残留して上手側処
理槽の処理液が下手側処理槽内に混入されることはな
く、またその逆も防止できるので、両処理液の混合によ
る基板処理に対する悪影響が回避される。

【００５５】しかも、上手側気体吹出し口から吹き出さ
れた気体と、下出側吹出し口から吹き出された気体とは
基板の処理液被供給面上で相互に交差、あるいは衝突し
合うため、上記境界域の基板搬送方向の幅寸法は、従来
の上手側および下手側ノズルから互いに離間する方向に
気体を吐出するようにした境界域に比較して小さくなっ
ている。従って、境界域における基板の処理液被供給面
の完全な乾燥を抑制することができ、基板が完全に乾燥
することによるムラの発生を確実に抑制することが可能
になり、完全な乾燥による浮遊ミストの基板表面への固
着が確実に抑制される。

【００５６】上記請求項２記載の発明によれば、上手側
吐出位置と下手側吐出位置とが開口部の開口面上で一致
しているため、上記境界域の基板搬送方向の幅寸法を最
小にすることが可能になる。

【００５７】上記請求項３記載の発明によれば、上手側
ノズルと下手側ノズルとは、それぞれ上記開口部に臨む
角度が同一に設定されているため、上手側ノズルおよび
下手側ノズルの仕様を同一にすることが可能になり、ノ
ズルの共用が可能となるので、設備コストの低減を図る
ことが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す
説明図である。

【図２】仕切壁の開口部に設けられたエアーナイフ部の
一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。

【図３】図２に示すエアーナイフ部の部分拡大断面図で
ある。

【図４】本発明の作用を説明するために図１の要部を拡
大した部分拡大説明図であり、（イ）は、基板が開口部
に到達する直前の状態、（ロ）は、基板の下流端（右
方）が開口部に到達した状態、（ハ）は、基板が開口部
を通過しつつある状態、（ニ）は、基板が開口部を通過
し、その上流端が散液ノズルの下流側に搬送された状態
をそれぞれ示している。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 １１ 処理槽 １２ 基板処理室 １３ 仕切壁 １４ 開口部 １３ａ 上手側ブラケット １３ｂ 下手側ブラケット １５ ローラ（搬送手段） ２ 上手側処理槽 ２１ 散液管（処理液供給手段） ２２ 液留タンク ２３ 上手側処理液供給管路 ２３ａ 処理液供給ポンプ ２３ｂ フィルタ ３ 上手側処理槽 ３１ 散液管（処理液供給手段） ３２ 液留タンク ３３ 下手側処理液供給管路 ３３ａ 処理液供給ポンプ ３３ｂ フィルタ ４ 気体供給手段 ４０ エアーナイフ部 ４１ 上手側エアーナイフ ４２ 下手側エアーナイフ ４３ 気体源 ４４ 気体供給管路 Ｒ 境界域 Ｘ 上手側処理液 Ｘ１ 上手側処理液層 Ｙ 下手側処理液 Ｙ１ 下手側処理液層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を通過させる開口部を備えた仕切壁
   を介して形成され、それぞれ異なる処理液を供給する上
   手側処理槽および下手側処理槽と、上記開口部を通して
   上手側処理槽から下手側処理槽に基板を搬送する搬送手
   段と、上記開口部で処理液を液切りすべく基板に気体を
   吹き付ける気体供給手段とを備えてなる基板処理装置に
   おいて、 上記気体供給手段は、仕切壁の上手側と下手側とにそれ
   ぞれ上記開口部に臨むように向けられ、かつ、基板に対
   し上手側吐出位置と下手側吐出位置とに向かって気体を
   吐出するように設けられた上手側ノズルと下手側ノズル
   とを有し、 上記上手側吐出位置と下手側吐出位置とが略一致するよ
   うに上記上手側ノズルと下手側ノズルとが配置設定され
   ていることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 上記上手側吐出位置と下手側吐出位置と
   が上記開口部の開口面上で一致していることを特徴とす
   る請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 上記上手側ノズルと下手側ノズルとは、
   それぞれ上記開口部に臨む角度が同一に設定されている
   ことを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装
   置。