JPH09162152A

JPH09162152A - 万能型洗浄装置

Info

Publication number: JPH09162152A
Application number: JP32475795A
Authority: JP
Inventors: Masaki Kusuhara; 昌樹楠原; Masayuki Tsuda; 昌之都田
Original assignee: Watanabe Shoko KK; M Watanabe and Co Ltd
Current assignee: Watanabe Shoko KK; M Watanabe and Co Ltd
Priority date: 1995-12-13
Filing date: 1995-12-13
Publication date: 1997-06-20

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、回転式の万能型洗浄装置であっ
て、回転摺動部からの発塵の問題を排除した洗浄装置を
提供することを目的とする。さらには、外気と完全に遮
断した状態で洗浄及び乾燥処理を行うことが可能な洗浄
装置を提供することを目的とする。【解決手段】洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄
槽の内部に、被処理物の保持部材が回転軸に連結されて
配置され、前記被処理物を回転しながら洗浄及び／又は
乾燥する洗浄装置であって、前記回転軸が前記排出部を
貫通することを特徴とする。また、前記排出部から排出
される洗浄液の流量を調節する流量制御手段を有するこ
とを特徴とし、さらには、前記排出部から排出される洗
浄液自体により前記洗浄槽内部を外気から遮断する外気
遮断手段を設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転式の万能型洗
浄装置に係り、特に、摺動部から洗浄槽内へのごみの混
入を防止した洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体集積回路のより一層の高集
積化に伴い、半導体ウエハの表面に形成される回路パタ
ーンはより微細化・複雑化してきている。このため、微
細な異物や微量の不純物であっても、半導体ウエハに付
着していると、半導体回路の特性は劣化し、製造の歩留
まりは低下することになる。従って、半導体製造工程に
おいて、洗浄プロセスは極めて重要である。

【０００３】半導体ウエハの洗浄方法としては、洗浄槽
内で半導体基板を回転しながら洗浄液あるいは不活性ガ
スを噴射して洗浄、乾燥する洗浄方法が用いられてい
る。このための回転式洗浄装置では、基板保持部材の回
転軸が装置を貫通し、軸受けによって支持されている
が、この軸受けは洗浄槽内部に曝されるため、摺動によ
る発塵が洗浄槽内の雰囲気を汚染するという問題があ
る。また、貫通部等から外気が混入し、洗浄槽内部ひい
ては被洗浄物を汚染するというという問題もある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】かかる状況に鑑み、本
発明は、回転式の万能型洗浄装置であって、回転摺動部
からの発塵の問題を排除した洗浄装置を提供することを
目的とする。さらには、外気と遮断した状態で洗浄及び
乾燥処理を行うことが可能な洗浄装置を提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の万能型洗浄装置
は、洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄槽の内部
に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて配置さ
れ、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は乾燥す
る洗浄装置であって、前記回転軸が前記排出部を貫通す
ることを特徴とする。

【０００６】前記排出部から排出される洗浄液の流量を
調節する流量制御手段を有することを特徴とする。

【０００７】前記流量制御手段は、前記回転軸と前記排
出部との間隙を変化させて排出流量を調節することを特
徴とし、特に、少なくとも２つの異なる外径を有する前
記回転軸と、前記排出部と前記回転軸との軸方向の相対
位置を変位させる変位手段とから構成するのが好まし
い。さらには、前記の少なくとも２つの異なる外径を有
する回転軸は、その外径が所定の角度をもって変化する
部分を１又は２以上有し、前記排出部はその内径が所定
の角度をもって変化する部分を１又は２以上有する構成
とするのが好ましい。

【０００８】また、前記流量制御手段は、前記回転軸又
は排出部に凹凸、フィン又は溝を配設し、前記回転軸の
回転方向及び／又は回転速度により流量を調節すること
を特徴とする。

【０００９】また、前記回転軸に前記排出部から排出さ
れる洗浄液を受けるための容器を配設するのが好まし
く、該容器に溜まる洗浄液を前記回転軸内を通してその
下部から排出するように前記回転軸の少なくとも一部を
中空にするのが好ましい。

