JPH09165372A - 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法 - Google Patents
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法Info
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- JPH09165372A JPH09165372A JP34759995A JP34759995A JPH09165372A JP H09165372 A JPH09165372 A JP H09165372A JP 34759995 A JP34759995 A JP 34759995A JP 34759995 A JP34759995 A JP 34759995A JP H09165372 A JPH09165372 A JP H09165372A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 置換スルホニルシアニドとシクロペンタ
ジエンとを炭化水素溶媒中および/または芳香族炭化水
素溶媒中で環付加させることによる合成中間体の溶液を
得る第1工程、該合成中間体の溶液を水および水溶性溶
媒からなる混合溶媒中に反応系のpHが3〜7となる条
件下で添加し、該合成中間体を加水分解する第2工程か
らなる。 【効果】 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5
−エン−3−オンを高純度、高収率で経済的にかつ安全
に合成することができる。
ジエンとを炭化水素溶媒中および/または芳香族炭化水
素溶媒中で環付加させることによる合成中間体の溶液を
得る第1工程、該合成中間体の溶液を水および水溶性溶
媒からなる混合溶媒中に反応系のpHが3〜7となる条
件下で添加し、該合成中間体を加水分解する第2工程か
らなる。 【効果】 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5
−エン−3−オンを高純度、高収率で経済的にかつ安全
に合成することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗ウイルス剤など
医薬品として有用なカルボサイクリックヌクレオシド類
を合成するための中間体である2−アザビシクロ[2.
2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法に関す
る。
医薬品として有用なカルボサイクリックヌクレオシド類
を合成するための中間体である2−アザビシクロ[2.
2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】カルボサイクリックヌクレオシドは、ヌ
クレオシドのフラノース環を構成する酸素原子をメチレ
ン基で置換した構造を持ち、その構造が天然のヌクレオ
シドとよく類似しているため、生体内の各種の酵素の基
質や阻害剤として働き得る。また、グリコシド結合を持
たないため、ヌクレオシドホスホリラーゼやヒドラーゼ
等による開裂を受けず、代謝経路も天然のヌクレオシド
とは異なるため多彩な生理活性を示す。例えば菌代謝物
であるカルボサイクリックアデノシンはアリステロミシ
ン(Aristeromycin)として知られてお
り、強い細胞毒性を示すことで注目されている。
クレオシドのフラノース環を構成する酸素原子をメチレ
ン基で置換した構造を持ち、その構造が天然のヌクレオ
シドとよく類似しているため、生体内の各種の酵素の基
質や阻害剤として働き得る。また、グリコシド結合を持
たないため、ヌクレオシドホスホリラーゼやヒドラーゼ
等による開裂を受けず、代謝経路も天然のヌクレオシド
とは異なるため多彩な生理活性を示す。例えば菌代謝物
であるカルボサイクリックアデノシンはアリステロミシ
ン(Aristeromycin)として知られてお
り、強い細胞毒性を示すことで注目されている。
【0003】さらに、最近カルボサイクリック−2,3
−ジデオキシ−2,3−ジデヒドログアノシンが抗HI
V剤として開発されつつある(R.Vinceら、B.
B.R.C.,156,1046(1988)参照)。
−ジデオキシ−2,3−ジデヒドログアノシンが抗HI
V剤として開発されつつある(R.Vinceら、B.
B.R.C.,156,1046(1988)参照)。
【0004】2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−
5−エン−3−オンは、これらのカルボサイクリックヌ
クレオシドのカルボサイクリック部である、2α,3α
−ジヒドロキシ−4−β−アミノシクロペンタノン−1
β−メタノールあるいは、シス−4−アミノシクロペン
ト−2−エン−1β−メタノール等を純化学的に合成す
るための中間体として、最も頻繁に利用されている化合
物である(R.Vince et al. J.Or
g.Chem.,43,2311(1978);B.
