JPH01291426A - 電子ビーム露光装置及び露光方法 - Google Patents
電子ビーム露光装置及び露光方法Info
- Publication number
- JPH01291426A JPH01291426A JP63123257A JP12325788A JPH01291426A JP H01291426 A JPH01291426 A JP H01291426A JP 63123257 A JP63123257 A JP 63123257A JP 12325788 A JP12325788 A JP 12325788A JP H01291426 A JPH01291426 A JP H01291426A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- exposed
- beam exposure
- slit
- stage
- Prior art date
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- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子ビーム露光装置及び露光方法の改良に関し、容易に
実施できる電子ビーム露光装置の機構の改造により、高
精度の電子ビーム露光を効率良く行うことが可能な電子
ビーム露光装置及び露光方法の提供を目的とし、 被露光物を搭載し、その中心軸を回転中心として回転す
る載物台と、該載物台の中心軸を一定の方向に移動させ
るステージとを具備し、前記被露光物に渦巻状に電子ビ
ームを露光する際に、第１スリット及び第２スリットを
前記載物台の回転角と同期して回転させる機構を有する
よう構成する。
実施できる電子ビーム露光装置の機構の改造により、高
精度の電子ビーム露光を効率良く行うことが可能な電子
ビーム露光装置及び露光方法の提供を目的とし、 被露光物を搭載し、その中心軸を回転中心として回転す
る載物台と、該載物台の中心軸を一定の方向に移動させ
るステージとを具備し、前記被露光物に渦巻状に電子ビ
ームを露光する際に、第１スリット及び第２スリットを
前記載物台の回転角と同期して回転させる機構を有する
よう構成する。
本発明は、半導体装置の製造工程におけるリソグラフィ
ー技術に係り、特に電子ビーム露光装置及び露光方法の
改良に関するものである。
ー技術に係り、特に電子ビーム露光装置及び露光方法の
改良に関するものである。
現在用いられている電子ビーム露光装置における被露光
物の走査方法は、直角座標の各軸に平行な経路を組み合
わせた走査経路に沿って走査する方法が採用されている
。
物の走査方法は、直角座標の各軸に平行な経路を組み合
わせた走査経路に沿って走査する方法が採用されている
。
ＡＳＩＣ等においては半導体素子のチップサイズの大型
化に伴い、ウェーハサイズと略等しい大型の円形の半導
体素子が用いられるようになり、このような半導体素子
の電子ビーム露光を効率よく行う走査方法が要求されて
いる。
化に伴い、ウェーハサイズと略等しい大型の円形の半導
体素子が用いられるようになり、このような半導体素子
の電子ビーム露光を効率よく行う走査方法が要求されて
いる。
以上のような状況からウェーハサイズと略等しい大型の
円形の半導体素子の電子ビーム露光を効率よく行うこと
が可能な電子ビーム露光装置及び露光方法が要望されて
いる。
円形の半導体素子の電子ビーム露光を効率よく行うこと
が可能な電子ビーム露光装置及び露光方法が要望されて
いる。
従来の電子ビーム露光装置及び露光方法を第３図〜第４
図によりに説明する。
図によりに説明する。
第４図に電子ビーム露光装置の概略構造を示す。
図において、電子ビームは線源１１から放射され、レン
ズ１２、レンズ１５、レンズ１６、レンズ１７により集
光され、第１スリット４．第２スリット５及び第１デフ
レクタ１３．第２デフレクタ１４により電子ビームの形
状が規定され、第３デフレクタ１７を用いて静電気によ
り電子ビームを所定の方向及び距離だけ転向させている
。
ズ１２、レンズ１５、レンズ１６、レンズ１７により集
光され、第１スリット４．第２スリット５及び第１デフ
レクタ１３．第２デフレクタ１４により電子ビームの形
状が規定され、第３デフレクタ１７を用いて静電気によ
り電子ビームを所定の方向及び距離だけ転向させている
。
近年の集積度の高い半導体装置においては、電子ビーム
露光により描画するパターンに高精度が要求されている
ため、電子ビーム露光の際の電子ビームの転向距離を大
