JPH0916470A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH0916470A JPH0916470A JP7167604A JP16760495A JPH0916470A JP H0916470 A JPH0916470 A JP H0916470A JP 7167604 A JP7167604 A JP 7167604A JP 16760495 A JP16760495 A JP 16760495A JP H0916470 A JPH0916470 A JP H0916470A
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- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F12/00—Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
- G06F12/02—Addressing or allocation; Relocation
- G06F12/08—Addressing or allocation; Relocation in hierarchically structured memory systems, e.g. virtual memory systems
- G06F12/0802—Addressing of a memory level in which the access to the desired data or data block requires associative addressing means, e.g. caches
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- Y02D—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES [ICT], I.E. INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES AIMING AT THE REDUCTION OF THEIR OWN ENERGY USE
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Memory System Of A Hierarchy Structure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 各メモリ間の転送動作における待機時間の削
減が可能な半導体記憶装置を提供する。 【構成】 DRAMからなるメインメモリ101におい
て、使用頻度の高いデータはSRAMであるメインキャ
ッシュ103に格納され、アクセスの高速化が図られて
いるが、一方、メインキャッシュ103に格納されたデ
ータのうち使用頻度が低くなったものは、SRAMであ
るサブキャッシュ105に格納され、メインメモリ10
1のリフレッシュ動作や転送動作の隙間を狙ってメイン
メモリ101に戻される。
減が可能な半導体記憶装置を提供する。 【構成】 DRAMからなるメインメモリ101におい
て、使用頻度の高いデータはSRAMであるメインキャ
ッシュ103に格納され、アクセスの高速化が図られて
いるが、一方、メインキャッシュ103に格納されたデ
ータのうち使用頻度が低くなったものは、SRAMであ
るサブキャッシュ105に格納され、メインメモリ10
1のリフレッシュ動作や転送動作の隙間を狙ってメイン
メモリ101に戻される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特にキャッシュシステムを有する半導体記憶装置に関す
る。
特にキャッシュシステムを有する半導体記憶装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図19は、従来のキャッシュシステム1
900の構成を示す図である。
900の構成を示す図である。
【0003】図19を参照して、従来のキャッシュシス
テム1900は、MPUに必要なデータの多くを格納す
るメインメモリ101と、それらデータの一部を格納す
るメインキャッシュ103とを含む。
テム1900は、MPUに必要なデータの多くを格納す
るメインメモリ101と、それらデータの一部を格納す
るメインキャッシュ103とを含む。
【0004】一般に、メインメモリ101にはDRAM
が使用され、メインキャッシュ103にはSRAMが使
用される。
が使用され、メインキャッシュ103にはSRAMが使
用される。
【0005】MPUはメインキャッシュ103を介して
メインメモリ101に接続されている。MPUに必要な
データの多くはメインメモリ101に格納されている
が、使用頻度の高いデータはメインキャッシュに格納さ
れている。これにより、MPUの動作速度がメインメモ
リ101へのアクセス時間に律則されることが回避され
る。すなわち、メインメモリ101を構成するDRAM
は、そのアクセス時間がMPUの動作周波数に対して遅
く、MPUが一度DRAMにアクセスすると、その後数
サイクルはDRAMからのデータの出力、もしくはDR
AMへのデータの入力が完了するまで待機しなければな
らない。一方、メインキャッシュ103を構成するSR
AMは、DRAMに比べてアクセスに必要な時間が短
い。したがって、頻繁にアクセスする必要のあるデータ
をメインキャッシュ103に格納しておけば、MPUの
動作特性を極力妨げずに、システムとしての性能を向上
させることができる。
メインメモリ101に接続されている。MPUに必要な
データの多くはメインメモリ101に格納されている
が、使用頻度の高いデータはメインキャッシュに格納さ
れている。これにより、MPUの動作速度がメインメモ
リ101へのアクセス時間に律則されることが回避され
る。すなわち、メインメモリ101を構成するDRAM
は、そのアクセス時間がMPUの動作周波数に対して遅
く、MPUが一度DRAMにアクセスすると、その後数
サイクルはDRAMからのデータの出力、もしくはDR
AMへのデータの入力が完了するまで待機しなければな
らない。一方、メインキャッシュ103を構成するSR
AMは、DRAMに比べてアクセスに必要な時間が短
い。したがって、頻繁にアクセスする必要のあるデータ
をメインキャッシュ103に格納しておけば、MPUの
動作特性を極力妨げずに、システムとしての性能を向上
させることができる。
【0006】図20は、図19のキャッシュシステム1
900を備えた従来のキャッシュチップ2000の一例
を示す図である。
900を備えた従来のキャッシュチップ2000の一例
を示す図である。
【0007】図20を参照して、従来の半導体記憶装置
2000は、従来のキャッシュシステム1900と、外
部データをチップ内に供給するデータバッファ107
と、チップセレクト信号CSをチップ内に供給するCS
バッファ109と、アドレス信号を受信するアドレスバ
ッファ111と、データのキャッシュシステム1900
に含まれているメインキャッシュ103におけるアドレ
スを記憶するアドレスCAM207と、キャッシュシス
テム1900に含まれているメインメモリ101へのア
クセスを制御する同期アービタ115と、同期アービタ
115に接続されメインメモリ101内のメモリセルを
リフレッシュするリフレッシュコントローラ211と、
リフレッシュコントローラ211を制御するクロック信
号を発生するクロック発生回路213とを含む。
2000は、従来のキャッシュシステム1900と、外
部データをチップ内に供給するデータバッファ107
と、チップセレクト信号CSをチップ内に供給するCS
バッファ109と、アドレス信号を受信するアドレスバ
ッファ111と、データのキャッシュシステム1900
に含まれているメインキャッシュ103におけるアドレ
スを記憶するアドレスCAM207と、キャッシュシス
テム1900に含まれているメインメモリ101へのア
クセスを制御する同期アービタ115と、同期アービタ
115に接続されメインメモリ101内のメモリセルを
リフレッシュするリフレッシュコントローラ211と、
リフレッシュコントローラ211を制御するクロック信
号を発生するクロック発生回路213とを含む。
【0008】メインキャッシュ103は、データを格納
しているアドレスがアドレスCAM(Content Addressa
ble Memory)207と呼ばれる連装記憶装置に格納され
ている。メインキャッシュ103と外部とはデータバッ
ファ107によりインタフェースがとられている。チッ
プセレクト信号CSの入力とともにデータバッファ10
7やアドレスバッファ111が活性化され、アドレスC
AM207が動作して、アドレスCAM207に格納さ
れているアドレスと外部から要求されたアドレスとが一
致すれば、メインキャッシュ103に格納されたデータ
のアドレスがアドレスCAM207により求められアク
セスされる。この状態をヒット(Hit)という。も
し、一致しなければ、メインメモリ101のアドレスに
直接アクセスされる。この状態をミス(Miss)と言
う。
しているアドレスがアドレスCAM(Content Addressa
ble Memory)207と呼ばれる連装記憶装置に格納され
ている。メインキャッシュ103と外部とはデータバッ
ファ107によりインタフェースがとられている。チッ
プセレクト信号CSの入力とともにデータバッファ10
7やアドレスバッファ111が活性化され、アドレスC
AM207が動作して、アドレスCAM207に格納さ
れているアドレスと外部から要求されたアドレスとが一
致すれば、メインキャッシュ103に格納されたデータ
のアドレスがアドレスCAM207により求められアク
セスされる。この状態をヒット(Hit)という。も
し、一致しなければ、メインメモリ101のアドレスに
直接アクセスされる。この状態をミス(Miss)と言
う。
【0009】ところで、メインキャッシュ103の格納
容量は限られているので、あまりアクセスしなくなった
データはメインメモリ101側に転送しなければならな
い。これは、メインキャッシュ103に格納されている
データに対応してアドレスCAM207に格納されてい
るアドレスと等しいメインメモリ101のアドレスにデ
ータを転送すればよい。このとき、メインメモリ101
への転送に関しては、メインメモリのDRAMをリフレ
ッシュするためのアドレスがリフレッシュコントローラ
211から転送されてくるので、同期アービタ115に
よりアクセスの競合を避けている。メインメモリ101
がリフレッシュされている間、メインキャッシュ103
や外部からのデータの転送、あるいはメインメモリ10
1からメインキャッシュ103や外部へのデータの転送
は待機しており、リフレッシュが終了すると上記転送作
業が開始される。
容量は限られているので、あまりアクセスしなくなった
データはメインメモリ101側に転送しなければならな
い。これは、メインキャッシュ103に格納されている
データに対応してアドレスCAM207に格納されてい
るアドレスと等しいメインメモリ101のアドレスにデ
ータを転送すればよい。このとき、メインメモリ101
への転送に関しては、メインメモリのDRAMをリフレ
ッシュするためのアドレスがリフレッシュコントローラ
211から転送されてくるので、同期アービタ115に
よりアクセスの競合を避けている。メインメモリ101
がリフレッシュされている間、メインキャッシュ103
や外部からのデータの転送、あるいはメインメモリ10
1からメインキャッシュ103や外部へのデータの転送
は待機しており、リフレッシュが終了すると上記転送作
業が開始される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記メ
インメモリ101,メインキャッシュ103,リフレッ
シュコントローラ117など各ユニット間の転送動作は
外部から入力されるクロックにより同期的に行なわれ
る。このため、各ユニット間のデータ転送が競合する
と、前動作が終了してから次動作の開始となり、この間
の待機時間が無駄になるという問題点があった。
インメモリ101,メインキャッシュ103,リフレッ
シュコントローラ117など各ユニット間の転送動作は
外部から入力されるクロックにより同期的に行なわれ
る。このため、各ユニット間のデータ転送が競合する
と、前動作が終了してから次動作の開始となり、この間
の待機時間が無駄になるという問題点があった。
【0011】本発明の半導体記憶装置は以上のような問
題点を解決するためになされたもので、データ転送やリ
フレッシュ動作の競合による待機時間のロスが少なくな
り、スムーズに要領よく転送動作を行なうことが可能な
半導体記憶装置を提供することを目的とする。
題点を解決するためになされたもので、データ転送やリ
フレッシュ動作の競合による待機時間のロスが少なくな
り、スムーズに要領よく転送動作を行なうことが可能な
半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、メインメモリとして動作するDRAMと、メ
インキャッシュとして動作する第1のSRAMと、サブ
キャッシュとして動作する第2のSRAMとを設け、第
2のSRAMに、常時、第1のSRAMからデータを受
取る第1のデータ受取手段と、受取ったデータを保持す
るデータ保持手段と、DRAMがレディ状態のときに保
持されたデータをDRAMに送出すデータ送出手段とを
設けたものである。
憶装置は、メインメモリとして動作するDRAMと、メ
インキャッシュとして動作する第1のSRAMと、サブ
キャッシュとして動作する第2のSRAMとを設け、第
2のSRAMに、常時、第1のSRAMからデータを受
取る第1のデータ受取手段と、受取ったデータを保持す
るデータ保持手段と、DRAMがレディ状態のときに保
持されたデータをDRAMに送出すデータ送出手段とを
設けたものである。
【0013】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1の半導体記憶装置において、データ保持手段に、デー
タを格納する複数のレジスタ素子からなるシフトレジス
タを設け、第1のデータ受取手段に、受取ったデータを
格納するとき複数のレジスタ素子のうちデータ送出手段
に最も近い空のレジスタ素子を格納先として選択するセ
レクタを設けたものである。
1の半導体記憶装置において、データ保持手段に、デー
タを格納する複数のレジスタ素子からなるシフトレジス
タを設け、第1のデータ受取手段に、受取ったデータを
格納するとき複数のレジスタ素子のうちデータ送出手段
に最も近い空のレジスタ素子を格納先として選択するセ
レクタを設けたものである。
【0014】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
2に係る半導体記憶装置において、セレクタは、次にデ
ータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示す。
2に係る半導体記憶装置において、セレクタは、次にデ
ータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示す。
【0015】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
1から3のいずれかの半導体記憶装置において、第1の
SRAMに、複数の選択線を設け、データのDRAMで
のアドレスをタグデータとして格納するタグメモリと、
外部アドレスとタグメモリに格納されているDRAMの
アドレスとを比較し、一致したとき第1のSRAMの選
択線のいずれかを駆動する比較選択手段とを設けたもの
である。
1から3のいずれかの半導体記憶装置において、第1の
SRAMに、複数の選択線を設け、データのDRAMで
のアドレスをタグデータとして格納するタグメモリと、
外部アドレスとタグメモリに格納されているDRAMの
アドレスとを比較し、一致したとき第1のSRAMの選
択線のいずれかを駆動する比較選択手段とを設けたもの
である。
【0016】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
1から4のいずれかの半導体記憶装置において、第2の
SRAMに、複数の選択線を設け、データのDRAMで
のアドレスをタグデータとして格納するタグメモリと、
外部アドレスとタグメモリに格納されているDRAMの
アドレスとを比較し、一致したとき第2のSRAMの選
択線のいずれかを駆動する比較選択手段とを設けたもの
である。
1から4のいずれかの半導体記憶装置において、第2の
SRAMに、複数の選択線を設け、データのDRAMで
のアドレスをタグデータとして格納するタグメモリと、
外部アドレスとタグメモリに格納されているDRAMの
アドレスとを比較し、一致したとき第2のSRAMの選
択線のいずれかを駆動する比較選択手段とを設けたもの
である。
【0017】請求項6に係る半導体記憶装置は、複数の
選択線を有しキャッシュメモリとして動作するSRAM
と、データを格納するタグメモリと、外部データとタグ
メモリに格納されているデータとを比較し、一致したと
きSRAMの選択線のいずれかを駆動する比較選択手段
とを設けたものである。
選択線を有しキャッシュメモリとして動作するSRAM
と、データを格納するタグメモリと、外部データとタグ
メモリに格納されているデータとを比較し、一致したと
きSRAMの選択線のいずれかを駆動する比較選択手段
とを設けたものである。
【0018】請求項7に係る半導体記憶装置は、請求項
1から5のいずれかの半導体記憶装置において、第2の
SRAMにデータ保持手段で保持されているデータを出
力する第1のデータ出力手段を設けたものである。
1から5のいずれかの半導体記憶装置において、第2の
SRAMにデータ保持手段で保持されているデータを出
力する第1のデータ出力手段を設けたものである。
【0019】請求項8に係る半導体記憶装置は、請求項
7の半導体記憶装置において、第2のSRAMに、保持
しているデータをDRAMに出力するとき、次に出力す
る次データの電位と次データより前に出力された前デー
タの電位とを比較する第1の比較手段と、比較結果に基
づいてDRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デ
ータの電位と前データの電位との中間の電位にする処理
を行なう電位処理手段とを設けたものである。
