JPH09184599A - Gas supply integrated unit - Google Patents
Gas supply integrated unitInfo
- Publication number
- JPH09184599A JPH09184599A JP8017156A JP1715696A JPH09184599A JP H09184599 A JPH09184599 A JP H09184599A JP 8017156 A JP8017156 A JP 8017156A JP 1715696 A JP1715696 A JP 1715696A JP H09184599 A JPH09184599 A JP H09184599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- valve
- purge
- supply
- integrated unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Valve Housings (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 狭いフロアスペースで配設可能に集積された
コンパクトなガス供給集積ユニットを提供すること、ま
た溶接によるパーティクルの発生を防止したガス供給集
積ユニットを提供すること。
【解決手段】 本発明のガス供給集積ユニットは、腐食
性ガスである供給ガスF及び供給ガスを排除するパージ
ガスPの流路17a,17b,18a,18b,18c
18d,19a,19b,19cが形成された固定ブロ
ック11,12,15に、供給ガスの混入不純物を除去
するためのフィルタ2、供給ガスの流れを遮断する開閉
弁3、供給ガスの流量を制御するマスフローコントロフ
ーラ4、パージガスを供給するためのパージ弁5、及び
パージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆止弁
6とを固設する取付部が備えられたものである。
(57) An object of the present invention is to provide a compact gas supply integrated unit that is integrated so that it can be arranged in a narrow floor space, and to provide a gas supply integrated unit that prevents the generation of particles due to welding. A gas supply integrated unit of the present invention includes a flow path 17a, 17b, 18a, 18b, 18c for a supply gas F that is a corrosive gas and a purge gas P that removes the supply gas.
The fixed blocks 11, 12 and 15 on which 18d, 19a, 19b and 19c are formed, a filter 2 for removing impurities mixed in the supply gas, an on-off valve 3 for shutting off the flow of the supply gas, a flow rate of the supply gas is controlled. A mass flow controller 4, a purge valve 5 for supplying a purge gas, and a check valve 6 for preventing the supply gas from flowing into the purge gas supply side are fixedly attached.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
の産業用製造装置で使用されるガス供給集積ユニットに
関し、特に、各構成部品をコンパクトに集積したガス供
給集積ユニットに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas supply integrated unit used in an industrial manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a gas supply integrated unit in which each component is compactly integrated.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、半導体製造工程において、ホ
トレジスト加工のエッチング等に腐食性ガスが使用され
ている。ホトレジスト加工(ホトレジスト塗布、露光、
現像、エッチング)は、半導体製造工程において腐食性
ガスの種類を変えて複数回繰り返されるため、実際の半
導体製造工程では、複数種類の腐食ガスを必要に応じて
供給するガス供給装置が使用されている。このガスを供
給するガス供給装置は、流量を正確に計測するためのマ
スフローコントローラと、マスフローコントローラ内に
腐食性ガス等の供給ガスを残留させないために当該マス
フローコントローラの前後に設けられる開閉弁及びパー
ジ弁等とからなるガス供給集積ユニットが連設されて構
成されている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor manufacturing process, a corrosive gas has been used for etching of a photoresist process or the like. Photoresist processing (photoresist coating, exposure,
Development and etching) are repeated a plurality of times in the semiconductor manufacturing process while changing the type of corrosive gas. In an actual semiconductor manufacturing process, a gas supply device that supplies a plurality of types of corrosive gases as needed is used. I have. The gas supply device that supplies this gas includes a mass flow controller for accurately measuring the flow rate, and an on-off valve and a purge valve provided before and after the mass flow controller to prevent supply gas such as corrosive gas from remaining in the mass flow controller. A gas supply integrated unit including a valve and the like is connected in series.
【0003】ここで、図7は、従来のガス供給集積ユニ
ットを示す斜視図であり、図8は、そのガス供給集積ユ
ニットを連設したガス供給装置の流路を示した空圧回路
図である。図8に示したガス供給装置51は、エッチン
グが行われる不図示の真空チャンバーへ連通する供給ガ
ス管路52に接続されたものである。そして、1つの真
空チャンバーでは、複数種類の腐食性ガスを切り替えて
使用することにより複雑な工程のエッチングを行うた
め、本従来例では1つの真空チャンバーに7種類の腐食
性ガス(Fa〜Fg)を供給するよう7個のガス供給集
積ユニット50が連設されたガス供給装置51が接続さ
れている。Here, FIG. 7 is a perspective view showing a conventional gas supply integrated unit, and FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram showing a flow path of a gas supply device in which the gas supply integrated unit is connected in series. is there. The gas supply device 51 shown in FIG. 8 is connected to a supply gas pipeline 52 that communicates with a vacuum chamber (not shown) in which etching is performed. Further, in one vacuum chamber, etching of complicated processes is performed by switching and using plural kinds of corrosive gases. Therefore, in this conventional example, seven kinds of corrosive gases (Fa to Fg) are contained in one vacuum chamber. Is connected to a gas supply device 51 in which seven gas supply integrated units 50 are connected in series.
【0004】ガス供給装置51を構成するガス供給集積
ユニット50は、図8に示すように供給ガスの供給また
は遮断を手動で行うための手動弁55、供給ガスのガス
圧を調整するレギュレータ56、供給ガスの圧力をモニ
ターするための圧力計57、そして供給ガスの混入不純
物を除去するためのフィルタ58が直列に接続され、更
にマスフローコントローラ60内に腐食性ガス等の供給
ガスを残留させないため、その前後に入口開閉弁59、
出口開閉弁61を設けて直列に接続されている。As shown in FIG. 8, a gas supply integrated unit 50 constituting the gas supply device 51 has a manual valve 55 for manually supplying or shutting off the supply gas, a regulator 56 for adjusting the gas pressure of the supply gas, Since the pressure gauge 57 for monitoring the pressure of the supply gas and the filter 58 for removing the impurities mixed in the supply gas are connected in series, and the supply gas such as corrosive gas does not remain in the mass flow controller 60, Before and after that, the inlet opening / closing valve 59,
An outlet opening / closing valve 61 is provided and connected in series.