【００１０】本発明の万能型洗浄装置は、前記排出部か
ら排出される洗浄液自体により前記洗浄槽内部を外気か
ら遮断する外気遮断手段を設けたことを特徴とする。

【００１１】また、本発明の万能型洗浄装置は、前記保
持部材は基板収納カセットの保持部材であって、低速又
は中速回転にて洗浄を行い、高速回転により遠心力を用
いて乾燥させることが可能としたことを特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の半導体ウエハの洗浄乾燥
装置の一例を図１及び図２に示し、これを用いてを本発
明を説明する。

【００１３】図１は本発明の洗浄装置の基本概念を示す
概念図である。

【００１４】図１において、１０１は洗浄槽、１０２は
蓋、１０３は洗浄液供給管、１０４は半導体基板１０５
の回転保持部材である。１０６は排出部であって、図の
例では、洗浄槽１０１の底面の中央に配置され、下方に
いくに従い開口径が減少するテーパーを持った配管が用
いられている。この排出部１０６を回転軸１０７が貫通
し、その一方が保持部材１０４、他方が駆動用のモータ
１０９と連結されている。回転軸１０７には、排出部の
テーパーと同じ角度のテーパー部を有する大径部１１０
を有するとともに、回転軸と共に回転する洗浄液の受け
容器１０８が設けられている。

【００１５】図１に示すように、本発明の洗浄装置は、
回転軸を支持する軸受けを洗浄槽内から排除したため、
従来装置で問題となる回転軸と軸受け間等の摺動部での
発塵の問題を回避することが可能となる。また、回転軸
と排出部の間を流れる洗浄液により外部からごみ等の混
入も防止することができる。

【００１６】受け容器１０８に溜まる液は、例えば図３
に示すように、受け容器１０８に排出パイプ３０２を取
り付け、環状の排出液受け溝３０３に排液を排出する構
造としても良い。この場合、排出パイプ３０２は回転時
のバランスを考慮して複数本設けるのが好ましい。ある
いは、受け溝３０３と同様環状にしても良い。

【００１７】また、受け容器１０８に溜まる液は、例え
ば図４に説明するように、受け容器１０８を溢流する洗
浄液を受ける容器４０２をさらに設けても良い。

【００１８】さらには、図６に示すように、回転軸１０
７の内部を、受け容器１０８から下の部分で中空にし
て、容器１０８に溜まる洗浄液を排出口６０１及び中空
部６０２を通して回転軸１０７の下部から洗浄液を排出
させる構造としても良い。また、例えば回転軸１０７の
下端にバルブ６０３を設けることにより、排出量を調節
することができる。

【００１９】図２は、本発明の洗浄装置の好適な例を示
す概念図である。

【００２０】図２において、２０１は洗浄槽、２０２は
蓋、２０３は複数の洗浄液供給管、２０４は不活性ガス
供給管である。２０５はメガソニックの超音波振動子、
２０６は半導体基板加熱用の赤外線ランプ、２０７は半
導体基板２０８の回転保持部材である。また、洗浄槽２
０１には半導体基板搬送装置（不図示）が接続され、大
気に接することなく半導体基板を搬出・搬入可能な構造
となっている。

【００２１】２０９は洗浄液の排出部、２１０は図１と
同様の構造の大径部２１１を有する回転軸である。この
回転軸２１０は、回転保持部材２０７と駆動用のモータ
２１７とに連結されており、軸受け２２０で支持されて
いる。

【００２２】２１２は排出部２０９や洗浄槽２０１内を
外気から遮断する外気遮断手段であり、上面を有しその
中心が回転軸２１０に溶接された円筒体２１３、液溜り
部２１５、液面保持用排液配管２１６から構成される。
また、２１４及び２１９は、それぞれ洗浄液を交換する
際に液溜まり部２１５の洗浄液を排出するためのドレン
用バルブ及び配管である。図２の洗浄装置は、軸受け２
２０を設けた構成としているが、軸受け２２０で発生し
たごみ等は、液溜まり部２１５に溜まる洗浄液自体によ
り遮断され、洗浄槽２０１内への混入は完全に防止され
る。

【００２３】２１８は排出管２０９と回転軸と軸方向の
相対位置を変位させる変位手段であり、２２１はモータ
ー支持部材であり、これらはハウジング２２２内に収納
される。なお、洗浄液の蒸気・ミストによる汚染を防止
するために、ハウジング２２２内を乾燥Ｎ₂ガス、清浄
空気又は不活性ガス等を流すよう構成されている。