7の半導体記憶装置において、第2のSRAMに、保持
しているデータをDRAMに出力するとき、次に出力す
る次データの電位と次データより前に出力された前デー
タの電位とを比較する第1の比較手段と、比較結果に基
づいてDRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デ
ータの電位と前データの電位との中間の電位にする処理
を行なう電位処理手段とを設けたものである。
【0020】請求項9に係る半導体記憶装置は、請求項
8の半導体記憶装置において、第1の比較手段に、次デ
ータの電位が前データの電位と比較して高ければ第1の
論理レベルのデータを、低ければ第2の論理レベルのデ
ータを出力する第2のデータ出力手段を設けたものであ
る。
8の半導体記憶装置において、第1の比較手段に、次デ
ータの電位が前データの電位と比較して高ければ第1の
論理レベルのデータを、低ければ第2の論理レベルのデ
ータを出力する第2のデータ出力手段を設けたものであ
る。
【0021】請求項10に係る半導体記憶装置は、請求
項9の半導体記憶装置において、第2のデータ出力手段
に、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベル
のときは+1を、第2の論理レベルのときは−1を前加
算結果に加算する加算回路と、加算結果をディジタルデ
ータからアナログデータに変換するD/Aコンバータと
を設けたものである。
項9の半導体記憶装置において、第2のデータ出力手段
に、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベル
のときは+1を、第2の論理レベルのときは−1を前加
算結果に加算する加算回路と、加算結果をディジタルデ
ータからアナログデータに変換するD/Aコンバータと
を設けたものである。
【0022】請求項11に係る半導体記憶装置は、請求
項9または10の半導体記憶装置において、DRAM
に、第2の出力手段から出力された第1または第2の論
理レベルのデータを受取る第2の受取手段と、受取った
第1または第2の論理レベルのデータをそのデータより
前に受取っていた第1または第2の論理レベルの前受取
データを基準電位として比較する第2の比較手段とを設
けたものである。
項9または10の半導体記憶装置において、DRAM
に、第2の出力手段から出力された第1または第2の論
理レベルのデータを受取る第2の受取手段と、受取った
第1または第2の論理レベルのデータをそのデータより
前に受取っていた第1または第2の論理レベルの前受取
データを基準電位として比較する第2の比較手段とを設
けたものである。
【0023】請求項12に係る半導体記憶装置は、請求
項11の半導体記憶装置において、第2の比較手段に、
受取った第1または第2の論理レベルのデータを遅延す
る遅延回路を設けたものである。
項11の半導体記憶装置において、第2の比較手段に、
受取った第1または第2の論理レベルのデータを遅延す
る遅延回路を設けたものである。
【0024】請求項13に係る半導体記憶装置は、請求
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、複数のメ
モリセルと、メモリセルが接続された複数の選択線とを
設け、外部信号を入力する入力手段と、入力された外部
信号をデコードするデコーダと、デコーダから与えられ
るデコード信号のパターンによりいずれかの選択線を選
択し所定の数のメモリセルを活性化するメモリセル活性
化手段とを設けたものである。
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、複数のメ
モリセルと、メモリセルが接続された複数の選択線とを
設け、外部信号を入力する入力手段と、入力された外部
信号をデコードするデコーダと、デコーダから与えられ
るデコード信号のパターンによりいずれかの選択線を選
択し所定の数のメモリセルを活性化するメモリセル活性
化手段とを設けたものである。
【0025】請求項14に係る半導体記憶装置は、請求
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、複数のメ
モリセルとメモリセルが接続された複数の選択線とを設
け、外部信号を入力する入力手段と、入力された外部信
号をデコードするデコーダと、デコーダから与えられる
デコード信号のパターンにより予め登録されていたデコ
ード信号のパターンに基づいていずれかの選択線を選択
し所定の数のメモリセルを活性化するメモリセル活性化
手段とを設けたものである。
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、複数のメ
モリセルとメモリセルが接続された複数の選択線とを設
け、外部信号を入力する入力手段と、入力された外部信
号をデコードするデコーダと、デコーダから与えられる
デコード信号のパターンにより予め登録されていたデコ
ード信号のパターンに基づいていずれかの選択線を選択
し所定の数のメモリセルを活性化するメモリセル活性化
手段とを設けたものである。
【0026】請求項15に係る半導体記憶装置は、請求
項13または14の半導体記憶装置において、デコーダ
から与えられたデコード信号のパターンによりデコード
信号のパターンに基づいてDRAMと第1のSRAMと
第2のSRAMとの間のデータの転送ビット幅を変更す
る転送ビット幅変更手段を設けたものである。
項13または14の半導体記憶装置において、デコーダ
から与えられたデコード信号のパターンによりデコード
信号のパターンに基づいてDRAMと第1のSRAMと
第2のSRAMとの間のデータの転送ビット幅を変更す
る転送ビット幅変更手段を設けたものである。
【0027】請求項16に係る半導体記憶装置は、請求
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、外部信号を入力する入
力手段と、入力された外部信号をデコードするデコーダ
と、デコーダから与えられるデコード信号のパターンに
より、予め登録されていたデコード信号のパターンに基
づいてDRAMと第1のSRAMと第2のSRAMとの
間のデータの転送ビット幅を変更する転送ビット幅変更
手段とを設けたものである。
項1から請求項5および請求項7から請求項12のいず
れかの半導体記憶装置において、外部信号を入力する入
力手段と、入力された外部信号をデコードするデコーダ
と、デコーダから与えられるデコード信号のパターンに
より、予め登録されていたデコード信号のパターンに基
づいてDRAMと第1のSRAMと第2のSRAMとの
間のデータの転送ビット幅を変更する転送ビット幅変更
手段とを設けたものである。
【0028】請求項17に係る半導体記憶装置は、請求
項15または16の半導体記憶装置において、転送ビッ
ト幅は所定の時間が経過するごとに変動するパラメータ
により刻々と変化する。
項15または16の半導体記憶装置において、転送ビッ
ト幅は所定の時間が経過するごとに変動するパラメータ
により刻々と変化する。
【0029】請求項18に係る半導体記憶装置は、請求
項1から請求項5および請求項7から請求項17のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、アドレス
信号を入力するアドレス信号入力手段と、第1の方向に
配置された複数の第1の選択線と、アドレス信号に応答
して第1の選択線のうちのいずれかを選択する第1のデ
コーダと、第1の方向と交わる第2の方向に配置され各
々が対応する1つの選択クロックを受ける複数のブロッ
クを設け、各ブロックに、第1の選択線に対応して設け
られた複数の第2の選択線と、1つの選択クロックに応
答して第2の選択線のうち対応する1つの選択線を選択
する複数の第2のデコーダとを設けたものである。
項1から請求項5および請求項7から請求項17のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、アドレス
信号を入力するアドレス信号入力手段と、第1の方向に
配置された複数の第1の選択線と、アドレス信号に応答
して第1の選択線のうちのいずれかを選択する第1のデ
コーダと、第1の方向と交わる第2の方向に配置され各
々が対応する1つの選択クロックを受ける複数のブロッ
クを設け、各ブロックに、第1の選択線に対応して設け
られた複数の第2の選択線と、1つの選択クロックに応
答して第2の選択線のうち対応する1つの選択線を選択
する複数の第2のデコーダとを設けたものである。
【0030】請求項19に係る半導体記憶装置は、請求
項1から請求項5および請求項7から請求項17のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、アドレス
信号を入力するアドレス信号入力手段と、第1の方向に
配置された複数の第1の選択線と、アドレス信号に応答
して第1の選択線のうちのいずれかを選択する第1のデ
コーダと、第1の方向と交わる第2の方向に配置され各
々が対応する複数の選択クロックを受ける複数のブロッ
クを設け、各ブロックに、第1の選択線に対応して設け
られた複数の第2の選択線と、複数の選択クロックに応
答して第2の選択線のうち対応する1つの選択線を選択
する複数の第2のデコーダとを設けたものである。
項1から請求項5および請求項7から請求項17のいず
れかの半導体記憶装置において、DRAMに、アドレス
信号を入力するアドレス信号入力手段と、第1の方向に
配置された複数の第1の選択線と、アドレス信号に応答
して第1の選択線のうちのいずれかを選択する第1のデ
コーダと、第1の方向と交わる第2の方向に配置され各
々が対応する複数の選択クロックを受ける複数のブロッ
クを設け、各ブロックに、第1の選択線に対応して設け
られた複数の第2の選択線と、複数の選択クロックに応
答して第2の選択線のうち対応する1つの選択線を選択
する複数の第2のデコーダとを設けたものである。
【0031】
【作用】請求項1の半導体記憶装置においては、第2の
SRAMにおいて、常時第1のSRAMからデータが受
取られ、受取られたデータが保持され、DRAMがレデ
ィ状態のときに保持されたデータがDRAMに送出され
るので、サブキャッシュである第2のSRAMからメイ
ンメモリであるDRAMへのデータの転送動作によるア
クセスが、DRAMの他の転送動作やリフレッシュ動作
によるアクセスと競合することが少なくなる。
SRAMにおいて、常時第1のSRAMからデータが受
取られ、受取られたデータが保持され、DRAMがレデ
ィ状態のときに保持されたデータがDRAMに送出され
るので、サブキャッシュである第2のSRAMからメイ
ンメモリであるDRAMへのデータの転送動作によるア
クセスが、DRAMの他の転送動作やリフレッシュ動作
によるアクセスと競合することが少なくなる。
【0032】請求項2の半導体記憶装置においては、請
求項1の半導体記憶装置の作用に加えて、受取ったデー
タを格納するとき、複数のレジスタ素子のうちデータ送
出手段に最も近い空のレジスタ素子が格納先として選択
されるので、最小限のレジスタ素子をデータがシフトさ
れ、短時間でメインメモリであるDRAMにデータの送
出ができる。
求項1の半導体記憶装置の作用に加えて、受取ったデー
タを格納するとき、複数のレジスタ素子のうちデータ送
出手段に最も近い空のレジスタ素子が格納先として選択
されるので、最小限のレジスタ素子をデータがシフトさ
れ、短時間でメインメモリであるDRAMにデータの送
出ができる。
【0033】請求項3の半導体記憶装置においては、請
求項2の半導体記憶装置の作用に加えて、セレクタは、
次にデータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示すの
で、フラグを利用して各レジスタ素子Sへデータの格納
が行なわれる。
求項2の半導体記憶装置の作用に加えて、セレクタは、
次にデータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示すの
で、フラグを利用して各レジスタ素子Sへデータの格納
が行なわれる。
【0034】請求項4の半導体記憶装置においては、請
求項1から3のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第1のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとが比較
され、一致したとき第1のSRAMの選択線のいずれか
が駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに
格納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、
第1のSRAMに格納されているそのアドレスに対応す
るデータを他の操作をすることなしに直接得ることがで
きる。
求項1から3のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第1のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとが比較
され、一致したとき第1のSRAMの選択線のいずれか
が駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに
格納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、
第1のSRAMに格納されているそのアドレスに対応す
るデータを他の操作をすることなしに直接得ることがで
きる。
【0035】請求項5の半導体記憶装置においては、請
求項1から4のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第2のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとを比較
し、一致したとき第2のSRAMの選択線のいずれかが
駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに格
納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、第
2のSRAMに格納されているそのアドレスに対応する
データを他の操作をすることなしに直接得ることができ
る。
求項1から4のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第2のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとを比較
し、一致したとき第2のSRAMの選択線のいずれかが
駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに格
納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、第
2のSRAMに格納されているそのアドレスに対応する
データを他の操作をすることなしに直接得ることができ
る。
【0036】請求項6の半導体記憶装置においては、外
部データとタグメモリに格納されているデータとを比較
し、一致したときSRAMの選択線のいずれかが駆動さ
れるので、入力された外部データとタグメモリに格納さ
れているデータとが一致したとき、SRAMに格納され
ているそのデータに関連のあるデータを他の操作をする
ことなしに直接得ることができる。
部データとタグメモリに格納されているデータとを比較
し、一致したときSRAMの選択線のいずれかが駆動さ
れるので、入力された外部データとタグメモリに格納さ
れているデータとが一致したとき、SRAMに格納され
ているそのデータに関連のあるデータを他の操作をする
ことなしに直接得ることができる。
【0037】請求項7の半導体記憶装置においては、請
求項1から5のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第2のSRAMで、データ保持手段で保持されてい
るデータが出力されるので、第2のSRAMに直接アク
セスして、該当するデータが保持されていればそれを得
ることができる。
求項1から5のいずれかの半導体記憶装置の作用に加え
て、第2のSRAMで、データ保持手段で保持されてい
るデータが出力されるので、第2のSRAMに直接アク
セスして、該当するデータが保持されていればそれを得
ることができる。
【0038】請求項8の半導体記憶装置においては、請
求項7の半導体記憶装置の作用に加えて、第2のSRA
Mで、保持しているデータをDRAMに出力するとき、
次に出力する次データの電位と次データより前に出力さ
れた前データの電位とが比較され、比較結果に基づい
て、DRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位にする処理が
行なわれるので、次データの電位が前データの電位に等
しくない場合はDRAMへの出力ノードの電位を次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位に、次データ
の電位が前データの電位に等しい場合は、前データの電
位を保持することにより次データの出力に備えることが
できる。
求項7の半導体記憶装置の作用に加えて、第2のSRA
Mで、保持しているデータをDRAMに出力するとき、
次に出力する次データの電位と次データより前に出力さ
れた前データの電位とが比較され、比較結果に基づい
て、DRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位にする処理が
行なわれるので、次データの電位が前データの電位に等
しくない場合はDRAMへの出力ノードの電位を次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位に、次データ
の電位が前データの電位に等しい場合は、前データの電
位を保持することにより次データの出力に備えることが
できる。
【0039】請求項9の半導体記憶装置においては、請
求項8の半導体記憶装置の作用に加えて、第1の比較手
段で、次データの電位が前データの電位と比較して高け
れば第1の論理レベルのデータが、低ければ第2の論理
レベルのデータが出力されるので、出力される次データ
の電位が前データの電位と比較して高いか低いかを第1
または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことができ
る。