L.Kamm et al. J.Org.Che
m.,46,3268(1981);W.C.Fait
h et al. J.Org.Chem.,50,1
983(1985)等参照)。
5−エン−3−オンは、これらのカルボサイクリックヌ
クレオシドのカルボサイクリック部である、2α,3α
−ジヒドロキシ−4−β−アミノシクロペンタノン−1
β−メタノールあるいは、シス−4−アミノシクロペン
ト−2−エン−1β−メタノール等を純化学的に合成す
るための中間体として、最も頻繁に利用されている化合
物である(R.Vince et al. J.Or
g.Chem.,43,2311(1978);B.
L.Kamm et al. J.Org.Che
m.,46,3268(1981);W.C.Fait
h et al. J.Org.Chem.,50,1
983(1985)等参照)。
【0005】2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−
5−エン−3−オンの既知の製造法としては、シクロペ
ンタジエンとp−トルエンスルホニルシアニドを環付加
することにより、中間体3−p−トルエンスルホニル−
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエ
ンとし、酢酸を用いて3位のトルエンスルホニル基を除
去する方法(J.C.Jagt et al.J.Or
g.Chem.,39,564(1974);R.Vi
nce et al. J.Org.Chem.,4
3,2311(1978)等参照)が知られている。
5−エン−3−オンの既知の製造法としては、シクロペ
ンタジエンとp−トルエンスルホニルシアニドを環付加
することにより、中間体3−p−トルエンスルホニル−
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエ
ンとし、酢酸を用いて3位のトルエンスルホニル基を除
去する方法(J.C.Jagt et al.J.Or
g.Chem.,39,564(1974);R.Vi
nce et al. J.Org.Chem.,4
3,2311(1978)等参照)が知られている。
【0006】しかるに、上記の方法を工業的規模で実施
しようとすると、 p−トルエンスルホニルシアニドに対し化学量論的に
は等モルでよいシクロペンタジエンを15〜35倍モル
と大過剰に使用しなければならないこと、 得られた中間体である3−p−トルエンスルホニル−
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエ
ンを濃縮して取り出し、粉末に粉砕する工程を必要とす
ること、 得られた中間体を分解する際に5〜23倍モルと大過
剰の酢酸を一気に加えなければならず、急激な発熱反応
をコントロールしなければならないこと、 で発熱反応がコントロールできず反応温度が上昇し
すぎた場合には、目的物が全く得られないか、あるい
は、非常に低収率でしか得られないこと、 中間体の分解反応時に固体状副生成物が生成し、攪拌
不能となる場合がある等の問題点が挙げられ、したがっ
て、上記の方法は、経済性および安全性の面からも工業
的に満足しうる合成法とは言いがたい。
しようとすると、 p−トルエンスルホニルシアニドに対し化学量論的に
は等モルでよいシクロペンタジエンを15〜35倍モル
と大過剰に使用しなければならないこと、 得られた中間体である3−p−トルエンスルホニル−
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2,5−ジエ
ンを濃縮して取り出し、粉末に粉砕する工程を必要とす
ること、 得られた中間体を分解する際に5〜23倍モルと大過
剰の酢酸を一気に加えなければならず、急激な発熱反応
をコントロールしなければならないこと、 で発熱反応がコントロールできず反応温度が上昇し
すぎた場合には、目的物が全く得られないか、あるい
は、非常に低収率でしか得られないこと、 中間体の分解反応時に固体状副生成物が生成し、攪拌
不能となる場合がある等の問題点が挙げられ、したがっ
て、上記の方法は、経済性および安全性の面からも工業
的に満足しうる合成法とは言いがたい。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、置換
スルホニルシアニドとシクロペンタジエンとの反応によ
り2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−
3−オンを合成する際に見られる上記の問題点を解決
し、2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン
−3−オンを高純度、高収率で経済的にかつ安全に合成
する手段を提供することにある。
スルホニルシアニドとシクロペンタジエンとの反応によ
り2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−
3−オンを合成する際に見られる上記の問題点を解決
し、2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン
−3−オンを高純度、高収率で経済的にかつ安全に合成
する手段を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明によれば上記課題
は、一般式(1)
は、一般式(1)
【0009】
【化3】
【0010】(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基ま
たは置換していても良いフェニル基を示す。)で表され
る置換スルホニルシアニドとシクロペンタジエンとを炭
化水素溶媒および/または芳香族炭化水素溶媒中で環付
加させ、一般式(2)
たは置換していても良いフェニル基を示す。)で表され
る置換スルホニルシアニドとシクロペンタジエンとを炭
化水素溶媒および/または芳香族炭化水素溶媒中で環付
加させ、一般式(2)
【0011】
【化4】
【0012】(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基ま
たは置換していても良いフェニル基を示す。)で表され
る合成中間体の溶液を得る第1工程、および該合成中間
体の溶液を水および水溶性溶媒からなる混合溶媒中に反
応系のpHが3〜7となる条件下で添加し、該合成中間
体を加水分解する第2工程、からなることを特徴とする
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3
−オンの製造法により達成することができる。
たは置換していても良いフェニル基を示す。)で表され
る合成中間体の溶液を得る第1工程、および該合成中間
体の溶液を水および水溶性溶媒からなる混合溶媒中に反
応系のpHが3〜7となる条件下で添加し、該合成中間
体を加水分解する第2工程、からなることを特徴とする
2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3
−オンの製造法により達成することができる。
【0013】以下、本発明を詳細に説明する。第1工程
において、一般式(1)で示される置換スルホニルシア
ニド(以後、置換スルホニルシアニドと略記する場合が
ある)は、炭素数1〜6のアルキル基または置換してい
ても良いフェニル基を有するものを用いるが、合成原料
の入手の容易さから、メチル基、エチル基、p−トリル
基またはフェニル基を有する置換スルホニルシアニドを
使用することが好ましい。第1工程において使用される
置換スルホニルシアニドは公知の方法により合成された
ものでよい。
において、一般式(1)で示される置換スルホニルシア
ニド(以後、置換スルホニルシアニドと略記する場合が
ある)は、炭素数1〜6のアルキル基または置換してい
ても良いフェニル基を有するものを用いるが、合成原料
の入手の容易さから、メチル基、エチル基、p−トリル
基またはフェニル基を有する置換スルホニルシアニドを
使用することが好ましい。第1工程において使用される
置換スルホニルシアニドは公知の方法により合成された
ものでよい。
【0014】シクロペンタジエンは置換スルホニルシア
ニドに対して1モル倍以上の量で使用される。しかし、
経済性および後処理の容易さから1〜5モル倍の範囲で
使用することが好ましい。シクロペンタジエンはなんら
純度的な制限を受けず、置換スルホニルシアニドに対し
1モル倍以上の量を含有していればよい。しかし、後処
理の容易さからジシクロペンタジエンを熱分解して発生
させたものをそのまま使用することが好ましい。
ニドに対して1モル倍以上の量で使用される。しかし、
経済性および後処理の容易さから1〜5モル倍の範囲で
使用することが好ましい。シクロペンタジエンはなんら
純度的な制限を受けず、置換スルホニルシアニドに対し
1モル倍以上の量を含有していればよい。しかし、後処
理の容易さからジシクロペンタジエンを熱分解して発生
させたものをそのまま使用することが好ましい。
【0015】第1工程における反応は、0〜50℃の温
度で行うことができるが、その後生成される一般式
(2)で示される合成中間体(以後、合成中間体と略記
する)の溶解度および合成中間体の安定性から、5〜3
0℃の範囲で行うことが好ましい。第1工程では、シク
ロペンタジエンと置換スルホニルシアニドを混合し反応
させるが、反応温度さえ上述の範囲内であるならば、シ