【００２４】図２の装置を用いて、フッ酸、超純水リン
ス、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）洗浄、乾燥工程
からなる半導体基板の洗浄方法を説明する。

【００２５】（ａ）フッ酸洗浄まず、不図示の搬送装置によりシリコンウエハ２０８を
保持部材２０７に設置する。

【００２６】第１の洗浄液供給管２０３からフッ酸を洗
浄槽２０１内に注ぎ、シリコンウエハを十分に覆った時
点で、保持部材２０７を低速〜中速で回転（例えば３０
〜５００ｒｐｍ）させ、超音波振動子２０５に電圧を印
加して１〜５ＭＨｚのメガソニックの超音波をウエハに
照射してウエハ洗浄を行う。メガソニックの超音波を印
加することにより、洗浄効果は一層向上し、特に例えば
トレンチ等の溝のごみ・不純物等も完全に除去すること
ができる。

【００２７】フッ酸は回転軸２１０の大径部２１１と排
出部２０９との間隙と通って下方に流れ、液溜り部２１
５から液面保持配管２１６を通って不図示の排液槽に排
出される。従って、洗浄槽２０１の内部は、回転軸２１
０の大径部２１１と排出部２０９との間隙並びに液溜ま
り部２１５に溜まる洗浄液自体によって、軸受け等で発
生するごみ等から完全に遮断されることになる。

【００２８】以上の洗浄においては、シリコンウエハに
付着した不純物やごみ等は、ウエハの回転運動、フレッ
シュな洗浄液の供給、メガソニックの超音波の作用によ
り、ウエハ表面から極めて効果的に除去され、上記の間
隙を通って外部へ排出される。

【００２９】なお、回転軸２１０の大径部２１１と排出
管２０９との間隙の大きさにより、この間隙を通って液
が排出される流量が決定されるが、供給量の１〜１０％
とするのが好ましい。通常、この間隙は１〜１０ｍｍと
されるが、液の粘度に応じて適宜決められる。

【００３０】フッ酸洗浄が終了後、Ｎ₂ガスを槽内に供
給し、変位手段２１８により回転軸２１０を上方に移動
させて排出部２０９と回転軸の大径部２１１との間隙を
大きくして、フッ酸を落下させ外部に放出する。この場
合でも、フッ酸は液溜り部２１５の部分に溜まるため、
洗浄槽２０１及び排出管２０９の内部にごみ等が入り込
むことはない。

【００３１】（ｂ）超純水リンス洗浄続いて、超純水供給管から超純水を槽内に供給して、フ
ッ酸洗浄と同様にして超純水リンス洗浄を行う。

【００３２】（ｃ）ＩＰＡ洗浄及び乾燥ＩＰＡ供給管からＩＰＡを槽内に供給して、フッ酸洗浄
と同様にして洗浄を行う。その後、Ｎ₂ガスを供給しな
がら赤外線ランプ２０６でウエハ２０８を加熱しながら
高速回転（１０００〜３６００ｒｐｍ）させ、ウエハに
付着するＩＰＡを除去し乾燥させる。この工程において
も、外部からごみの混入は防止されるため、ウエハは常
時清浄雰囲気内に保持される。従って、高清浄なウエハ
表面が保たれ、高い製造歩留まりを安定して得ることが
可能となる。

【００３３】なお、フッ酸等の無機系排液とＩＰＡ等の
有機系排液を別個の排液槽に排出する場合には、上記超
純水リンス洗浄後、排液用の配管２１６と接続した無機
系排液槽を有機系の排液槽に切り替えればよい。また、
各洗浄液を完全に分離するには、ドレン用配管２１９か
ら、液溜り部２１５に溜まった洗浄液を排出するように
すれば良い。

【００３４】また、洗浄液によっては、洗浄液を排液用
の配管２１６、ドレン用配管２１９からフィルター等を
介して供給管に戻す構造としても良い。

【００３５】（実施態様例）以上は、フッ酸洗浄、超純
水リンス、ＩＰＡ洗浄・乾燥工程を図２の装置で連続し
て行う例について述べたが、本発明の洗浄装置は、これ
らの場合に限らず、更に他の洗浄液を用いた工程を付加
することもできる。あるいは、例えばフッ酸洗浄・超純
水リンス用の装置とＩＰＡ洗浄・乾燥用の装置のように
１つの工程ごとに１つの装置を設け、これらの装置間で
基板を搬送する方法を採用しても良い。

【００３６】なお、本発明の洗浄装置は、例えば図２に
おいて回転軸又は排出部の角度を有する部分にＯリング
等を組み込み回転軸を該Ｏリングに圧接させることによ
り、排液を完全に流さないようにすることができ、一般
の洗浄槽として使用することも可能である。

【００３７】また、本発明の洗浄装置は、洗浄液に基板
を浸漬して洗浄する方法に限らず、スプレー等基板表面
に洗浄液を噴射して洗浄する場合にも同様にして適用す
ることができる。この場合も、回転軸と排出部との間隙
の洗浄液及び／又は液溜まりに溜まる洗浄液自体によ
り、同様に摺動部からのごみの侵入は防止され、また洗
浄槽内を外気と遮断することができるので、高清浄雰囲
気内での洗浄が可能となる。

【００３８】さらに、本発明においては、基板が洗浄液
に浸されていない時に、メガソニックの超音波を内在す
る洗浄液のジェット流を基板表面に吹き付けることによ
り洗浄を効果的に行うことができる。また、洗浄槽内に
紫外線ランプを配設し、基板表面に紫外線を照射して洗
浄液をラジカル活性化することにより、洗浄効果を一層
高めることができる。

【００３９】以下に、本発明の主要構成要素をより詳細
に説明する。

【００４０】流量制御手段図２に示す流量制御手段は、外径が所定の角度をもって
変化する大径部を有する回転軸と、これを軸方向に変位
させる変位手段とからなるが、本発明の流量制御手段は
これに限らず、回転軸は少なくとも２つの異なる外径を
有するものであれば良く、また、排出部もテーパー状で
なく、直管であっても良い。但し、回転軸の外径を多段
に変化させることにより、さらには連続に変化させるこ
とにより、幅広い粘性を有する種々の洗浄液に対しても
適用することができ、洗浄液選択の自由度が増大し、ま
た制御性も向上する。

【００４１】また、変位手段は回転軸自体を移動させる
代わりに洗浄槽及び排出部を移動させても良い。回転軸
あるいは洗浄槽を移動させる変位手段としては、これら
を機械的に移動させるものでも良いし、あるいは、回転
軸の一部に永久磁石を配し、その周辺に配設したコイル
に電流を流し、磁界の相互作用により移動させても良
い。

【００４２】本発明の流量制御手段としては、以上の
他、流量を調節できるものであればどの様なものでもよ
く、例えばカメラの絞りがごとく内径を連続的又は段階
的に変化させることができる部材を用い、これを排出部
あるいは洗浄槽の底面開口部等に設けても良い。

【００４３】好ましい流量制御手段の一態様としては、
図３に示すように、回転軸１０７にに螺旋状フィン３０
１を配設したものが挙げられる。これにより、回転軸の
回転速度を変化させることにより排液量を制御すること
ができ、また逆方向に回転することにより排液を強制的
に排出することができる。図３の例では、螺旋状フィン
を設けた例を示したが、これに限らず、回転軸又は排出
部に凹凸、溝等を設けてもよいし、回転速度又は回転方
向により流量を調整できるものであれば、特に螺旋状に
限る必要はない。

【００４４】また、図３の方式を用いれば、上記変位手
段等は不要となるが、併用しても良いことはいうまでも
ない。なお、図３においては、受け容器１０８に溜まる
液は、前述したように排出パイプ３０２を通って環状の
排液受け溝３０３に排出させる構造となっているが、図
４、６の構造としても良いことはいうまでもない。

【００４５】外気遮断手段図２に示した構造により軸受け周辺の外気から洗浄槽内
を遮断することができるが、この他に、例えば図４に示
すように、図２の円筒体２１３を上下に逆さまに配置
し、この円筒体４０１の内径を排出部（排出管）２０９
の外径よりも大きくし、その軸方向で円筒体が排出管２
０９と重なりを有する構成としても良い。この構成で
は、円筒体４０１に溜まる洗浄液により洗浄槽２０１内
を常に外気と遮断することができる。

【００４６】円筒体４０１から溢流する洗浄液は、洗浄
槽等に固定した容器４０２で受け、配管４０３により外
部に排出される。この場合、洗浄液が円筒体４０１の底
面を伝って軸受け２２０側に落ちるのを防ぐために、底
面に更に第２の円筒体４０４を設けるのが好ましい。

【００４７】また、円筒体４０１に溜まる洗浄液を溢流
させずに、図６に示すように、回転軸の内部を中空と
し、円筒体に溜まる洗浄液をこの中空部を通って回転軸
下部から排出させる構造としても良く、その場合回転軸
下部にバルブを設けて排出する流量を調節できる構造と
しても良い。

【００４８】洗浄槽本発明においては、洗浄槽２０１内に、保持部材２０７
を囲むようにその下端が洗浄槽の底面に固定された仕切
板を設けるのが好ましい。仕切板を設け、供給する洗浄
液の一部を溢流させて洗浄槽外部に取り出すことによ
り、比較的重いごみは、前述した排出部２０９と回転軸
２１１の間隙を通って下方に流れる洗浄液とともに外部
に放出され、軽いごみはこの仕切板を溢流する洗浄液と
ともに外部へ放出することができ、ごみの除去効果は一
層向上する。また、この仕切板からの溢流する洗浄液
は、フィルターを通した後、再び洗浄液供給管に戻すこ
とにより洗浄液の使用量を節減することができる。

【００４９】また、洗浄槽の底面は、排出部開口に向か
って下方に傾斜させるのが好ましい。これにより、ごみ
等が速やかに排出部開口に流れ、その排出がより効率的
になる。

【００５０】保持部材図２では枚葉式の洗浄乾燥装置について説明したが、本
発明の万能型洗浄装置は多数枚を一度に洗浄することも
可能である。その一例を図５に示す。図５は、６個のウ
エハカセットを配置した保持部材の（ａ）概略平面図及
び（ｂ）概略断面図である。

【００５１】保持部材は、回転軸５０１に固定された円
盤５０２とウエハ５０４を収納したウエハカセット５０
５の保持部５０３とからなる。

【００５２】図４に示すように、ウエハ収納カセット５
０５を保持部５０３に嵌着等して取り付けし、枚葉式の
場合と同様にして洗浄液を供給し、回転洗浄する。ウエ
ハ面が水平に配置されるため、回転の遠心力により高い
洗浄効果が得られる。

【００５３】なお、カセットの取り付けは、枚葉式の場
合と同様に搬送機構により、搬出入され、保持部に装着
・脱着するのが好ましい。

【００５４】加熱手段加熱手段としては、基板を赤外線ランプ等で加熱するほ
か、保持部材に電熱ヒータ等を設けて直接加熱しても良
く、あるいは加熱した不活性ガス等を基板に吹き付ける
ものでも良い。

【００５５】材質その他回転軸や槽の内壁、保持部材等、洗浄液と接する部材の
材質としては、洗浄液に侵されず、且つ不純物等を発生
しないものが用いられる。例えば、石英やステンレス等
にシリコンゴム、ポリエチレンをコートし、更にテフロ
ンをコートしたものが好適に用いられる。これらを用い
ることにより、フッ酸、Ｈ₂ＳＯ₄−Ｈ₂Ｏ₂、ＮＨ₄ＯＨ
−Ｈ₂Ｏ₂のような腐食性の高い洗浄液を用いた洗浄を行
うことも可能となる。

【００５６】また、回転軸は直接モータ等の回転駆動源
に固定して回転しても良いし、また歯車・ベルトを介し
て回転しても良い。

【００５７】

【発明の効果】請求項１の発明により、回転摺動部から
の発塵の問題を回避することが可能となる。また、請求
項２〜６の発明により、洗浄工程中における、外部から
ごみ・不純物の混入防止効果は一層向上し、集積回路の
より高集積化・高性能化が可能となるとともに、製造歩
留まりを向上させることが可能となる。

【００５８】請求項７、８の発明により、排出される洗
浄液の管理が容易となり、また装置の小型化が達成可能
となる。

【００５９】請求項９の発明により、洗浄工程中に被洗
浄物の表面は外気の影響を受けることなく、清浄な表面
を維持することが可能となる。その結果、集積回路のよ
り高性能化が達成可能となる。

【００６０】さらに、請求項１０の発明により、一度に
多数の基板等を処理することが可能となり、生産効率、
洗浄液使用量の削減等製造コストの低減を図ることがで
きる。

【００６１】本発明は、半導体基板やフォトマスク等に
限らず、あらゆる精密洗浄に適用可能であり、例えば大
気と接触すると酸化してしまうような金属の洗浄等にも
好適に適用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄装置の概念を説明する概念図であ
る。

【図２】本発明の洗浄装置の一例を示す概念図である。

【図３】本発明の洗浄装置の他の例を示す概念図であ
る。

【図４】本発明の外気遮断手段の他の例を示す概念図で
ある。

【図５】本発明の保持部材の一例を示す概念図である。

【図６】本発明の洗浄装置の他の例を示す概念図であ
る。

【符号の説明】

１０１洗浄槽、１０２蓋、１０３洗浄液供給管、１０４回転保持部材、１０５半導体基板、１０６排出部（排出管）、１０７回転軸、１０８排出液の受け容器、１０９モータ、１１０回転軸の大径部、２０１洗浄槽、２０２蓋、２０３複数の洗浄液供給管、２０４不活性ガス供給管、２０５メガソニックの超音波振動子、２０６半導体基板加熱用の赤外線ランプ、２０７回転保持部材、２０８半導体基板、２０９排出部、２１０回転軸、２１１大径部、２１２外気遮断手段、２１３円筒体、２１４ドレン用バルブ、２１５液溜まり部、２１６液面保持配管、２１７モータ、２１８変位手段、２１９ドレン用配管、２２０軸受け、２２１モータ支持体、２２２ハウジング、３０１螺旋状フィン、３０２排出パイプ、３０３環状排液受け溝、４０１円筒体、４０２容器、４０３配管、４０４こぼれ落ち防止円筒体、５０１回転軸、５０２円盤、５０３カセット保持部、５０４ウエハ、５０５ウエハカセット６０１排出口、６０２中空部、６０３バルブ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄液の供給部及び排出部を有する洗浄
槽の内部に、被洗浄物の保持部材が回転軸に連結されて
配置され、前記被洗浄物を回転しながら洗浄及び／又は
乾燥する洗浄装置であって、前記回転軸が前記排出部を
貫通することを特徴とする万能型洗浄装置。
【請求項２】前記排出部から排出される洗浄液の流量
を調節する流量制御手段を有することを特徴とする請求
項１に記載の万能型洗浄装置。
【請求項３】前記流量制御手段は、前記回転軸と前記
排出部との間隙を変化させて排出流量を調節することを
特徴とする請求項２に記載の万能型洗浄装置。
【請求項４】前記流量制御手段は、少なくとも２つの
異なる外径を有する前記回転軸と、前記排出部と前記回
転軸との軸方向の相対位置を変位させる変位手段とから
なることを特徴とする請求項３に記載の万能型洗浄装
置。
【請求項５】前記少なくとも２つの異なる外径を有す
る回転軸は、その外径が所定の角度をもって変化する部
分を１又は２以上有し、前記排出部はその内径が所定の
角度をもって変化する部分を１又は２以上有することを
特徴とする請求項４に記載の万能型洗浄装置。
【請求項６】前記流量制御手段は、前記回転軸又は排
出部に凹凸、フィン、又は溝を配設し、前記回転軸の回
転方向及び／又は回転速度により流量を調節することを
特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の万能型
洗浄装置。
【請求項７】前記回転軸に前記排出部から排出される
洗浄液を受けるための容器を配設したことを特徴とする
請求項１〜６のいずれか１項に記載の万能型洗浄装置。
【請求項８】前記容器に溜まる洗浄液を前記回転軸内
を通してその下部から排出するように前記回転軸の少な
くとも一部を中空にしたことを特徴とする請求項７に記
載の万能型洗浄装置。
【請求項９】前記排出部から排出される洗浄液自体に
より前記洗浄槽内部を外気から遮断する外気遮断手段を
設けたことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に
記載の万能型洗浄装置。
【請求項１０】前記保持部材は基板収納カセットの保
持部材であって、低速又は中速回転にて洗浄を行い、高
速回転により遠心力を用いて乾燥させることが可能とし
たことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載
の万能型洗浄装置。