【0005】そして、マスフローコントローラ60内に
残留する供給ガス(Fa〜Fg)を排除するための置換
ガスである窒素ガスを供給するためのパージ弁62が、
パージ切換弁70が設けられた窒素ガス配管71から分
岐したパージガス共通流路72に逆止弁63を介して接
続されている。ここで、管路上に逆止弁63を取り付け
ているのは、腐食ガス等である供給ガスが、パージガス
共通流路72に流入するのを防止するためである。腐食
ガスがパージガス共通流路72に流入した場合に、パー
ジガス共通流路72の内部が腐食され、パーティクルが
発生する恐れがあるからである。A purge valve 62 for supplying a nitrogen gas, which is a replacement gas for removing the supply gas (Fa to Fg) remaining in the mass flow controller 60, is provided.
A purge gas common flow path 72 branched from a nitrogen gas pipe 71 provided with a purge switching valve 70 is connected via a check valve 63. Here, the check valve 63 is attached on the pipe line in order to prevent the supply gas such as the corrosive gas from flowing into the purge gas common flow path 72. This is because when the corrosive gas flows into the purge gas common flow path 72, the inside of the purge gas common flow path 72 may be corroded and particles may be generated.
【0006】一方、このような構成からなるガス供給集
積ユニット50は、図7に示すように各ユニットが並設
され(図では便宜上2個のユニットのみを示す)、ガス
供給装置が形成されている。なお、図7のガス供給集積
ユニット50には、その構成部品のうち入口開閉弁5
9、マスフローコントローラ60、及びパージ弁62、
逆止弁63のみを示した。そして、このガス供給集積ユ
ニット50では、入口開閉弁59及びパージ弁62が流
路の形成されたブロック81上部にボルトで固定され、
マスフローコントローラ60はそのブロック81に連設
された、やはり流路の形成されたブロック82,82に
固設されている。そして、ブロック81側部にはパージ
ブロック83が固設され、そこから延設されたパージパ
イプ84に逆止弁63が接続されパージガス共通流路7
2に連結されている。On the other hand, in the gas supply integrated unit 50 having such a structure, the units are arranged side by side as shown in FIG. 7 (only two units are shown in the figure for convenience), and a gas supply device is formed. There is. In addition, the gas supply integrated unit 50 of FIG.
9, mass flow controller 60, and purge valve 62,
Only the check valve 63 is shown. In the gas supply integrated unit 50, the inlet opening / closing valve 59 and the purge valve 62 are fixed to the upper portion of the block 81 in which the flow path is formed by bolts,
The mass flow controller 60 is fixed to blocks 82, 82 which are connected to the block 81 and also have flow paths formed therein. A purge block 83 is fixedly provided on the side of the block 81, and a check valve 63 is connected to a purge pipe 84 extending from the purge block 83.
It is connected to 2.
【0007】ところで、図9に4つの真空チャンバーが
配設されたエッチング装置の配置図を示す。中央に設置
されたロボット91を中心にして、4つの真空チャンバ
ー92A,92B,92C,92Dが配設されている。
また、真空チャンバー92A…に未エッチングのウエハ
等を供給し、加工済みウエハを回収するための2台の搬
送装置93が配設されている。ここで、一つ一つの真空
チャンバー真空チャンバー92A,92B,92C,9
2Dに対して、ガス供給装置51が必要となるので、図
で示すようにガス供給装置51を備えた4つのガスボッ
クス94A,94B,94C,94Dを設け、各々を真
空チャンバー92A,92B,92C,92Dに接続さ
れている。By the way, FIG. 9 shows a layout of an etching apparatus having four vacuum chambers. Four vacuum chambers 92A, 92B, 92C and 92D are arranged around a robot 91 installed in the center.
Further, two transfer devices 93 for supplying unetched wafers and the like to the vacuum chambers 92A and collecting the processed wafers are provided. Here, each vacuum chamber vacuum chamber 92A, 92B, 92C, 9
Since the gas supply device 51 is required for 2D, four gas boxes 94A, 94B, 94C and 94D provided with the gas supply device 51 are provided as shown in the figure, and each of them is provided with a vacuum chamber 92A, 92B, 92C. , 92D.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からある従来のガス供給集積ユニット50には次のよ
うな問題点があった。先ず、上述した従来例のガス供給
集積ユニット50は、パージ弁62が固設されたブロッ
ク81の配管へパージガスを供給すべくパージブロック
83を設け、パージガス共通流路72から逆止弁63及
びパージパイプ84を介して接続されている。ところ
が、パージブロック83をブロック81側部に設ける必
要から、逆止弁63が、フィルタ58、パージ弁62及
びマスフローコントローラ60が並んだライン上から外
れて配設されることとなる。そのため、ガス供給集積ユ
ニット50の幅が大きくなり、当該ユニットを複数個並
設したガス供給装置51が大型化してしまった。However, the conventional gas supply integrated unit 50 having such a structure has the following problems. First, the gas supply integrated unit 50 of the conventional example described above is provided with the purge block 83 to supply the purge gas to the pipe of the block 81 in which the purge valve 62 is fixed, and the check valve 63 and the purge are provided from the common purge gas passage 72. It is connected via a pipe 84. However, since it is necessary to provide the purge block 83 on the side of the block 81, the check valve 63 is arranged off the line where the filter 58, the purge valve 62, and the mass flow controller 60 are lined up. Therefore, the width of the gas supply integrated unit 50 becomes large, and the gas supply device 51 in which a plurality of the units are arranged side by side is enlarged.
【0009】このことは、真空チャンバー92A…の近
くに配設すると作業等の邪魔になる一方、図9に示すよ
うにガス供給装置をガスボックス94A…としてまとめ
て配設すると、ガス供給装置から真空チャンバー92A
…までの配管95A,95B,95C,95Dが長くな
り、流量を安定させるために要する時間が長いという問
題を引き起こすこととなった また、供給するガスの種類によっては、常温で液化する
ものもあり、保温等が必要な場合がある。その場合に、
ガスボックス94A…から真空チャンバー92A…まで
の配管95A…が長いと、保温された配管全体がスペー
スをとり、作業スペースを狭くし、また十分に保温され
ずにエッチングに悪影響を与える恐れもある。When this is arranged near the vacuum chambers 92A, it hinders work and the like, but when the gas supply devices are collectively arranged as a gas box 94A as shown in FIG. Vacuum chamber 92A
The pipes 95A, 95B, 95C, 95D up to ... become long, which causes a problem that it takes a long time to stabilize the flow rate. Further, depending on the type of gas to be supplied, there are some that liquefy at room temperature. , Insulation may be necessary. In that case,
When the pipes 95A from the gas box 94A to the vacuum chamber 92A are long, the entire heat-insulated pipe occupies a space, the working space is narrowed, and the heat is not sufficiently kept, which may adversely affect etching.
