JPH09167728A - 電子ビーム露光方法及びその装置 - Google Patents
電子ビーム露光方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH09167728A JPH09167728A JP7326823A JP32682395A JPH09167728A JP H09167728 A JPH09167728 A JP H09167728A JP 7326823 A JP7326823 A JP 7326823A JP 32682395 A JP32682395 A JP 32682395A JP H09167728 A JPH09167728 A JP H09167728A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- stage
- electron beam
- exposure
- beam exposure
- Prior art date
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- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ステージの可動範囲を試料サイズより小さくで
きる電子ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】露光領域を任意に分割し、一つの露光領域
はステージを通常のＸ，Ｙ方向に移動させて露光を行
い、露光領域の変更を回転により行う。
きる電子ビーム露光装置を提供する。 【解決手段】露光領域を任意に分割し、一つの露光領域
はステージを通常のＸ，Ｙ方向に移動させて露光を行
い、露光領域の変更を回転により行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子ビームの露光方
法及びその装置に関する。
法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム露光装置では、電子ビームの
偏向範囲に比べ試料であるウエハやレティクルの面積が
非常に大きいため、ステージで試料を移動させることに
より試料上の所定の位置に露光を行っているのが一般的
である。このため、ステージはウエハやレティクルのサ
イズの可動範囲が必要である。このように、試料全面を
露光するのに、ステージをＸ−Ｙ方向に試料の全長にわ
たり移動するものの従来例として、特開平1−308025
号，特開平2−183516号公報などがある。
偏向範囲に比べ試料であるウエハやレティクルの面積が
非常に大きいため、ステージで試料を移動させることに
より試料上の所定の位置に露光を行っているのが一般的
である。このため、ステージはウエハやレティクルのサ
イズの可動範囲が必要である。このように、試料全面を
露光するのに、ステージをＸ−Ｙ方向に試料の全長にわ
たり移動するものの従来例として、特開平1−308025
号，特開平2−183516号公報などがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この装置で
は、ウエハやレティクルのサイズが大きくなると、試料
全面を露光するとき、これに比例してステージの可動範
囲も大きくなる。例えば、ウエハサイズが１２インチに
なると可動範囲は３００mmとなり、ステージのガイドレ
ールは約７００mmが必要である。
は、ウエハやレティクルのサイズが大きくなると、試料
全面を露光するとき、これに比例してステージの可動範
囲も大きくなる。例えば、ウエハサイズが１２インチに
なると可動範囲は３００mmとなり、ステージのガイドレ
ールは約７００mmが必要である。
【０００４】このように、ウエハが大口径化するとステ
ージが大型化し、装置の信頼性を著しく低下させる。ま
た、ステージを設置する試料室、これらを搭載する除振
架台などが大型化し、さらに、ステージを構成する長い
ガイドレールの超精密加工に長時間を要するなど装置の
製造コストを大幅に増大させる。
ージが大型化し、装置の信頼性を著しく低下させる。ま
た、ステージを設置する試料室、これらを搭載する除振
架台などが大型化し、さらに、ステージを構成する長い
ガイドレールの超精密加工に長時間を要するなど装置の
製造コストを大幅に増大させる。
【０００５】本発明の目的はステージを小型化し、装置
の製造コストを低下させて信頼性の高い電子ビーム露光
装置を提供することにある。
の製造コストを低下させて信頼性の高い電子ビーム露光
装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の手
段により解決できる。すなわち、ステージを小型化する
ため、露光領域を任意に分割し、試料を回転させて露光
領域を変更させて試料面上に露光を行う。つまり、一つ
の露光領域はステージを通常のＸ−Ｙ方向に移動させて
露光を行い、露光領域の変更を回転により行う構成とす
る。本構成により、ステージのＸ−Ｙ方向の可動範囲
は、ウエハやレティクルの全長にわたり移動する必要が
なくなり、可動範囲をウエハやレティクルのサイズより
小さくすることができる。
段により解決できる。すなわち、ステージを小型化する
ため、露光領域を任意に分割し、試料を回転させて露光
領域を変更させて試料面上に露光を行う。つまり、一つ
の露光領域はステージを通常のＸ−Ｙ方向に移動させて