クロペンタジエンを置換スルホニルシアニド中に添加し
ても、置換スルホニルシアニドをシクロペンタジエン中
に添加してもかまわない。
度で行うことができるが、その後生成される一般式
(2)で示される合成中間体(以後、合成中間体と略記
する)の溶解度および合成中間体の安定性から、5〜3
0℃の範囲で行うことが好ましい。第1工程では、シク
ロペンタジエンと置換スルホニルシアニドを混合し反応
させるが、反応温度さえ上述の範囲内であるならば、シ
クロペンタジエンを置換スルホニルシアニド中に添加し
ても、置換スルホニルシアニドをシクロペンタジエン中
に添加してもかまわない。
【0016】第1工程においては、炭化水素溶媒および
/または芳香族炭化水素溶媒が使用される。炭化水素溶
媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等
が挙げられ、芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらの溶媒
は、置換スルホニルシアニドに対し1〜20重量倍の範
囲で使用されるが、経済性の点から1〜5重量倍の範囲
で使用することが好ましい。また、これらの溶媒は単独
で、または混合して使用することができる。第1工程に
おいて生成する合成中間体は、少量の水の添加により激
しい発熱を伴い分解するが、使用する溶媒中の飽和量程
度の水であれば問題はない。また、合成中間体に少量の
水の混入があったとしても、第1工程の反応温度を上記
温度範囲内に維持することにより激しい分解を防ぐこと
ができる。
/または芳香族炭化水素溶媒が使用される。炭化水素溶
媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等
が挙げられ、芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらの溶媒
は、置換スルホニルシアニドに対し1〜20重量倍の範
囲で使用されるが、経済性の点から1〜5重量倍の範囲
で使用することが好ましい。また、これらの溶媒は単独
で、または混合して使用することができる。第1工程に
おいて生成する合成中間体は、少量の水の添加により激
しい発熱を伴い分解するが、使用する溶媒中の飽和量程
度の水であれば問題はない。また、合成中間体に少量の
水の混入があったとしても、第1工程の反応温度を上記
温度範囲内に維持することにより激しい分解を防ぐこと
ができる。
【0017】上述のように、合成中間体は少量の水の添
加により激しい発熱を伴い分解する性質を持っている。
このため、第2工程では合成中間体溶液を水および水溶
性溶媒中に添加することが重要である。水および水溶性
溶媒を合成中間体溶液中に添加した場合は、激しい発熱
により反応温度が上昇し目的化合物の収率が著しく低下
する場合がある。
加により激しい発熱を伴い分解する性質を持っている。
このため、第2工程では合成中間体溶液を水および水溶
性溶媒中に添加することが重要である。水および水溶性
溶媒を合成中間体溶液中に添加した場合は、激しい発熱
により反応温度が上昇し目的化合物の収率が著しく低下
する場合がある。
【0018】第2工程においては、反応系のpHを常時
監視し、反応系のpHを3〜7の範囲に維持することが
必要である。反応系のpHが3未満の場合には、固体状
副生成物が析出し攪拌が困難となり、また目的化合物の
加水分解反応が進行し、目的化合物の収率が低下する。
一方、反応系がアルカリ性になった場合には、目的化合
物の加水分解反応が進行し、目的化合物の収率が低下す
る。反応系のpHは3〜5.5の範囲であること好まし
く、この範囲でかつpHの変動範囲を1以下に維持する
ことが特に好ましい。
監視し、反応系のpHを3〜7の範囲に維持することが
必要である。反応系のpHが3未満の場合には、固体状
副生成物が析出し攪拌が困難となり、また目的化合物の
加水分解反応が進行し、目的化合物の収率が低下する。
一方、反応系がアルカリ性になった場合には、目的化合
物の加水分解反応が進行し、目的化合物の収率が低下す
る。反応系のpHは3〜5.5の範囲であること好まし
く、この範囲でかつpHの変動範囲を1以下に維持する
ことが特に好ましい。
【0019】反応系におけるpHのコントロールには、
有機または無機のアルカリ性化合物を使用できるが、例
えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸化物、アルカリ土類金属炭酸化
物、アルカリ金属重炭酸化物、アルカリ土類金属重炭酸
化物等の水溶液を用いることが好ましい。第2工程にお
ける反応は、0℃以上の温度で行うことができるが、3
〜20℃の範囲で行うことが好ましい。
有機または無機のアルカリ性化合物を使用できるが、例
えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸化物、アルカリ土類金属炭酸化
物、アルカリ金属重炭酸化物、アルカリ土類金属重炭酸
化物等の水溶液を用いることが好ましい。第2工程にお
ける反応は、0℃以上の温度で行うことができるが、3
〜20℃の範囲で行うことが好ましい。
【0020】第2工程において、水とともに水溶性溶媒
を使用することが重要である。水溶性溶媒を添加せず、
水のみを溶媒として反応を行うと、固体状副生成物が析
出し攪拌が困難となり、加えて、反応系のpHのコント
ロールも困難となる場合がある。水溶性溶媒は、例え
ば、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等が挙げられる。これらの水溶性溶媒は、置
換スルホニルシアニドに対し通常0.1〜10重量倍の
範囲で使用されるが、経済性から0.1〜3重量倍の範
囲で使用されることが好ましい。
を使用することが重要である。水溶性溶媒を添加せず、
水のみを溶媒として反応を行うと、固体状副生成物が析
出し攪拌が困難となり、加えて、反応系のpHのコント
ロールも困難となる場合がある。水溶性溶媒は、例え
ば、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等が挙げられる。これらの水溶性溶媒は、置
換スルホニルシアニドに対し通常0.1〜10重量倍の
範囲で使用されるが、経済性から0.1〜3重量倍の範
囲で使用されることが好ましい。
【0021】第2工程において使用される水は、置換ス
ルホニルシアニドに対して通常0.5〜20重量倍の範
囲で使用されるが、目的化合物の抽出効率から0.5〜
5重量倍の範囲で使用することが好ましい。第2工程の
終了後、さらにアルカリ性化合物をpHが7〜7.5と
なるまで添加することにより反応を停止することができ
る。
ルホニルシアニドに対して通常0.5〜20重量倍の範
囲で使用されるが、目的化合物の抽出効率から0.5〜
5重量倍の範囲で使用することが好ましい。第2工程の
終了後、さらにアルカリ性化合物をpHが7〜7.5と
なるまで添加することにより反応を停止することができ
る。
【0022】反応混合物から目的化合物を単離するに
は、各種の有機溶媒による溶媒抽出法を実施することが
できる。抽出溶媒としては、目的化合物を溶解するもの
ならば何を使用してもかまわないが、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素が好ま
しい。ここで得られた置換スルフィン酸塩を含む抽出水
層は、そのまま塩化シアンと反応させることにより容易
に高収率で置換スルホニルシアニドへ変換することがで
きる。
は、各種の有機溶媒による溶媒抽出法を実施することが
できる。抽出溶媒としては、目的化合物を溶解するもの
ならば何を使用してもかまわないが、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素が好ま
しい。ここで得られた置換スルフィン酸塩を含む抽出水
層は、そのまま塩化シアンと反応させることにより容易
に高収率で置換スルホニルシアニドへ変換することがで
きる。
【0023】本発明の方法により得られる目的化合物
は、濃縮後、次工程の抗ウイルス剤中間体の合成にその
まま用いることのできる純度を有しているが、必要に応
じ、蒸留、活性炭処理、昇華、再結晶等によって、さら
に高純度化することもできる。
は、濃縮後、次工程の抗ウイルス剤中間体の合成にその
まま用いることのできる純度を有しているが、必要に応
じ、蒸留、活性炭処理、昇華、再結晶等によって、さら
に高純度化することもできる。
【0024】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【0025】合成例1(ベンゼンスルホニルシアニドの
合成) 200mlの四つ口フラスコに、水70g、塩化メチレ
ン2g、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物32
g(0.16mol)を仕込み、3℃まで冷却した。こ
こにガス状塩化シアン10.7g(0.17mol)を
内温3〜6℃を保ちながら約15分間導入した。塩化シ
アン導入後5℃で30分間攪拌した後、内容物を分液ロ
ートに移した。有機層を抜き取り、水層に塩化メチレン
5gを加えて抽出した。有機層を1つにまとめ硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、これを濾別し、塩化メチレンを
減圧留去することにより、ベンゼンスルホニルシアニド
24.8g(0.14mol)を得た。収率は、93.