【0010】次に、上述した従来例のガス供給集積ユニ
ット50では、パージガス共通流路72からパージブロ
ック83にかけて、逆止弁63及びパージパイプ84等
の接合部が溶接によって接続して構成されている。とこ
ろが、このように溶接接続を行なったのでは、ガス供給
集積ユニット50自体が腐食性ガス等を扱うものである
ため、溶接部が腐食されてパーティクルが発生するとい
う問題があった。Next, in the above-described conventional gas supply integrated unit 50, the check valve 63, the purge pipe 84, and other joints are connected by welding from the purge gas common flow path 72 to the purge block 83. There is. However, when the welding connection is performed in this manner, the gas supply integrated unit 50 itself handles corrosive gas and the like, so that there is a problem that the welded portion is corroded and particles are generated.
【0011】そこで、本発明は、上記した問題点を解決
すべく、狭いフロアスペースで配設可能なよう集積され
たコンパクトなガス供給集積ユニットを提供すること、
また溶接によるパーティクルの発生を防止したガス供給
集積ユニットを提供することを目的とする。In order to solve the above problems, the present invention provides a compact gas supply integrated unit that can be installed in a narrow floor space.
Another object of the present invention is to provide a gas supply integrated unit in which generation of particles due to welding is prevented.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明のガス供給集積ユ
ニットは、供給ガスの混入不純物を除去するためのフィ
ルタと、流路を流れる供給ガスの流れを調節する開閉弁
と、供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラ
と、前記マスフローコントローラ内に残留する供給ガス
を排除するパージガスを供給するためのパージ弁と、パ
ージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆止弁と
を備えたものであって、前記供給ガス及び前記パージガ
スが流れる流路が形成され、当該流路上に前記フィル
タ、前記開閉弁、前記マスフローコントローラ、前記パ
ージ弁、及び前記逆止弁を固設するための取付部を備え
た固定ブロックを有することを特徴とする。The gas supply integrated unit of the present invention comprises a filter for removing impurities mixed in the supply gas, an on-off valve for adjusting the flow of the supply gas flowing through the flow passage, and a flow rate of the supply gas. And a purge valve for supplying a purge gas for eliminating the supply gas remaining in the mass flow controller, and a check valve for preventing the supply gas from flowing into the purge gas supply side. There is formed a flow path through which the supply gas and the purge gas flow, and an attachment portion for fixing the filter, the on-off valve, the mass flow controller, the purge valve, and the check valve on the flow path. It has a fixed block provided.
【0013】また、本発明のガス供給集積ユニットは、
前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記開閉弁と、
前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフローコント
ローラとを固設するための取付部が同一方向に設けられ
ていることが望ましい。また、本発明のガス供給集積ユ
ニットは、前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記
開閉弁と、前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフ
ローコントローラとを固設するための取付部が一直線上
に設けられていることが望ましい。Further, the gas supply integrated unit of the present invention is
The fixed block, the filter, the on-off valve,
It is preferable that mounting portions for fixing the purge valve, the check valve, and the mass flow controller are provided in the same direction. Further, in the gas supply integrated unit of the present invention, the fixed block has a mounting portion for fixing the filter, the opening / closing valve, the purge valve, the check valve, and the mass flow controller. It is desirable to be provided on the line.
【0014】上記構成を有する本発明のガス供給集積ユ
ニットは、供給ガスまたはパージガスが、固定ブロック
に形成された流路及び当該流路上に位置するよう固定ブ
ロックの取付部へ固設されたフィルタ、開閉弁、マスフ
ローコントローラ、パージ弁、及び逆止弁を通って流れ
るものとしたことにより、ユニット自体をコンパクトな
ものとすることができ、また配管等を溶接を用いて接続
する必要がないため、溶接によるパーティクルの発生を
防止することがでる。また、本発明のガス供給集積ユニ
ットは、フィルタと、開閉弁と、パージ弁と、逆止弁
と、マスフローコントローラとを固定ブロックへ同一方
向に固設するため、ユニット自体がコンパクトなものと
することができる。更に、本発明のガス供給集積ユニッ
トは、フィルタと、開閉弁と、パージ弁と、逆止弁と、
マスフローコントローラとを固定ブロックへ一直線上に
固設するため、ユニット自体がコンパクトなものとする
ことができる。In the gas supply integrated unit of the present invention having the above structure, the supply gas or the purge gas is fixed to the passage formed in the fixed block and the mounting portion of the fixed block so as to be located on the passage. By flowing through the on-off valve, mass flow controller, purge valve, and check valve, the unit itself can be made compact, and since it is not necessary to connect piping etc. by welding, It is possible to prevent generation of particles due to welding. Further, in the gas supply integrated unit of the present invention, the filter, the on-off valve, the purge valve, the check valve, and the mass flow controller are fixed to the fixed block in the same direction, so that the unit itself is compact. be able to. Furthermore, the gas supply integrated unit of the present invention comprises a filter, an on-off valve, a purge valve, a check valve,
Since the mass flow controller is fixed to the fixed block in a straight line, the unit itself can be made compact.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかるガス供給集
積ユニットを具体化した一実施の形態を図面を参照して
説明する。図1は、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
トを示した斜視図であり、図2は、そのガス供給集積ユ
ニットを示した一部断面斜視図である。本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1は、上述した従来例のものと同
様に半導体製造工程において腐食性ガスの種類を変え、
その複数種類の腐食性ガスを必要に応じて供給するガス
供給装置に使用されるものである。そこで、このガス供
給集積ユニット1も、腐食性ガスである供給ガスFの混
入不純物を除去するためのフィルタ2、供給ガスFの流
れを遮断するメインバルブ3、流量を正確に計測するた
めのマスフローコントローラ4、マスフローコントロー
ラ4内に残留する供給ガスFを排除するための置換ガス
である窒素ガス(以下、「パージガス」という)Pを供
給するためのパージ弁5、そして腐食ガス等である供給
ガスFがパージガス共通側に流入するのを防止するため
の逆止弁6を備えた構成をなしている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of the gas supply integrated unit according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a gas supply integrated unit of the present embodiment, and FIG. 2 is a partial sectional perspective view showing the gas supply integrated unit. The gas supply integrated unit 1 of the present embodiment changes the type of corrosive gas in the semiconductor manufacturing process like the conventional example described above,
It is used in a gas supply device that supplies a plurality of types of corrosive gases as needed. Therefore, this gas supply integrated unit 1 also has a filter 2 for removing impurities mixed in the supply gas F which is a corrosive gas, a main valve 3 for shutting off the flow of the supply gas F, and a mass flow for accurately measuring the flow rate. Controller 4, purge valve 5 for supplying nitrogen gas (hereinafter referred to as "purge gas") P which is a replacement gas for eliminating the supply gas F remaining in the mass flow controller 4, and supply gas such as a corrosive gas. The check valve 6 is provided to prevent F from flowing into the common side of the purge gas.