求項8の半導体記憶装置の作用に加えて、第1の比較手
段で、次データの電位が前データの電位と比較して高け
れば第1の論理レベルのデータが、低ければ第2の論理
レベルのデータが出力されるので、出力される次データ
の電位が前データの電位と比較して高いか低いかを第1
または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことができ
る。
【0040】請求項10の半導体記憶装置においては、
請求項9の半導体記憶装置の作用に加えて、第2出力手
段で、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベ
ルのときは+1が、第2の論理レベルのときは−1が前
加算結果に加算され、加算結果がディジタルデータから
アナログデータに変換されるので、出力データの電位の
変化が+1の加算および−1の減算による累算で表わさ
れ、ディジタルデータからアナログデータに変換され
る。
請求項9の半導体記憶装置の作用に加えて、第2出力手
段で、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベ
ルのときは+1が、第2の論理レベルのときは−1が前
加算結果に加算され、加算結果がディジタルデータから
アナログデータに変換されるので、出力データの電位の
変化が+1の加算および−1の減算による累算で表わさ
れ、ディジタルデータからアナログデータに変換され
る。
【0041】請求項11の半導体記憶装置においては、
請求項9または10の半導体記憶装置の作用に加えて、
DRAMで、第2の出力手段から出力された第1または
第2の論理レベルのデータが受取られ、受取られた第1
または第2の論理レベルのデータがこのデータより前に
受取られた第1または第2の論理レベルの前受取データ
を基準電位として比較されるので、受取られたデータの
電位が前受取データの電位と比較して高いか低いかを第
1または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことがで
きる。
請求項9または10の半導体記憶装置の作用に加えて、
DRAMで、第2の出力手段から出力された第1または
第2の論理レベルのデータが受取られ、受取られた第1
または第2の論理レベルのデータがこのデータより前に
受取られた第1または第2の論理レベルの前受取データ
を基準電位として比較されるので、受取られたデータの
電位が前受取データの電位と比較して高いか低いかを第
1または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことがで
きる。
【0042】請求項12の半導体記憶装置においては、
請求項11の半導体記憶装置の作用に加えて、第2比較
手段で、受取られた第1または第2の論理レベルのデー
タが遅延されるで、次に行なわれる比較の基準となる前
受取データを生成することができない。
請求項11の半導体記憶装置の作用に加えて、第2比較
手段で、受取られた第1または第2の論理レベルのデー
タが遅延されるで、次に行なわれる比較の基準となる前
受取データを生成することができない。
【0043】請求項13の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、DRAM
で、外部信号が入力され、入力された外部信号がデコー
ドされ、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンによりいずれかの選択線が選択され、所定の数のメモ
リセルが活性化されるので、外部信号を入力することに
より、メモリメモリであるDRAM中の必要なメモリセ
ルのみが活性化されるように制御することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、DRAM
で、外部信号が入力され、入力された外部信号がデコー
ドされ、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンによりいずれかの選択線が選択され、所定の数のメモ
リセルが活性化されるので、外部信号を入力することに
より、メモリメモリであるDRAM中の必要なメモリセ
ルのみが活性化されるように制御することができる。
【0044】請求項15の半導体記憶装置においては、
請求項13または14の半導体記憶装置の作用に加え
て、デコーダから与えられるデコード信号のパターンに
より、デコード信号のパターンに基づいて、DRAMお
よび第1のSRAMおよび第2のSRAM間のデータの
転送ビット幅が変更されるので、比較的簡易な外部信号
を入力することにより、各メモリ間の転送ビット幅を変
更することができる。
請求項13または14の半導体記憶装置の作用に加え
て、デコーダから与えられるデコード信号のパターンに
より、デコード信号のパターンに基づいて、DRAMお
よび第1のSRAMおよび第2のSRAM間のデータの
転送ビット幅が変更されるので、比較的簡易な外部信号
を入力することにより、各メモリ間の転送ビット幅を変
更することができる。
【0045】請求項16の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、外部信号が
入力され、入力された外部信号がデコードされ、デコー
ダから与えられるデコード信号のパターンにより、予め
登録されていたデコード信号のパターンに基づいて、D
RAMおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間の
データの転送ビット幅か変更されるので、比較的簡易な
外部信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビッ
ト幅を変更することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、外部信号が
入力され、入力された外部信号がデコードされ、デコー
ダから与えられるデコード信号のパターンにより、予め
登録されていたデコード信号のパターンに基づいて、D
RAMおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間の
データの転送ビット幅か変更されるので、比較的簡易な
外部信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビッ
ト幅を変更することができる。
【0046】請求項17の半導体記憶装置においては、
請求項15または16の半導体記憶装置の作用に加え
て、転送ビット幅は所定の時間が経過するごとに変動す
るパラメータにより刻々と変化するので、パラメータの
変動に基づいて、入力する外部信号を設定することがで
きる。
請求項15または16の半導体記憶装置の作用に加え
て、転送ビット幅は所定の時間が経過するごとに変動す
るパラメータにより刻々と変化するので、パラメータの
変動に基づいて、入力する外部信号を設定することがで
きる。
【0047】請求項19の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち複数の選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の作用に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち複数の選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
【0048】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。
説明する。
【0049】(1) 第1実施例 図1は、本発明の第1実施例の半導体記憶装置によるキ
ャッシュシステム100の構成を示す図である。
ャッシュシステム100の構成を示す図である。
【0050】図1を参照して、キャッシュシステム10
0は、メインメモリ101と、メインキャッシュ103
と、サブキャッシュ105とを含む。
0は、メインメモリ101と、メインキャッシュ103
と、サブキャッシュ105とを含む。
【0051】メインキャッシュ103はメインメモリ1
01とサブキャッシュ105とに接続されている。メイ
ンメモリ101もまたサブキャッシュ105に接続され
ている。
01とサブキャッシュ105とに接続されている。メイ
ンメモリ101もまたサブキャッシュ105に接続され
ている。
【0052】メインキャッシュ103とサブキャッシュ
105の動作は類似しており、外部から入力されるアド
レスがメインキャッシュ103またはサブキャッシュ1
05に登録されているアドレスと一致すれば、メインメ
モリ101にアクセスすることなく、高速でメインキャ
ッシュ103またはサブキャッシュ105に蓄積されて
いるデータが処理される。
105の動作は類似しており、外部から入力されるアド
レスがメインキャッシュ103またはサブキャッシュ1
05に登録されているアドレスと一致すれば、メインメ
モリ101にアクセスすることなく、高速でメインキャ
ッシュ103またはサブキャッシュ105に蓄積されて
いるデータが処理される。
【0053】ここで、従来と異なる点は、メインキャッ
シュ103とサブキャッシュ105との間のデータ転送
およびサブキャッシュ105とメインメモリ101との
間のデータ転送である。メインキャッシュ103とサブ
キャッシュ105との間のデータ転送は、サブキャッシ
ュ105に存在するデータをアクセスした場合は、サブ
キャッシュ105からメインキャッシュ103にデータ
が転送され昇格する。逆に、メインキャッシュ103に
データが存在しながら長時間アクセスされない場合は、
外部または内部の制御に従って、メインキャッシュ10
3からサブキャッシュ105にデータが転送され降格す
る。この降格したデータは、一定の時間さらにアクセス
されずメインキャッシュ103に再登録されることがな
ければ、自動的にメインメモリ101に転送される。そ
して、これらの転送作業が、外部からの制御信号または
内部で同期的に作られる制御信号により制御されるので
はなく、自己生成的に作られた制御信号によりリフレッ
シュ動作や他の転送動作とは非同期的に行なわれる。
シュ103とサブキャッシュ105との間のデータ転送
およびサブキャッシュ105とメインメモリ101との
間のデータ転送である。メインキャッシュ103とサブ
キャッシュ105との間のデータ転送は、サブキャッシ
ュ105に存在するデータをアクセスした場合は、サブ
キャッシュ105からメインキャッシュ103にデータ
が転送され昇格する。逆に、メインキャッシュ103に
データが存在しながら長時間アクセスされない場合は、
外部または内部の制御に従って、メインキャッシュ10
3からサブキャッシュ105にデータが転送され降格す
る。この降格したデータは、一定の時間さらにアクセス
されずメインキャッシュ103に再登録されることがな
ければ、自動的にメインメモリ101に転送される。そ
して、これらの転送作業が、外部からの制御信号または
内部で同期的に作られる制御信号により制御されるので
はなく、自己生成的に作られた制御信号によりリフレッ
シュ動作や他の転送動作とは非同期的に行なわれる。
【0054】図2は、図1のキャッシュシステム100
を含むキャッシュチップ200を示す図である。
を含むキャッシュチップ200を示す図である。
【0055】図2を参照して、キャッシュチップ200
は、キャッシュシステム100と、外部から入力された
アドレス信号Addを供給するアドレスバッファ201
と、外部に対してデータを入出力するデータバッファ2
03と、外部から入力されたキャッシュチップ200を
制御するための制御信号CSをチップ内に供給するCS
バッファ205と、キャッシュシステム100内のメイ
ンキャッシュ103に格納されているデータのアドレス
を格納しているアドレスCAM207と、同様にキャッ
シュシステム100内のサブキャッシュ105のデータ
のアドレスを格納しているアドレスCAM209と、キ
ャッシュシステム100に含まれているメインメモリ1
01にリフレッシュ要求信号を出力するリフレッシュコ
ントローラ211と、リフレッシュコントローラ211
に与えるクロックを発生するクロック発生回路213
と、アドレスバッファ201,アドレスCAM207,
アドレスCAM209,リフレッシュコントローラ21
1,クロック発生回路213,およびサブキャッシュ1
05に接続され、クロック発生回路213からのクロッ
クを基に各ユニットのメインメモリ101へのアクセス
が競合した場合にその優先順位を与える非同期アービタ
215とを含む。チップ電源投入時、各アドレスCAM
はリセットされる。
は、キャッシュシステム100と、外部から入力された
アドレス信号Addを供給するアドレスバッファ201
と、外部に対してデータを入出力するデータバッファ2
03と、外部から入力されたキャッシュチップ200を
制御するための制御信号CSをチップ内に供給するCS
バッファ205と、キャッシュシステム100内のメイ
ンキャッシュ103に格納されているデータのアドレス
を格納しているアドレスCAM207と、同様にキャッ
シュシステム100内のサブキャッシュ105のデータ
のアドレスを格納しているアドレスCAM209と、キ
ャッシュシステム100に含まれているメインメモリ1
01にリフレッシュ要求信号を出力するリフレッシュコ
ントローラ211と、リフレッシュコントローラ211
に与えるクロックを発生するクロック発生回路213
と、アドレスバッファ201,アドレスCAM207,
アドレスCAM209,リフレッシュコントローラ21
1,クロック発生回路213,およびサブキャッシュ1
05に接続され、クロック発生回路213からのクロッ
クを基に各ユニットのメインメモリ101へのアクセス
が競合した場合にその優先順位を与える非同期アービタ
215とを含む。チップ電源投入時、各アドレスCAM
はリセットされる。
【0056】図2において、データをキャッシュするた
めには、データそのものとそのデータの格納場所を示す
アドレスとを認識する必要がある。したがって、アドレ
スはアドレスCAM207,209に格納され、外部か
ら入力されるアドレスが、チップセレクト信号CSの入
力によりアドレスCAM207,209中のアドレスと
比較され、一致すればそのアドレスCAM中のアドレス
に対応したキャッシュのデータがアクセスされる。メイ
ンキャッシュ103、サブキャッシュ105ともにこの
比較動作およびアクセス動作が行なわれる。アドレスの
比較はメインキャッシュ103とサブキャッシュ105
とを同時に行なう。これは、両者に存在するデータのア
ドレスは必ず異なるため、また、メインキャッシュアク
セス時とサブキャッシュアクセス時とのデータ出力に要
する時間差を極力小さくするためである。
めには、データそのものとそのデータの格納場所を示す
アドレスとを認識する必要がある。したがって、アドレ
スはアドレスCAM207,209に格納され、外部か
ら入力されるアドレスが、チップセレクト信号CSの入
力によりアドレスCAM207,209中のアドレスと
比較され、一致すればそのアドレスCAM中のアドレス
に対応したキャッシュのデータがアクセスされる。メイ
ンキャッシュ103、サブキャッシュ105ともにこの
比較動作およびアクセス動作が行なわれる。アドレスの
比較はメインキャッシュ103とサブキャッシュ105
とを同時に行なう。これは、両者に存在するデータのア
ドレスは必ず異なるため、また、メインキャッシュアク
セス時とサブキャッシュアクセス時とのデータ出力に要
する時間差を極力小さくするためである。
【0057】アドレスの比較に用いるアドレスCAM
は、それぞれに1ワード(1ワードのビット数は仕様に
より異なる)に設定され、各々を比較した結果ヒットす
れば該当するワード線が活性化され、ミスヒットすれば
メインキャッシュおよびサブキャッシュそれぞれからミ
スヒット信号が出力される。
は、それぞれに1ワード(1ワードのビット数は仕様に
より異なる)に設定され、各々を比較した結果ヒットす
れば該当するワード線が活性化され、ミスヒットすれば
メインキャッシュおよびサブキャッシュそれぞれからミ
スヒット信号が出力される。
【0058】必要なデータがメインキャッシュ103に
格納されている場合は、データメインキャッシュ103
にとどまったまま外部に出力され、書込動作であればメ
インキャッシュ103内のデータは書換えられる。必要
なデータがサブキャッシュ105に格納されている場合
は、データはサブキャッシュ105から読出されると同
時にメインキャッシュ103に登録され、書込動作であ
ればメインキャッシュ103内にデータが登録され同時
に書換えられる。このとき、サブキャッシュ105内に
格納されていたデータはそのまま放置されてもよい。な
ぜならば、サブキャッシュ105は、データを非同期的
にメインメモリ101に排出する動作を行なっているの
で、使われなくなったデータは時間がたてばメインメモ
リ101に転送されるためである。たとえ、サブキャッ
シュ105のデータを後から書換えたデータがメインキ
ャッシュ103に登録されて、元のデータがメインメモ
リ101に転送され登録されても、メインキャッシュ1
03のデータが降格してこない限りメインメモリ101
上のデータをアクセスすることがないので誤動作を起こ
すことはない。
格納されている場合は、データメインキャッシュ103
にとどまったまま外部に出力され、書込動作であればメ
インキャッシュ103内のデータは書換えられる。必要
なデータがサブキャッシュ105に格納されている場合
は、データはサブキャッシュ105から読出されると同
時にメインキャッシュ103に登録され、書込動作であ
ればメインキャッシュ103内にデータが登録され同時
に書換えられる。このとき、サブキャッシュ105内に
格納されていたデータはそのまま放置されてもよい。な
ぜならば、サブキャッシュ105は、データを非同期的
にメインメモリ101に排出する動作を行なっているの
で、使われなくなったデータは時間がたてばメインメモ
リ101に転送されるためである。たとえ、サブキャッ
シュ105のデータを後から書換えたデータがメインキ
ャッシュ103に登録されて、元のデータがメインメモ
リ101に転送され登録されても、メインキャッシュ1
03のデータが降格してこない限りメインメモリ101
上のデータをアクセスすることがないので誤動作を起こ
すことはない。
【0059】メインメモリ101は、大抵、DRAMと
いう揮発性メモリで構成されている。このメモリは一定