きくすると、描画パターンに歪が生じるので転向距離の
制約があり、少なくとも５鶴以下にはしなければならな
い。このため大きな面積を有する被露光物１は移動させ
て電子ビーム露光を行っている。
露光により描画するパターンに高精度が要求されている
ため、電子ビーム露光の際の電子ビームの転向距離を大
きくすると、描画パターンに歪が生じるので転向距離の
制約があり、少なくとも５鶴以下にはしなければならな
い。このため大きな面積を有する被露光物１は移動させ
て電子ビーム露光を行っている。
電子ビームを露光する被露光物１は載物台２に搭載され
、載物台２はＸ−Ｙテーブル１９に固定されており、Ｘ
方向及びＹ方向に移動される。
、載物台２はＸ−Ｙテーブル１９に固定されており、Ｘ
方向及びＹ方向に移動される。
この載物台２の位置はレーザ測長器１０によって正確に
測定されている。
測定されている。
第３図は従来の電子ビーム露光の走査方法を示す図であ
り、図において、載物台２には被露光物１が搭載されて
おり、被露光物１のぼぼ全面を占有している被露光領域
１ａに電子ビームを露光する露光方法を示している。
り、図において、載物台２には被露光物１が搭載されて
おり、被露光物１のぼぼ全面を占有している被露光領域
１ａに電子ビームを露光する露光方法を示している。
この場合、図に細線で示す経路に沿ってＸ及びＹ方向に
電子ビームを走査して露光する場合には、図に示すよう
に、被露光領域１ａ以外の領域を含む広い範囲のＸ−Ｙ
テーブル１９の移動を行うことが必要である。
電子ビームを走査して露光する場合には、図に示すよう
に、被露光領域１ａ以外の領域を含む広い範囲のＸ−Ｙ
テーブル１９の移動を行うことが必要である。
以上説明の従来の電子ビーム露光装置及び露光方法にお
いては、電子ビームの走査方向がＸ軸或いはＹ軸と平行
しているから、走査経路の端部においては方向変換を行
うために、テーブル移動速度の減速及び加速を行わねば
ならない。
いては、電子ビームの走査方向がＸ軸或いはＹ軸と平行
しているから、走査経路の端部においては方向変換を行
うために、テーブル移動速度の減速及び加速を行わねば
ならない。
このテーブル移動速度の減速及び加速を行うと、構造的
に連結されている電子ビーム装置のコラム部、即ち、線
源、レンズ類、デフレクタ類及び第１、第２スリットに
機械的振動が伝わり、高精度の電子ビーム露光を行うに
はこの振動の減衰期間中は露光を行うことができないと
いう問題点があった。
に連結されている電子ビーム装置のコラム部、即ち、線
源、レンズ類、デフレクタ類及び第１、第２スリットに
機械的振動が伝わり、高精度の電子ビーム露光を行うに
はこの振動の減衰期間中は露光を行うことができないと
いう問題点があった。
本発明は以上のような状況から、容易に実施できる電子
ビーム露光装置の機構の改造により、高精度の電子ビー
ム露光を効率良く行うことが可能な電子ビーム露光装置
及び露光方法の提供を目的としたものである。
ビーム露光装置の機構の改造により、高精度の電子ビー
ム露光を効率良く行うことが可能な電子ビーム露光装置
及び露光方法の提供を目的としたものである。
上記問題点は、被露光物を搭載し、その中心軸を回転中
心として回転する載物台と、この載物台の中心軸を一定
の方向に移動させるステージとを具備し、この被露光物
に渦巻状に電子ビームを露光する際に、第１スリット及
び第２スリットを前記載物台の回転角と同期して回転さ
せる機構を有する本発明による電子ビーム露光装置及び
この装置を用いる電子ビーム露光方法によって解決され
る。
心として回転する載物台と、この載物台の中心軸を一定
の方向に移動させるステージとを具備し、この被露光物
に渦巻状に電子ビームを露光する際に、第１スリット及
び第２スリットを前記載物台の回転角と同期して回転さ
せる機構を有する本発明による電子ビーム露光装置及び
この装置を用いる電子ビーム露光方法によって解決され
る。
即ち本発明においては、被露光物を載物台に搭載し、こ
の載物台の中心軸を回転中心として回転させながら、こ
の中心軸をステージに固定して一定の方向に移動させて
この被露光物に渦巻状に電子ビームを露光させる。
の載物台の中心軸を回転中心として回転させながら、こ
の中心軸をステージに固定して一定の方向に移動させて
この被露光物に渦巻状に電子ビームを露光させる。
この電子ビーム露光を行う際に、第１スリ・ノド及び第
２スリットをこの載物台の回転角と同期して回転させ、
被露光物とこの第１ス肝ノド及び第２スリットとの相対
位置を不変にするから、被露光物の移動速度を加速及び
減速せずに一定にするので、電子ビーム露光装置のコラ
ム部に機械的振動が伝わることもなく、高精度の電子ビ
ーム露光を効率良く行うことが可能となる。
２スリットをこの載物台の回転角と同期して回転させ、
被露光物とこの第１ス肝ノド及び第２スリットとの相対
位置を不変にするから、被露光物の移動速度を加速及び
減速せずに一定にするので、電子ビーム露光装置のコラ
ム部に機械的振動が伝わることもなく、高精度の電子ビ
ーム露光を効率良く行うことが可能となる。
以下第１図、第２図、第４図について本発明の一実施例
を説明する。
を説明する。
本発明の電子ビーム露光装置は、コラム部は第４図に示
すものとほぼ同じであるが、被露光物１を搭載する載物
台２を走査させるＸ−Ｙテーブル１９の代わりに、第２
図に示すように、ロータリー・エンコーダ７を備えた回
転駆動部２ｂを有し、中心軸２ａを回転中心として回転
する載物台２に被露光物１を搭載し、回転駆動部２ｂを
一定方向に直進駆動部３ａにより移動するステージ３を
備えたものである。
すものとほぼ同じであるが、被露光物１を搭載する載物
台２を走査させるＸ−Ｙテーブル１９の代わりに、第２
図に示すように、ロータリー・エンコーダ７を備えた回
転駆動部２ｂを有し、中心軸２ａを回転中心として回転
する載物台２に被露光物１を搭載し、回転駆動部２ｂを
一定方向に直進駆動部３ａにより移動するステージ３を
備えたものである。
コラム部の第１スリット４及び第２スリット５は、従来
は固定されていたが、本発明においては被露光物１の回
転に対応するため、ロータリー・エンコーダ８及び９を
備えた回転駆動部４ａ及び５ａにより被露光物１の回転
と同期して回転するようになっている。
は固定されていたが、本発明においては被露光物１の回
転に対応するため、ロータリー・エンコーダ８及び９を
備えた回転駆動部４ａ及び５ａにより被露光物１の回転
と同期して回転するようになっている。
回転駆動部２ｂと回転駆動部４ａ及び５ａの同期を取る
ために回転制御部６を設けて、被露光物１の回転角と、
第１スリット４及び第２スリット５の回転角とを一致さ
せて、被露光物ｌと各スリットとの相対位置を不変にし
ている。
ために回転制御部６を設けて、被露光物１の回転角と、
第１スリット４及び第２スリット５の回転角とを一致さ
せて、被露光物ｌと各スリットとの相対位置を不変にし
ている。
電子ビーム露光装置の載物台２の移動機構をこのように
変更することにより、電子ビームの照射位置を被露光物
１の被露光領域１ａにおいて渦巻状に走査させることが
可能となる。
変更することにより、電子ビームの照射位置を被露光物
１の被露光領域１ａにおいて渦巻状に走査させることが
可能となる。
しかしながら、各スリットを従来通りのままにしておく
と、スリットの窓の方向と被露光領域１ａとの相対位置
に変化が生じるので、載物台２０回転駆動部２ｂに備え
たロータリー・エンコーダ７からの信号を回転制御部６
に送り、回転制御部６からの信号をロータリー・エンコ
ーダ８及び９に送り、回転駆動部４ａ及び５ａにより、
第１スリット４及び５を回転させて、被露光領域１ａと
各スリットの相対位置が変わらぬようにする。
と、スリットの窓の方向と被露光領域１ａとの相対位置
に変化が生じるので、載物台２０回転駆動部２ｂに備え
たロータリー・エンコーダ７からの信号を回転制御部６
に送り、回転制御部６からの信号をロータリー・エンコ
ーダ８及び９に送り、回転駆動部４ａ及び５ａにより、
第１スリット４及び５を回転させて、被露光領域１ａと
各スリットの相対位置が変わらぬようにする。
このように電子ビーム露光の照射位置を被露光領域１ａ
において渦巻状に走査するので、被露光物１の移動に伴
う機械的振動が発生せず、被露光物１が回転した角度だ
け各スリットを回転させるので、被露光物１と各スリッ
トの窓の方向の相対位置が変わることがなくなる。
において渦巻状に走査するので、被露光物１の移動に伴
う機械的振動が発生せず、被露光物１が回転した角度だ
け各スリットを回転させるので、被露光物１と各スリッ
トの窓の方向の相対位置が変わることがなくなる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば簡単な
構造の変更によって、被露光物の移動方法を加速及び減
速のない方法に改良することにより、電子ビーム露光装
置のコラム部の機械的振動の発生を防止し、高精度の電
子ビーム露光を効率良く行うことが可能となる等の利点
があり、著しい経済的及び、１ε頼性向上の効果が期待
でき工業的には極めて有用なものである。
構造の変更によって、被露光物の移動方法を加速及び減
速のない方法に改良することにより、電子ビーム露光装
置のコラム部の機械的振動の発生を防止し、高精度の電
子ビーム露光を効率良く行うことが可能となる等の利点
があり、著しい経済的及び、１ε頼性向上の効果が期待
でき工業的には極めて有用なものである。
第１図は本発明による電子ビーム露光の走査方法を示す
図、 第２図は本発明による一実施例を示す図、第３図は従来
の電子ビーム露光の走査方法を示す図、 第４図は電子ビーム露光装置の概略構造図、である。 図において、 ■は被露光物、 １ａは被露光領域、 ２は載物台、 ２ａは中心軸、 ２ｂは回転駆動部、 ３はステージ、 ４は第１スリット、 ４ａは回転駆動部、 ５は第２スリット、 ５ａは回転駆動部、 ６は回転制御部、 ７はロータリー・エンコーダ、 ８はロータリー・エンコーダ、 ９はロータリー・エンコーダ、 １０はレーザ測長器、 を示す。
図、 第２図は本発明による一実施例を示す図、第３図は従来
の電子ビーム露光の走査方法を示す図、 第４図は電子ビーム露光装置の概略構造図、である。 図において、 ■は被露光物、 １ａは被露光領域、 ２は載物台、 ２ａは中心軸、 ２ｂは回転駆動部、 ３はステージ、 ４は第１スリット、 ４ａは回転駆動部、 ５は第２スリット、 ５ａは回転駆動部、 ６は回転制御部、 ７はロータリー・エンコーダ、 ８はロータリー・エンコーダ、 ９はロータリー・エンコーダ、 １０はレーザ測長器、 を示す。
Claims (2)
- （１）被露光物（１）を搭載し、その中心軸（２ａ）を
回転中心として回転する載物台（２）と、該載物台（２
）の中心軸（２ａ）を一定の方向に移動させるステージ
（３）とを具備し、 前記被露光物（１）に渦巻状に電子ビームを露光する際
に、第１スリット（４）及び第２スリット（５）を前記
載物台（２）の回転角と同期して回転させる機構を有す
ることを特徴とする電子ビーム露光装置。 - （２）請求項１記載の電子ビーム露光装置を用い、前記
載物台（２）に搭載した被露光物（１）を前記中心軸（
２ａ）を中心として回転した場合に、前記被露光物（１
）の露光パターンをショットに分解し、該各ショットに
極座標を付与し、該極座標の該ショットの露光の際に、
前記第１スリット（４）及び前記第２スリット（５）を
前記極座標の動径の位置において前記極座標の原線とな
す偏角だけ回転し、前記被露光物（１）と前記第１スリ
ット（４）及び第２スリット（５）の相対位置を不変に
して行うことを特徴とする電子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63123257A JPH01291426A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63123257A JPH01291426A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01291426A true JPH01291426A (ja) | 1989-11-24 |
Family
ID=14856093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63123257A Pending JPH01291426A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 電子ビーム露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01291426A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996028838A1 (en) * | 1995-03-10 | 1996-09-19 | Leica Cambridge, Ltd. | Method of writing a pattern by an electron beam |
-
1988
- 1988-05-19 JP JP63123257A patent/JPH01291426A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996028838A1 (en) * | 1995-03-10 | 1996-09-19 | Leica Cambridge, Ltd. | Method of writing a pattern by an electron beam |
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