JPH09173773A - ペルフルオロオレフィンの除去方法 - Google Patents
ペルフルオロオレフィンの除去方法Info
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- JPH09173773A JPH09173773A JP7338659A JP33865995A JPH09173773A JP H09173773 A JPH09173773 A JP H09173773A JP 7338659 A JP7338659 A JP 7338659A JP 33865995 A JP33865995 A JP 33865995A JP H09173773 A JPH09173773 A JP H09173773A
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- perfluoroolefin
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- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Fire-Extinguishing Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】毒性の高いペルフルオロオレフィンを含む気体
または液体中のペルフルオロオレフィンの濃度を１０ｐ
ｐｂ以下の十分に低い濃度まで除去する。 【解決手段】ペルフルオロイソブチレンのような毒性の
高いペルフルオロオレフィンを含む気体または液体とフ
ッ素ガスとを接触させる。
または液体中のペルフルオロオレフィンの濃度を１０ｐ
ｐｂ以下の十分に低い濃度まで除去する。 【解決手段】ペルフルオロイソブチレンのような毒性の
高いペルフルオロオレフィンを含む気体または液体とフ
ッ素ガスとを接触させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペルフルオロオレ
フィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させ
ることによりペルフルオロオレフィンを除去する方法に
関する。さらに詳しくは毒性を有するペルフルオロオレ
フィンを実質的に無害化する方法に関する。
フィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させ
ることによりペルフルオロオレフィンを除去する方法に
関する。さらに詳しくは毒性を有するペルフルオロオレ
フィンを実質的に無害化する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ペルフルオロ化合物は、半導体製造にお
けるドライエッチャント、電子装置類の冷却媒体、変圧
器類の絶縁材料、気相半田付け用熱媒体等として広く用
いられている。しかし、ペルフルオロ化合物を高温に加
熱すると、あるいはペルフルオロ化合物を製造する際
に、毒性の高いペルフルオロオレフィンが副生すること
がある。例えば、テトラフルオロエチレン樹脂の熱分
解、あるいはペルフルオロトリペンチルアミンを用いた
気相半田付け、またはテトラフルオロエチレン、クロロ
ジフルオロメタン、トリフルオロメタンの熱分解により
ペルフルオロイソブチレン（以下、ＰＦＩＢと記す）が
副生する。
けるドライエッチャント、電子装置類の冷却媒体、変圧
器類の絶縁材料、気相半田付け用熱媒体等として広く用
いられている。しかし、ペルフルオロ化合物を高温に加
熱すると、あるいはペルフルオロ化合物を製造する際
に、毒性の高いペルフルオロオレフィンが副生すること
がある。例えば、テトラフルオロエチレン樹脂の熱分
解、あるいはペルフルオロトリペンチルアミンを用いた
気相半田付け、またはテトラフルオロエチレン、クロロ
ジフルオロメタン、トリフルオロメタンの熱分解により
ペルフルオロイソブチレン（以下、ＰＦＩＢと記す）が
副生する。
【０００３】ペルフルオロオレフィンの中でもＰＦＩＢ
は、４時間吸入致死毒性(ALC)が０．５ｐｐｍと極めて
毒性が高く、無色、無臭、しかも自覚症状の発現までに
時間のかかるものである（石川ら、フッ素の化合物、p.
10、講談社、1979年）。また、ＰＦＩＢは、化学兵器の
禁止及び特定物質の規制等に関する法律において第一種
指定物質に指定されている。さらに、ＰＦＩＢの許容濃
度として、いくつかの国において１０ｐｐｂ以下という
値が採用されている（ILO Occupatuinal Safety and He
alth series No.37,1977）。
は、４時間吸入致死毒性(ALC)が０．５ｐｐｍと極めて
毒性が高く、無色、無臭、しかも自覚症状の発現までに
時間のかかるものである（石川ら、フッ素の化合物、p.