8%であった。
合成) 200mlの四つ口フラスコに、水70g、塩化メチレ
ン2g、ベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物32
g(0.16mol)を仕込み、3℃まで冷却した。こ
こにガス状塩化シアン10.7g(0.17mol)を
内温3〜6℃を保ちながら約15分間導入した。塩化シ
アン導入後5℃で30分間攪拌した後、内容物を分液ロ
ートに移した。有機層を抜き取り、水層に塩化メチレン
5gを加えて抽出した。有機層を1つにまとめ硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、これを濾別し、塩化メチレンを
減圧留去することにより、ベンゼンスルホニルシアニド
24.8g(0.14mol)を得た。収率は、93.
8%であった。
【0026】合成例2(p−トルエンスルホニルシアニ
ドの合成) ベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物の代わりに、
p−トルエンスルフィン酸ナトリウム水和物34.3g
(0.16mol)を用いる以外は合成例1と同様の操
作を行い、p−トルエンスルホニルシアニド27.5g
(0.15mol)を得た。収率は、93.8%であっ
た。
ドの合成) ベンゼンスルフィン酸ナトリウム二水和物の代わりに、
p−トルエンスルフィン酸ナトリウム水和物34.3g
(0.16mol)を用いる以外は合成例1と同様の操
作を行い、p−トルエンスルホニルシアニド27.5g
(0.15mol)を得た。収率は、93.8%であっ
た。
【0027】合成例3(シクロペンタジエンの合成) 単蒸留装置を付けた500mlの四つ口フラスコに、ジ
シクロペンタジエン300g(2.27mol)を仕込
んだ。内温155〜160℃、留出温度50〜55℃に
保ちシクロペンタジエン185g(2.80mol)を
得た。収率は、61.7%であった。
シクロペンタジエン300g(2.27mol)を仕込
んだ。内温155〜160℃、留出温度50〜55℃に
保ちシクロペンタジエン185g(2.80mol)を
得た。収率は、61.7%であった。
【0028】実施例1 窒素流通管、温度計を付けた500mlの四つ口フラス
コに、98.5%のシクロペンタジエン54g(0.8
mol)、トルエン181gを仕込み内温を20℃に調
整した。滴下ロートから94.3%ベンゼンスルホニル
シアニド103.2g(0.58mol)を内温18〜
23℃を保ちながら約1時間かけて滴下した。内温を保
ちさらに30分間攪拌し、合成中間体溶液を調整した。
pH計、温度計および25%NaOH水溶液を入れた滴
下ロートを付設した1リットルの四つ口フラスコに、水
130g、アセトニトリル23gを仕込んだ。該合成中
間体を滴下ロートに移し同様に設置した。内温を10℃
に調整し、合成中間体溶液を内温8〜13℃を保ちなが
ら1時間かけて滴下した。この時、同時にpH計を観察
しながら25%NaOH水溶液を滴下し、反応系のpH
を3.5〜3.9に保ち続けた。合成中間体溶液の滴下
終了後10分間攪拌し、次いで25%NaOH水溶液を
滴下してpH=7.5に中和した。この反応混合物を分
液ロートに移し、水層を分離した。残っている有機層を
水60gで抽出した。水層を1つにまとめてHPLCを
用いた下記内部標準分析をした結果、2−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン47.2g
(0.43mol)を得た。収率は、74.1%であっ
た。この水層を塩化メチレン200gで5回抽出し、次
いで塩化メチレンを減圧留去することにより肌色の2−
アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オ
ンを得た。純度は、95.1%であった。
コに、98.5%のシクロペンタジエン54g(0.8
mol)、トルエン181gを仕込み内温を20℃に調
整した。滴下ロートから94.3%ベンゼンスルホニル
シアニド103.2g(0.58mol)を内温18〜
23℃を保ちながら約1時間かけて滴下した。内温を保
ちさらに30分間攪拌し、合成中間体溶液を調整した。
pH計、温度計および25%NaOH水溶液を入れた滴
下ロートを付設した1リットルの四つ口フラスコに、水
130g、アセトニトリル23gを仕込んだ。該合成中
間体を滴下ロートに移し同様に設置した。内温を10℃
に調整し、合成中間体溶液を内温8〜13℃を保ちなが
ら1時間かけて滴下した。この時、同時にpH計を観察
しながら25%NaOH水溶液を滴下し、反応系のpH
を3.5〜3.9に保ち続けた。合成中間体溶液の滴下
終了後10分間攪拌し、次いで25%NaOH水溶液を
滴下してpH=7.5に中和した。この反応混合物を分
液ロートに移し、水層を分離した。残っている有機層を