露光を行い、露光領域の変更を回転により行う構成とす
る。本構成により、ステージのＸ−Ｙ方向の可動範囲
は、ウエハやレティクルの全長にわたり移動する必要が
なくなり、可動範囲をウエハやレティクルのサイズより
小さくすることができる。
【０００７】
（実施例１）図１は本発明の一実施例の電子ビーム露光
装置のステージ部の概略構成を示す。このステージは試
料室１に設置されている。試料（ウエハ）２はΘ回転テ
ーブル３に搭載されている。Θ回転テーブル３は図示し
ていないが試料室外からの駆動力により回転される。Θ
回転テーブル３の下にＸ−Ｙテーブル４があり、Ｘ−Ｙ
テーブル４はモータ５によりＸ軸方向，Ｙ軸方向にそれ
ぞれ移動する。また、Ｘ−Ｙテーブル４の位置（座標）
は、レーザ発振器からのレーザ光をＸ−Ｙテーブル４上
に設けられたミラー６で反射させ、その干渉光をレーザ
レシーバで受光して干渉光の強さの変化個数を計数する
ことにより検出される。
装置のステージ部の概略構成を示す。このステージは試
料室１に設置されている。試料（ウエハ）２はΘ回転テ
ーブル３に搭載されている。Θ回転テーブル３は図示し
ていないが試料室外からの駆動力により回転される。Θ
回転テーブル３の下にＸ−Ｙテーブル４があり、Ｘ−Ｙ
テーブル４はモータ５によりＸ軸方向，Ｙ軸方向にそれ
ぞれ移動する。また、Ｘ−Ｙテーブル４の位置（座標）
は、レーザ発振器からのレーザ光をＸ−Ｙテーブル４上
に設けられたミラー６で反射させ、その干渉光をレーザ
レシーバで受光して干渉光の強さの変化個数を計数する
ことにより検出される。
【０００８】次にこのステージを用いて試料面上に露光
する方法について述べる。
する方法について述べる。
【０００９】図２は露光領域を４分割し、９０度ずつ回
転させながら露光する場合の最初の露光状態を示してい
る。ステージのＹ方向を連続移動走査し、露光列の変更
はＸ方向のステップ移動により行う。この走査を繰返し
行い、試料全面の１／４のパターンを露光する。パター
ンの露光が完了したら、ステージのＸ，Ｙを原点に戻
す。その後、試料が搭載されているΘ回転テーブルを９
０度回転させる。すなわち、露光領域の変更を行う。
転させながら露光する場合の最初の露光状態を示してい
る。ステージのＹ方向を連続移動走査し、露光列の変更
はＸ方向のステップ移動により行う。この走査を繰返し
行い、試料全面の１／４のパターンを露光する。パター
ンの露光が完了したら、ステージのＸ，Ｙを原点に戻
す。その後、試料が搭載されているΘ回転テーブルを９
０度回転させる。すなわち、露光領域の変更を行う。
【００１０】図３は図２の状態から９０度回転させて露
光している場合を示している。パターンの合わせはΘ回
転テーブルの微小回転により補正する。また、９０度回
転したことで、試料面上のパターンの座標が違ってくる
ので、Ｘ，Ｙ座標の座標変換を行う。ステージのＸ，Ｙ
方向走査は図２と同様である。
光している場合を示している。パターンの合わせはΘ回
転テーブルの微小回転により補正する。また、９０度回
転したことで、試料面上のパターンの座標が違ってくる
ので、Ｘ，Ｙ座標の座標変換を行う。ステージのＸ，Ｙ
方向走査は図２と同様である。
【００１１】今まで述べてきたように、これらの操作を
繰返し行い、試料全面にパターンを露光する。
繰返し行い、試料全面にパターンを露光する。
【００１２】以上のように、露光領域を４分割し、９０
度ずつ回転させながら露光する方法では、ステージの
Ｘ，Ｙ方向の可動範囲を試料(ウエハ)サイズの１／２に
することができる。例えば、１２インチのウエハを露光
する場合は、可動範囲が１５０mmである。これは、従来
の６インチ相当の可動範囲であり、ステージを大幅に小
型化することができる。また、装置の製造コストの低減
ができ、さらに、小型化できるので装置の信頼性を大幅
に向上することができる。
度ずつ回転させながら露光する方法では、ステージの
Ｘ，Ｙ方向の可動範囲を試料(ウエハ)サイズの１／２に
することができる。例えば、１２インチのウエハを露光
する場合は、可動範囲が１５０mmである。これは、従来
の６インチ相当の可動範囲であり、ステージを大幅に小
型化することができる。また、装置の製造コストの低減
ができ、さらに、小型化できるので装置の信頼性を大幅
に向上することができる。
【００１３】（実施例２）図４は露光領域を２分割し、
試料を露光する場合の状態を示す。試料が搭載されたス
テージはＹ方向に連続移動走査し露光行う。露光列の変
更はＸ方向をステップ移動走査により行う。この操作を
繰返し行い試料面上に全面の１／２の露光を行う。試料
全面の１／２の露光完了後、ステージのＸ，Ｙを原点に
戻し、試料を１８０度回転させる。その後、残り１／２
の露光を行う。また、パターンの合わせはΘ回転テーブ
ルの微小回転により補正する。
試料を露光する場合の状態を示す。試料が搭載されたス
テージはＹ方向に連続移動走査し露光行う。露光列の変
更はＸ方向をステップ移動走査により行う。この操作を
繰返し行い試料面上に全面の１／２の露光を行う。試料
全面の１／２の露光完了後、ステージのＸ，Ｙを原点に
戻し、試料を１８０度回転させる。その後、残り１／２
の露光を行う。また、パターンの合わせはΘ回転テーブ
ルの微小回転により補正する。
【００１４】以上のように、露光領域を２分割し、露光
領域の変更を１８０度回転させて露光する方法では、ス
テージのＸ方向の可動範囲を試料（ウエハ）の１／２に
することができる。すなわち、本露光方法では、Ｘ，Ｙ