10、講談社、1979年）。また、ＰＦＩＢは、化学兵器の
禁止及び特定物質の規制等に関する法律において第一種
指定物質に指定されている。さらに、ＰＦＩＢの許容濃
度として、いくつかの国において１０ｐｐｂ以下という
値が採用されている（ILO Occupatuinal Safety and He
alth series No.37,1977）。
【０００４】このようにＰＦＩＢの毒性が高いため、Ｐ
ＦＩＢを除去するための種々の方法がこれまで提案され
ている。すなわち、アルコール類と接触させる方法（特
開昭53-73504号公報）、アンモニアと接触させる方法
（特公昭50-16768号公報）などである。しかしながら、
いずれの方法も、ＰＦＩＢを１０ｐｐｂ以下の十分低い
濃度まで容易に除去することはできず、あるいは長期間
に渡り、または連続的にＰＦＩＢを除去しようとすると
大型装置や複雑な装置が必要となる。さらにＰＦＩＢを
接触させた化学物質の廃棄物処理方法が問題となる。
ＦＩＢを除去するための種々の方法がこれまで提案され
ている。すなわち、アルコール類と接触させる方法（特
開昭53-73504号公報）、アンモニアと接触させる方法
（特公昭50-16768号公報）などである。しかしながら、
いずれの方法も、ＰＦＩＢを１０ｐｐｂ以下の十分低い
濃度まで容易に除去することはできず、あるいは長期間
に渡り、または連続的にＰＦＩＢを除去しようとすると
大型装置や複雑な装置が必要となる。さらにＰＦＩＢを
接触させた化学物質の廃棄物処理方法が問題となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ペルフルオロオレフィ
ンを含む気体または液体からペルフルオロオレフィンを
除去する方法に関して、十分に低い濃度までペルフルオ
ロオレフィンを容易に除去でき、しかも大型装置や複雑
な装置を必要とせずに連続的にも除去し得る除去方法の
開発が望まれていた。
ンを含む気体または液体からペルフルオロオレフィンを
除去する方法に関して、十分に低い濃度までペルフルオ
ロオレフィンを容易に除去でき、しかも大型装置や複雑
な装置を必要とせずに連続的にも除去し得る除去方法の
開発が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
課題に鑑み鋭意検討を続けてきた。その結果、ペルフル
オロオレフィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを
接触させることにより、上記目的が達成されることを見
出し、本発明を完成させるに至った。
課題に鑑み鋭意検討を続けてきた。その結果、ペルフル
オロオレフィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを
接触させることにより、上記目的が達成されることを見
出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、ペルフルオロオレフ
ィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させる
ことを特徴とするペルフルオロオレフィンの除去方法で
ある。
ィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させる
ことを特徴とするペルフルオロオレフィンの除去方法で
ある。
【０００８】本発明において除去されるペルフルオロオ
レフィンは、炭素−フッ素結合を有し、分子内に少なく
とも１個以上の二重結合を有するものが何ら制限なく適
用される。このうち、炭素数２ヶ以上、好ましくは炭素
数２ヶ〜６ヶの化合物が好ましい。本発明で対象となる
代表的なペルフルオロオレフィンとしては、ＰＦＩＢ、
ペルフルオロシクロブテン、ヘキサフルオロプロペンな
どである。この中でも特に毒性の高いＰＦＩＢが好まし
く対象とされる。
レフィンは、炭素−フッ素結合を有し、分子内に少なく
とも１個以上の二重結合を有するものが何ら制限なく適
用される。このうち、炭素数２ヶ以上、好ましくは炭素
数２ヶ〜６ヶの化合物が好ましい。本発明で対象となる
代表的なペルフルオロオレフィンとしては、ＰＦＩＢ、
ペルフルオロシクロブテン、ヘキサフルオロプロペンな
どである。この中でも特に毒性の高いＰＦＩＢが好まし
く対象とされる。
【０００９】本発明では、常温常圧においてペルフルオ
ロオレフィンを含む気体または液体が対象となる。ペル
フルオロオレフィンを含む気体または液体におけるペル
フルオロオレフィンの濃度は、蒸留操作などによっては
容易に濃度を低下させることができない１％以下のもの
が好ましく対象となる。また、窒素、ヘリウム等の不活
性ガス、空気、フッ化水素、気体または液体のペルフル