時間ごとにリフレッシュされなければならないので、こ
のリフレッシュを行なうアドレスとそのタイミングとを
メインメモリ101に与えなければならない。そこで、
このアドレスと、サブキャッシュ105から転送されて
くるアドレスなどとの優先順位を決めるため、非同期ア
ービタ215を介してデータがメインメモリ101に転
送される。メインメモリ101は、メインキャッシュ1
03およびサブキャッシュ105から出力されるミスヒ
ット信号のANDと、サブキャッシュ105からのデー
タ転送トリガと、リフレッシュコントローラからのリフ
レッシュ要求信号との以上3者を非同期アービタ215
により裁定し、それをDRAM活性化信号とする。
いう揮発性メモリで構成されている。このメモリは一定
時間ごとにリフレッシュされなければならないので、こ
のリフレッシュを行なうアドレスとそのタイミングとを
メインメモリ101に与えなければならない。そこで、
このアドレスと、サブキャッシュ105から転送されて
くるアドレスなどとの優先順位を決めるため、非同期ア
ービタ215を介してデータがメインメモリ101に転
送される。メインメモリ101は、メインキャッシュ1
03およびサブキャッシュ105から出力されるミスヒ
ット信号のANDと、サブキャッシュ105からのデー
タ転送トリガと、リフレッシュコントローラからのリフ
レッシュ要求信号との以上3者を非同期アービタ215
により裁定し、それをDRAM活性化信号とする。
【0060】非同期アービタ215の各要求信号に対す
る裁定における優先度は、リフレッシュ要求が最も高い
場合が多いが、処理スピードを最優先し、ミスヒット時
のDRAMアクセスを最優先してもよい。リフレッシュ
動作は、キャッシュヒット率がそこそこ高い状態ではミ
スヒットによるDRAMアクセスを待ったうえでも十分
にリフレッシュ動作を行なうことができる。これは、連
続ヒットによるDRAM非アクセス時間がかなり長いこ
とが期待できるためである。
る裁定における優先度は、リフレッシュ要求が最も高い
場合が多いが、処理スピードを最優先し、ミスヒット時
のDRAMアクセスを最優先してもよい。リフレッシュ
動作は、キャッシュヒット率がそこそこ高い状態ではミ
スヒットによるDRAMアクセスを待ったうえでも十分
にリフレッシュ動作を行なうことができる。これは、連
続ヒットによるDRAM非アクセス時間がかなり長いこ
とが期待できるためである。
【0061】図3は、図1のメインキャッシュ103お
よびサブキャッシュ105のキャッシュメモリ300と
その周辺回路の構成を示す図である。
よびサブキャッシュ105のキャッシュメモリ300と
その周辺回路の構成を示す図である。
【0062】図3を参照して、キャッシュメモリ300
は、メモリセルアレイ301と、センスアンプ群および
入出力回路(S/A,I/O回路)303と、ロウアド
レスCAM305と、コラムアドレスCAM307とを
含む。
は、メモリセルアレイ301と、センスアンプ群および
入出力回路(S/A,I/O回路)303と、ロウアド
レスCAM305と、コラムアドレスCAM307とを
含む。
【0063】図3において、アドレスバッファ(図示せ
ず)から転送されるアドレスはロウアドレスCAM30
5およびコラムアドレスCAM307に入力される。
ず)から転送されるアドレスはロウアドレスCAM30
5およびコラムアドレスCAM307に入力される。
【0064】ロウアドレスCAM305で比較されたロ
ウアドレスにおいて、一致検出がなされるとMatch
信号が出力される。このMatch信号は、実は、キャ
ッシュメモリのワード線の役割を兼ねている。したがっ
て、キャッシュメモリのワード線の数だけロウアドレス
CAM305中の比較回路が存在しMatch信号が存
在する。このMatch信号により、キャッシュメモリ
中のワード線に接続されたメモリセルがHitしたとし
て選択される。選択されたデータをすべて使用するので
あれば、比較系はワード線に関する方向のみでよい。
ウアドレスにおいて、一致検出がなされるとMatch
信号が出力される。このMatch信号は、実は、キャ
ッシュメモリのワード線の役割を兼ねている。したがっ
て、キャッシュメモリのワード線の数だけロウアドレス
CAM305中の比較回路が存在しMatch信号が存
在する。このMatch信号により、キャッシュメモリ
中のワード線に接続されたメモリセルがHitしたとし
て選択される。選択されたデータをすべて使用するので
あれば、比較系はワード線に関する方向のみでよい。
【0065】図3中では、ワード線で選択されたメモリ
セル中で、さらに転送出力されるデータのメモリセルを
細かく設定するのに、コラムアドレスに対しても比較回
路を備えている。アドレスバッファから転送されるコラ
ムアドレスは、コラム系のコラムアドレスCAM307
に格納されているコラムアドレスと比較され、一致検出
がなされればMatch信号が出力される。このMat
ch信号は、実は、キャッシュメモリのコラム選択線の
役割を兼ねている。したがって、キャッシュメモリのコ
ラム選択線の数だけコラムアドレスCAM中の比較回路
が存在しMatch信号が存在する。このMatch信
号により、キャッシュメモリ中のコラム選択線に接続さ
れたメモリセルがHitしたとして選択される。
セル中で、さらに転送出力されるデータのメモリセルを
細かく設定するのに、コラムアドレスに対しても比較回
路を備えている。アドレスバッファから転送されるコラ
ムアドレスは、コラム系のコラムアドレスCAM307
に格納されているコラムアドレスと比較され、一致検出
がなされればMatch信号が出力される。このMat
ch信号は、実は、キャッシュメモリのコラム選択線の
役割を兼ねている。したがって、キャッシュメモリのコ
ラム選択線の数だけコラムアドレスCAM中の比較回路
が存在しMatch信号が存在する。このMatch信
号により、キャッシュメモリ中のコラム選択線に接続さ
れたメモリセルがHitしたとして選択される。
【0066】図4は、図1のサブキャッシュ105の構
成を示す図である。図4を参照して、サブキャッシュ1
05は、メインキャッシュから転送されたデータおよび
そのアドレスを格納するシフトレジスタ401と、メイ
ンキャッシュから転送されたデータおよびそのアドレス
を受取りそれらをシフトレジスタ401に格納するセレ
クタ403と、シフトレジスタ401に格納されたデー
タおよびそのアドレスのシフトをコントロールするシフ
トコントロール回路405と、シフトレジスタ401か
ら出力されるデータをメインメモリに供給する出力バッ
ファ407とを含む。シフトレジスタ401は、さらに
レジスタ素子S1〜nを含む。
成を示す図である。図4を参照して、サブキャッシュ1
05は、メインキャッシュから転送されたデータおよび
そのアドレスを格納するシフトレジスタ401と、メイ
ンキャッシュから転送されたデータおよびそのアドレス
を受取りそれらをシフトレジスタ401に格納するセレ
クタ403と、シフトレジスタ401に格納されたデー
タおよびそのアドレスのシフトをコントロールするシフ
トコントロール回路405と、シフトレジスタ401か
ら出力されるデータをメインメモリに供給する出力バッ
ファ407とを含む。シフトレジスタ401は、さらに
レジスタ素子S1〜nを含む。
【0067】図4において、シフトレジスタは、入力さ
れた順番にデータを出力する。ここでは、その入力はメ
インキャッシュ103より転送されるデータとそれに伴
うアドレスであり、出力はメインメモリ101に転送さ
れるべきデータとそれと伴うアドレスである。
れた順番にデータを出力する。ここでは、その入力はメ
インキャッシュ103より転送されるデータとそれに伴
うアドレスであり、出力はメインメモリ101に転送さ
れるべきデータとそれと伴うアドレスである。
【0068】ここで、サブキャッシュ105に必要とさ
れる作業は、メインキャッシュ103から転送されてき
たデータを、一度バッファリングして、メインメモリ1
01が動作していない間にメインメモリ101に転送す
ることである。従来は即メインメモリ101に転送する
ようにしていたが、メインメモリ101の書込速度はそ
れほど速くなく、メインキャッシュ103から転送され
てきたデータをすぐにメインメモリ101に排出するこ
とができないようにするためこのバッファリングを行な
う。したがって、このシフトレジスタ401はある程度
の長さを必要とする。しかし、この長いシフトレジスタ
401に入力部から順次メインキャッシュ103からの
転送データを入力して、シフトさせながら最終的にメイ
ンメモリ101に排出していたのではメインメモリ10
1への転送が遅くなってしまう。そこで、メインキャッ
シュ103から転送されてきたデータはセレクタ403
に入力され、最適なシフトレジスタの位置に入力され
る。最適なシフトレジスタ401の位置とは、既にデー
タが入力されているレジスタ素子Sのすぐ後ろのレジス
タ素子Sを指す。たとえば、シフトレジスタ401にメ
インキャッシュ103から転送されてきたデータが何も
入っていなければ、先頭のレジスタ素子Sに入力され、
3番目のレジスタ素子Sまでメインキャッシュから転送
されてきたデータが入っていれば4番目のレジスタ素子
Sに入力されるようにする。先頭のレジスタに到達した
データは出力バッファ407により出力制御信号OUT
を基にメインメモリ101に転送される。
れる作業は、メインキャッシュ103から転送されてき
たデータを、一度バッファリングして、メインメモリ1
01が動作していない間にメインメモリ101に転送す
ることである。従来は即メインメモリ101に転送する
ようにしていたが、メインメモリ101の書込速度はそ
れほど速くなく、メインキャッシュ103から転送され
てきたデータをすぐにメインメモリ101に排出するこ
とができないようにするためこのバッファリングを行な
う。したがって、このシフトレジスタ401はある程度
の長さを必要とする。しかし、この長いシフトレジスタ
401に入力部から順次メインキャッシュ103からの
転送データを入力して、シフトさせながら最終的にメイ
ンメモリ101に排出していたのではメインメモリ10
1への転送が遅くなってしまう。そこで、メインキャッ
シュ103から転送されてきたデータはセレクタ403
に入力され、最適なシフトレジスタの位置に入力され
る。最適なシフトレジスタ401の位置とは、既にデー
タが入力されているレジスタ素子Sのすぐ後ろのレジス
タ素子Sを指す。たとえば、シフトレジスタ401にメ
インキャッシュ103から転送されてきたデータが何も
入っていなければ、先頭のレジスタ素子Sに入力され、
3番目のレジスタ素子Sまでメインキャッシュから転送
されてきたデータが入っていれば4番目のレジスタ素子
Sに入力されるようにする。先頭のレジスタに到達した
データは出力バッファ407により出力制御信号OUT
を基にメインメモリ101に転送される。
【0069】図2のチップセレクト信号CSはメインメ
モリ101となるDRAMの動作には関与せず、キャッ
シュメモリであるSRAMおよびサブキャッシュとなる
シフトレジスタに対しての活性化信号となり、サブキャ
ッシュ105であるシフトレジスタ401とメインメモ
リ101であるDRAM間の転送に関しては関与しない
が、サブキャッシュ105の格納アドレスと入力アドレ
スとの比較、サブキャッシュ105からのデータの取出
のトリガとなる。
モリ101となるDRAMの動作には関与せず、キャッ
シュメモリであるSRAMおよびサブキャッシュとなる
シフトレジスタに対しての活性化信号となり、サブキャ
ッシュ105であるシフトレジスタ401とメインメモ
リ101であるDRAM間の転送に関しては関与しない
が、サブキャッシュ105の格納アドレスと入力アドレ
スとの比較、サブキャッシュ105からのデータの取出
のトリガとなる。
【0070】図5は、図4のシフトレジスタ401の回
路図である。図5を参照して、シフトレジスタ401
は、レジスタ素子S1〜Snと2つのインバータで構成
されたラッチ505とトランスファゲートTG3とを含
む。
路図である。図5を参照して、シフトレジスタ401
は、レジスタ素子S1〜Snと2つのインバータで構成
されたラッチ505とトランスファゲートTG3とを含
む。
【0071】レジスタ素子S1において、2つのインバ
ータで構成されたラッチ501は、トランスファゲート
TG1のソースドレイン電極に接続され、トランスファ
ゲートTG1のもう一方のソースドレイン電極は2つの
インバータで構成されたもう1つのラッチ503に接続
され、ラッチ503はさらにもう1つのトランスファゲ
ートTG2のソースドレイン電極に接続されている。レ
ジスタ素子S2〜Snもまたレジスタ素子S1と同様の
構成を有し、各レジスタ素子は、レジスタ素子S1内の
ラッチ501側に直列に接続されている。レジスタ素子
S1内のトランスファゲートTG2のラッチ503に接
続されていないもう一方のソースドレイン電極は、ラッ
チ505に接続され、ラッチ505はトランスファゲー
ト3のソースドレイン電極に接続されている。トランス
ファゲートTG3のもう一方のソースドレイン電極はメ
インメモリ101に接続されている。トランスファゲー
トTG1のゲート電極にはシフト信号K2が入力され、
トランスファゲートTG2のゲート電極にはシフト信号
K1が入力され、トランスファゲートTG3のゲート電
極には出力クロックOEが入力される。
ータで構成されたラッチ501は、トランスファゲート
TG1のソースドレイン電極に接続され、トランスファ
ゲートTG1のもう一方のソースドレイン電極は2つの
インバータで構成されたもう1つのラッチ503に接続
され、ラッチ503はさらにもう1つのトランスファゲ
ートTG2のソースドレイン電極に接続されている。レ
ジスタ素子S2〜Snもまたレジスタ素子S1と同様の
構成を有し、各レジスタ素子は、レジスタ素子S1内の
ラッチ501側に直列に接続されている。レジスタ素子
S1内のトランスファゲートTG2のラッチ503に接
続されていないもう一方のソースドレイン電極は、ラッ
チ505に接続され、ラッチ505はトランスファゲー
ト3のソースドレイン電極に接続されている。トランス
ファゲートTG3のもう一方のソースドレイン電極はメ
インメモリ101に接続されている。トランスファゲー
トTG1のゲート電極にはシフト信号K2が入力され、
トランスファゲートTG2のゲート電極にはシフト信号
K1が入力され、トランスファゲートTG3のゲート電
極には出力クロックOEが入力される。
【0072】レジスタ素子S1〜Sn内のラッチ501
にデータが格納されているものとする。シフト信号K2
がハイレベルになるとトランスファゲートTG1がオン
し、ラッチ501に格納されていたデータはラッチ50
3にシフトする。次に、シフト信号K1がハイレベルに
なるとトランスファゲートTG2がオンし、ラッチ50
3に格納されていたデータはメインメモリ101の出力
に近い1つ前のレジスタ素子内のラッチ501にシフト
される。レジスタ素子S1の場合は、ラッチ503に格
納されていたデータはラッチ505にシフトされ、出力
クロックOEがハイレベルになるとトランスファゲート
TG3がオンしメインメモリ101へラッチ505に格
納されたデータが出力される。
にデータが格納されているものとする。シフト信号K2
がハイレベルになるとトランスファゲートTG1がオン
し、ラッチ501に格納されていたデータはラッチ50
3にシフトする。次に、シフト信号K1がハイレベルに
なるとトランスファゲートTG2がオンし、ラッチ50
3に格納されていたデータはメインメモリ101の出力
に近い1つ前のレジスタ素子内のラッチ501にシフト
される。レジスタ素子S1の場合は、ラッチ503に格
納されていたデータはラッチ505にシフトされ、出力
クロックOEがハイレベルになるとトランスファゲート
TG3がオンしメインメモリ101へラッチ505に格
納されたデータが出力される。
【0073】図5において、シフトレジスタ401その
ものは一般的なマスタスレーブ方式のシフトレジスタを
用いることができる。外部から入力される低速クロック
K1,K2の制御によりデータの入力が制御される。レ
ジスタ素子S1からレジスタ素子Snまでのレジスタ素
子Sがシフト動作に関与する場合、図4におけるセレク
タ403は入力されてくるデータをレジスタ素子S1か
らレジスタ素子Snまでの対応するレジスタ素子Sに転
送する。どのレジスタ素子Sにもデータが蓄積されてい
ない場合、レジスタ素子S1にデータが入力され、これ
は直ちにメインメモリ101に出力される。レジスタ素
子S1〜Snまでデータが蓄積されている状態では、レ
ジスタ素子Snにデータが入力され、これは低速クロッ
クK1,K2のマスタスレーブ動作によりデータが転送
される動作に準じてシフトされる。
ものは一般的なマスタスレーブ方式のシフトレジスタを
用いることができる。外部から入力される低速クロック
K1,K2の制御によりデータの入力が制御される。レ
ジスタ素子S1からレジスタ素子Snまでのレジスタ素
子Sがシフト動作に関与する場合、図4におけるセレク
タ403は入力されてくるデータをレジスタ素子S1か
らレジスタ素子Snまでの対応するレジスタ素子Sに転
送する。どのレジスタ素子Sにもデータが蓄積されてい
ない場合、レジスタ素子S1にデータが入力され、これ
は直ちにメインメモリ101に出力される。レジスタ素
子S1〜Snまでデータが蓄積されている状態では、レ
ジスタ素子Snにデータが入力され、これは低速クロッ
クK1,K2のマスタスレーブ動作によりデータが転送
される動作に準じてシフトされる。
【0074】図6,7は、図4のセレクタ403の回路
図である。図6はセレクタ403に含まれているトラン
スファゲート群700を制御するための選択回路600
を示す図であり、図7はセレクタ403に含まれている
メインキャッシュ103のメモリセルアレイからのデー
タをシフトレジスタ401に転送するためのトランスフ
ァゲート群700を示した図である。
図である。図6はセレクタ403に含まれているトラン
スファゲート群700を制御するための選択回路600
を示す図であり、図7はセレクタ403に含まれている
メインキャッシュ103のメモリセルアレイからのデー
タをシフトレジスタ401に転送するためのトランスフ
ァゲート群700を示した図である。
【0075】図6を参照して、トランスファゲート群6
00は、双方向シフトレジスタ610と、双方向シフト
レジスタ610に含まれているレジスタ素子S1′〜S
n′がすべて空であることを示す状態出力回路601