方向の２軸直進移動機構のうち少なくても１軸直進移動
機構の可動範囲を１／２にすることができる。
領域の変更を１８０度回転させて露光する方法では、ス
テージのＸ方向の可動範囲を試料（ウエハ）の１／２に
することができる。すなわち、本露光方法では、Ｘ，Ｙ
方向の２軸直進移動機構のうち少なくても１軸直進移動
機構の可動範囲を１／２にすることができる。
【００１５】これらにより、ステージの小型化を図るこ
とができる。
とができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、露光領域を任意に分割
し、試料を回転させて露光領域を変更して試料面上に露
光することにより、ステージの可動範囲を最小として、
ウエハやレティクルサイズの１／２にすることができ
る。この結果、ステージの小型化が図れ、装置の製造コ
ストを低減でき、装置の信頼性を大幅に向上することが
できる。
し、試料を回転させて露光領域を変更して試料面上に露
光することにより、ステージの可動範囲を最小として、
ウエハやレティクルサイズの１／２にすることができ
る。この結果、ステージの小型化が図れ、装置の製造コ
ストを低減でき、装置の信頼性を大幅に向上することが
できる。
【図１】本発明の電子ビーム露光装置ステージの斜視
図。
図。
【図２】本発明の試料の露光領域を４分割した状態の一
つの露光領域を示す説明図。
つの露光領域を示す説明図。
【図３】図２を９０度回転させて露光している状態を示
す説明図。
す説明図。
【図４】本発明の試料の露光領域を２分割した状態の露
光状態を示す説明図。
光状態を示す説明図。
１…試料室、２…試料、３…Θ回転テーブル、４…Ｘ−
Ｙテーブル、５…モータ、６…ミラー。
Ｙテーブル、５…モータ、６…ミラー。
Claims (6)
- 【請求項１】ステージを所定方向に移動し、前記ステー
ジに搭載された試料に電子ビームを前記所定方向と直角
な方向に偏向走査して、前記試料を露光する電子ビーム
露光装置において、露光領域を任意に分割し、前記試料
を回転させて前記露光領域を変更して、前記試料を露光
することを特徴とする電子ビーム露光方法。 - 【請求項２】請求項１において、前記試料を９０度回転
させて前記露光領域を変更して前記試料を露光する電子
ビーム露光方法。 - 【請求項３】請求項１において、前記試料を１８０度回
転させて前記露光領域を変更して前記試料を露光する電
子ビーム露光方法。 - 【請求項４】請求項１において、前記ステージが２軸の
直進移動と回転移動機能を有する電子ビーム露光装置。 - 【請求項５】請求項４において、前記ステージが連続移
動する電子ビーム露光装置。 - 【請求項６】請求項４において、前記ステージがステッ
プアンドリピート方式である電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7326823A JPH09167728A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 電子ビーム露光方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7326823A JPH09167728A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 電子ビーム露光方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09167728A true JPH09167728A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=18192117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7326823A Pending JPH09167728A (ja) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 電子ビーム露光方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09167728A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017517882A (ja) * | 2014-06-13 | 2017-06-29 | インテル・コーポレーション | 電子ビームのユニバーサルカッタ |
-
1995
- 1995-12-15 JP JP7326823A patent/JPH09167728A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017517882A (ja) * | 2014-06-13 | 2017-06-29 | インテル・コーポレーション | 電子ビームのユニバーサルカッタ |
| US10216087B2 (en) | 2014-06-13 | 2019-02-26 | Intel Corporation | Ebeam universal cutter |
| US10578970B2 (en) | 2014-06-13 | 2020-03-03 | Intel Corporation | Ebeam universal cutter |
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