【0016】そして、図2に示すようにフィルタ2を固
設するためのフィルタブロック15と、メインバルブ3
及びパージ弁5を固設するための第1ブロック11と、
マスフローコントローラ4及び逆止弁6を固設するため
の第2ブロック12とが一体となって、本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1の特徴をなす固定ブロックが構
成されている。ここで、この第1ブロック11は、直方
体形状のブロック体をなし、フィルタブロック15とガ
スケット14を嵌装して供給ガスFが漏れることがない
ように気密して一体化されている。Then, as shown in FIG. 2, a filter block 15 for fixing the filter 2 and a main valve 3 are provided.
And a first block 11 for fixing the purge valve 5,
The mass flow controller 4 and the second block 12 for fixing the check valve 6 together form a fixed block that is a feature of the gas supply integrated unit 1 of the present embodiment. Here, the first block 11 is a rectangular parallelepiped block body, and is fitted with a filter block 15 and a gasket 14 so as to be airtightly integrated so that the supply gas F does not leak.
【0017】また、図2のA−A断面を図3に示すが、
図に示されているように第2ブロック12には、後述す
るガスの流路が形成され、第1ブロック11へボルトに
よって固設するための雌ネジ13,13…が切られてい
る。そして、第1ブロック11と第2ブロック12との
ガス流路の接合部には、ガスケット14,14を嵌装し
て供給ガスF及びパージガスPが漏れることのないよう
気密に一体化されている。A cross section taken along the line AA of FIG. 2 is shown in FIG.
As shown in the figure, the second block 12 is provided with a gas flow passage described later, and female screws 13, 13 ... For fixing the first block 11 to the first block 11 with bolts are cut. Gaskets 14 and 14 are fitted to the joints of the gas passages of the first block 11 and the second block 12 so that the supply gas F and the purge gas P are hermetically integrated so as not to leak. .
【0018】更に、第1ブロック11上面には、メイン
バルブ3及びパージ弁5の取付部11a,11bが長手
方向に形成されている。第2ブロック12の上面には、
逆止弁6の取付部12aが、第1ブロック11の取付部
11a,11bと一直線上に位置するように形成され、
更に、第2ブロック12のフランジ部には、図2に示す
ように取付部11a,11b及び取付部12aと一直線
上に位置するようにマスフローコントローラ4を固定す
るための取付部12bが形成されている。そして、同じ
ようにフィルタブロック15にも、その上面にフィルタ
2を取り付けるための取付部15aが形成されている。Further, on the upper surface of the first block 11, mounting portions 11a and 11b for the main valve 3 and the purge valve 5 are formed in the longitudinal direction. On the upper surface of the second block 12,
The mounting portion 12a of the check valve 6 is formed so as to be aligned with the mounting portions 11a and 11b of the first block 11,
Further, as shown in FIG. 2, the flange portion of the second block 12 is provided with mounting portions 11a and 11b and a mounting portion 12b for fixing the mass flow controller 4 so as to be aligned with the mounting portions 12a. There is. Similarly, the filter block 15 is also provided with an attachment portion 15a for attaching the filter 2 on the upper surface thereof.
【0019】そのため、フィルタブロック15、第1ブ
ロック11及び第2ブロック12からなる固定ブロック
に取り付けられるフィルタ2、メインバルブ3、パージ
弁5、逆止弁6及びマスフローコントローラ4は、図1
に示すように一直線上であって同方向に配列された1ラ
イン化を実現している。また、これらフィルタ2、メイ
ンバルブ3、パージ弁5、逆止弁6、及びマスフローコ
ントローラ4は、全て上方からボルトで取り付けられて
いる。Therefore, the filter 2, the main valve 3, the purge valve 5, the check valve 6 and the mass flow controller 4 mounted on the fixed block composed of the filter block 15, the first block 11 and the second block 12 are shown in FIG.
As shown in (1), one line is realized which is arranged on a straight line and arranged in the same direction. The filter 2, the main valve 3, the purge valve 5, the check valve 6, and the mass flow controller 4 are all attached by bolts from above.
【0020】次に、このようにガス供給集積ユニット1
の各構成部品が取り付けられるフィルタブロック15、
第1ブロック11及び第2ブロック12には、一連の流
路が形成されている。先ず、フィルタブロック15に
は、ガス供給ブロック16からの供給ガスFをフィルタ
2の入力ポートへ連通するフィルタ入力流路17aと、
出力ポートへ連通するフィルタ出力流路17bが形成さ
れている。Next, as described above, the gas supply integrated unit 1
A filter block 15 to which each component of
A series of flow paths are formed in the first block 11 and the second block 12. First, in the filter block 15, a filter input flow path 17a for communicating the supply gas F from the gas supply block 16 with the input port of the filter 2,
A filter output flow path 17b communicating with the output port is formed.
【0021】第1ブロック11には、フィルタ出力流路
17bと取付部11aに形成されたメインバルブ3の弁
室を連通するメインバルブ入力流路18aが形成されて
いる。また、その取付部11aにはメインバルブ3の弁
座3aが形成され、その弁座3aの弁孔に連通するマス
フローバルブ入力流路18bが形成されている。このマ
スフローバルブ入力流路18bには、メインバルブ3に
連設されたパージ弁5のパージ弁出力流路18cが合流
している。このパージ弁出力流路18cは、取付部11
bに形成された弁室に連通したものである。また、第1
ブロック11には、その弁室に形成されたパージ弁5の
弁座5aの弁孔に連通するようパージ弁入力流路18d
が形成されている。The first block 11 is formed with a main valve input flow passage 18a which communicates the filter output flow passage 17b with the valve chamber of the main valve 3 formed in the mounting portion 11a. Further, a valve seat 3a of the main valve 3 is formed in the mounting portion 11a, and a mass flow valve input flow path 18b communicating with a valve hole of the valve seat 3a is formed. The purge valve output passage 18c of the purge valve 5 connected to the main valve 3 is joined to the mass flow valve input passage 18b. The purge valve output flow path 18c is attached to the mounting portion 11
It communicates with the valve chamber formed in b. Also, the first
The block 11 has a purge valve input passage 18d so as to communicate with the valve hole of the valve seat 5a of the purge valve 5 formed in the valve chamber.