と、シフトレジスタ401に含まれているレジスタ素子
S1〜nがすべてデータを格納していることを示す状態
出力回路603と、トランスファゲート群に接続された
出力ノードR0〜Rnのレベルをリセットするリセット
回路605と、ラッチ615と、NMOSトランジスタ
Tr1〜Tr5を含む。
00は、双方向シフトレジスタ610と、双方向シフト
レジスタ610に含まれているレジスタ素子S1′〜S
n′がすべて空であることを示す状態出力回路601
と、シフトレジスタ401に含まれているレジスタ素子
S1〜nがすべてデータを格納していることを示す状態
出力回路603と、トランスファゲート群に接続された
出力ノードR0〜Rnのレベルをリセットするリセット
回路605と、ラッチ615と、NMOSトランジスタ
Tr1〜Tr5を含む。
【0076】双方シフトレジスタ610において、各シ
フトレジスタS1′〜Sn′は、2つのインバータで構
成されたラッチ611にトランスファゲートTG4のソ
ースドレイン電極が接続され、トランスファゲートTG
4のもう一方のソースドレイン電極に2つのインバータ
で構成されたもう1つのラッチ613が接続され、ラッ
チ613にトランスファゲートTG5のソースドレイン
電極が接続されている。そして、トランスファゲートT
G6の一方のソースドレイン電極はラッチ611のトラ
ンスファゲートTG4に接続されていない側に接続さ
れ、他方のソースドレイン電極はラッチ613とトラン
スファゲートTG5の接続ノードに接続され、トランス
ファゲートTG7は、その一方のソースドレイン電極が
トランスファゲートTG4とラッチ613との接続ノー
ドに接続され、他方のソースドレイン電極はレジスタ素
子S2′のラッチ611とトランスファゲートTG4と
の接続ノードに接続されている。各レジスタ素子S1′
〜Sn′は、トランスファゲート群700への出力ノー
ドR1〜Rn−1で直列に接続され、レジスタ素子S
1′のラッチ611側に出力ノードR0が、レジスタ素
子RnのトランスファゲートTG5側に出力ノードRn
が設けられている。レジスタ素子Sn′のみにおいて
は、トランスファゲートTG5のラッチ613に接続さ
れていない側のソースドレイン電極はラッチ615に接
続され、トランスファゲートTG4とラッチ613との
接続ノードに接続されていない側のトランスファゲート
TG7のソースドレイン電極はラッチ615のトランス
ファゲートTG5に接続されていない側に接続されてい
る。
フトレジスタS1′〜Sn′は、2つのインバータで構
成されたラッチ611にトランスファゲートTG4のソ
ースドレイン電極が接続され、トランスファゲートTG
4のもう一方のソースドレイン電極に2つのインバータ
で構成されたもう1つのラッチ613が接続され、ラッ
チ613にトランスファゲートTG5のソースドレイン
電極が接続されている。そして、トランスファゲートT
G6の一方のソースドレイン電極はラッチ611のトラ
ンスファゲートTG4に接続されていない側に接続さ
れ、他方のソースドレイン電極はラッチ613とトラン
スファゲートTG5の接続ノードに接続され、トランス
ファゲートTG7は、その一方のソースドレイン電極が
トランスファゲートTG4とラッチ613との接続ノー
ドに接続され、他方のソースドレイン電極はレジスタ素
子S2′のラッチ611とトランスファゲートTG4と
の接続ノードに接続されている。各レジスタ素子S1′
〜Sn′は、トランスファゲート群700への出力ノー
ドR1〜Rn−1で直列に接続され、レジスタ素子S
1′のラッチ611側に出力ノードR0が、レジスタ素
子RnのトランスファゲートTG5側に出力ノードRn
が設けられている。レジスタ素子Sn′のみにおいて
は、トランスファゲートTG5のラッチ613に接続さ
れていない側のソースドレイン電極はラッチ615に接
続され、トランスファゲートTG4とラッチ613との
接続ノードに接続されていない側のトランスファゲート
TG7のソースドレイン電極はラッチ615のトランス
ファゲートTG5に接続されていない側に接続されてい
る。
【0077】出力ノードR0にはNMOSトランジスタ
Tr0のソース電極が接続され、出力ノードR1〜Rn
にはNMOSトランジスタTr1〜Trnのドレイン電
極が接続されている。NMOSトランジスタTr0のド
レイン電極はVcc電源に接続され、NMOSトランジ
スタTr1〜Trnのソース電極は接地されている。N
MOSトランジスタTr0〜Trnのゲート電極はリセ
ット回路605に接続され、リセット回路605から与
えられるリセット信号RSがHレベルになるとNMOS
トランジスタTr0〜Trnはオンし、出力ノードR0
はHレベル、出力ノードR1〜RnはLレベルとなる。
これは動作初期においてカウンタをリセットした状態で
ある。
Tr0のソース電極が接続され、出力ノードR1〜Rn
にはNMOSトランジスタTr1〜Trnのドレイン電
極が接続されている。NMOSトランジスタTr0のド
レイン電極はVcc電源に接続され、NMOSトランジ
スタTr1〜Trnのソース電極は接地されている。N
MOSトランジスタTr0〜Trnのゲート電極はリセ
ット回路605に接続され、リセット回路605から与
えられるリセット信号RSがHレベルになるとNMOS
トランジスタTr0〜Trnはオンし、出力ノードR0
はHレベル、出力ノードR1〜RnはLレベルとなる。
これは動作初期においてカウンタをリセットした状態で
ある。
【0078】出力ノードR0には、さらに状態出力回路
601が接続され、出力ノードR0がHレベルのときシ
フトレジスタ401のレジスタ素子S1〜S2はすべて
空でありメインメモリ101への出力を禁止する出力禁
止信号が出力される。一方、出力ノードRnには状態出
力回路603が接続され、出力ノードRnはHレベルの
ときシフトレジスタS1〜Snにはすべてデータが格納
されていることを示し、メインキャッシュ103からの
データの取込みを禁止する禁止信号が出力される。シフ
ト信号ΦAが入力されるとトランスファゲートTG4が
オンしラッチ613に格納されていたデータはラッチ6
11へシフトされる。シフト信号ΦBが入力されるとト
ランスファゲートTG5がオンし後方のレジスタ素子の
ラッチ611に格納されていたデータは1つ前方のレジ
スタ素子のラッチ613へシフトされる。反対に、シフ
ト信号ΦDが入力されるとトランスファゲートTG6が
オンしラッチ611に格納されていたデータはラッチ6
13へシフトされる。ΦCが入力されるとトランスファ
ゲートTG7がオンし前方のレジスタ素子のラッチ61
3に格納されていたデータは1つ後方のレジスタ素子の
ラッチ611へシフトされる。
601が接続され、出力ノードR0がHレベルのときシ
フトレジスタ401のレジスタ素子S1〜S2はすべて
空でありメインメモリ101への出力を禁止する出力禁
止信号が出力される。一方、出力ノードRnには状態出
力回路603が接続され、出力ノードRnはHレベルの
ときシフトレジスタS1〜Snにはすべてデータが格納
されていることを示し、メインキャッシュ103からの
データの取込みを禁止する禁止信号が出力される。シフ
ト信号ΦAが入力されるとトランスファゲートTG4が
オンしラッチ613に格納されていたデータはラッチ6
11へシフトされる。シフト信号ΦBが入力されるとト
ランスファゲートTG5がオンし後方のレジスタ素子の
ラッチ611に格納されていたデータは1つ前方のレジ
スタ素子のラッチ613へシフトされる。反対に、シフ
ト信号ΦDが入力されるとトランスファゲートTG6が
オンしラッチ611に格納されていたデータはラッチ6
13へシフトされる。ΦCが入力されるとトランスファ
ゲートTG7がオンし前方のレジスタ素子のラッチ61
3に格納されていたデータは1つ後方のレジスタ素子の
ラッチ611へシフトされる。
【0079】動作初期において出力ノードR0がHレベ
ルのとき、トランスファゲート群700(図7)はすべ
てオフになっており、データの転送先であるシフトレジ
スタ401(図5)にはデータが蓄積されていないこと
を示す。その後、メインキャッシュ103のメモリセル
アレイからのデータ転送に従って、各レジスタ素子S1
〜nに転送されるごとに、出力ノードR1、R2、R
3、…とHレベルが順次移動しシフトされていく。この
ため、順次オンされるトランスファゲートが移動する。
このシフト機能により、データがメインキャッシュ10
3のメモリセルアレイから転送される際には、常にデー
タが蓄積されているレジスタ素子Sのすぐ後ろのレジス
タ素子Sに対応するトランスファゲートを開けるように
設定されるので、次々と入力されてくるデータは各レジ
スタ素子Sに順次入力される。
ルのとき、トランスファゲート群700(図7)はすべ
てオフになっており、データの転送先であるシフトレジ
スタ401(図5)にはデータが蓄積されていないこと
を示す。その後、メインキャッシュ103のメモリセル
アレイからのデータ転送に従って、各レジスタ素子S1
〜nに転送されるごとに、出力ノードR1、R2、R
3、…とHレベルが順次移動しシフトされていく。この
ため、順次オンされるトランスファゲートが移動する。
このシフト機能により、データがメインキャッシュ10
3のメモリセルアレイから転送される際には、常にデー
タが蓄積されているレジスタ素子Sのすぐ後ろのレジス
タ素子Sに対応するトランスファゲートを開けるように
設定されるので、次々と入力されてくるデータは各レジ
スタ素子Sに順次入力される。
【0080】また、図5に示したように、レジスタ40
1に格納されたデータはシフト信号K1,K2の交互動
作により出力されるので、それに伴いデータが格納され
ている最後尾のレジスタ素子Sの位置が変更される。こ
の位置の変更は、図6中の双方向シフトレジスタ610
のHレベルの出力ノードが逆方向にシフトされることで
表わされる。
1に格納されたデータはシフト信号K1,K2の交互動
作により出力されるので、それに伴いデータが格納され
ている最後尾のレジスタ素子Sの位置が変更される。こ
の位置の変更は、図6中の双方向シフトレジスタ610
のHレベルの出力ノードが逆方向にシフトされることで
表わされる。
【0081】ところで、メインキャッシュ103のメモ
リセルアレイからデータが頻繁に転送され、シフトレジ
スタ401の容量を超える場合がある。この場合には、
双方向シフトレジスタ610のHレベルの出力ノードが
最上位の出力ノードRnまで転送されるので、出力ノー
ドRnがHレベルになったことを状態出力回路603で
検出すればオーバフローを起こしたことは容易に検出で
きる。その場合には、状態出力回路603から外部に対
しデータの取込みを禁止する禁止信号を出力して、シフ
トレジスタ610の容量に空きがでるまで待機させる。
リセルアレイからデータが頻繁に転送され、シフトレジ
スタ401の容量を超える場合がある。この場合には、
双方向シフトレジスタ610のHレベルの出力ノードが
最上位の出力ノードRnまで転送されるので、出力ノー
ドRnがHレベルになったことを状態出力回路603で
検出すればオーバフローを起こしたことは容易に検出で
きる。その場合には、状態出力回路603から外部に対
しデータの取込みを禁止する禁止信号を出力して、シフ
トレジスタ610の容量に空きがでるまで待機させる。
【0082】ただし、実際には他のアクセスと非同期的
にメインメモリ101にデータ転送を行ない、メインキ
ャッシュ103のヒット率がある程度高ければ、双方向
シフトレジスタ401′に十数ビットの容量を持たせて
おけば、メインメモリ101のアクセスの遅さを考慮し
ても上記のようなオーバフローを起こすことはほとんど
ない。
にメインメモリ101にデータ転送を行ない、メインキ
ャッシュ103のヒット率がある程度高ければ、双方向
シフトレジスタ401′に十数ビットの容量を持たせて
おけば、メインメモリ101のアクセスの遅さを考慮し
ても上記のようなオーバフローを起こすことはほとんど
ない。
【0083】図7において、メインキャッシュ103の
メモリセルアレイから転送されるデータの通り道が示さ
れている。図6で示した出力ノードR1〜Rnは、それ
ぞれNMOSトランジスタTr71〜7nのドレイン電
極に接続され、各NMOSトランジスタTr71〜7n
のソース電極はインバータおよびNMOSトランジスタ
およびPMOSトランジスタで構成されたトランスファ
ゲートに接続され、ゲート電極に入力されたクロックR
DがHレベルのときNMOSトランジスタTr71〜7
nがオンしトランスファゲートを介してメインメモリ1
03のメモリセルアレイからのデータがシフトレジスタ
401内の対応するレジスタ素子S1〜Snのいずれか
に入力される。
メモリセルアレイから転送されるデータの通り道が示さ
れている。図6で示した出力ノードR1〜Rnは、それ
ぞれNMOSトランジスタTr71〜7nのドレイン電
極に接続され、各NMOSトランジスタTr71〜7n
のソース電極はインバータおよびNMOSトランジスタ
およびPMOSトランジスタで構成されたトランスファ
ゲートに接続され、ゲート電極に入力されたクロックR
DがHレベルのときNMOSトランジスタTr71〜7
nがオンしトランスファゲートを介してメインメモリ1
03のメモリセルアレイからのデータがシフトレジスタ
401内の対応するレジスタ素子S1〜Snのいずれか
に入力される。
【0084】データは出力ノードR1〜Rnのいずれか
が選択されることにより、シフトレジスタ401のレジ
スタ素子S1〜nまでの対応するレジスタ素子Sに転送
され入力される。
が選択されることにより、シフトレジスタ401のレジ
スタ素子S1〜nまでの対応するレジスタ素子Sに転送
され入力される。
【0085】図8は、本発明の第1実施例の半導体記憶
装置によるキャッシュチップ200全体の動作の例を示
すタイミングチャートである。
装置によるキャッシュチップ200全体の動作の例を示
すタイミングチャートである。
【0086】キャッシュチップ200の動作はチップ内
部で自己発振的に発生されるクロックCLKでトリガさ
れる。クロックCLKがLレベルになるとクロックΦ
A,ΦBが動作し、セレクタ403のHノードをインク
リメントする。初期において、シフトレジスタ401中
にデータが蓄積されていないときは出力は禁止状態であ
る。つまり、出力クロックOEはLレベルである。セレ
クタ403のHノードをインクリメントした後、クロッ
クRDにより、メインキャッシュ103のメモリセルア
レイから転送されたデータがセレクタ403からシフト
レジスタ401に転送される。このとき、データはシフ
トレジスタ401のレジスタ素子S1に格納される。こ
れにより、シフトレジスタ401中に出力すべきデータ
が存在するため、出力クロックOEはHレベルとなる。
部で自己発振的に発生されるクロックCLKでトリガさ
れる。クロックCLKがLレベルになるとクロックΦ
A,ΦBが動作し、セレクタ403のHノードをインク
リメントする。初期において、シフトレジスタ401中
にデータが蓄積されていないときは出力は禁止状態であ
る。つまり、出力クロックOEはLレベルである。セレ
クタ403のHノードをインクリメントした後、クロッ
クRDにより、メインキャッシュ103のメモリセルア
レイから転送されたデータがセレクタ403からシフト
レジスタ401に転送される。このとき、データはシフ
トレジスタ401のレジスタ素子S1に格納される。こ
れにより、シフトレジスタ401中に出力すべきデータ
が存在するため、出力クロックOEはHレベルとなる。
【0087】一旦、クロックCLKがHレベルになり、
再びLレベルになると、カウンタの値は2に設定され
る。カウンタの値が2ということは、メインキャッシュ
103のメモリセルアレイから転送されたデータが次に
入力されるシフトレジスタのレジスタ素子S番号が2と
いうことである。同様にして、さらに次のデータはレジ
スタ素子S3に格納される。この後、出力信号OUTが
Lレベルとなり出力バッファ407に入力されるとレジ
スタ素子S1に格納されているデータは出力信号Dou
tとして外部(メインメモリ)に出力される。これによ
り、シフトレジスタ401中の格納データが1段シフト
されるのでカウンタの値がクロックΦC,ΦDによりデ
クリメントされ2に戻る。出力が終了するとシフト系は
シフト信号K1,K2によりシフトする。再び次のCL
Kサイクルによりメインキャッシュ103のメモリセル
アレイから転送されたデータが入力されるシフトレジス
タ401のレジスタ素子S番号は3になる。
再びLレベルになると、カウンタの値は2に設定され
る。カウンタの値が2ということは、メインキャッシュ
103のメモリセルアレイから転送されたデータが次に
入力されるシフトレジスタのレジスタ素子S番号が2と
いうことである。同様にして、さらに次のデータはレジ
スタ素子S3に格納される。この後、出力信号OUTが
Lレベルとなり出力バッファ407に入力されるとレジ
スタ素子S1に格納されているデータは出力信号Dou
tとして外部(メインメモリ)に出力される。これによ
り、シフトレジスタ401中の格納データが1段シフト
されるのでカウンタの値がクロックΦC,ΦDによりデ
クリメントされ2に戻る。出力が終了するとシフト系は
シフト信号K1,K2によりシフトする。再び次のCL
Kサイクルによりメインキャッシュ103のメモリセル
アレイから転送されたデータが入力されるシフトレジス
タ401のレジスタ素子S番号は3になる。
【0088】(2) 第2実施例 図9は、本発明の第2実施例の半導体記憶装置によるサ
ブキャッシュ105の構成を示す図である。
ブキャッシュ105の構成を示す図である。
【0089】図9を参照して、サブキャッシュ105
は、シフトレジスタ401と、セレクタ403と、シフ
トコントロール回路405と、出力バッファ407と、
比較回路909と、出力制御回路911とを含む。
は、シフトレジスタ401と、セレクタ403と、シフ
トコントロール回路405と、出力バッファ407と、
比較回路909と、出力制御回路911とを含む。
【0090】図9において、シフトレジスタ401とセ
レクタ403とシフトコントロール回路405と出力バ
ッファ407とは図4と同様に接続され動作する。比較
回路909は、シフトレジスタ401の最前列のレジス
タ素子S1と次のレジスタ素子S2とに接続され、レジ
スタ素子S1に格納されているデータとレジスタ素子S
2に格納されているデータとを比較してその一致、不一
致を出力する。この動作はレジスタ素子S1に格納され
ているデータが出力される前に予め行なうことができ
る。出力制御回路911は、比較回路909に接続さ