水60gで抽出した。水層を1つにまとめてHPLCを
用いた下記内部標準分析をした結果、2−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン47.2g
(0.43mol)を得た。収率は、74.1%であっ
た。この水層を塩化メチレン200gで5回抽出し、次
いで塩化メチレンを減圧留去することにより肌色の2−
アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オ
ンを得た。純度は、95.1%であった。
【0029】HPLC分析条件 カラム:Inertsil ODS−2 4.6*15
0mm 溶離液:2/8=MeOH/1mM−KH2PO4(1
M−H3PO4を用いてpH=3.2に調整) 流速 :1ml/min. 検出 :UV=225nm
0mm 溶離液:2/8=MeOH/1mM−KH2PO4(1
M−H3PO4を用いてpH=3.2に調整) 流速 :1ml/min. 検出 :UV=225nm
【0030】実施例2 合成中間体溶液の滴下する際に、pHを4.5〜5.2
に保持する以外は、実施例1と同様の操作を行った。H
PLCを用いた内部標準分析をした結果、2−アザビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン48g
(0.44mol)を得た。収率は、75.9%であっ
た。
に保持する以外は、実施例1と同様の操作を行った。H
PLCを用いた内部標準分析をした結果、2−アザビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン48g
(0.44mol)を得た。収率は、75.9%であっ
た。
【0031】実施例3 シクロペンタジエンの代わりに、94.3%ベンゼンス
ルホニルシアニド103.2g(0.58mol)を用
いる以外は実施例1と同様の操作を行った。HPLCを
用いた内部標準分析をした結果、2−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン49.1g
(0.45mol)を得た。収率は、77.5%であっ
た。
ルホニルシアニド103.2g(0.58mol)を用
いる以外は実施例1と同様の操作を行った。HPLCを
用いた内部標準分析をした結果、2−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン49.1g
(0.45mol)を得た。収率は、77.5%であっ
た。
【0032】実施例4 ベンゼンスルホニルシアニドの代わりに、95.1%p
−トルエンスルホニルシアニド110.5g(0.58
mol)を用いる以外は実施例1と同様の操作を行っ
た。HPLCを用いた内部標準分析をした結果、2−ア
ザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン
48.0g(0.44mol)を得た。収率は、75.
9%であった。
−トルエンスルホニルシアニド110.5g(0.58
mol)を用いる以外は実施例1と同様の操作を行っ
た。HPLCを用いた内部標準分析をした結果、2−ア
ザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オン
48.0g(0.44mol)を得た。収率は、75.
9%であった。
【0033】比較例1 合成中間体溶液を滴下する際にpH調整をしない(この
場合pHは2.5〜3の範囲となる)以外は実施例1と
同様の操作を行い、HPLCを用いた内部標準分析をし
た結果、2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−
エン−3−オン39.4g(0.36mol)を得た。
収率は、62.2%であった。
場合pHは2.5〜3の範囲となる)以外は実施例1と
同様の操作を行い、HPLCを用いた内部標準分析をし
た結果、2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−
エン−3−オン39.4g(0.36mol)を得た。
収率は、62.2%であった。
【0034】比較例2 1リットルの四つ口フラスコに94.3%ベンゼンスル
ホニルシアニド103.2g(0.58mol)を仕込
み、98.5%シクロペンタジエン389.2g(5.
8mol)を内温8〜13℃を保ちながら1時間かけて
滴下した。30分間攪拌した後、過剰分のシクロペンタ
ジエンを減圧留去した。残さを粉砕し、内温20℃以下
を保ちながら氷酢酸185ml(3.11mol)をす
ばやく添加し攪拌した。この反応液を冷水750mlに
添加し、固体を濾過した。この濾液を25%NaOH水
溶液でpH=7.5に中和した後、HPLCを用いた内
部標準分析をした結果、2−アザビシクロ[2.2.
1]ヘプト−5−エン−3−オン36.0g(0.33
mol)を得た。収率は、57.5%であった。
ホニルシアニド103.2g(0.58mol)を仕込
み、98.5%シクロペンタジエン389.2g(5.
8mol)を内温8〜13℃を保ちながら1時間かけて
滴下した。30分間攪拌した後、過剰分のシクロペンタ
ジエンを減圧留去した。残さを粉砕し、内温20℃以下
を保ちながら氷酢酸185ml(3.11mol)をす
ばやく添加し攪拌した。この反応液を冷水750mlに
添加し、固体を濾過した。この濾液を25%NaOH水
溶液でpH=7.5に中和した後、HPLCを用いた内
部標準分析をした結果、2−アザビシクロ[2.2.
1]ヘプト−5−エン−3−オン36.0g(0.33
mol)を得た。収率は、57.5%であった。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、2−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンを高収率、
高純度で経済的かつ安全に合成することができる。
[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンを高収率、
高純度で経済的かつ安全に合成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野口 静雄 新潟県北蒲原郡中条町倉敷町2番28号 株 式会社クラレ内 (72)発明者 中村 晶 岡山県倉敷市酒津2045の1 株式会社クラ レ内
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基または置換して
いても良いフェニル基を示す。)で表される置換スルホ
ニルシアニドとシクロペンタジエンとを炭化水素溶媒中
および/または芳香族炭化水素溶媒中で環付加させ、一
般式(2) 【化2】 (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基または置換して
いても良いフェニル基を示す。)で表される合成中間体
の溶液を得る第1工程、および該合成中間体の溶液を水
および水溶性溶媒からなる混合溶媒中に反応系のpHが
3〜7となる条件下で添加し、該合成中間体を加水分解
する第2工程、からなることを特徴とする2−アザビシ
クロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造
法。 - 【請求項2】 Rが、メチル基、エチル基、フェニル基
またはp−トリル基である請求項1に記載の2−アザビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34759995A JPH09165372A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34759995A JPH09165372A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09165372A true JPH09165372A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=18391314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34759995A Pending JPH09165372A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09165372A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6060609A (en) * | 1997-12-25 | 2000-05-09 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing and method of crystallizing 2-azabicyclo[2.2.1]hept-5-en-3-one |
| EP1048650A3 (en) * | 1999-04-30 | 2000-11-08 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing 2-azabicyclo (2.2.1) hept-5-en-3-one |
| JP2001011049A (ja) * | 1999-04-30 | 2001-01-16 | Kuraray Co Ltd | 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造方法 |
| JP2002504542A (ja) * | 1998-02-27 | 2002-02-12 | デグサ−ヒュルス アクチェンゲゼルシャフト | (±)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプテ−5−エン−3−オンの精製法 |
-
1995
- 1995-12-15 JP JP34759995A patent/JPH09165372A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6060609A (en) * | 1997-12-25 | 2000-05-09 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing and method of crystallizing 2-azabicyclo[2.2.1]hept-5-en-3-one |
| US6153765A (en) * | 1997-12-25 | 2000-11-28 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing and method of crystallizing 2-azabicyclo(2.2.1)hept-5-en-3-one |
| JP2002504542A (ja) * | 1998-02-27 | 2002-02-12 | デグサ−ヒュルス アクチェンゲゼルシャフト | (±)−2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプテ−5−エン−3−オンの精製法 |
| EP1048650A3 (en) * | 1999-04-30 | 2000-11-08 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing 2-azabicyclo (2.2.1) hept-5-en-3-one |
| JP2001011049A (ja) * | 1999-04-30 | 2001-01-16 | Kuraray Co Ltd | 2−アザビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−3−オンの製造方法 |
| US6232473B1 (en) | 1999-04-30 | 2001-05-15 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing 2-azabicyclo[2.2.1]hept-5-en-3-one |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
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| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050802 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051122 |