Are formed.
【0022】更に、第2ブロック12には、第1ブロッ
ク11に形成されたマスフローバルブ入力流路18b及
びパージ弁入力流路18dにそれぞれ連通する、マスフ
ローバルブ入力流路19aと逆止弁出力流路19bが形
成されている。また、この第2ブロック12には、図1
に示すようにパージガスPを供給するためのパージガス
供給ブロック20が固設され、図3に示すようそのフラ
ンジ部には、パージガスPを逆止弁6へ供給するための
逆止弁入力流路19cが形成されている。Further, the second block 12 has a mass flow valve input flow passage 19a and a check valve output flow which communicate with the mass flow valve input flow passage 18b and the purge valve input flow passage 18d formed in the first block 11, respectively. A path 19b is formed. In addition, in the second block 12, FIG.
3, a purge gas supply block 20 for supplying the purge gas P is fixedly provided, and a check valve input flow passage 19c for supplying the purge gas P to the check valve 6 is provided on the flange portion thereof as shown in FIG. Are formed.
【0023】次に、逆止弁6の構成について説明する
が、他のマスフローコントローラ4等については、通常
使用されているものを利用しているので詳細な説明は省
略する。図4及び図5は、逆止弁を示した断面図であ
り、図4に閉弁時の状態を図5に開弁時の状態を示し
た。逆止弁6は、第2ブロック12へ直接固定されるフ
タ31内に弁が形成されている。フタ31は、図に示す
ように一端に開口部を有する中空筒形状をなし、その開
口部からは、横方向に貫通孔32aが形成された円筒形
状のガス入力カバー32と、弁を備えた円筒形状の弁本
体33とが一体になって同軸上に挿入されている。ガス
入力カバー32及び弁本体33は固定されることなく、
フタ31の取り外しによって容易に分解可能な構成とな
っている。Next, the structure of the check valve 6 will be described, but since the other mass flow controllers 4 and the like that are normally used are used, detailed description thereof will be omitted. 4 and 5 are cross-sectional views showing the check valve. FIG. 4 shows the state when the valve is closed, and FIG. 5 shows the state when the valve is open. The check valve 6 is formed in the lid 31 that is directly fixed to the second block 12. The lid 31 has a hollow cylindrical shape having an opening at one end as shown in the figure, and is provided with a cylindrical gas input cover 32 having a through hole 32a formed in the lateral direction from the opening and a valve. The cylindrical valve body 33 is integrally inserted coaxially. The gas input cover 32 and the valve body 33 are not fixed,
It has a structure that can be easily disassembled by removing the lid 31.
【0024】ガス入力カバー32を弁本体33との間に
は、ゴム製の弁座34が装着されている。弁本体33の
中空部には、弁体35を備えた中空筒形状のピストン3
6が摺動可能に嵌挿されている。このピストン36は、
弁体35が係着された上端側部は貫通孔36aが形成さ
れ、下端部は開口している。そして、ピストン36の中
空部36bには、その開口した下端部からコイルバネで
ある復帰バネ37が装着されている。復帰バネ37は、
上端をピストン36の段差部に当接し、取り付け時には
下端が第2ブロック12の取付部12aに当接するよう
にして縮設される。そのため、復帰バネ37は、弁体3
5が弁座34に当接する方向にピストン36が付勢され
ている。そして、このような構成からなる逆止弁6で
は、図3に示すように逆止弁入力流路19cがカバー3
1と弁本体33とに囲まれた流路空間38に連通する一
方、弁本体33下端部で逆止弁出力流路19bに連通す
ることによって、パージガス供給流路が形成されてい
る。A rubber valve seat 34 is mounted between the gas input cover 32 and the valve body 33. In the hollow portion of the valve body 33, a hollow cylindrical piston 3 having a valve body 35 is provided.
6 is slidably fitted. This piston 36
A through hole 36a is formed on the upper end side to which the valve body 35 is attached, and the lower end is open. A return spring 37, which is a coil spring, is attached to the hollow portion 36b of the piston 36 from the open lower end thereof. The return spring 37 is
The upper end is abutted against the stepped portion of the piston 36, and the lower end is abutted against the mounting portion 12a of the second block 12 when mounted, and is contracted. Therefore, the return spring 37 is
The piston 36 is urged in the direction in which 5 abuts the valve seat 34. In the check valve 6 having such a configuration, the check valve input flow passage 19c has the cover 3 as shown in FIG.
1 communicates with the flow passage space 38 surrounded by the valve main body 33, while communicating with the check valve output flow passage 19b at the lower end of the valve main body 33, thereby forming a purge gas supply flow passage.
【0025】続いて、上記構成からなる本実施の形態の
ガス供給集積ユニット1の作用について説明する。不図
示の手動弁によって開弁されると、ガス供給ブロック1
6へ供給されフィルタ入力流路17aからフィルタ2へ
入力され、供給ガスの混入不純物が除去されてフィルタ
出力流路17bへ流出される。そして、フィルタ出力流
路17bへ流出された供給ガスFは、第1ブロック11
のメインバルブ入力流路18aからメインバルブ3へ流
れ、バルブを開くことによってマスフローバルブ入力流
路18b,19aを流れてマスフローコントローラ4内
に流入する。Next, the operation of the gas supply integrated unit 1 of the present embodiment having the above structure will be described. When opened by a manual valve (not shown), the gas supply block 1
6 is input to the filter 2 from the filter input flow path 17a, the mixed impurities of the supply gas are removed, and the mixed gas is discharged to the filter output flow path 17b. Then, the supply gas F that has flowed out to the filter output flow path 17b is the first block 11
From the main valve input flow path 18a to the main valve 3, and by opening the valve, flows through the mass flow valve input flow paths 18b and 19a to flow into the mass flow controller 4.