れ、比較出力をもとに出力バッファ407の出力機能を
制御する。制御内容としては、たとえば、レジスタ素子
S1内のデータとレジスタ素子S2内のデータとが一致
する場合には、レジスタ素子S1のデータを出力した後
レジスタ素子S2のデータを出力するまで、出力バッフ
ァ407は出力ノードを同一電位で保持する。また、レ
ジスタ素子S1内のデータとレジスタ素子S2内のデー
タとが不一致である場合には、レジスタ素子S1のデー
タを出力した後レジスタ素子S2のデータを出力するま
での間に、出力バッファ407の出力ノードを一旦リセ
ットして、逆データである次のデータの出力に備える。
レクタ403とシフトコントロール回路405と出力バ
ッファ407とは図4と同様に接続され動作する。比較
回路909は、シフトレジスタ401の最前列のレジス
タ素子S1と次のレジスタ素子S2とに接続され、レジ
スタ素子S1に格納されているデータとレジスタ素子S
2に格納されているデータとを比較してその一致、不一
致を出力する。この動作はレジスタ素子S1に格納され
ているデータが出力される前に予め行なうことができ
る。出力制御回路911は、比較回路909に接続さ
れ、比較出力をもとに出力バッファ407の出力機能を
制御する。制御内容としては、たとえば、レジスタ素子
S1内のデータとレジスタ素子S2内のデータとが一致
する場合には、レジスタ素子S1のデータを出力した後
レジスタ素子S2のデータを出力するまで、出力バッフ
ァ407は出力ノードを同一電位で保持する。また、レ
ジスタ素子S1内のデータとレジスタ素子S2内のデー
タとが不一致である場合には、レジスタ素子S1のデー
タを出力した後レジスタ素子S2のデータを出力するま
での間に、出力バッファ407の出力ノードを一旦リセ
ットして、逆データである次のデータの出力に備える。
【0091】図10は、図9のサブキャッシュ105の
動作を示すタイミングチャートである。
動作を示すタイミングチャートである。
【0092】基本的な動作は図8と同じである。出力が
連続する場合、レジスタ素子S1のデータとレジスタ素
子S2のデータとが等しい場合は、データ出力間で出力
バッファ407を非選択化せずに前出力レベルを保持す
る。また、レジスタ素子S1のデータとレジスタ素子S
2のデータとが等しくない場合は、出力ノードのレベル
を中間電位に設定し次のデータ出力に備える。これによ
り、動作の高速化と低消費電力化を図ることができる。
連続する場合、レジスタ素子S1のデータとレジスタ素
子S2のデータとが等しい場合は、データ出力間で出力
バッファ407を非選択化せずに前出力レベルを保持す
る。また、レジスタ素子S1のデータとレジスタ素子S
2のデータとが等しくない場合は、出力ノードのレベル
を中間電位に設定し次のデータ出力に備える。これによ
り、動作の高速化と低消費電力化を図ることができる。
【0093】(3) 第3実施例 図11は、本発明の第3実施例の半導体記憶装置による
サブキャッシュ105の構成を示す図である。
サブキャッシュ105の構成を示す図である。
【0094】図11を参照して、サブキャッシュ105
は、シフトレジスタ401と、セレクタ403と、シフ
トコントロール回路405と、出力制御回路1110と
を含む。出力制御回路1110は、さらにH/L判別回
路1109と、出力バッファ407とを含み、出力バッ
ファ407は、加算器1111と、D/Aコンバータ1
113とを含む。
は、シフトレジスタ401と、セレクタ403と、シフ
トコントロール回路405と、出力制御回路1110と
を含む。出力制御回路1110は、さらにH/L判別回
路1109と、出力バッファ407とを含み、出力バッ
ファ407は、加算器1111と、D/Aコンバータ1
113とを含む。
【0095】図11において、シフトレジスタ401と
セレクタ403とシフトコントロール回路405とは図
4と同様に構成され動作する。出力制御回路1110に
おいて、H/L判別回路1109は、シフトレジスタ4
01の最前列のレジスタ素子S1に格納されているデー
タがHレベルであるかLレベルであるかを判別し、その
結果によって“+1”または“−1”を出力する。この
動作は予めレジスタ素子S1に格納されているデータが
出力される前に行なうことができる。出力制御回路11
10内のD/Aコンバータ1113と加算器1111と
からなる出力バッファ407は、その動作電位幅を複数
のレベルに分割し、その間のいずれかのレベルでその出
力レベルを示す。すなわち、現出力レベルに対する次出
力レベルの高低が一分割電位分だけ高くなるか低くなる
かで示される。このため、加算器1111が設けられて
おり、次出力レベルがHレベルなら現出力レベルに“+
1”、Lレベルなら現出力レベルに“−1”を加算す
る。
セレクタ403とシフトコントロール回路405とは図
4と同様に構成され動作する。出力制御回路1110に
おいて、H/L判別回路1109は、シフトレジスタ4
01の最前列のレジスタ素子S1に格納されているデー
タがHレベルであるかLレベルであるかを判別し、その
結果によって“+1”または“−1”を出力する。この
動作は予めレジスタ素子S1に格納されているデータが
出力される前に行なうことができる。出力制御回路11
10内のD/Aコンバータ1113と加算器1111と
からなる出力バッファ407は、その動作電位幅を複数
のレベルに分割し、その間のいずれかのレベルでその出
力レベルを示す。すなわち、現出力レベルに対する次出
力レベルの高低が一分割電位分だけ高くなるか低くなる
かで示される。このため、加算器1111が設けられて
おり、次出力レベルがHレベルなら現出力レベルに“+
1”、Lレベルなら現出力レベルに“−1”を加算す
る。
【0096】図12は、図11のサブキャッシュ105
の出力を受けるレシーバ1200の構成を示す図であ
る。
の出力を受けるレシーバ1200の構成を示す図であ
る。
【0097】図12を参照して、レシーバ1200は、
入力データDinが伝送される信号線に初期電位を与え
る初期電位設定回路1201と、入力データDinを遅
延させる遅延回路1203と、遅延回路1203で遅延
された前データと次に入力されるデータとを比較する比
較回路1205と、比較回路1205の比較の結果によ
るデータをラッチするラッチ1207とを含む。
入力データDinが伝送される信号線に初期電位を与え
る初期電位設定回路1201と、入力データDinを遅
延させる遅延回路1203と、遅延回路1203で遅延
された前データと次に入力されるデータとを比較する比
較回路1205と、比較回路1205の比較の結果によ
るデータをラッチするラッチ1207とを含む。
【0098】図12において、図11の出力バッファ4
07から出力されたデータは入力データDinとして遅
延回路1203と比較回路1205とに入力される。遅
延回路1203と比較回路1205とは図11の出力バ
ッファ407に接続され、比較回路1205は遅延回路
1203に接続されている。比較回路1205はさらに
ラッチ1207に接続されている。
07から出力されたデータは入力データDinとして遅
延回路1203と比較回路1205とに入力される。遅
延回路1203と比較回路1205とは図11の出力バ
ッファ407に接続され、比較回路1205は遅延回路
1203に接続されている。比較回路1205はさらに
ラッチ1207に接続されている。
【0099】入力データDinは、初期電位設定回路1
201により予め定められた電位になっている信号線上
を図11のサブキャッシュ105のD/Aコンバータの
動作に従って転送されてくる。そして、これを比較回路
1205で受ける。ここで、入力データのレベルはデー
タごとに変化するので、比較回路1205の基準として
は前データを用いる。すなわち、入力データDinが変
化したとき、比較回路1205は基準電位REFとの比
較を行なうが、この基準電位REFは遅延回路1203
を介して転送された前データを用いる。この比較による
H/Lの判別結果をラッチして内部信号として取扱うこ
とができる。
201により予め定められた電位になっている信号線上
を図11のサブキャッシュ105のD/Aコンバータの
動作に従って転送されてくる。そして、これを比較回路
1205で受ける。ここで、入力データのレベルはデー
タごとに変化するので、比較回路1205の基準として
は前データを用いる。すなわち、入力データDinが変
化したとき、比較回路1205は基準電位REFとの比
較を行なうが、この基準電位REFは遅延回路1203
を介して転送された前データを用いる。この比較による
H/Lの判別結果をラッチして内部信号として取扱うこ
とができる。
【0100】図13は、図11,12のサブキャッシュ
105およびレシーバ1200の動作を示すタイミング
チャートである。
105およびレシーバ1200の動作を示すタイミング
チャートである。
【0101】クロックCLKがHレベルになると入力デ
ータDinのレベルと基準電位REFである前データの
レベルとが比較される。比較の結果、判定ウィンドウA
では入力データDinの方が前データ(基準電位RE
F)より高いレベルであったので、比較回路1205か
ら出力されるH/L判別結果はHレベルとなる。したが
って、ラッチデータはHレベルとなる。同様に、判定ウ
ィンドウBでは、入力データDinの方が前データ(基
準電位REF)よりレベルが高く、H/L判別結果はH
レベルとなり、ラッチデータはHを保持したままであ
る。判定ウィンドウCでは、入力データDinが前デー
タ(基準電位REF)より低いので、H/L判別結果は
Lレベルとなり、ラッチデータはLレベルとなる。判定
ウィンドウDでは、入力データDinが前データ(基準
電位REF)より高いので、H/L判別結果はHレベル
となり、ラッチデータは再びHレベルとなる。判定ウィ
ンドウEでは、入力データDinが前データ(基準電位
REF)と比較して低いので、H/L判別結果はLレベ
ルとなり、ラッチデータはLレベルとなる。判定ウィン
ドウFでは、入力データDinが前データ(基準電位R
EF)と比較して低いので、H/L判別結果はLレベル
となり、ラッチデータはLレベルを保持する。
ータDinのレベルと基準電位REFである前データの
レベルとが比較される。比較の結果、判定ウィンドウA
では入力データDinの方が前データ(基準電位RE
F)より高いレベルであったので、比較回路1205か
ら出力されるH/L判別結果はHレベルとなる。したが
って、ラッチデータはHレベルとなる。同様に、判定ウ
ィンドウBでは、入力データDinの方が前データ(基
準電位REF)よりレベルが高く、H/L判別結果はH
レベルとなり、ラッチデータはHを保持したままであ
る。判定ウィンドウCでは、入力データDinが前デー
タ(基準電位REF)より低いので、H/L判別結果は
Lレベルとなり、ラッチデータはLレベルとなる。判定
ウィンドウDでは、入力データDinが前データ(基準
電位REF)より高いので、H/L判別結果はHレベル
となり、ラッチデータは再びHレベルとなる。判定ウィ
ンドウEでは、入力データDinが前データ(基準電位
REF)と比較して低いので、H/L判別結果はLレベ
ルとなり、ラッチデータはLレベルとなる。判定ウィン
ドウFでは、入力データDinが前データ(基準電位R
EF)と比較して低いので、H/L判別結果はLレベル
となり、ラッチデータはLレベルを保持する。
【0102】(4) 第4実施例 図14は、本発明の第4実施例の半導体記憶装置による
キャッシュチップ1400の構成を示す図である。
キャッシュチップ1400の構成を示す図である。
【0103】図14は、図2のキャッシュチップ200
の構成に分割設定のコマンドレジスタ1401を付加し
たものである。
の構成に分割設定のコマンドレジスタ1401を付加し
たものである。
【0104】図14において、分割設定のコマンドレジ
スタ1401は、メインメモリ101とメインキャッシ
ュ103とサブキャッシュ105とに接続されている。
スタ1401は、メインメモリ101とメインキャッシ
ュ103とサブキャッシュ105とに接続されている。
【0105】このキャッシュシステム1400では、コ
マンドレジスタ1401により選択線、たとえばワード
線の分割数を設定すれば、メインメモリ101とメイン
キャッシュ103とサブキャッシュ105との間の転送
ビット幅やメインメモリの活性領域を設定できるように
なっている。
マンドレジスタ1401により選択線、たとえばワード
線の分割数を設定すれば、メインメモリ101とメイン
キャッシュ103とサブキャッシュ105との間の転送
ビット幅やメインメモリの活性領域を設定できるように
なっている。
【0106】コマンドレジスタとは、アドレス入力ピン
などを利用して、あるタイミングに入力されたアドレス
信号のグループをデコードして内部命令に変えるようラ
ッチしておくレジスタ構成をいう。ここでのコマンドレ
ジスタの命令は転送ビット幅の変更である。したがっ
て、一度コマンドレジスタにアドレス信号のグループを
入力し内部命令を設定してラッチに保持しておけば、同
一の転送ビット幅を保持しながら動作させることができ
る。また、扱うデータの状態が変化して、転送ビット幅
を変化させた方が処理能力が増す場合などは、コマンド
レジスタ1401の書換えを行なうことで転送ビット幅
を任意に変化させることができる。
などを利用して、あるタイミングに入力されたアドレス
信号のグループをデコードして内部命令に変えるようラ
ッチしておくレジスタ構成をいう。ここでのコマンドレ
ジスタの命令は転送ビット幅の変更である。したがっ
て、一度コマンドレジスタにアドレス信号のグループを
入力し内部命令を設定してラッチに保持しておけば、同
一の転送ビット幅を保持しながら動作させることができ
る。また、扱うデータの状態が変化して、転送ビット幅
を変化させた方が処理能力が増す場合などは、コマンド
レジスタ1401の書換えを行なうことで転送ビット幅
を任意に変化させることができる。
【0107】図15は、図14のキャッシュチップ14
00に適したメモリ内のワード線の構成について示す。
図15では、理解の容易性のため、2種類の切換えに限
り説明するが、実際には、分割数は任意である。また、
デコード線やデコーダの数も任意である。
00に適したメモリ内のワード線の構成について示す。
図15では、理解の容易性のため、2種類の切換えに限
り説明するが、実際には、分割数は任意である。また、
デコード線やデコーダの数も任意である。
【0108】各ワード線1a〜1d,2a〜2dは、複
数のデコード線1510の組合せにより、活性化された
デコード線に接続されたデコーダ1503a〜1503
dの活性化により選択される。ワード線1a〜1dはそ
れぞれサブデコーダ1505a〜1505dに接続さ
れ、ワード線2a〜2dはそれぞれサブデコーダ150
7a〜1507dに接続され、デコーダ1503a〜1
503dにより選択され、さらに選択クロックCLK1
で活性化されたサブデコーダ1505a〜1505dま
たは選択クロックCLK2で活性化されたサブデコーダ
1507a〜1507dにより駆動されるワード線が最
終的に活性化される。したがって、この選択クロックC
LK1,CLK2の活性化制御を図14のコマンドレジ
スタ1401で行なえば、転送ビット幅に応じたメモリ
数を活性化できる。たとえば、常に選択クロックCLK
1,CLK2の両方が活性化されるべくコマンドレジス
タ1401を構成すれば、ワード線1a〜1d,2a〜
2dの両方で選択された部分に存在するメモリセルは活
性化される。また、選択クロックCLK1,CLK2の
うちいずれか一方の選択クロックが入力されるアドレス
でデコードされるようにコマンドレジスタ1401を構
成すれば、選択クロックCLK1,CLK2のうちいず
れか一方の選択クロックで選択された部分に存在するメ
モリセルが活性化される。これにより、扱うデータ幅に
より最適な転送ビット幅の設定が可能となり、また、メ
インメモリであるDRAMの活性メモリ数を変化させる
ことで、DRAMの低消費電力化を図ることができる。
数のデコード線1510の組合せにより、活性化された
デコード線に接続されたデコーダ1503a〜1503
dの活性化により選択される。ワード線1a〜1dはそ
れぞれサブデコーダ1505a〜1505dに接続さ
れ、ワード線2a〜2dはそれぞれサブデコーダ150
7a〜1507dに接続され、デコーダ1503a〜1
503dにより選択され、さらに選択クロックCLK1
で活性化されたサブデコーダ1505a〜1505dま
たは選択クロックCLK2で活性化されたサブデコーダ
1507a〜1507dにより駆動されるワード線が最
終的に活性化される。したがって、この選択クロックC
LK1,CLK2の活性化制御を図14のコマンドレジ
スタ1401で行なえば、転送ビット幅に応じたメモリ
数を活性化できる。たとえば、常に選択クロックCLK
1,CLK2の両方が活性化されるべくコマンドレジス
タ1401を構成すれば、ワード線1a〜1d,2a〜
2dの両方で選択された部分に存在するメモリセルは活
性化される。また、選択クロックCLK1,CLK2の
うちいずれか一方の選択クロックが入力されるアドレス
でデコードされるようにコマンドレジスタ1401を構
成すれば、選択クロックCLK1,CLK2のうちいず
れか一方の選択クロックで選択された部分に存在するメ
モリセルが活性化される。これにより、扱うデータ幅に
より最適な転送ビット幅の設定が可能となり、また、メ
インメモリであるDRAMの活性メモリ数を変化させる
ことで、DRAMの低消費電力化を図ることができる。
【0109】(5) 第5実施例 図16は、本発明の第5実施例の半導体記憶装置による
キャッシュチップ1600の構成を示す図である。
キャッシュチップ1600の構成を示す図である。
【0110】図16を参照して、キャッシュチップ16
00は、図2に示すキャッシュチップ200の構成に分
割設定回路1601を加えたものである。
00は、図2に示すキャッシュチップ200の構成に分
割設定回路1601を加えたものである。
【0111】図16において、分割設定回路1601
は、メインメモリ101とメインキャッシュ103とサ
ブキャッシュ105とに接続されている。
は、メインメモリ101とメインキャッシュ103とサ
ブキャッシュ105とに接続されている。
【0112】図16のキャッシュシステム1600で
は、入力信号により分割設定を行なえば、メインメモリ
101とメインキャッシュ103とサブキャッシュ10
5との間の転送ビット幅やメインメモリ101の活性領
域が分割できるようになっている。