オロ化合物等でペルフルオロオレフィンが希釈されてい
るものが好ましく対象となる。気体または液体のペルフ
ルオロ化合物を例示すれば、ペルフルオロメタン、ペル
フルオロエタン、ペルフルオロプロパン、ペルフルオロ
ブタン、ペルフルオロペンタン、ペルフルオロヘキサ
ン、ペルフルオロノナン等のペルフルオロアルカン類、
ペルフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロメチルシク
ロヘキサン等のペルフルオロシクロアルカン類、ペルフ
ルオロペルハイドロフェナントレン、ペルフルオロデカ
リン等のペルフルオロ多環式化合物、三フッ化窒素、ペ
ルフルオロトリメチルアミン、ペルフルオロトリエチル
アミン、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオ
ロトリブチルアミン、ペルフルオロトリペンチルアミ
ン、ペルフルオロモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ−メチ
ルモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ−エチルモルホリン、
ペルフルオロ−Ｎ−プロピルモルホリン、ペルフルオロ
−Ｎ−ブチルモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルシクロヘキシルアミン等のペルフルオロ含窒素化合
物、ペルフルオロ−２−プロピルテトラヒドロピラン、
ペルフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン、ペルフ
ルオロブチルエーテル等の含酸素化合物、六フッ化イオ
ウ、ペルフルオロオクチルサルファペンタフルオライド
等の含イオウ化合物等を挙げることができる。本発明で
は、上記ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体
は、特に、特定のペルフルオロ化合物を高温に加熱した
り、あるいは特定のペルフルオロ化合物を製造する際等
に生じることがある該組成の気体や液体を対象とするの
が好適である。
ロオレフィンを含む気体または液体が対象となる。ペル
フルオロオレフィンを含む気体または液体におけるペル
フルオロオレフィンの濃度は、蒸留操作などによっては
容易に濃度を低下させることができない１％以下のもの
が好ましく対象となる。また、窒素、ヘリウム等の不活
性ガス、空気、フッ化水素、気体または液体のペルフル
オロ化合物等でペルフルオロオレフィンが希釈されてい
るものが好ましく対象となる。気体または液体のペルフ
ルオロ化合物を例示すれば、ペルフルオロメタン、ペル
フルオロエタン、ペルフルオロプロパン、ペルフルオロ
ブタン、ペルフルオロペンタン、ペルフルオロヘキサ
ン、ペルフルオロノナン等のペルフルオロアルカン類、
ペルフルオロシクロヘキサン、ペルフルオロメチルシク
ロヘキサン等のペルフルオロシクロアルカン類、ペルフ
ルオロペルハイドロフェナントレン、ペルフルオロデカ
リン等のペルフルオロ多環式化合物、三フッ化窒素、ペ
ルフルオロトリメチルアミン、ペルフルオロトリエチル
アミン、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオ
ロトリブチルアミン、ペルフルオロトリペンチルアミ
ン、ペルフルオロモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ−メチ
ルモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ−エチルモルホリン、
ペルフルオロ−Ｎ−プロピルモルホリン、ペルフルオロ
−Ｎ−ブチルモルホリン、ペルフルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルシクロヘキシルアミン等のペルフルオロ含窒素化合
物、ペルフルオロ−２−プロピルテトラヒドロピラン、
ペルフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン、ペルフ
ルオロブチルエーテル等の含酸素化合物、六フッ化イオ
ウ、ペルフルオロオクチルサルファペンタフルオライド
等の含イオウ化合物等を挙げることができる。本発明で
は、上記ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体
は、特に、特定のペルフルオロ化合物を高温に加熱した
り、あるいは特定のペルフルオロ化合物を製造する際等
に生じることがある該組成の気体や液体を対象とするの
が好適である。
【００１０】本発明において使用されるフッ素ガスは、
フッ素電解槽で発生したフッ素ガス、あるいは市販され
ているフッ素ボンベのフッ素ガス、反応等に使用したフ
ッ素ガスを含む排ガスをそのまま、あるいは窒素、ヘリ
ウム等の不活性ガスで希釈して用いて良い。本発明で
は、上記ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体
を該フッ素ガスと接触させることにより、上記ペルフル
オロオレフィンをその二重結合の部分で分解したり、或
いは該二重結合の部分にフッ素を付加させ、該ペルフル
オロオレフィンを除去する。ここで、フッ素ガスの濃度
は、希薄な濃度で良く、通常は０．０１〜２０％、好ま
しくは０．５〜５％の範囲であれば良い。フッ素ガスの
濃度が上記範囲より低い場合は、ペルフルオロオレフィ
ンを十分には除去できない。フッ素ガスの濃度が上記範
囲より高くしても良いが、フッ素ガスの利用率が低下す
るため、特にメリットはない。
フッ素電解槽で発生したフッ素ガス、あるいは市販され
ているフッ素ボンベのフッ素ガス、反応等に使用したフ
ッ素ガスを含む排ガスをそのまま、あるいは窒素、ヘリ
ウム等の不活性ガスで希釈して用いて良い。本発明で
は、上記ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体
を該フッ素ガスと接触させることにより、上記ペルフル
オロオレフィンをその二重結合の部分で分解したり、或
いは該二重結合の部分にフッ素を付加させ、該ペルフル
オロオレフィンを除去する。ここで、フッ素ガスの濃度
は、希薄な濃度で良く、通常は０．０１〜２０％、好ま
しくは０．５〜５％の範囲であれば良い。フッ素ガスの
濃度が上記範囲より低い場合は、ペルフルオロオレフィ
ンを十分には除去できない。フッ素ガスの濃度が上記範
囲より高くしても良いが、フッ素ガスの利用率が低下す
るため、特にメリットはない。
【００１１】ペルフルオロオレフィンを含む気体または
液体とフッ素ガスとを接触させる温度は、通常常温で良
く、０〜３０℃であれば良い。接触時間は、短時間で良
く、０．１〜３００秒、好ましくは１〜６０秒である。
ここで、接触時間は、ペルフルオロオレフィンを含む気
体または液体とフッ素ガスとを接触させる容器におい
て、該ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体が
滞在する時間である。接触時間が上記範囲より短い場合
は、ペルフルオロオレフィンを十分には除去できない。
接触時間を上記範囲より長くしても良いが、設備の大型
化を招くだけで、特にメリットはない。
液体とフッ素ガスとを接触させる温度は、通常常温で良
く、０〜３０℃であれば良い。接触時間は、短時間で良
く、０．１〜３００秒、好ましくは１〜６０秒である。
ここで、接触時間は、ペルフルオロオレフィンを含む気
体または液体とフッ素ガスとを接触させる容器におい
て、該ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体が
滞在する時間である。接触時間が上記範囲より短い場合
は、ペルフルオロオレフィンを十分には除去できない。
接触時間を上記範囲より長くしても良いが、設備の大型
化を招くだけで、特にメリットはない。
【００１２】ペルフルオロオレフィンを含む気体または
液体とフッ素ガスとを接触させる方法は、バッチ式、連
続式、向流式、並流式、気泡塔形式、スプレー塔形式、
攪拌槽形式、混合槽形式等の公知の方法を採用すれば良
い。装置材質としては、汎用材料の鉄、ステンレスを用
いれば良い。本発明に従えば、短時間でペルフルオロオ
レフィンを十分除去できるため、連続的にペルフルオロ
オレフィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触
させる方法が特に好ましい。
液体とフッ素ガスとを接触させる方法は、バッチ式、連
続式、向流式、並流式、気泡塔形式、スプレー塔形式、
攪拌槽形式、混合槽形式等の公知の方法を採用すれば良
い。装置材質としては、汎用材料の鉄、ステンレスを用
いれば良い。本発明に従えば、短時間でペルフルオロオ
レフィンを十分除去できるため、連続的にペルフルオロ
オレフィンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触
させる方法が特に好ましい。
【００１３】本発明に従えば、ペルフルオロオレフィン
とフッ素ガスとを接触させることにより、ペルフルオロ
オレフィンの濃度を１０ｐｐｂ以下、好適には５ｐｐｂ
以下まで容易に、しかも連続的に除去することができ
る。さらに、ペルフルオロオレフィンは、分解されて無
害のペルフルオロアルカンとすることができる。
とフッ素ガスとを接触させることにより、ペルフルオロ
オレフィンの濃度を１０ｐｐｂ以下、好適には５ｐｐｂ
以下まで容易に、しかも連続的に除去することができ
る。さらに、ペルフルオロオレフィンは、分解されて無
害のペルフルオロアルカンとすることができる。
【００１４】ペルフルオロオレフィンを含む気体または
液体とフッ素ガスとを接触させたのちの過剰のフッ素ガ
スは、アルカリ水溶液などに吸収させればよい。
液体とフッ素ガスとを接触させたのちの過剰のフッ素ガ
スは、アルカリ水溶液などに吸収させればよい。
【００１５】本発明において最も好ましい実施形態を例
示すれば、ペルフルオロ化合物の加熱処理等のＰＦＩＢ
の如く毒性の高いペルフルオロオレフィンを副生してペ
ルフルオロオレフィンを含む気体または液体が流動する
工程と、フッ素化反応等のフッ素ガスを利用しフッ素ガ
スを含む排ガスを放出する工程と、上記フッ素ガスある
いはさらに酸性ガスを含む排ガスをアルカリ水溶液等を
用いて吸収させる除害工程とを有する製造プロセスにお
いて、ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体が
流動する工程にフッ素ガスを含む排ガスを導入し、ペル
フルオロオレフィンを除去したのち、次いで排ガスを除
害工程に導入する形態が挙げられる。
示すれば、ペルフルオロ化合物の加熱処理等のＰＦＩＢ
の如く毒性の高いペルフルオロオレフィンを副生してペ
ルフルオロオレフィンを含む気体または液体が流動する
工程と、フッ素化反応等のフッ素ガスを利用しフッ素ガ
スを含む排ガスを放出する工程と、上記フッ素ガスある
いはさらに酸性ガスを含む排ガスをアルカリ水溶液等を
用いて吸収させる除害工程とを有する製造プロセスにお
いて、ペルフルオロオレフィンを含む気体または液体が
流動する工程にフッ素ガスを含む排ガスを導入し、ペル
フルオロオレフィンを除去したのち、次いで排ガスを除
害工程に導入する形態が挙げられる。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、ペルフルオロオレフィ
ンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させると
いう簡単な操作で、ペルフルオロオレフィンをほぼ完全
に除去することができる。さらに、連続的に長期間にわ
たって除去することも容易に実施できる。
ンを含む気体または液体とフッ素ガスとを接触させると
いう簡単な操作で、ペルフルオロオレフィンをほぼ完全
に除去することができる。さらに、連続的に長期間にわ
たって除去することも容易に実施できる。
【００１７】
【実施例】本発明をさらに具体的に説明するために以下
実施例を掲げるが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
実施例を掲げるが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
【００１８】実施例１ ガス組成ならびに濃度が、ＰＦＩＢ１６０ｐｐｍ、ペル
フルオロブタン１５００ｐｐｍ、ペルフルオロペンタン
６０００ｐｐｍ、ヘキサフルオロプロペン１１００ｐｐ
ｍ、ペルフルオロ−２−ブテン２９０ｐｐｍ、残りが窒
素ガスである混合ガスを用いた。この混合ガスをサンプ
リング口を有する内径２８ｍｍＳＵＳ製配管に流し、表
１に示す所定の濃度に希釈したフッ素ガスを温度１５℃
で連続的に並流接触させた。フッ素ガスとの接触開始位
置からサンプリング口までの距離は１ｍである。
フルオロブタン１５００ｐｐｍ、ペルフルオロペンタン
６０００ｐｐｍ、ヘキサフルオロプロペン１１００ｐｐ
ｍ、ペルフルオロ−２−ブテン２９０ｐｐｍ、残りが窒
素ガスである混合ガスを用いた。この混合ガスをサンプ
リング口を有する内径２８ｍｍＳＵＳ製配管に流し、表
１に示す所定の濃度に希釈したフッ素ガスを温度１５℃
で連続的に並流接触させた。フッ素ガスとの接触開始位
置からサンプリング口までの距離は１ｍである。
【００１９】サンプリング口からフッ素ガスと接触させ
た排ガスを密閉容器にサンプリングし、室温下で３０重
量％のヨウ化カリウム水溶液に通じてフッ素ガスを吸収
させ、テドラーバックに採取した。採取したガス中のＰ
ＦＩＢの濃度を、非放射線源式電子捕獲型検出器付ガス
クロマトグラフィ−によって分析した。表１に分析結果
を接触時間と合わせて記した。
た排ガスを密閉容器にサンプリングし、室温下で３０重
量％のヨウ化カリウム水溶液に通じてフッ素ガスを吸収
させ、テドラーバックに採取した。採取したガス中のＰ
ＦＩＢの濃度を、非放射線源式電子捕獲型検出器付ガス
クロマトグラフィ−によって分析した。表１に分析結果
を接触時間と合わせて記した。
【００２０】また、表１のＮｏ．３の条件でフッ素ガス
と接触させた後のガス中のＰＦＩＢ以外のペルフルオロ
オレフィンの濃度は、ヘキサフルオロプロペン、ペルフ
ルオロ−２−ブテンともに１０ｐｐｂ以下であった。
と接触させた後のガス中のＰＦＩＢ以外のペルフルオロ
オレフィンの濃度は、ヘキサフルオロプロペン、ペルフ
ルオロ−２−ブテンともに１０ｐｐｂ以下であった。
【００２１】さらに、表１のＮｏ．３の条件で１ヶ月連
続運転した後に排ガス中のＰＦＩＢ濃度を測定すると
０．１ｐｐｂ以下であった。
続運転した後に排ガス中のＰＦＩＢ濃度を測定すると
０．１ｐｐｂ以下であった。
【００２２】
【表１】
【００２３】比較例１ 孔径１００〜１２０μｍのフィルター（面積３cm2）を
有する５００ｍｌの洗気瓶に、表２に示す各種の溶液を
各々４００ｍｌを入れ、実施例１に用いた混合ガスを６
０ｍｌ／分で通じて、温度１５℃で接触させた。接触後
の排ガスを接触開始時点から１０分間にわたって全量を
テドラーバッグに捕集して、ＰＦＩＢ濃度を分析した。
分析結果を表２に合わせて記した。
有する５００ｍｌの洗気瓶に、表２に示す各種の溶液を
各々４００ｍｌを入れ、実施例１に用いた混合ガスを６
０ｍｌ／分で通じて、温度１５℃で接触させた。接触後
の排ガスを接触開始時点から１０分間にわたって全量を
テドラーバッグに捕集して、ＰＦＩＢ濃度を分析した。
分析結果を表２に合わせて記した。
【００２４】
【表２】
【００２５】実施例２ 内径２８ｍｍ、長さ５０ｃｍのＳＵＳ製反応器に、下部
から２％濃度のフッ素ガスを１２ｍｌ／分で供給し、上
部からＰＦＩＢ濃度が８０ｐｐｍであるペルフルオロト
リペンチルアミンを３００ｍｌ／分（接触時間５９秒）
で連続的に供給した。
から２％濃度のフッ素ガスを１２ｍｌ／分で供給し、上
部からＰＦＩＢ濃度が８０ｐｐｍであるペルフルオロト
リペンチルアミンを３００ｍｌ／分（接触時間５９秒）
で連続的に供給した。
【００２６】向流接触後のペルフルオロトリペンチルア
ミンは、オーバーフローさせて密閉容器に回収した。回
収率は９９．９９％であった。回収したペルフルオロト
リペンチルアミン中のＰＦＩＢ濃度は、０．１ｐｐｂ以
下であった。
ミンは、オーバーフローさせて密閉容器に回収した。回
収率は９９．９９％であった。回収したペルフルオロト
リペンチルアミン中のＰＦＩＢ濃度は、０．１ｐｐｂ以
下であった。
【００２７】ペルフルオロトリペンチルアミン中のＰＦ
ＩＢ濃度は、フッ素ガスとの接触前後のそれぞれにおい
て、該ペルフルオロトリペンチルアミンを５００ｍｌの
洗気瓶に入れ、これに窒素ガスを通し、この排出ガスを
３０重量％のヨウ化カリウム水溶液が入った洗気瓶に通
したのちテドラーバッグに捕集し、ＰＦＩＢ濃度を求め
た。
ＩＢ濃度は、フッ素ガスとの接触前後のそれぞれにおい
て、該ペルフルオロトリペンチルアミンを５００ｍｌの
洗気瓶に入れ、これに窒素ガスを通し、この排出ガスを
３０重量％のヨウ化カリウム水溶液が入った洗気瓶に通
したのちテドラーバッグに捕集し、ＰＦＩＢ濃度を求め
た。
Claims (2)
- 【請求項１】ペルフルオロオレフィンを含む気体または
液体とフッ素ガスとを接触させることを特徴とするペル
フルオロオレフィンの除去方法。 - 【請求項２】ペルフルオロオレフィンの濃度を１０ｐｐ
ｂ以下まで除去することを特徴とする請求項１記載のペ
ルフルオロオレフィンの除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7338659A JPH09173773A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | ペルフルオロオレフィンの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7338659A JPH09173773A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | ペルフルオロオレフィンの除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09173773A true JPH09173773A (ja) | 1997-07-08 |
Family
ID=18320259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7338659A Pending JPH09173773A (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | ペルフルオロオレフィンの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09173773A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999057755A1 (fr) * | 1998-04-30 | 1999-11-11 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Procede selectif d'attaque a sec |
| EP0967191A1 (en) * | 1998-06-24 | 1999-12-29 | Asahi Glass Company Ltd. | Method for producing perfluoro(n-Pentane) |
| WO2002021586A1 (en) * | 2000-09-07 | 2002-03-14 | Daikin Industries, Ltd. | Dry etching gas and method for dry etching |
| JP2002543957A (ja) * | 1999-05-07 | 2002-12-24 | アドバンスド．テクノロジー．マテリアルス．インコーポレイテッド | 半導体製造排ガスの酸化処理のために実用性を持っている排ガス流処理システム |
| JP2006043536A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Central Glass Co Ltd | 窒素化合物の分解方法 |
| US12275661B2 (en) | 2023-07-14 | 2025-04-15 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of iodine capture from aqueous solutions |
| US12534390B2 (en) | 2023-07-14 | 2026-01-27 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of nitrate removal in aqueous systems for improved PFAS destruction |
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-
1995
- 1995-12-26 JP JP7338659A patent/JPH09173773A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7931820B2 (en) | 2000-09-07 | 2011-04-26 | Daikin Industries, Ltd. | Dry etching gas and method for dry etching |
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| US12275661B2 (en) | 2023-07-14 | 2025-04-15 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of iodine capture from aqueous solutions |
| US12351498B2 (en) | 2023-07-14 | 2025-07-08 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of PFAS destruction using UV irradiation at 222 nanometers |
| US12473222B2 (en) | 2023-07-14 | 2025-11-18 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems for recycling materials during PFAS destruction |
| US12515974B2 (en) | 2023-07-14 | 2026-01-06 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of iodine capture from aqueous solutions |
| US12534390B2 (en) | 2023-07-14 | 2026-01-27 | Claros Technologies Inc. | Methods and systems of nitrate removal in aqueous systems for improved PFAS destruction |
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