【0026】一方、マスフローコントローラ4内に残留
する供給ガスFを排除するための置換ガスであるパージ
ガスPは、パージガス供給ブロック20へ供給される
と、逆止弁入力流路19cから逆止弁6へ流入する。逆
止弁入力流路19cから逆止弁6へ流入したパージガス
Pは、流路空間38を流れて貫通孔32aからガス入力
カバー32内に流入し、そのパージガスPのガス圧によ
て図5に示すように復帰バネ37の付勢力に反してピス
トン36と共に弁体35を下降させる。そして、弁体3
5が弁座34から離間すると、パージガスPは更に弁本
体33内に流入し、貫通孔36aからピストン36の中
空部36bへ流れて第2ブロック12の逆止弁出力流路
19bへ流出する。On the other hand, when the purge gas P, which is a replacement gas for eliminating the supply gas F remaining in the mass flow controller 4, is supplied to the purge gas supply block 20, the check valve 6 is supplied from the check valve input passage 19c. Flow into. The purge gas P flowing from the check valve input flow passage 19c into the check valve 6 flows through the flow passage space 38 into the gas input cover 32 through the through hole 32a, and due to the gas pressure of the purge gas P, the purge gas P shown in FIG. As shown in, the valve body 35 is lowered together with the piston 36 against the biasing force of the return spring 37. And valve element 3
When 5 is separated from the valve seat 34, the purge gas P further flows into the valve body 33, flows from the through hole 36a to the hollow portion 36b of the piston 36, and flows out to the check valve output flow passage 19b of the second block 12.
【0027】ところで、供給ガスFが逆止弁出力流路1
9bから逆止弁6へ流入してきた場合には、弁体35が
弁座34へ当接した状態にあるため、供給ガスFがパー
ジガスPの供給側へ流入することはない。そして、逆止
弁6から流出したパージガスPは、逆止弁出力流路19
b及びパージ弁入力流路18dを流れてパージ弁5へ流
入する。そこで、パージ弁5のバルブを開くことによ
り、パージガスPは、パージ弁出力流路18cへ流出し
てマスフローバルブ入力流路18bへ流れ込み、マスフ
ローバルブ入力流路19aを流れてマスフローコントロ
ーラ4に流入し、その中に残留する腐食性ガスである供
給ガスFを置換して排除する。一方、マスフローコント
ローラ4内に流入した供給ガスFは、その後所定の配管
を通ってエッチングが行われる不図示の真空チャンバー
へ供給され、そこでウエハのエッチングが行なわれる。By the way, the supply gas F flows through the check valve output passage 1
When the check valve 6 has flown into the check valve 6, the supply gas F does not flow into the purge gas P because the valve body 35 is in contact with the valve seat 34. Then, the purge gas P flowing out from the check valve 6 is transferred to the check valve output flow path 19
b and the purge valve input flow path 18d to flow into the purge valve 5. Therefore, by opening the valve of the purge valve 5, the purge gas P flows out into the purge valve output flow path 18c, flows into the mass flow valve input flow path 18b, flows through the mass flow valve input flow path 19a, and flows into the mass flow controller 4. , The supply gas F which is the corrosive gas remaining therein is replaced and eliminated. On the other hand, the supply gas F flowing into the mass flow controller 4 is then supplied to a vacuum chamber (not shown) where etching is performed through a predetermined pipe, and the wafer is etched there.
【0028】以上、本発明にかかるガス供給集積ユニッ
トの一実施の形態の構成及び作用について説明したが、
本実施の形態のガス供給集積ユニット1によれば、次の
ような効果を奏する。フィルタブロック15、第1ブロ
ック11及び第2ブロック12を一体にした固定ブロッ
クに、メインバルブ3及びマスフローコントローラ4等
を取り付けるよう構成したことによって、ガス供給集積
ユニットをコンパクト化することができた。The configuration and operation of one embodiment of the gas supply integrated unit according to the present invention has been described above.
The gas supply integrated unit 1 of the present embodiment has the following effects. The main block 3, the mass flow controller 4, etc. were attached to the fixed block which integrated the filter block 15, the 1st block 11, and the 2nd block 12, and the gas supply integrated unit could be made compact.
【0029】特に、固定ブロックに対して同方向であっ
て一直線上に配設したことによって、ガス供給集積ユニ
ット1お構成するメインバルブ3及びマスフローコント
ローラ4等の構成部品の1ライン化の実現により、この
ガス供給集積ユニット1を並設したガス供給装置をコン
パクト化することができた。ガス供給装置のコンパクト
化は、床の占有面積を大幅に縮小することができるた
め、作業の邪魔になるといった問題を解消し、また、ガ
ス供給装置を真空チャンバー51のすぐ近くに配設する
ことが可能となり、安定した流量でのガスの供給が可能
となった。In particular, by arranging them in the same direction and in a straight line with respect to the fixed block, it is possible to realize a one-line construction of the components such as the main valve 3 and the mass flow controller 4 which constitute the gas supply integrated unit 1. The gas supply device in which the gas supply integrated unit 1 is arranged in parallel can be made compact. The downsizing of the gas supply device can significantly reduce the floor occupying area, so that the problem of hindering work is solved, and the gas supply device is arranged in the immediate vicinity of the vacuum chamber 51. It became possible to supply gas at a stable flow rate.
【0030】一方、ガス供給集積ユニット1自体にして
も、フィルタブロック15、第1ブロック11及び第2
ブロック12に対して上方からボルトによって取り付け
るようにしたため、逆止弁6等の各構成部品の取り外し
が容易であり、メンテナンス性が格段に向上した。ま
た、逆止弁6は、図6に示すようにカバー31をボルト
41で固定することによってのみ組付けてあるので、復
帰バネ37等の部品交換を容易に行なうことが可能であ
る。On the other hand, even in the gas supply integrated unit 1 itself, the filter block 15, the first block 11 and the second block 11
Since it is attached to the block 12 from above by bolts, the check valve 6 and other components can be easily removed, and the maintainability is greatly improved. Further, since the check valve 6 is assembled only by fixing the cover 31 with the bolts 41 as shown in FIG. 6, it is possible to easily replace the components such as the return spring 37.
【0031】更に、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
トでは、フィルタブロック15、第1ブロック11及び
第2ブロック12を一体にした固定ブロックにガス流路
17a,17b,18a,18b,18c18d,19
a,19b,19cを形成したので、従来のもののよう
に配管を溶接によって接続する必要がなくなった。その
ため、腐食性ガスによって溶接が腐食することによるパ
ーティクルの発生を防止することができた。Further, in the gas supply integrated unit of the present embodiment, the gas passages 17a, 17b, 18a, 18b, 18c, 18d, 19 are provided in the fixed block in which the filter block 15, the first block 11 and the second block 12 are integrated.