は、入力信号により分割設定を行なえば、メインメモリ
101とメインキャッシュ103とサブキャッシュ10
5との間の転送ビット幅やメインメモリ101の活性領
域が分割できるようになっている。
【0113】この構成に適したメモリ内のワード線構成
は図16と同様のものでよい。選択クロックCLK1,
CLK2の活性化制御を入力信号により行ない転送ビッ
ト幅に応じたメモリ数を活性化する。たとえば、常に選
択クロックCLK1,CLK2の両方が活性化されるよ
うに信号を入力すれば、ワード線1a〜1d,2a〜2
dの両方で選択される部分に存在するメモリセルは活性
化される。また選択クロックCLK1,CLK2のうち
いずれか一方の選択クロックが、入力されるアドレスで
デコードされるように信号を入力すれば、選択クロック
CLK1,CLK2のいずれか一方の選択線で選択され
た部分に存在するメモリセルが活性化される。
は図16と同様のものでよい。選択クロックCLK1,
CLK2の活性化制御を入力信号により行ない転送ビッ
ト幅に応じたメモリ数を活性化する。たとえば、常に選
択クロックCLK1,CLK2の両方が活性化されるよ
うに信号を入力すれば、ワード線1a〜1d,2a〜2
dの両方で選択される部分に存在するメモリセルは活性
化される。また選択クロックCLK1,CLK2のうち
いずれか一方の選択クロックが、入力されるアドレスで
デコードされるように信号を入力すれば、選択クロック
CLK1,CLK2のいずれか一方の選択線で選択され
た部分に存在するメモリセルが活性化される。
【0114】図17は、データパケットの転送サイクル
の例を示す図である。図16のキャッシュチップ160
0の構成は、図17で示す転送サイクル1〜3のよう
に、転送幅指定パケット内の情報により、転送されるデ
ータのビット幅が刻々と変化する場合に有用である。
の例を示す図である。図16のキャッシュチップ160
0の構成は、図17で示す転送サイクル1〜3のよう
に、転送幅指定パケット内の情報により、転送されるデ
ータのビット幅が刻々と変化する場合に有用である。
【0115】このようにして、簡単な入力信号で分割設
定が行なえるよう予め登録されているので、第4実施例
の場合より容易に扱うデータ幅により最適の転送ビット
幅やメインメモリであるDRAMの活性メモリセル数を
変化させることで、DRAMの低消費電力化と転送ビッ
トの最適化を図ることができる。
定が行なえるよう予め登録されているので、第4実施例
の場合より容易に扱うデータ幅により最適の転送ビット
幅やメインメモリであるDRAMの活性メモリセル数を
変化させることで、DRAMの低消費電力化と転送ビッ
トの最適化を図ることができる。
【0116】(6) 第6実施例 図18は、図14,16のキャッシュチップ1400,
1600の構成に適したメモリ内のワード線の構成の他
の例を示す図である。
1600の構成に適したメモリ内のワード線の構成の他
の例を示す図である。
【0117】図18において、このワード線の構成は、
図15に示したワード線の構成において、選択クロック
CLK1,CLK2を複数に分割している。これは、メ
モリ容量が増大し、ワード線1a〜1d,2a〜2dを
選択するための選択クロックCLK1,CLK2の寄生
容量が増大して消費電力が増大するのを防ぐためであ
る。これにより、不使用のデコーダに接続されたワード
線が活性化される可能性は小さくなるのでさらに低消費
電力化が図れる。
図15に示したワード線の構成において、選択クロック
CLK1,CLK2を複数に分割している。これは、メ
モリ容量が増大し、ワード線1a〜1d,2a〜2dを
選択するための選択クロックCLK1,CLK2の寄生
容量が増大して消費電力が増大するのを防ぐためであ
る。これにより、不使用のデコーダに接続されたワード
線が活性化される可能性は小さくなるのでさらに低消費
電力化が図れる。
【0118】
【発明の効果】請求項1の半導体記憶装置においては、
第2のSRAMにおいて、常時第1のSRAMからデー
タが受取られ、受取られたデータが保持され、DRAM
がレディ状態のときに保持されたデータがDRAMに送
出されるので、サブキャッシュである第2のSRAMか
らメインメモリであるDRAMへのデータの転送動作に
よるアクセスが、DRAMの他の転送動作やリフレッシ
ュ動作によるアクセスと競合することが少なくなる。
第2のSRAMにおいて、常時第1のSRAMからデー
タが受取られ、受取られたデータが保持され、DRAM
がレディ状態のときに保持されたデータがDRAMに送
出されるので、サブキャッシュである第2のSRAMか
らメインメモリであるDRAMへのデータの転送動作に
よるアクセスが、DRAMの他の転送動作やリフレッシ
ュ動作によるアクセスと競合することが少なくなる。
【0119】その結果、アクセスの競合による待機時間
などのロスが少なくなり、サブキャッシュである第2の
SRAMからメインメモリであるDRAMへの転送動作
をスムーズに要領よく行なうことが可能な半導体記憶装
置を提供することができる。
などのロスが少なくなり、サブキャッシュである第2の
SRAMからメインメモリであるDRAMへの転送動作
をスムーズに要領よく行なうことが可能な半導体記憶装
置を提供することができる。
【0120】請求項2の半導体記憶装置においては、請
求項1の半導体記憶装置の効果に加えて、受取ったデー
タを格納するとき、複数のレジスタ素子のうちデータ送
出手段に最も近い空のレジスタ素子が格納先として選択
されるので、最小限のレジスタ素子をデータがシフトさ
れ、短時間でメインメモリであるDRAMにデータの送
出ができる。
求項1の半導体記憶装置の効果に加えて、受取ったデー
タを格納するとき、複数のレジスタ素子のうちデータ送
出手段に最も近い空のレジスタ素子が格納先として選択
されるので、最小限のレジスタ素子をデータがシフトさ
れ、短時間でメインメモリであるDRAMにデータの送
出ができる。
【0121】その結果、サブキャッシュである第2のS
RAMに保持されているデータをメインメモリであるD
RAMに短時間でスムーズに転送することが可能な半導
体記憶装置を提供することができる。
RAMに保持されているデータをメインメモリであるD
RAMに短時間でスムーズに転送することが可能な半導
体記憶装置を提供することができる。
【0122】請求項3の半導体記憶装置においては、請
求項2の半導体記憶装置の効果に加えて、セレクタは、
次にデータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示すの
で、フラグを利用して各レジスタ素子Sへデータの格納
が行なわれる。
求項2の半導体記憶装置の効果に加えて、セレクタは、
次にデータを格納すべきレジスタ素子をフラグで示すの
で、フラグを利用して各レジスタ素子Sへデータの格納
が行なわれる。
【0123】その結果、データの格納が容易となる。請
求項4の半導体記憶装置においては、請求項1から3の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、第1のSR
AMにおいて、データのDRAMでのアドレスがタグデ
ータとして格納され、外部アドレスとタグメモリに格納
されているDRAMのアドレスとが比較され、一致した
とき第1のSRAMの選択線のいずれかが駆動されるの
で、入力されたアドレスとタグメモリに格納されている
DRAMのアドレスとが一致したとき、第1のSRAM
に格納されているそのアドレスに対応するデータを他の
操作をすることなしに直接得ることができる。
求項4の半導体記憶装置においては、請求項1から3の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、第1のSR
AMにおいて、データのDRAMでのアドレスがタグデ
ータとして格納され、外部アドレスとタグメモリに格納
されているDRAMのアドレスとが比較され、一致した
とき第1のSRAMの選択線のいずれかが駆動されるの
で、入力されたアドレスとタグメモリに格納されている
DRAMのアドレスとが一致したとき、第1のSRAM
に格納されているそのアドレスに対応するデータを他の
操作をすることなしに直接得ることができる。
【0124】その結果、第1のSRAMに格納されたデ
ータを取出すときの操作を簡略化することができる。
ータを取出すときの操作を簡略化することができる。
【0125】請求項5の半導体記憶装置においては、請
求項1から4のいずれかの半導体記憶装置の効果に加え
て、第2のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとを比較
し、一致したとき第2のSRAMの選択線のいずれかが
駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに格
納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、第
2のSRAMに格納されているそのアドレスに対応する
データを他の操作をすることなしに直接得ることができ
る。
求項1から4のいずれかの半導体記憶装置の効果に加え
て、第2のSRAMにおいて、データのDRAMでのア
ドレスがタグデータとして格納され、外部アドレスとタ
グメモリに格納されているDRAMのアドレスとを比較
し、一致したとき第2のSRAMの選択線のいずれかが
駆動されるので、入力されたアドレスとタグメモリに格
納されているDRAMのアドレスとが一致したとき、第
2のSRAMに格納されているそのアドレスに対応する
データを他の操作をすることなしに直接得ることができ
る。
【0126】その結果、第2のSRAMに格納されたデ
ータを取出すときの操作を簡略化することができる。
ータを取出すときの操作を簡略化することができる。
【0127】請求項6の半導体記憶装置においては、外
部データとタグメモリに格納されているデータとを比較
し、一致したときSRAMの選択線のいずれかが駆動さ
れるので、入力された外部データとタグメモリに格納さ
れているデータとが一致したとき、SRAMに格納され
ているそのデータに関連のあるデータを他の操作をする
ことなしに直接得ることができる。
部データとタグメモリに格納されているデータとを比較
し、一致したときSRAMの選択線のいずれかが駆動さ
れるので、入力された外部データとタグメモリに格納さ
れているデータとが一致したとき、SRAMに格納され
ているそのデータに関連のあるデータを他の操作をする
ことなしに直接得ることができる。
【0128】その結果、SRAMに格納されたデータを
取出すときの操作を簡略化することができる。
取出すときの操作を簡略化することができる。
【0129】請求項7の半導体記憶装置においては、請
求項1から5のいずれかの半導体記憶装置の効果に加え
て、第2のSRAMで、データ保持手段で保持されてい
るデータが出力されるので、第2のSRAMに直接アク
セスして、該当するデータが保持されていればそれを得
ることができる。
求項1から5のいずれかの半導体記憶装置の効果に加え
て、第2のSRAMで、データ保持手段で保持されてい
るデータが出力されるので、第2のSRAMに直接アク
セスして、該当するデータが保持されていればそれを得
ることができる。
【0130】その結果、第2のSRAMに格納されてい
るメインメモリに転送される前のデータでもアクセス可
能な半導体記憶装置を提供することができる。
るメインメモリに転送される前のデータでもアクセス可
能な半導体記憶装置を提供することができる。
【0131】請求項8の半導体記憶装置においては、請
求項7の半導体記憶装置の効果に加えて、第2のSRA
Mで、保持しているデータをDRAMに出力するとき、
次に出力する次データの電位と次データより前に出力さ
れた前データの電位とが比較され、比較結果に基づい
て、DRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位にする処理が
行なわれるので、次データの電位が前データの電位に等
しくない場合はDRAMへの出力ノードの電位を次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位に、次データ
の電位が前データの電位に等しい場合は、前データの電
位を保持することにより次データの出力に備えることが
できる。
求項7の半導体記憶装置の効果に加えて、第2のSRA
Mで、保持しているデータをDRAMに出力するとき、
次に出力する次データの電位と次データより前に出力さ
れた前データの電位とが比較され、比較結果に基づい
て、DRAMへの出力ノードの電位を保持したり次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位にする処理が
行なわれるので、次データの電位が前データの電位に等
しくない場合はDRAMへの出力ノードの電位を次デー
タの電位と前データの電位との中間の電位に、次データ
の電位が前データの電位に等しい場合は、前データの電
位を保持することにより次データの出力に備えることが
できる。
【0132】その結果、無駄な電位変動が少なくなり、
低消費電力化および動作の高速化が可能となる。
低消費電力化および動作の高速化が可能となる。
【0133】請求項9の半導体記憶装置においては、請
求項8の半導体記憶装置の効果に加えて、第1の比較手
段で、次データの電位が前データの電位と比較して高け
れば第1の論理レベルのデータが、低ければ第2の論理
レベルのデータが出力されるので、出力される次データ
の電位が前データの電位と比較して高いか低いかを第1
または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことができ
る。
求項8の半導体記憶装置の効果に加えて、第1の比較手
段で、次データの電位が前データの電位と比較して高け
れば第1の論理レベルのデータが、低ければ第2の論理
レベルのデータが出力されるので、出力される次データ
の電位が前データの電位と比較して高いか低いかを第1
または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことができ
る。
【0134】請求項10の半導体記憶装置においては、
請求項9の半導体記憶装置の効果に加えて、第2出力手
段で、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベ
ルのときは+1が、第2の論理レベルのときは−1が前
加算結果に加算され、加算結果がディジタルデータから
アナログデータに変換されるので、出力データの電位の
変化が+1の加算および−1の減算による累算で表わさ
れ、ディジタルデータからアナログデータに変換され
る。
請求項9の半導体記憶装置の効果に加えて、第2出力手
段で、出力されたデータの論理レベルが第1の論理レベ
ルのときは+1が、第2の論理レベルのときは−1が前
加算結果に加算され、加算結果がディジタルデータから
アナログデータに変換されるので、出力データの電位の
変化が+1の加算および−1の減算による累算で表わさ
れ、ディジタルデータからアナログデータに変換され
る。
【0135】請求項11の半導体記憶装置においては、
請求項9または10の半導体記憶装置の効果に加えて、
DRAMで、第2の出力手段から出力された第1または
第2の論理レベルのデータが受取られ、受取られた第1
または第2の論理レベルのデータがこのデータより前に
受取られた第1または第2の論理レベルの前受取データ
を基準電位として比較されるので、受取られたデータの
電位が前受取データの電位と比較して高いか低いかを第
1または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことがで
きる。
請求項9または10の半導体記憶装置の効果に加えて、
DRAMで、第2の出力手段から出力された第1または
第2の論理レベルのデータが受取られ、受取られた第1
または第2の論理レベルのデータがこのデータより前に
受取られた第1または第2の論理レベルの前受取データ
を基準電位として比較されるので、受取られたデータの
電位が前受取データの電位と比較して高いか低いかを第
1または第2の論理レベルを用いて簡単に示すことがで
きる。
【0136】請求項12の半導体記憶装置においては、
請求項11の半導体記憶装置の効果に加えて、第2比較
手段で、受取られた第1または第2の論理レベルのデー
タが遅延されるで、次に行なわれる比較の基準となる前
受取データを生成することができない。
請求項11の半導体記憶装置の効果に加えて、第2比較
手段で、受取られた第1または第2の論理レベルのデー
タが遅延されるで、次に行なわれる比較の基準となる前
受取データを生成することができない。
【0137】その結果、遅延された第1または第2の論
理レベルのデータを次に行なわれる比較の基準となる前
受信データとして使用することができる。
理レベルのデータを次に行なわれる比較の基準となる前
受信データとして使用することができる。
【0138】請求項13の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、DRAM
で、外部信号が入力され、入力された外部信号がデコー
ドされ、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンによりいずれかの選択線が選択され、所定の数のメモ
リセルが活性化されるので、外部信号を入力することに
より、メモリメモリであるDRAM中の必要なメモリセ
ルのみが活性化されるように制御することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、DRAM
で、外部信号が入力され、入力された外部信号がデコー
ドされ、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンによりいずれかの選択線が選択され、所定の数のメモ
リセルが活性化されるので、外部信号を入力することに
より、メモリメモリであるDRAM中の必要なメモリセ
ルのみが活性化されるように制御することができる。
【0139】請求項14の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置において、DRAMで、外部
信号が入力され、入力された外部信号がデコードされ、
デコーダから与えられるデコード信号のパターンによ
り、予め登録されていたデコード信号のパターンに基づ
いていずれかの選択線が選択され所定の数のメモリセル
が活性化されるので、比較的簡易な外部信号を入力する
ことによりDRAM中の必要なメモリセルのみが活性化
されるように制御することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置において、DRAMで、外部
信号が入力され、入力された外部信号がデコードされ、
デコーダから与えられるデコード信号のパターンによ
り、予め登録されていたデコード信号のパターンに基づ
いていずれかの選択線が選択され所定の数のメモリセル
が活性化されるので、比較的簡易な外部信号を入力する
ことによりDRAM中の必要なメモリセルのみが活性化
されるように制御することができる。
【0140】その結果、DRAMの低消費電力化を図る
ことが可能となる。請求項15の半導体記憶装置におい
ては、請求項13または14の半導体記憶装置の効果に
加えて、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンにより、デコード信号のパターンに基づいて、DRA
Mおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間のデー
タの転送ビット幅が変更されるので、比較的簡易な外部
信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビット幅
を変更することができる。
ことが可能となる。請求項15の半導体記憶装置におい
ては、請求項13または14の半導体記憶装置の効果に
加えて、デコーダから与えられるデコード信号のパター
ンにより、デコード信号のパターンに基づいて、DRA
Mおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間のデー
タの転送ビット幅が変更されるので、比較的簡易な外部
信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビット幅
を変更することができる。
【0141】請求項16の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、外部信号が
入力され、入力された外部信号がデコードされ、デコー
ダから与えられるデコード信号のパターンにより、予め
登録されていたデコード信号のパターンに基づいて、D
RAMおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間の
データの転送ビット幅か変更されるので、比較的簡易な
外部信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビッ
ト幅を変更することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項12の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、外部信号が
入力され、入力された外部信号がデコードされ、デコー
ダから与えられるデコード信号のパターンにより、予め
登録されていたデコード信号のパターンに基づいて、D
RAMおよび第1のSRAMおよび第2のSRAM間の
データの転送ビット幅か変更されるので、比較的簡易な
外部信号を入力することにより、各メモリ間の転送ビッ
ト幅を変更することができる。
【0142】その結果、転送ビット幅の最適化を図るこ
とができ、低消費電力化および動作の高速化が可能とな
る。
とができ、低消費電力化および動作の高速化が可能とな
る。
【0143】請求項17の半導体記憶装置においては、
請求項15または16の半導体記憶装置の効果に加え
て、転送ビット幅は所定の時間が経過するごとに変動す
るパラメータにより刻々と変化するので、パラメータの
変動に基づいて、入力する外部信号を設定することがで
きる。
請求項15または16の半導体記憶装置の効果に加え
て、転送ビット幅は所定の時間が経過するごとに変動す
るパラメータにより刻々と変化するので、パラメータの
変動に基づいて、入力する外部信号を設定することがで
きる。
【0144】その結果、低消費電力化および動作の高速
化を入力する外部信号の設定により容易に図ることがで
きる。
化を入力する外部信号の設定により容易に図ることがで
きる。
【0145】請求項18の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち1つの選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち1つの選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
【0146】その結果、活性化されるメモリセルの数の
調整が可能となり低消費電力化が可能となる。
調整が可能となり低消費電力化が可能となる。
【0147】請求項19の半導体記憶装置においては、
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち複数の選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
請求項1から請求項5および請求項7から請求項17の
いずれかの半導体記憶装置の効果に加えて、アドレス信
号が入力され、入力されたアドレス信号に応答して第1
の方向に配置された複数の第1の選択線のうちのいずれ
かが選択され、第1の方向と交わる第2の方向に配置さ
れた複数のブロックの各々において、第1の選択線に対
応して設けられた複数の第2の選択線のうち複数の選択
クロックに応答して対応する1つの第2の選択線が選択
されるので、選択クロックのオン/オフにより、駆動す
る選択線の範囲を調整することができる。
【0148】その結果、活性化されるメモリセルの細か
い調整が可能となり、さらなる低消費電力化が可能とな
る。
い調整が可能となり、さらなる低消費電力化が可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施例の半導体記憶装置による
キャッシュシステム100の構成を示す図である。
キャッシュシステム100の構成を示す図である。
【図2】 図1のキャッシュシステム100を含むキャ
ッシュチップ200の構成を示す図である。
ッシュチップ200の構成を示す図である。
【図3】 図1のメインキャッシュ103およびサブキ
ャッシュ105のキャッシュメモリ300の構成を示す
図である。
ャッシュ105のキャッシュメモリ300の構成を示す
図である。
【図4】 図1のサブキャッシュ105の構成を示す図
である。
である。
【図5】 図4のシフトレジスタ401の回路図であ
る。
る。
【図6】 図4のセレクタ403に含まれているトラン
スファゲート群700を制御するための選択回路600
を示す図である。
スファゲート群700を制御するための選択回路600
を示す図である。
【図7】 図4のセレクタ403に含まれているメイン
キャッシュ103のメモリセルアレイからのデータをシ
フトレジスタ401に転送するためのトランスファゲー
ト群700の構成を示す図である。
キャッシュ103のメモリセルアレイからのデータをシ
フトレジスタ401に転送するためのトランスファゲー
ト群700の構成を示す図である。
【図8】 本発明の第1実施例のキャッシュシステム全
体の動作を示すタイミングチャートである。
体の動作を示すタイミングチャートである。
【図9】 本発明の第2実施例の半導体記憶装置による
サブキャッシュ105の構成を示す図である。
サブキャッシュ105の構成を示す図である。
【図10】 図9のサブキャッシュ105の動作を示す
タイミングチャートである。
タイミングチャートである。
【図11】 本発明の第3実施例のサブキャッシュ10
5の構成を示す図である。
5の構成を示す図である。
【図12】 図11のサブキャッシュ105の出力を受
けるレシーバ1200の構成を示す図である。
けるレシーバ1200の構成を示す図である。
【図13】 図11,12のサブキャッシュ105およ
びレシーバ1200の動作を示すタイミングチャートで
ある。
びレシーバ1200の動作を示すタイミングチャートで
ある。
【図14】 本発明の第4実施例の半導体記憶装置によ
るキャッシュチップ1400の構成を示す図である。
るキャッシュチップ1400の構成を示す図である。
【図15】 図14のキャッシュチップ1400に適し
たメインメモリ内のワード線の構成を示す図である。
たメインメモリ内のワード線の構成を示す図である。
【図16】 本発明の第5実施例の半導体記憶装置によ
るキャッシュチップ1600の構成を示す図である。
るキャッシュチップ1600の構成を示す図である。
【図17】 データパケットの転送サイクルの例を示す
図である。
図である。
【図18】 図16のキャッシュチップ1600に適し
たメインメモリ内のワード線の構成の他の例を示す図で
ある。
たメインメモリ内のワード線の構成の他の例を示す図で
ある。
【図19】 従来のキャッシュシステム1900の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図20】 図19のキャッシュシステム1900を備
えた従来のキャッシュチップ2000の構成の例を示す
図である。
えた従来のキャッシュチップ2000の構成の例を示す
図である。
101 メインメモリ、103 メインキャッシュ、1
05 サブキャッシュ、401 シフトレジスタ、40
3 セレクタ、405 シフトコントロール回路、40
7 出力バッファ、605 リセット回路、601,6
03 状態出力回路、909,1205 比較回路、9
11 出力制御回路、1109 H/L判別回路、11
10 出力制御回路、1111 加算器、1113 D
/Aコンバータ、1201 初期電位設定回路、120
3 遅延回路、1207 ラッチ、1200 レシー
バ、1401 分割設定のコマンドレジスタ、100
キャッシュシステム、200,1400,1600 キ
ャッシュチップ、S1〜Snレジスタ素子、610 双
方向レジスタ、600 選択回路、700 トランスフ
ァゲート群。
05 サブキャッシュ、401 シフトレジスタ、40
3 セレクタ、405 シフトコントロール回路、40
7 出力バッファ、605 リセット回路、601,6
03 状態出力回路、909,1205 比較回路、9
11 出力制御回路、1109 H/L判別回路、11
10 出力制御回路、1111 加算器、1113 D
/Aコンバータ、1201 初期電位設定回路、120
3 遅延回路、1207 ラッチ、1200 レシー
バ、1401 分割設定のコマンドレジスタ、100
キャッシュシステム、200,1400,1600 キ
ャッシュチップ、S1〜Snレジスタ素子、610 双
方向レジスタ、600 選択回路、700 トランスフ
ァゲート群。
Claims (19)
- 【請求項1】 メインメモリとして動作するDRAM
と、 メインキャッシュとして動作する第1のSRAMと、 サブキャッシュとして動作する第2のSRAMとを含
み、 前記第2のSRAMは、 常時、前記第1のSRAMからデータを受取る第1のデ
ータ受取手段と、 受取ったデータを保持するデータ保持手段と、 前記DRAMがレディ状態のときに、保持されたデータ
を前記DRAMに送出すデータ送出手段とを含む半導体
記憶装置。 - 【請求項2】 前記データ保持手段は、 データを格納する複数のレジスタ素子からなるシフトレ
ジスタを含み、 前記第1のデータ受取手段は、 受取ったデータを格納するとき前記複数のレジスタ素子
のうち前記データ送出手段に最も近い空のレジスタ素子
を格納先として選択するセレクタをさらに含む請求項1
に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記セレクタは、次にデータを格納すべ
きレジスタ素子をフラグで示す請求項2に記載の半導体
記憶装置。 - 【請求項4】 前記第1のSRAMは、 複数の選択線を含み、 データの前記DRAMでのアドレスをタグデータとして
格納するタグメモリと、 外部アドレスと前記タグメモリに格納されている前記D
RAMのアドレスとを比較し、一致したとき第1のSR
AMの選択線のいずれかを駆動する比較選択手段とをさ
らに含む請求項1から3のいずれかに記載の半導体記憶
装置。 - 【請求項5】 前記第2のSRAMは、 複数の選択線を含み、 データの前記DRAMでのアドレスをタグデータとして
格納するタグメモリと、 外部アドレスと前記タグメモリに格納されている前記D
RAMのアドレスと比較し、一致したとき前記第2のS
RAMの選択線のいずれかを駆動する比較選択手段とを
さらに含む請求項1から4のいずれかに記載の半導体記
憶装置。 - 【請求項6】 複数の選択線を有し、キャッシュメモリ
として動作するSRAMと、 データを格納するタグメモリと、 外部データと前記タグメモリに格納されているデータと
を比較し、一致したとき前記SRAMの選択線のいずれ
かを駆動する比較選択手段とを含む半導体記憶装置。 - 【請求項7】 前記第2のSRAMは、 前記データ保持手段で保持されているデータを出力する
第1のデータ出力手段をさらに含む請求項1から5に記
載の半導体記憶装置。 - 【請求項8】 前記第2のSRAMは、 保持しているデータを前記DRAMに出力するとき、次
に出力する次データの電位と前記次データより前に出力
された前データの電位とを比較する第1の比較手段と、 前記比較結果に基づいて前記DRAMへの出力ノードの
電位を保持したり前記次データの電位と前記前データの
電位との中間の電位にしたりする処理を行なう電位処理
手段とをさらに含む請求項7に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項9】 前記第1の比較手段は、 前記次データの電位が前記前データの電位と比較して高
ければ第1の論理レベルのデータを、低ければ第2の論
理レベルのデータを出力する第2のデータ出力手段をさ
らに含む請求項8に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項10】 前記第2のデータ出力手段は、 出力されたデータの論理レベルが前記第1の論理レベル
のときは+1を、前記第2の論理レベルのときは−1を
前加算結果に加算する加算回路と、 前記加算結果をディジタルデータからアナログデータに
変換するD/Aコンバータとをさらに含む請求項9に記
載の半導体記憶装置。 - 【請求項11】 前記DRAMは、 前記出力手段から出力された前記第1または第2の論理
レベルのデータを受取る第2の受取手段と、 受取った前記第1または第2の論理レベルのデータをそ
れより前に受取っていた前記第1または第2の論理レベ
ルの前受取データを基準電位として比較する第2の比較
手段とをさらに含む請求項9または10に記載の半導体
記憶装置。 - 【請求項12】 前記第2の比較手段は、 受取った前記第1または第2の論理レベルのデータを遅
延する遅延回路をさらに含む請求項11に記載の半導体
記憶装置。 - 【請求項13】 前記DRAMは、 複数のメモリセルと、 前記メモリセルが接続された複数の選択線と、 外部信号を入力する入力手段と、 入力された前記外部信号をデコードするデコーダと、 前記デコーダから与えられるデコード信号のパターンに
より、いずれかの前記選択線を選択し、所定の数の前記
メモリセルを活性化するメモリセル活性化手段とをさら
に含む請求項1から請求項5および請求項7から請求項
12のいずれかに記載の半導体記憶装置。 - 【請求項14】 前記DRAMは、 複数のメモリセルと、 前記メモリセルが接続された複数の選択線と、 外部信号を入力する入力手段と、 入力された前記外部信号をデコードするデコーダと、 前記デコーダから与えられるデコード信号により、予め
登録されていた前記デコード信号のパターンに基づいて
いずれかの前記選択線を選択し所定の数の前記メモリセ
ルを活性化するメモリセル活性化手段とをさらに含む請
求項1から5のいずれかまたは請求項7から12のいず
れかに記載の半導体記憶装置。 - 【請求項15】 前記デコーダから与えられるデコード
信号により、前記デコード信号のパターンに基づいて前
記DRAMと前記第1のSRAMと前記第2のSRAM
との間のデータの転送ビット幅を変更する転送ビット幅
変更手段をさらに含む請求項13または14に記載の半
導体記憶装置。 - 【請求項16】 外部信号を入力する入力手段と、 入力された前記外部信号をデコードするデコーダと、 前記デコーダから与えられるデコード信号により、予め
登録されていた前記デコード信号のパターンに基づい
て、前記DRAMと前記第1のSRAMと前記第2のS
RAMとの間のデータの転送ビット幅を変更する転送ビ
ット幅変更手段とをさらに含む請求項1から請求項5お
よび請求項7から請求項12のいずれかに記載の半導体
記憶装置。 - 【請求項17】 前記転送ビット幅は、所定の時間が経
過するごとに所定のパラメータにより刻々と変化する請
求項15または16に記載の半導体記憶装置。 - 【請求項18】 前記DRAMは、 アドレス信号を入力するアドレス信号入力手段と、 第1の方向に配置された複数の第1の選択線と、 前記アドレス信号に応答して前記第1の選択線のうちの
いずれかを選択する第1のデコーダと、 前記第1の方向と交わる第2の方向に配置され各々が対
応する1つの選択クロックを受ける複数のブロックとを
含み、 前記各ブロックは、 前記第1の選択線に対応して設けられた複数の第2の選
択線と、 前記1つの選択クロックに応答して前記第2の選択線の
うち対応する1つの選択線を選択する複数の第2のデコ
ーダとを含む請求項1から請求項5および請求項7から
請求項17のいずれかに記載の半導体記憶装置。 - 【請求項19】 前記DRAMはアドレス信号を入力す
るアドレス信号入力手段と、 第1の方向に配置された複数の第1の選択線と、 前記アドレス信号に応答して前記第1の選択線のうちの
いずれかを選択する第1のデコーダと、 前記第1の方向と交わる第2の方向に配置され各々が対
応する複数の選択クロックを受ける複数のブロックを含
み、 前記各ブロックは、 前記第1の選択線に対応して設けられた複数の第2の選
択線と、 前記複数の選択クロックに応答して前記第2の選択線の
うち対応する1つの選択線を選択する複数の第2のデコ
ーダとを含む請求項1から請求項5および請求項7から
請求項17のいずれかに記載の半導体記憶装置。
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