Since a, 19b and 19c are formed, it is not necessary to connect the pipes by welding as in the conventional one. Therefore, it was possible to prevent the generation of particles due to corrosion of the welding by the corrosive gas.
【0032】なお、本発明は、上記実施の形態のものに
限定されるわけではなくその趣旨を逸脱しない範囲で様
々な変更が可能である。例えば、上記実施の形態では、
逆止弁6に復帰バネ37を使用したポペット構造のもの
を採用したが、ダイアフラムを用いて供給ガスFのガス
圧によるダイアフラム受圧力を利用したものを採用する
ようにしてもよい。これは、ポペット構造のものによる
と、復帰バネ37で圧力バランスをとったのでは弁体3
5がバイブレーションを起こして脈流を発生させたり、
摺動部がこすれることによってパーティクルが発生する
ことを解消する利点を有している。また、例えば、上記
実施の形態のように各構成部品を配列させることなく、
逆止弁6をフィルタブロック15に取り付ける一方、第
2ブロック12へは必要に応じてフィルタ2や圧力セン
サまたはバルブ等を取り付けるようにしてもよい。The present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment,
Although the check valve 6 has a poppet structure using the return spring 37, a diaphragm may be used to utilize the diaphragm pressure by the gas pressure of the supply gas F. According to the poppet structure, this is because the pressure is balanced by the return spring 37.
5 causes vibration to generate pulsating flow,
This has an advantage of eliminating the generation of particles due to rubbing of the sliding portion. Further, for example, without arranging each component as in the above-described embodiment,
The check valve 6 may be attached to the filter block 15, while the filter 2, a pressure sensor, a valve, or the like may be attached to the second block 12 as needed.
【0033】[0033]
【発明の効果】本発明は、供給ガス及びパージガスの流
路が形成され、当該流路上にフィルタ、開閉弁、マスフ
ローコントローラ、パージ弁、及び逆止弁を固設する取
付部を備えた固定ブロックによって構成するようにした
ので、狭いフロアスペースで配設可能に集積されたコン
パクトなガス供給集積ユニットを提供すること、また溶
接によるパーティクルの発生を防止したガス供給集積ユ
ニットを提供することが可能となった。According to the present invention, a fixed block is provided in which flow passages for supply gas and purge gas are formed, and a mounting portion for fixedly mounting a filter, an on-off valve, a mass flow controller, a purge valve, and a check valve on the flow passage. Since it is configured by, it is possible to provide a compact gas supply integrated unit that can be arranged in a narrow floor space and to provide a gas supply integrated unit that prevents the generation of particles due to welding. became.
【図1】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.
【図2】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した一部断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.
【図3】一実施の形態にかかる逆止弁及び固定ブロック
を示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a check valve and a fixed block according to one embodiment.
【図4】一実施の形態にかかる逆止弁の閉弁状態を示し
た断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a closed state of the check valve according to the embodiment.
【図5】一実施の形態にかかる逆止弁の開弁状態を示し
た断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing an open state of the check valve according to the embodiment.
【図6】本発明にかかるガス供給集積ユニットの一実施
の形態を示した一部断面図である。FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of a gas supply integrated unit according to the present invention.
【図7】従来のガス供給集積ユニットを示す斜視図であ
る。FIG. 7 is a perspective view showing a conventional gas supply integrated unit.
【図8】ガス供給集積ユニットを連設したガス供給装置
の流路を示した空圧回路図である。FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram showing a flow path of a gas supply device in which gas supply integrated units are connected in series.
【図9】4つの真空チャンバーが配設されたエッチング
装置を示した配置図である。FIG. 9 is a layout view showing an etching apparatus provided with four vacuum chambers.
1 ガス供給集積ユニット 2 フィルタ 3 メインバルブ 4 マスフローコントローラ 5 パージ弁 6 逆止弁 11 第1ブロック 12 第2ブロック 15 フィルタブロック 18a,18b,18c18d,19a,19b,19
c 流路1 Gas Supply Integrated Unit 2 Filter 3 Main Valve 4 Mass Flow Controller 5 Purge Valve 6 Check Valve 11 First Block 12 Second Block 15 Filter Block 18a, 18b, 18c18d, 19a, 19b, 19
c flow path
Claims (3)
フィルタと、流路を流れる供給ガスの流れを調節する開
閉弁と、供給ガスの流量を制御するマスフローコントロ
ーラと、前記マスフローコントローラ内に残留する供給
ガスを排除するパージガスを供給するためのパージ弁
と、パージガス供給側への供給ガスの流入を防止する逆
止弁とを備えたガス供給集積ユニットにおいて、 前記供給ガス及び前記パージガスが流れる流路が形成さ
れ、当該流路上に前記フィルタ、前記開閉弁、前記マス
フローコントローラ、前記パージ弁、及び前記逆止弁を
固設するための取付部を備えた固定ブロックを有するこ
とを特徴とするガス供給集積ユニット。1. A filter for removing impurities mixed in a supply gas, an opening / closing valve for adjusting a flow of the supply gas flowing through a flow path, a mass flow controller for controlling a flow rate of the supply gas, and a residue in the mass flow controller. In a gas supply integrated unit equipped with a purge valve for supplying a purge gas for eliminating the supply gas and a check valve for preventing the supply gas from flowing into the purge gas supply side, a flow of the supply gas and the purge gas. A gas having a passage formed and a fixed block having an attachment portion for fixing the filter, the opening / closing valve, the mass flow controller, the purge valve, and the check valve on the passage. Supply integration unit.
において、 前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記開閉弁と、
前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフローコント
ローラとを固設するための取付部が同一方向に設けられ
ていることを特徴とするガス供給集積ユニット。2. The gas supply integrated unit according to claim 1, wherein the fixed block includes the filter, the on-off valve, and
A gas supply integrated unit, wherein mounting portions for fixing the purge valve, the check valve, and the mass flow controller are provided in the same direction.
において、 前記固定ブロックが、前記フィルタと、前記開閉弁と、
前記パージ弁と、前記逆止弁と、前記マスフローコント
ローラとを固設するための取付部が一直線上に設けられ
ていることを特徴とするガス供給集積ユニット。3. The gas supply integrated unit according to claim 2, wherein the fixed block includes the filter, the on-off valve, and
A gas supply integrated unit, wherein an attachment portion for fixing the purge valve, the check valve, and the mass flow controller is provided in a straight line.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1715696A JP2922453B2 (en) | 1996-01-05 | 1996-01-05 | Gas supply integrated unit |
| KR1019960054576A KR100232112B1 (en) | 1996-01-05 | 1996-11-15 | Gas supply unit |
| SG9611698A SG79211A1 (en) | 1996-01-05 | 1996-12-12 | Gas supply unit |
| US08/777,046 US5819782A (en) | 1996-01-05 | 1996-12-30 | Gas supply unit |
| MYPI96005561A MY114330A (en) | 1996-01-05 | 1996-12-31 | Gas supply unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1715696A JP2922453B2 (en) | 1996-01-05 | 1996-01-05 | Gas supply integrated unit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09184599A true JPH09184599A (en) | 1997-07-15 |
| JP2922453B2 JP2922453B2 (en) | 1999-07-26 |
Family
ID=11936124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1715696A Expired - Fee Related JP2922453B2 (en) | 1996-01-05 | 1996-01-05 | Gas supply integrated unit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2922453B2 (en) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6209571B1 (en) | 1997-05-13 | 2001-04-03 | Ckd Corporation | Process gas supply unit |
| JP2002089798A (en) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ulvac Japan Ltd | Fluid control device and gas treatment equipment using it |
| JP2003086579A (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-20 | Ckd Corp | Gas supply integrated unit |
| JP2003091322A (en) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ckd Corp | Gas supply integrated valve |
| KR100775791B1 (en) * | 2000-03-31 | 2007-11-12 | 램 리써치 코포레이션 | System and Method for Providing an Integrated Gas Stick |
| KR100904189B1 (en) * | 2006-08-11 | 2009-06-23 | 씨케이디 가부시키 가이샤 | Purge gas unit and purge gas supply integrated unit |
| JP2011152514A (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Daihen Corp | Fluid supply unit and fuel cell system including the same |
| JP2012013100A (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | Gas distribution unit |
| JP2012197941A (en) * | 2012-05-21 | 2012-10-18 | Ulvac Japan Ltd | Fluid control device and gas treatment apparatus using the same |
| CN102954348A (en) * | 2011-08-25 | 2013-03-06 | 智高实业股份有限公司 | Switch valve and gas-filling device of gas cylinder |
| WO2018168559A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | 株式会社フジキン | Joint and fluid control device |
| JP2019173771A (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-10 | 日本精線株式会社 | Gas filter and gas supply device including the same |
| JP2021063519A (en) * | 2019-10-10 | 2021-04-22 | ナブテスコ株式会社 | Adapter, valve gear, construction machine, valve gear attachment method, and control valve |
-
1996
- 1996-01-05 JP JP1715696A patent/JP2922453B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6209571B1 (en) | 1997-05-13 | 2001-04-03 | Ckd Corporation | Process gas supply unit |
| KR100775791B1 (en) * | 2000-03-31 | 2007-11-12 | 램 리써치 코포레이션 | System and Method for Providing an Integrated Gas Stick |
| JP2002089798A (en) * | 2000-09-11 | 2002-03-27 | Ulvac Japan Ltd | Fluid control device and gas treatment equipment using it |
| JP2003086579A (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-20 | Ckd Corp | Gas supply integrated unit |
| JP2003091322A (en) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ckd Corp | Gas supply integrated valve |
| KR100904189B1 (en) * | 2006-08-11 | 2009-06-23 | 씨케이디 가부시키 가이샤 | Purge gas unit and purge gas supply integrated unit |
| JP2011152514A (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Daihen Corp | Fluid supply unit and fuel cell system including the same |
| JP2012013100A (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | Gas distribution unit |
| CN102954348A (en) * | 2011-08-25 | 2013-03-06 | 智高实业股份有限公司 | Switch valve and gas-filling device of gas cylinder |
| JP2012197941A (en) * | 2012-05-21 | 2012-10-18 | Ulvac Japan Ltd | Fluid control device and gas treatment apparatus using the same |
| WO2018168559A1 (en) * | 2017-03-15 | 2018-09-20 | 株式会社フジキン | Joint and fluid control device |
| JPWO2018168559A1 (en) * | 2017-03-15 | 2020-01-16 | 株式会社フジキン | Fittings and fluid control devices |
| US11493162B2 (en) | 2017-03-15 | 2022-11-08 | Fujikin Incorporated | Joint and fluid control device |
| JP2019173771A (en) * | 2018-03-27 | 2019-10-10 | 日本精線株式会社 | Gas filter and gas supply device including the same |
| JP2021063519A (en) * | 2019-10-10 | 2021-04-22 | ナブテスコ株式会社 | Adapter, valve gear, construction machine, valve gear attachment method, and control valve |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2922453B2 (en) | 1999-07-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5819782A (en) | Gas supply unit | |
| JPH09184599A (en) | Gas supply integrated unit | |
| US5605179A (en) | Integrated gas panel | |
| US5794659A (en) | Zero dead-leg valve structure | |
| US6615871B2 (en) | Fluid control apparatus | |
| US6186177B1 (en) | Integrated gas delivery system | |
| US8985152B2 (en) | Point of use valve manifold for semiconductor fabrication equipment | |
| US6035893A (en) | Shutoff-opening devices and fluid control apparatus comprising such devices | |
| KR20100024925A (en) | Fluid control apparatus | |
| JPH1049236A (en) | Distributing element for ultra-high purity gas with valve integrated coupling device and method of use | |
| JPH05172265A (en) | Gas control device | |
| JPH10311451A (en) | Process gas supply unit | |
| JP2832166B2 (en) | Gas supply integrated unit | |
| WO2002033144A1 (en) | Manifold for gas supply system | |
| JP3564115B2 (en) | Gas supply unit | |
| US20080302426A1 (en) | System and method of securing removable components for distribution of fluids | |
| JP2568365B2 (en) | Gas supply device | |
| JP3871438B2 (en) | Process gas supply unit | |
| JP2865585B2 (en) | Gas supply integrated unit and its system | |
| EP1458984B1 (en) | Apparatus for conveying fluids and base plate | |
| JPH10214117A (en) | Gas supply integrated unit and its system | |
| JP3616875B2 (en) | Fitting member for fluid control device and manufacturing method thereof | |
| JP2875958B2 (en) | On-off valve mounting structure | |
| JP2006234110A (en) | Gas supply unit and gas supply system | |
| JP2865644B2 (en) | Mass flow controller mounting structure |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080430 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110430 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120430 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |