JPH09189572A - 光学式エンコーダ - Google Patents
光学式エンコーダInfo
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- JPH09189572A JPH09189572A JP1938596A JP1938596A JPH09189572A JP H09189572 A JPH09189572 A JP H09189572A JP 1938596 A JP1938596 A JP 1938596A JP 1938596 A JP1938596 A JP 1938596A JP H09189572 A JPH09189572 A JP H09189572A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 パルス板とマスク板に設ける透光部の形状を
適切に設定することにより、ピッチの細かいパターンを
基板上に容易に製作することができ、高分解能化を容易
にした光学式エンコーダを得ること。 【解決手段】 光源手段からの光束を対向配置したパル
ス板とマスク板に各々設けた透光部を介して受光手段で
受光し、該受光手段からの信号を用いて該パルス板とマ
スク板との相対的な変位情報を検出する光学式エンコー
ダにおいて、該パルス板と該マスク板のうちの一方の透
光部は該パルス板の変位方向と略直角方向に長い１つの
スリットであり、他方の透光部は該スリットに対応する
領域内に形成した複数の開口部を該パルス板の変位方向
に周期的に複数個並べて設けている。
適切に設定することにより、ピッチの細かいパターンを
基板上に容易に製作することができ、高分解能化を容易
にした光学式エンコーダを得ること。 【解決手段】 光源手段からの光束を対向配置したパル
ス板とマスク板に各々設けた透光部を介して受光手段で
受光し、該受光手段からの信号を用いて該パルス板とマ
スク板との相対的な変位情報を検出する光学式エンコー
ダにおいて、該パルス板と該マスク板のうちの一方の透
光部は該パルス板の変位方向と略直角方向に長い１つの
スリットであり、他方の透光部は該スリットに対応する
領域内に形成した複数の開口部を該パルス板の変位方向
に周期的に複数個並べて設けている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学式エンコーダに
関し、特に変位物体の変位量を高分解能で検出する際に
好適なものである。
関し、特に変位物体の変位量を高分解能で検出する際に
好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】図１０は従来の光学式エンコーダの要部
分解斜視図である。図中、１は発光素子、２は受光素子
であり、これらの間にパルス板３の円板部３ａ、マスク
板４が重なった状態で配置されている。パルス板３には
円板部３ａの中央に円板部３ａに対し垂直な軸３ｂを一
体的に設けており、この軸３ｂが変位物体（不図示）の
変位に連動して回転するようにしてある。また、円板部
３ａには幅ｅの放射状のスリット３ｃを周方向に周期θ
8 で全周に設けており、マスク板４には発光素子１から
受光素子２までの光路中のパルス板３のスリット３ｃに
対応する位置にスリット３ｃと略同形状の幅ｅのスリッ
ト４ａを設けている。なお、幅ｅはピッチθ8 に対して ｅ／ｒ≦θ8 ／２ （ただし、ｒは円板部３ａの中心からスリット各部まで
の距離）を満たすように設定している。
分解斜視図である。図中、１は発光素子、２は受光素子
であり、これらの間にパルス板３の円板部３ａ、マスク
板４が重なった状態で配置されている。パルス板３には
円板部３ａの中央に円板部３ａに対し垂直な軸３ｂを一
体的に設けており、この軸３ｂが変位物体（不図示）の
変位に連動して回転するようにしてある。また、円板部
３ａには幅ｅの放射状のスリット３ｃを周方向に周期θ
8 で全周に設けており、マスク板４には発光素子１から
受光素子２までの光路中のパルス板３のスリット３ｃに
対応する位置にスリット３ｃと略同形状の幅ｅのスリッ
ト４ａを設けている。なお、幅ｅはピッチθ8 に対して ｅ／ｒ≦θ8 ／２ （ただし、ｒは円板部３ａの中心からスリット各部まで
の距離）を満たすように設定している。
【０００３】この従来の光学式エンコーダの作用を説明
する。上記構成において変位物体が変位すると、これに
連動してパルス板３が軸３ｂを介して回転する。これに
伴い円板部３ａに設けられているスリット３ｃが回転し
てマスク板４のスリット４ａとの重なり具合が変化する
ため、発光素子１から投光されスリット３ｃ及びスリッ
ト４ａを通り抜けて来る光量を受光素子２で検出するこ
とによって変位量を検出する。即ち両スリットが完全に
重なった状態では透過光量はピークになり、両スリット
が完全にずれた状態では透過光量は無く、２つの状態の
繰り返し変化の回数をカウントすることによってパルス
板３の回転量が求められ、これから変位物体の変位量を
検出することができる。この従来の光学式エンコーダの
分解能θ0 はθ8 である。したがってこの光学式エンコ
ーダの分解能θ0 はパルス板３のスリット幅ｅ及びスリ
ット間隔の寸法で決定されることになる。
する。上記構成において変位物体が変位すると、これに
連動してパルス板３が軸３ｂを介して回転する。これに
伴い円板部３ａに設けられているスリット３ｃが回転し
てマスク板４のスリット４ａとの重なり具合が変化する
ため、発光素子１から投光されスリット３ｃ及びスリッ
ト４ａを通り抜けて来る光量を受光素子２で検出するこ
とによって変位量を検出する。即ち両スリットが完全に
重なった状態では透過光量はピークになり、両スリット
が完全にずれた状態では透過光量は無く、２つの状態の
繰り返し変化の回数をカウントすることによってパルス
板３の回転量が求められ、これから変位物体の変位量を
検出することができる。この従来の光学式エンコーダの
分解能θ0 はθ8 である。したがってこの光学式エンコ
ーダの分解能θ0 はパルス板３のスリット幅ｅ及びスリ
ット間隔の寸法で決定されることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例において分解能を細かくするためにスリット幅とス
リット間隔の寸法を小さくしていくと、製作が難しくな
るという問題が発生する。例えばスリット間隔が狭まる
と通常プレス加工で形成可能なスリットが型の強度不足
や部品変形といった要因からプレス加工で形成出来なく
なる。
来例において分解能を細かくするためにスリット幅とス
リット間隔の寸法を小さくしていくと、製作が難しくな
るという問題が発生する。例えばスリット間隔が狭まる
と通常プレス加工で形成可能なスリットが型の強度不足
や部品変形といった要因からプレス加工で形成出来なく
なる。
【０００５】また、これを解決するためにエッチング加
工によりスリットを形成するとコスト高となってしま
う。
工によりスリットを形成するとコスト高となってしま
う。
【０００６】以上の理由により従来の光学式エンコーダ
の構成でより高分解能の光学式エンコーダを低コストで
製作することは困難であった。
の構成でより高分解能の光学式エンコーダを低コストで
製作することは困難であった。
【０００７】本発明は、パルス板（第１スケール）とマ
スク板（第２スケール）に設ける透光部の形状を適切に
設定することにより、ピッチの細かいパターンを基板上
に容易に製作することができ、高分解能化を容易にした
光学式エンコーダの提供を目的とする。
スク板（第２スケール）に設ける透光部の形状を適切に
設定することにより、ピッチの細かいパターンを基板上
に容易に製作することができ、高分解能化を容易にした
光学式エンコーダの提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光学式エンコー
ダは、 （１−１） 発光素子が放射する光を、該光を横切る方
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちの一方の透光部は該パルス板の変位方向と略直角方向
に長い１つのスリットであり、他方の透光部は該スリッ
トに対応する領域内に形成した複数の開口部を該パルス
板の変位方向に周期的に複数個並べて設けていること等
を特徴としている。
ダは、 （１−１） 発光素子が放射する光を、該光を横切る方
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちの一方の透光部は該パルス板の変位方向と略直角方向
に長い１つのスリットであり、他方の透光部は該スリッ
トに対応する領域内に形成した複数の開口部を該パルス
板の変位方向に周期的に複数個並べて設けていること等
を特徴としている。
【０００９】特に、 （１−１−１） 前記複数の開口部を前記変位方向に周
期的に複数個並べて設けて透光部を形成する際、前記変
位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直角
方向にずらして設けている。 （１−１−２） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
期的に複数個並べて設けて透光部を形成する際、前記変
位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直角
方向にずらして設けている。 （１−１−２） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
【００１０】更に、本発明の光学式エンコーダは、 （１−２） 発光素子が放射する光を、該光を横切る方
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちのいずれか一方の透光部は該パルス板の変位方向と略
直角方向に長いスリットを該変位方向に第１の周期で複
数個設けたものであり、他方の透光部は該スリットの１
つに対応する領域内に形成した複数の開口部を該変位方
向に該第１の周期より小さい第２の周期で複数個設けた
こと等を特徴としている。
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちのいずれか一方の透光部は該パルス板の変位方向と略
直角方向に長いスリットを該変位方向に第１の周期で複
数個設けたものであり、他方の透光部は該スリットの１
つに対応する領域内に形成した複数の開口部を該変位方
向に該第１の周期より小さい第２の周期で複数個設けた
こと等を特徴としている。
【００１１】特に、 （１−２−１） 前記第２の周期は前記第１の周期の整
数（２以上）分の１である。 （１−２−２） 前記複数の開口部を前記変位方向に前
記第２の周期で複数個並べて透光部を形成する際、該変
位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直角
方向にずらして設けている。 （１−２−３） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
数（２以上）分の１である。 （１−２−２） 前記複数の開口部を前記変位方向に前
記第２の周期で複数個並べて透光部を形成する際、該変
位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直角
方向にずらして設けている。 （１−２−３） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
【００１２】更に、本発明の光学式エンコーダは、 （１−３） 発光素子が放射する光を、該光を横切る方
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちのいずれか一方の透光部（透光部A)は該パルス板の変
位方向と略直角方向に長いスリットを該変位方向に第１
の周期で複数個設けたものであり、他方の透光部（透光
部B)は該スリットの１つに対応する領域内に形成した複
数の開口部又は該スリットと略同じスリットを該変位方
向に該第１の周期より小さい第２の周期で複数個設けた
こと等を特徴としている。
向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の透
光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変化
を計測することにより該パルス板の変位量を検出する光
学式エンコーダにおいて、該パルス板と該マスク板のう
ちのいずれか一方の透光部（透光部A)は該パルス板の変
位方向と略直角方向に長いスリットを該変位方向に第１
の周期で複数個設けたものであり、他方の透光部（透光
部B)は該スリットの１つに対応する領域内に形成した複
数の開口部又は該スリットと略同じスリットを該変位方
向に該第１の周期より小さい第２の周期で複数個設けた
こと等を特徴としている。
【００１３】特に、 （１−３−１） 前記光学式エンコーダは前記パルス板
の回転変位量を検出するもので、前記透光部B として前
記透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成し
た複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記
変位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、該透光部A
のスリットの幅をｅ、該透光部B の開口部の該変位方向
の直径又はスリットの幅をｄ、該パルス板の回転中心か
ら開口部までの距離をｒ、前記第１の周期をθA 、該第
２の周期をθB として、これらの要素が：
の回転変位量を検出するもので、前記透光部B として前
記透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成し
た複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記
変位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、該透光部A
のスリットの幅をｅ、該透光部B の開口部の該変位方向
の直径又はスリットの幅をｄ、該パルス板の回転中心か
ら開口部までの距離をｒ、前記第１の周期をθA 、該第
２の周期をθB として、これらの要素が：
【００１４】
【数３】 （ｄ＋ｅ）／ｒ≦θA ／ｎ （但し、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足している。 （１−３−２） 前記光学式エンコーダは前記パルス板
の直線変位量を検出するもので、前記透光部B として前
記透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成し
た複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記
変位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、該透光部A
のスリットの幅をｅ、該透光部B の開口部の該変位方向
の直径又はスリットの幅をｄ、前記第１の周期をｐA 、
該第２の周期をｐB として、これらの要素が：
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足している。 （１−３−２） 前記光学式エンコーダは前記パルス板
の直線変位量を検出するもので、前記透光部B として前
記透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成し
た複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記
変位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、該透光部A
のスリットの幅をｅ、該透光部B の開口部の該変位方向
の直径又はスリットの幅をｄ、前記第１の周期をｐA 、
該第２の周期をｐB として、これらの要素が：
【００１５】
【数４】 ｄ＋ｅ≦ｐA ／ｎ （但し、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足している。 （１−３−３） 前記複数の開口部を前記変位方向に前
記第２の周期で複数個並べて透光部B を形成する際、該
変位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直
角方向にずらして設けている。 （１−３−４） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足している。 （１−３−３） 前記複数の開口部を前記変位方向に前
記第２の周期で複数個並べて透光部B を形成する際、該
変位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略直
角方向にずらして設けている。 （１−３−４） 前記開口部は丸穴である。こと等を特
徴としている。
【００１６】更に、本発明の光学式エンコーダは、 （１−４） 光源手段からの光束を対向配置したパルス
板（第１スケール）とマスク板（第２スケール）に各々
設けた透光部を介して受光手段で受光し、該受光手段か
らの信号を用いて該パルス板とマスク板との相対的な変
位情報を検出する光学式エンコーダにおいて、該パルス
板とマスク板に設けた透光部のうち、一方の透光部は変
位方向と直交する方向に複数の開口部を独立して設けた
パターン部を複数個該変位方向に周期的に配列して構成
しており、他方の透光部は該変位方向と直交する方向に
長い開口を有する１つのスリット又は該変位方向に周期
的に配列した複数のスリットより構成していること等を
特徴としている。
板（第１スケール）とマスク板（第２スケール）に各々
設けた透光部を介して受光手段で受光し、該受光手段か
らの信号を用いて該パルス板とマスク板との相対的な変
位情報を検出する光学式エンコーダにおいて、該パルス
板とマスク板に設けた透光部のうち、一方の透光部は変
位方向と直交する方向に複数の開口部を独立して設けた
パターン部を複数個該変位方向に周期的に配列して構成
しており、他方の透光部は該変位方向と直交する方向に
長い開口を有する１つのスリット又は該変位方向に周期
的に配列した複数のスリットより構成していること等を
特徴としている。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の光学式エンコーダ
の実施形態１の要部概略図である。又図２は実施形態１
のパルス板（第１スケール）とマスク板（第２スケー
ル）の平面図である。図中、１は発光素子（光源手
段）、２は受光素子であり、これらの間にパルス板５の
円板部５ａ、マスク板６が重なった状態で配置されてい
る。パルス板５は円板部５ａと円板部５ａの中央に円板
部５ａに対し垂直な軸５ｂを一体的に設けて構成してお
り、この軸５ｂが変位物体（不図示）の変位に連動して
回転する。６はマスク板であり、透光部として放射状の
幅ｅのスリット６ａをパルス板５の変位方向（回転方
向）と略直角方向に長く設けている。
の実施形態１の要部概略図である。又図２は実施形態１
のパルス板（第１スケール）とマスク板（第２スケー
ル）の平面図である。図中、１は発光素子（光源手
段）、２は受光素子であり、これらの間にパルス板５の
円板部５ａ、マスク板６が重なった状態で配置されてい
る。パルス板５は円板部５ａと円板部５ａの中央に円板
部５ａに対し垂直な軸５ｂを一体的に設けて構成してお
り、この軸５ｂが変位物体（不図示）の変位に連動して
回転する。６はマスク板であり、透光部として放射状の
幅ｅのスリット６ａをパルス板５の変位方向（回転方
向）と略直角方向に長く設けている。
【００１８】また、パルス板５の円板部５ａには、透光
部としてマスク板６のスリット６ａに対応する領域内に
直径ｄの３つの丸穴（開口部）５ｃi ，５ｄi ，５ｅi
を独立して設けて１つのパターン部を構成している。こ
の丸穴５ｃi ，５ｄi ，５ｅi は径方向には間隔ｆの等
間隔で設けている。円板部５ａの周方向にはこのパター
ン部を周期的（ピッチθ1 ）にｑ個並べて全周に丸穴を
設けている。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄとピッチθ1 は以
下の条件式 θ1 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部５ａの中心から丸穴５ｃi ，５ｄ
i ，５ｅi までの距離である）を満たすように設定して
いる。
部としてマスク板６のスリット６ａに対応する領域内に
直径ｄの３つの丸穴（開口部）５ｃi ，５ｄi ，５ｅi
を独立して設けて１つのパターン部を構成している。こ
の丸穴５ｃi ，５ｄi ，５ｅi は径方向には間隔ｆの等
間隔で設けている。円板部５ａの周方向にはこのパター
ン部を周期的（ピッチθ1 ）にｑ個並べて全周に丸穴を
設けている。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄとピッチθ1 は以
下の条件式 θ1 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部５ａの中心から丸穴５ｃi ，５ｄ
i ，５ｅi までの距離である）を満たすように設定して
いる。
【００１９】本実施形態の作用を説明する。図３は本実
施形態の作用説明図であり、円板部５ａとマスク板６と
が重なり合い、円板部５ａが回転している状態の平面図
である。変位物体が変位すると、これに連動して円板部
５ａが軸５ｂ回りに回転し、図３(A) に示すようにパル
ス板５の回転角がωの時に丸穴５ｃi ，５ｄi ，５ｅi
とマスク板６のスリット６ａとが同位相になって透光状
態となり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検
知する。
施形態の作用説明図であり、円板部５ａとマスク板６と
が重なり合い、円板部５ａが回転している状態の平面図
である。変位物体が変位すると、これに連動して円板部
５ａが軸５ｂ回りに回転し、図３(A) に示すようにパル
ス板５の回転角がωの時に丸穴５ｃi ，５ｄi ，５ｅi
とマスク板６のスリット６ａとが同位相になって透光状
態となり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検
知する。
【００２０】更にパルス板５が回転してその回転角がω
＋(1/2) θ1 となると、図３(B) に示すように丸穴５ｃ
i ，５ｄi ，５ｅi と丸穴５ｃi+1 ，５ｄi+1 ，５ｅ
i+1 の間の遮光部がスリット６ａの部分にきて、両者が
完全に異なる位相になって完全に遮光状態となり、受光
素子２は光を検知しない。
＋(1/2) θ1 となると、図３(B) に示すように丸穴５ｃ
i ，５ｄi ，５ｅi と丸穴５ｃi+1 ，５ｄi+1 ，５ｅ
i+1 の間の遮光部がスリット６ａの部分にきて、両者が
完全に異なる位相になって完全に遮光状態となり、受光
素子２は光を検知しない。
【００２１】更にパルス板５が回転してその回転角がω
＋θ1 となると、丸穴５ｃi+1 ，５ｄi+1 ，５ｅi+1 と
スリット６ａとが同位相になって透光状態となり、受光
素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知する。
＋θ1 となると、丸穴５ｃi+1 ，５ｄi+1 ，５ｅi+1 と
スリット６ａとが同位相になって透光状態となり、受光
素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知する。
【００２２】本実施形態は、この透光、遮光の繰り返し
変化（１周期はパルス板の回転角θ1 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板５の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を算出することができる。
変化（１周期はパルス板の回転角θ1 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板５の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を算出することができる。
【００２３】本実施形態ではパルス板５の透光部を、マ
スク板６のスリット６ａに対応する領域内に設けた複数
の丸穴を円板部５ａの周方向に周期的に並べる構成とし
ているため、 （１） プレス加工能力の一般的な条件によって、スリ
ットを幅方向に複数並べて形成するよりも丸穴を複数並
べて形成する場合の方がピッチθ1 を小さくすることが
できる。 （２） プレス加工能力の一般的な条件によって、スリ
ット幅よりも丸穴の径の方が小さくすることができる。
スク板６のスリット６ａに対応する領域内に設けた複数
の丸穴を円板部５ａの周方向に周期的に並べる構成とし
ているため、 （１） プレス加工能力の一般的な条件によって、スリ
ットを幅方向に複数並べて形成するよりも丸穴を複数並
べて形成する場合の方がピッチθ1 を小さくすることが
できる。 （２） プレス加工能力の一般的な条件によって、スリ
ット幅よりも丸穴の径の方が小さくすることができる。
【００２４】従って、従来例のスリットピッチに比べて
パルス板５の丸穴列５ｃ，５ｄ，５ｅのピッチθ1 （エ
ンコーダとしての分解能を決定する値）を小さくするこ
とができる。即ち従来と同様のプレス加工で以て従来よ
り細かい分解能θ0 ＝θ1 を有する光学式エンコーダを
得ることが可能となる。
パルス板５の丸穴列５ｃ，５ｄ，５ｅのピッチθ1 （エ
ンコーダとしての分解能を決定する値）を小さくするこ
とができる。即ち従来と同様のプレス加工で以て従来よ
り細かい分解能θ0 ＝θ1 を有する光学式エンコーダを
得ることが可能となる。
【００２５】また、マスク板６側を従来と同様のスリッ
トとすることでマスク板６に対するパルス板５の回転中
心ズレなどの製造要因に対しても従来と同等の検出能力
を保つことができる。
トとすることでマスク板６に対するパルス板５の回転中
心ズレなどの製造要因に対しても従来と同等の検出能力
を保つことができる。
【００２６】図４は本発明の光学式エンコーダの実施形
態２におけるパルス板とマスク板の平面図である。本実
施形態はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状とマ
スク板に設けるスリットの形状が実施形態１と異なって
おり、その他の部分は実施形態１と同じである。
態２におけるパルス板とマスク板の平面図である。本実
施形態はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状とマ
スク板に設けるスリットの形状が実施形態１と異なって
おり、その他の部分は実施形態１と同じである。
【００２７】図中、７はパルス板（第１スケール）であ
り、円板部７ａと円板部７ａの中央に円板部７ａに対し
垂直な軸７ｂを一体的に設けており、この軸７ｂが変位
物体（不図示）の変位に連動して回転する。８はマスク
板（第２スケール）であり、透光部として放射状の幅ｅ
のスリット８ａをパルス板の円板部７ａの周方向（変位
方向）にピッチθ3 で３個設けている。
り、円板部７ａと円板部７ａの中央に円板部７ａに対し
垂直な軸７ｂを一体的に設けており、この軸７ｂが変位
物体（不図示）の変位に連動して回転する。８はマスク
板（第２スケール）であり、透光部として放射状の幅ｅ
のスリット８ａをパルス板の円板部７ａの周方向（変位
方向）にピッチθ3 で３個設けている。
【００２８】また、パルス板７の円板部７ａには、透光
部としてマスク板８のスリット８ａの１つに対応する領
域内に直径ｄの３つの丸穴（開口部）７ｃi ，７ｄi ，
７ｅi を独立して設けて１つのパターン部を構成してい
る。この丸穴７ｃi ，７ｄi，７ｅi は径方向には間隔
ｆの等間隔で設けている。円板部７ａの周方向にはこの
パターン部を周期的（ピッチθ2 ＝θ3 /2）にｑ個並べ
て全周にわたって設けている。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄ
とピッチθ2 は以下の条件式 θ2 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部７ａの中心から丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi までの距離である）を満たすように設定して
いる。
部としてマスク板８のスリット８ａの１つに対応する領
域内に直径ｄの３つの丸穴（開口部）７ｃi ，７ｄi ，
７ｅi を独立して設けて１つのパターン部を構成してい
る。この丸穴７ｃi ，７ｄi，７ｅi は径方向には間隔
ｆの等間隔で設けている。円板部７ａの周方向にはこの
パターン部を周期的（ピッチθ2 ＝θ3 /2）にｑ個並べ
て全周にわたって設けている。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄ
とピッチθ2 は以下の条件式 θ2 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部７ａの中心から丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi までの距離である）を満たすように設定して
いる。
【００２９】本実施形態の作用を説明する。図５は本実
施形態の作用説明図であり、円板部７ａとマスク板８と
が重なり合い、円板部７ａが回転している状態の平面図
である。変位物体が変位するとこれに連動して円板部７
ａが軸７ｂ回りに回転し、次の状態となる。
施形態の作用説明図であり、円板部７ａとマスク板８と
が重なり合い、円板部７ａが回転している状態の平面図
である。変位物体が変位するとこれに連動して円板部７
ａが軸７ｂ回りに回転し、次の状態となる。
【００３０】図５(A) ： パルス板７の回転角がωの時
に丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi とマスク板８の図上最右
端のスリット８ａとが同位相になって透光状態となる。
この時、丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2 は図上中央
のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-4 ，７ｄ
i-4 ，７ｅi-4 は図上最左端のスリット８ａと同位相に
なり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知す
る。
に丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi とマスク板８の図上最右
端のスリット８ａとが同位相になって透光状態となる。
この時、丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2 は図上中央
のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-4 ，７ｄ
i-4 ，７ｅi-4 は図上最左端のスリット８ａと同位相に
なり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知す
る。
【００３１】図５(B) ： 更にパルス板７が回転してそ
の回転角がω＋(1/2) θ2 となると、丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi と丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 の間の
遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にきて、両者
が完全に異なる位相になって完全に遮光状態となる。又
丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2 及び丸穴７ｃi-4，
７ｄi-4 ，７ｅi-4 もスリット８ａから外れ、受光素子
２は光を検知しない。 図５(C) ： 更にパルス板７が回転してその回転角がω
＋θ2 となると、丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 は
図上最右端のスリット８ａと同位相になって透光状態と
なる。この時、丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 は図
上中央のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-3 ，７
ｄi-3 ，７ｅi-3 は図上最左端のスリット８ａと同位相
になり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知
する。
の回転角がω＋(1/2) θ2 となると、丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi と丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 の間の
遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にきて、両者
が完全に異なる位相になって完全に遮光状態となる。又
丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2 及び丸穴７ｃi-4，
７ｄi-4 ，７ｅi-4 もスリット８ａから外れ、受光素子
２は光を検知しない。 図５(C) ： 更にパルス板７が回転してその回転角がω
＋θ2 となると、丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 は
図上最右端のスリット８ａと同位相になって透光状態と
なる。この時、丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 は図
上中央のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-3 ，７
ｄi-3 ，７ｅi-3 は図上最左端のスリット８ａと同位相
になり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知
する。
【００３２】図５(D) ： 更にパルス板７が回転してそ
の回転角がω＋(3/2) θ2 となると、丸穴７ｃi+1 ，７
ｄi+1 ，７ｅi+1 と丸穴７ｃi+2 ，７ｄi+2 ，７ｅi+2
の間の遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にき
て、両者が完全に異なる位相になって完全に遮光状態と
なる。又丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 及び丸穴７
ｃi-3 ，７ｄi-3 ，７ｅi-3 もスリット８ａから外れ、
受光素子２は光を検知しない。
の回転角がω＋(3/2) θ2 となると、丸穴７ｃi+1 ，７
ｄi+1 ，７ｅi+1 と丸穴７ｃi+2 ，７ｄi+2 ，７ｅi+2
の間の遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にき
て、両者が完全に異なる位相になって完全に遮光状態と
なる。又丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 及び丸穴７
ｃi-3 ，７ｄi-3 ，７ｅi-3 もスリット８ａから外れ、
受光素子２は光を検知しない。
【００３３】更にパルス板７が回転してその回転角がω
＋２θ2 となると、丸穴７ｃi+2 ，７ｄi+2 ，７ｅi+2
と図上最右端のスリット８ａが、丸穴７ｃi ，７ｄi ，
７ｅi と図上中央のスリット８ａが、丸穴７ｃi-2 ，７
ｄi-2 ，７ｅi-2 と図上最左端のスリット８ａが同位相
になって透光状態となり、受光素子２はこれらの丸穴を
通過する光を検知する。
＋２θ2 となると、丸穴７ｃi+2 ，７ｄi+2 ，７ｅi+2
と図上最右端のスリット８ａが、丸穴７ｃi ，７ｄi ，
７ｅi と図上中央のスリット８ａが、丸穴７ｃi-2 ，７
ｄi-2 ，７ｅi-2 と図上最左端のスリット８ａが同位相
になって透光状態となり、受光素子２はこれらの丸穴を
通過する光を検知する。
【００３４】本実施形態は、この透光、遮光の繰り返し
変化（１周期はパルス板の回転角θ2 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板７の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を検出することができる。
変化（１周期はパルス板の回転角θ2 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板７の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を検出することができる。
【００３５】本実施形態の場合、分解能θ0 はピッチθ
2 である。本実施形態では、マスク板８のスリット８ａ
を周方向に複数設けるが、そのピッチθ3 をパルス板７
の丸穴のピッチθ2 （＝θ0 ）の２倍としているので、
マスク板８のスリットをプレス加工によって無理なく加
工できる効果がある。
2 である。本実施形態では、マスク板８のスリット８ａ
を周方向に複数設けるが、そのピッチθ3 をパルス板７
の丸穴のピッチθ2 （＝θ0 ）の２倍としているので、
マスク板８のスリットをプレス加工によって無理なく加
工できる効果がある。
【００３６】更に、マスク板８の３つのスリット８ａに
おいては夫々３つの丸穴が同時に透光状態となるため、
発光素子１の発光量を従来と同等にしても、透過光量を
従来と同等以上にすることも容易であり変位量を確実に
検出することができる。
おいては夫々３つの丸穴が同時に透光状態となるため、
発光素子１の発光量を従来と同等にしても、透過光量を
従来と同等以上にすることも容易であり変位量を確実に
検出することができる。
【００３７】図６は本発明の光学式エンコーダの実施形
態３におけるパルス板とマスク板の平面図である。本実
施形態はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状が実
施形態２と異なっており、その他の部分は実施形態２と
同じである。
態３におけるパルス板とマスク板の平面図である。本実
施形態はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状が実
施形態２と異なっており、その他の部分は実施形態２と
同じである。
【００３８】図中、７はパルス板（第１スケール）であ
り、円板部７ａと円板部７ａの中央に円板部７ａに対し
垂直な軸７ｂを一体的に設けており、この軸７ｂが変位
物体（不図示）の変位に連動して回転する。８はマスク
板（第２スケール）であり、透光部として放射状の幅ｅ
のスリット８ａを周方向にピッチθ5 で３個設けてい
る。
り、円板部７ａと円板部７ａの中央に円板部７ａに対し
垂直な軸７ｂを一体的に設けており、この軸７ｂが変位
物体（不図示）の変位に連動して回転する。８はマスク
板（第２スケール）であり、透光部として放射状の幅ｅ
のスリット８ａを周方向にピッチθ5 で３個設けてい
る。
【００３９】また、パルス板７の円板部７ａには、マス
ク板８のスリット８ａの１つに対応する領域内に直径ｄ
の３つの丸穴（開口部）７ｃi ，７ｄi ，７ｅi を独立
して設けている（径方向には間隔ｆの等間隔）。そして
この３つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi から該円板部７
ａの周方向に角度θ4 ＝θ5 /2隔たったところに夫々３
つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と同じ直径の丸穴（開
口部）７ｆi ，７ｇi，７ｈi を、円板部７ａの径方向
には丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi より該円板部７ａの中
心方向にｆ/2ずらして設けている。そしてこの６つの丸
穴で１つのパターン部を構成している。
ク板８のスリット８ａの１つに対応する領域内に直径ｄ
の３つの丸穴（開口部）７ｃi ，７ｄi ，７ｅi を独立
して設けている（径方向には間隔ｆの等間隔）。そして
この３つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi から該円板部７
ａの周方向に角度θ4 ＝θ5 /2隔たったところに夫々３
つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と同じ直径の丸穴（開
口部）７ｆi ，７ｇi，７ｈi を、円板部７ａの径方向
には丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi より該円板部７ａの中
心方向にｆ/2ずらして設けている。そしてこの６つの丸
穴で１つのパターン部を構成している。
【００４０】円板部７ａの周方向にはこのパターン部を
周期的（ピッチ２θ4 ＝θ5 ）にｑ個並べて全周にわた
って設けている。これらの丸穴はパルス板７の透光部で
ある。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄとピッチθ4 は以下の条
件式 θ4 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部７ａの中心から丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi ，７ｆi ，７ｇi ，７ｈi までの距離であ
る）を満たすように設定している。
周期的（ピッチ２θ4 ＝θ5 ）にｑ個並べて全周にわた
って設けている。これらの丸穴はパルス板７の透光部で
ある。なお、幅ｅ、丸穴直径ｄとピッチθ4 は以下の条
件式 θ4 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部７ａの中心から丸穴７ｃi ，７ｄ
i ，７ｅi ，７ｆi ，７ｇi ，７ｈi までの距離であ
る）を満たすように設定している。
【００４１】本実施形態の作用を説明する。図７は本実
施形態の作用説明図であり、円板部７ａとマスク板８と
が重なり合い、円板部７ａが回転している状態の平面図
である。
施形態の作用説明図であり、円板部７ａとマスク板８と
が重なり合い、円板部７ａが回転している状態の平面図
である。
【００４２】図７(A) ： パルス板７の回転角がωの時
に丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi とマスク板８の図上最右
端のスリット８ａとが同位相になって透光状態となる。
この時、丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 は図上中央
のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-2 ，７ｄ
i-2 ，７ｅi-2 は図上最左端のスリット８ａと同位相に
なり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知す
る。 図７(B) ： 更にパルス板７が回転してその回転角がω
＋(1/2) θ4 となると、丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と
丸穴７ｆi ，７ｇi ，７ｈi の間の遮光部が図上最右端
のスリット８ａの部分にきて、両者が完全に異なる位相
になって完全に遮光状態となる。又丸穴７ｃi-1 ，７ｄ
i-1 ，７ｅi-1 及び丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2
もスリット８ａから外れ、受光素子２は光を検知しな
い。
に丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi とマスク板８の図上最右
端のスリット８ａとが同位相になって透光状態となる。
この時、丸穴７ｃi-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 は図上中央
のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｃi-2 ，７ｄ
i-2 ，７ｅi-2 は図上最左端のスリット８ａと同位相に
なり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する光を検知す
る。 図７(B) ： 更にパルス板７が回転してその回転角がω
＋(1/2) θ4 となると、丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と
丸穴７ｆi ，７ｇi ，７ｈi の間の遮光部が図上最右端
のスリット８ａの部分にきて、両者が完全に異なる位相
になって完全に遮光状態となる。又丸穴７ｃi-1 ，７ｄ
i-1 ，７ｅi-1 及び丸穴７ｃi-2 ，７ｄi-2 ，７ｅi-2
もスリット８ａから外れ、受光素子２は光を検知しな
い。
【００４３】図７(C) ： 更にパルス板７が回転してそ
の回転角がω＋θ4 となると、丸穴７ｆi ，７ｇi ，７
ｈi は図上最右端のスリット８ａと同位相になって透光
状態となる。この時、丸穴７ｆi-1 ，７ｇi-1 ，７ｈ
i-1 は図上中央のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｆ
i-2 ，７ｇi-2 ，７ｈi-2 は図上最左端のスリット８ａ
と同位相になり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する
光を検知する。
の回転角がω＋θ4 となると、丸穴７ｆi ，７ｇi ，７
ｈi は図上最右端のスリット８ａと同位相になって透光
状態となる。この時、丸穴７ｆi-1 ，７ｇi-1 ，７ｈ
i-1 は図上中央のスリット８ａと同位相に、又丸穴７ｆ
i-2 ，７ｇi-2 ，７ｈi-2 は図上最左端のスリット８ａ
と同位相になり、受光素子２はこれらの丸穴を通過する
光を検知する。
【００４４】図７(D) ： 更にパルス板７が回転してそ
の回転角がω＋(3/2) θ4 となると、丸穴７ｆi ，７ｇ
i ，７ｈi と丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 の間の
遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にきて、両者
が完全に異なる位相になって完全に遮光状態となる。又
丸穴７ｆi-1 ，７ｇi-1 ，７ｈi-1 及び丸穴７ｆi-2，
７ｇi-2 ，７ｈi-2 もスリット８ａから外れ、受光素子
２は光を検知しない。更にパルス板７が回転してその回
転角がω＋２θ4 となると、丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，
７ｅi+1 と図上最右端のスリット８ａが、丸穴７ｃi ，
７ｄi ，７ｅiと図上中央のスリット８ａが、丸穴７ｃ
i-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 と図上最左端のスリット８ａ
が同位相になって透光状態となり、受光素子２はこれら
の丸穴を通過する光を検知する。
の回転角がω＋(3/2) θ4 となると、丸穴７ｆi ，７ｇ
i ，７ｈi と丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，７ｅi+1 の間の
遮光部が図上最右端のスリット８ａの部分にきて、両者
が完全に異なる位相になって完全に遮光状態となる。又
丸穴７ｆi-1 ，７ｇi-1 ，７ｈi-1 及び丸穴７ｆi-2，
７ｇi-2 ，７ｈi-2 もスリット８ａから外れ、受光素子
２は光を検知しない。更にパルス板７が回転してその回
転角がω＋２θ4 となると、丸穴７ｃi+1 ，７ｄi+1 ，
７ｅi+1 と図上最右端のスリット８ａが、丸穴７ｃi ，
７ｄi ，７ｅiと図上中央のスリット８ａが、丸穴７ｃ
i-1 ，７ｄi-1 ，７ｅi-1 と図上最左端のスリット８ａ
が同位相になって透光状態となり、受光素子２はこれら
の丸穴を通過する光を検知する。
【００４５】本実施形態は、この透光、遮光の繰り返し
変化（１周期はパルス板の回転角θ4 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板７の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を検出することができる。
変化（１周期はパルス板の回転角θ4 ）を従来例と同様
の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知してカ
ウントすることによってパルス板７の回転角を求め、こ
れから変位物体の変位量を検出することができる。
【００４６】本実施形態の場合、分解能θ0 はピッチθ
4 である。
4 である。
【００４７】本実施形態では、マスク板８のスリット８
ａを周方向に複数設けるが、そのピッチθ5 をパルス板
７の丸穴のピッチθ4 （＝θ0 ）の２倍としているの
で、マスク板８のスリットを例えばプレス加工によって
も無理なく加工できる効果がある。
ａを周方向に複数設けるが、そのピッチθ5 をパルス板
７の丸穴のピッチθ4 （＝θ0 ）の２倍としているの
で、マスク板８のスリットを例えばプレス加工によって
も無理なく加工できる効果がある。
【００４８】更に、本実施形態ではパルス板７の周方向
に隣り合う夫々３つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と７
ｆi ，７ｇi ，７ｈi を径方向にずらして交互に形成
し、略正三角形配列の丸穴群を構成することによって隣
り合う丸穴同志の間隔を実施形態２と同じにしてもエン
コーダとしての分解能を決定するピッチθ4 を実施形態
２のピッチθ2 より更に小さくすることができる。即
ち、実施形態２の丸穴配列が略正四角形配列とすれば、
実施形態３のピッチθ4 ＝0.87θ2 となり、丸穴間隔が
同じでありながら分解能は13% 上がる。
に隣り合う夫々３つの丸穴７ｃi ，７ｄi ，７ｅi と７
ｆi ，７ｇi ，７ｈi を径方向にずらして交互に形成
し、略正三角形配列の丸穴群を構成することによって隣
り合う丸穴同志の間隔を実施形態２と同じにしてもエン
コーダとしての分解能を決定するピッチθ4 を実施形態
２のピッチθ2 より更に小さくすることができる。即
ち、実施形態２の丸穴配列が略正四角形配列とすれば、
実施形態３のピッチθ4 ＝0.87θ2 となり、丸穴間隔が
同じでありながら分解能は13% 上がる。
【００４９】更に、マスク板８の３つのスリット８ａに
おいては夫々３つの丸穴が同時に透光状態となるため、
発光素子１の発光量を従来と同等にしても、透過光量を
従来と同等以上にすることも容易であり変位量を確実に
検出することができる。
おいては夫々３つの丸穴が同時に透光状態となるため、
発光素子１の発光量を従来と同等にしても、透過光量を
従来と同等以上にすることも容易であり変位量を確実に
検出することができる。
【００５０】図８は本発明の光学式エンコーダの実施形
態４のパルス板とマスク板の平面図である。本実施形態
はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状とマスク板
に設ける透光部分の形状が実施形態１と異なっており、
その他の部分は実施形態１と同じである。
態４のパルス板とマスク板の平面図である。本実施形態
はパルス板の円板部に設ける透光部分の形状とマスク板
に設ける透光部分の形状が実施形態１と異なっており、
その他の部分は実施形態１と同じである。
【００５１】図中、９はパルス板（第１スケール）で、
円板部９ａと円板部９ａの中央に円板部９ａに対し垂直
な軸９ｂを一体的に設けており、この軸９ｂが変位物体
（不図示）の変位に連動して回転するようにしてある。
また、円板部９ａには放射状の幅ｅの複数のスリット９
ｃi を周方向にピッチθ6 （第１の周期）で全周に設け
ている。これらのスリット９ｃはパルス板９の透光部で
ある。
円板部９ａと円板部９ａの中央に円板部９ａに対し垂直
な軸９ｂを一体的に設けており、この軸９ｂが変位物体
（不図示）の変位に連動して回転するようにしてある。
また、円板部９ａには放射状の幅ｅの複数のスリット９
ｃi を周方向にピッチθ6 （第１の周期）で全周に設け
ている。これらのスリット９ｃはパルス板９の透光部で
ある。
【００５２】１０はマスク板（第２スケール）でパルス
板９のスリット９ｃi の１つに対応する領域内に直径ｄ
の丸穴（開口部）１０ａ，１０ｂ，１０ｃを独立して設
けて１つのパターン部を構成している。更にこのパター
ン部を該円板部の周方向にピッチθ7 （第２の周期）＝
(2/3) θ6 で３組設けている。これらの丸穴はマスク板
１０の透光部である。
板９のスリット９ｃi の１つに対応する領域内に直径ｄ
の丸穴（開口部）１０ａ，１０ｂ，１０ｃを独立して設
けて１つのパターン部を構成している。更にこのパター
ン部を該円板部の周方向にピッチθ7 （第２の周期）＝
(2/3) θ6 で３組設けている。これらの丸穴はマスク板
１０の透光部である。
【００５３】なお、幅ｅ、丸穴直径ｄとピッチθ7 は以
下の条件式 θ7 ／２≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部９ａの中心から丸穴１０ａ，１０
ｂ，１０ｃまでの距離である）を満たすように設定して
いる。
下の条件式 θ7 ／２≧（ｅ＋ｄ）／ｒ （但し、ｒは円板部９ａの中心から丸穴１０ａ，１０
ｂ，１０ｃまでの距離である）を満たすように設定して
いる。
【００５４】本実施形態の作用を説明する。図９は本実
施形態の作用説明図であり、円板部９ａとマスク板１０
とが重なり合い、円板部９ａが回転している状態の平面
図である。
施形態の作用説明図であり、円板部９ａとマスク板１０
とが重なり合い、円板部９ａが回転している状態の平面
図である。
【００５５】図９(A) ： パルス板９の回転角がωの時
にスリット９ｃi とマスク板８の図上最左端の丸穴１０
ａ，ｂ，ｃとが同位相になって透光状態となる。この
時、スリット９ｃi+1 ，９ｃi+2 はいずれもマスク板１
０の中央及び最右端の丸穴１０ａ，ｂ，ｃとは重なら
ず、このスリットを通る光は遮光される。従ってこの時
はスリット９ｃi を通る光の一部分が受光素子２で検知
される。
にスリット９ｃi とマスク板８の図上最左端の丸穴１０
ａ，ｂ，ｃとが同位相になって透光状態となる。この
時、スリット９ｃi+1 ，９ｃi+2 はいずれもマスク板１
０の中央及び最右端の丸穴１０ａ，ｂ，ｃとは重なら
ず、このスリットを通る光は遮光される。従ってこの時
はスリット９ｃi を通る光の一部分が受光素子２で検知
される。
【００５６】図９(B) ： 更にパルス板９が回転してそ
の回転角がω＋(1/6) θ6 となるとスリット９ｃi ，９
ｃi+1 ，９ｃi+2 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，１
０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異な
る位相になって完全に遮光状態となる。
の回転角がω＋(1/6) θ6 となるとスリット９ｃi ，９
ｃi+1 ，９ｃi+2 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，１
０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異な
る位相になって完全に遮光状態となる。
【００５７】図９(C) ： 更にパルス板９が回転してそ
の回転角がω＋(1/3) θ6 となると、スリット９ｃi+1
とマスク板１０の中央の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃと
が同位相になって透光状態となる。この時、スリット９
ｃi ，９ｃi+2 はいずれもマスク板１０の最左端及び最
右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃとは重ならず、この
スリットを通る光は遮光される。従ってこの時はスリッ
ト９ｃi+1 を通る光の一部分が受光素子２で検知され
る。
の回転角がω＋(1/3) θ6 となると、スリット９ｃi+1
とマスク板１０の中央の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃと
が同位相になって透光状態となる。この時、スリット９
ｃi ，９ｃi+2 はいずれもマスク板１０の最左端及び最
右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃとは重ならず、この
スリットを通る光は遮光される。従ってこの時はスリッ
ト９ｃi+1 を通る光の一部分が受光素子２で検知され
る。
【００５８】図９(D) ： 更にパルス板９が回転してそ
の回転角がω＋(1/2) θ6 となるとスリット９ｃi ，９
ｃi+1 ，９ｃi+2 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，１
０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異な
る位相になって完全に遮光状態となる。
の回転角がω＋(1/2) θ6 となるとスリット９ｃi ，９
ｃi+1 ，９ｃi+2 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，１
０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異な
る位相になって完全に遮光状態となる。
【００５９】図９(E) ： 更にパルス板９が回転してそ
の回転角がω＋(2/3) θ6 となると、スリット９ｃi+2
とマスク板１０の最右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
とが同位相になって透光状態となる。この時、スリット
９ｃi ，９ｃi+1 はいずれもマスク板１０の最左端及び
中央の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃとは重ならず、この
スリットを通る光は遮光される。従ってこの時はスリッ
ト９ｃi+2 を通る光の一部分が受光素子２で検知され
る。
の回転角がω＋(2/3) θ6 となると、スリット９ｃi+2
とマスク板１０の最右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃ
とが同位相になって透光状態となる。この時、スリット
９ｃi ，９ｃi+1 はいずれもマスク板１０の最左端及び
中央の丸穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃとは重ならず、この
スリットを通る光は遮光される。従ってこの時はスリッ
ト９ｃi+2 を通る光の一部分が受光素子２で検知され
る。
【００６０】図９(F) ： 更にパルス板９が回転してそ
の回転角がω＋(5/6) θ6 となるとスリット９ｃi+1 ，
９ｃi+2 ，９ｃi+3 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，
１０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異
なる位相になって完全に遮光状態となる。
の回転角がω＋(5/6) θ6 となるとスリット９ｃi+1 ，
９ｃi+2 ，９ｃi+3 とマスク板１０上の各丸穴１０ａ，
１０ｂ，１０ｃとはいずれも重ならず、両者が完全に異
なる位相になって完全に遮光状態となる。
【００６１】更にパルス板９が回転してその回転角がω
＋θ6 となると、スリット９ｃi+1図上最左端の丸穴１
０ａ，１０ｂ，１０ｃが同位相になって透光状態とな
る。この時、スリット９ｃi+2 ，９ｃi+3 はいずれもマ
スク板１０の中央及び最右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１
０ｃとは重ならず、このスリットを通る光は遮光され
る。従ってこの時はスリット９ｃi+1 を通る光の一部分
が受光素子２で検知される。
＋θ6 となると、スリット９ｃi+1図上最左端の丸穴１
０ａ，１０ｂ，１０ｃが同位相になって透光状態とな
る。この時、スリット９ｃi+2 ，９ｃi+3 はいずれもマ
スク板１０の中央及び最右端の丸穴１０ａ，１０ｂ，１
０ｃとは重ならず、このスリットを通る光は遮光され
る。従ってこの時はスリット９ｃi+1 を通る光の一部分
が受光素子２で検知される。
【００６２】本実施形態は、この透光、遮光の繰り返し
変化（１周期はパルス板の回転角(1/3) θ6 ）を従来例
と同様の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知
してカウントすることによってパルス板９の回転角を求
め、これから変位物体の変位量を検出することができ
る。
変化（１周期はパルス板の回転角(1/3) θ6 ）を従来例
と同様の投光素子、受光素子の組み合わせによって検知
してカウントすることによってパルス板９の回転角を求
め、これから変位物体の変位量を検出することができ
る。
【００６３】本実施形態の場合、分解能θ0 はピッチ(1
/3)・θ6 ＝(1/2)・θ7 である。
/3)・θ6 ＝(1/2)・θ7 である。
【００６４】本実施形態では、マスク板１０の複数の丸
穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃをピッチθ7 ＝(2/3) θ6 ＝
２θ0 で周方向に並べて３組設けるとともに、パルス板
９のスリット９ｃi の周方向ピッチを丸穴ピッチより広
くプレス加工可能なθ6 ＝(3/2) θ7 ＝３θ0 とできる
ので、本実施形態のパルス板９及びマスク板１０は従来
のプレス加工によっても容易に製作でき、実施形態１，
２及び実施形態３より更に高分解能な光学式エンコーダ
を得ることができる。
穴１０ａ，１０ｂ，１０ｃをピッチθ7 ＝(2/3) θ6 ＝
２θ0 で周方向に並べて３組設けるとともに、パルス板
９のスリット９ｃi の周方向ピッチを丸穴ピッチより広
くプレス加工可能なθ6 ＝(3/2) θ7 ＝３θ0 とできる
ので、本実施形態のパルス板９及びマスク板１０は従来
のプレス加工によっても容易に製作でき、実施形態１，
２及び実施形態３より更に高分解能な光学式エンコーダ
を得ることができる。
【００６５】また本実施形態の複数の丸穴１０ａ，１０
ｂ，１０ｃをパルス板９のスリット９ｃi と略同形状の
スリットに置き換えた場合でも、スリットのピッチより
細かい分解能が得られる構成となっているため、従来と
同様のプレス加工可能なピッチでスリットを並べて従来
より細かい分解能を達成することが可能である。
ｂ，１０ｃをパルス板９のスリット９ｃi と略同形状の
スリットに置き換えた場合でも、スリットのピッチより
細かい分解能が得られる構成となっているため、従来と
同様のプレス加工可能なピッチでスリットを並べて従来
より細かい分解能を達成することが可能である。
【００６６】本実施形態の一般的な構成について説明す
る。パルス板側のスリット（透光部）のピッチ（第１の
周期）をθ6 、スリットの幅をｅとする。マスク板側に
は直径ｄの丸穴列（透光部）を径方向に並べて、これを
ピッチθ7 （第２の周期）でｎ列設ける。
る。パルス板側のスリット（透光部）のピッチ（第１の
周期）をθ6 、スリットの幅をｅとする。マスク板側に
は直径ｄの丸穴列（透光部）を径方向に並べて、これを
ピッチθ7 （第２の周期）でｎ列設ける。
【００６７】この時、ピッチθ7 とピッチθ6 との関係
を
を
【００６８】
【数５】 （但し、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）と設定する。
且つｎ＞ｍである。）と設定する。
【００６９】この構成による作用を説明する。以上の構
成でマスク板を固定し、パルス板を回転する。
成でマスク板を固定し、パルス板を回転する。
【００７０】ある瞬間において、マスク板の再左端の丸
穴とパルス板の或るスリットが重なっているとする。
穴とパルス板の或るスリットが重なっているとする。
【００７１】この時、θ7/m ＝θ6/n ＝a として、パル
ス板のmna の位置にあるスリットに着目し、このスリッ
トがマスク板の夫々の丸穴を通るまでのパルス板の変位
量を求めると： マスク板の透光部の位置 0 ma 2ma ・・・(n-1)ma に対 して パルス板変位量 mna m(n-1)a m(n-2)a ・・・ma となり、パルス板がma単位変位する毎に、該パルス板の
透光部がマスク板のどこかの透光部と一致する。
ス板のmna の位置にあるスリットに着目し、このスリッ
トがマスク板の夫々の丸穴を通るまでのパルス板の変位
量を求めると： マスク板の透光部の位置 0 ma 2ma ・・・(n-1)ma に対 して パルス板変位量 mna m(n-1)a m(n-2)a ・・・ma となり、パルス板がma単位変位する毎に、該パルス板の
透光部がマスク板のどこかの透光部と一致する。
【００７２】又、マスク板の0 位置をパルス板の夫々の
スリットが通るまでのパルス板の変位量は パルス板の透光部の位置 na 2na ・・・・・・・・・・・mna パルス板変位量 na 2na ・・・・・・・・・・・mna となり、na単位毎にどこかの透光部が一致する。
スリットが通るまでのパルス板の変位量は パルス板の透光部の位置 na 2na ・・・・・・・・・・・mna パルス板変位量 na 2na ・・・・・・・・・・・mna となり、na単位毎にどこかの透光部が一致する。
【００７３】従って、マスク板全体で見るとパルス板の
透光部とマスク板の透光部とは変位量mna のうちのa 単
位毎にmn回一致する。この時、maとnaとはm とn が互い
に素であるためにmna に達するまで一致することは無
い。
透光部とマスク板の透光部とは変位量mna のうちのa 単
位毎にmn回一致する。この時、maとnaとはm とn が互い
に素であるためにmna に達するまで一致することは無
い。
【００７４】従って、分解能θ0 は： θ0 ＝a ＝θ7/m ＝θ6/n となる。
【００７５】次に、パルス板及びマスク板の透光部の幅
条件については、分解能a の長さにパルス板の透光部の
幅ｅとマスク板の透光部の幅ｄとが納まることが完全に
遮光される条件となるため、ａ≧（ｄ＋ｅ）／ｒでなけ
ればならない。（但し、ｒは回転中心から丸穴までの距
離である）。
条件については、分解能a の長さにパルス板の透光部の
幅ｅとマスク板の透光部の幅ｄとが納まることが完全に
遮光される条件となるため、ａ≧（ｄ＋ｅ）／ｒでなけ
ればならない。（但し、ｒは回転中心から丸穴までの距
離である）。
【００７６】従って、 （ｄ＋ｅ）／ｒ≦θ6 ／ｎ （ｄ＋ｅ）／ｒ≦θ7 ／ｍ でなければならない。
【００７７】そしてマスク板の丸穴列の数はｎの倍数で
あれば良い。
あれば良い。
【００７８】以上が実施形態４の一般的な構成である。
【００７９】上記の各実施形態では開口部を丸穴として
いたが、開口部の形状は丸穴に限られるものでは無く、
製作に適した形状を選べば良い。
いたが、開口部の形状は丸穴に限られるものでは無く、
製作に適した形状を選べば良い。
【００８０】上記の各実施形態の説明においては、回転
するパルス板を用いた光学式エンコーダについて述べた
が、本発明は特にこれを限定されるものではなく平行移
動するパルス板などを用いた光学式リニアエンコーダに
も適用することができる。
するパルス板を用いた光学式エンコーダについて述べた
が、本発明は特にこれを限定されるものではなく平行移
動するパルス板などを用いた光学式リニアエンコーダに
も適用することができる。
【００８１】即ち、発光素子が放射する光を、該光を横
切って直線的に変位するパルス板の透光部と、固定のマ
スク板の透光部とを介して受光素子により受光し、受光
光量の変化を計測することにより該パルス板の変位量を
検出する光学式リニアエンコーダにおいて、該パルス板
と該マスク板のうちのいずれか一方の透光部（透光部A)
は該パルス板の変位方向の幅がｅで該変位方向と略直角
方向に長いスリットを該変位方向に第１の周期ｐA で複
数個設けたものとし、他方の透光部（透光部B)は該スリ
ットの１つに対応する領域内に形成した複数の開口部
（例えば丸穴）又は該スリットと略同じスリットを該変
位方向に第２の周期ｐB でｎの倍数設け、この時これら
の要素が：
切って直線的に変位するパルス板の透光部と、固定のマ
スク板の透光部とを介して受光素子により受光し、受光
光量の変化を計測することにより該パルス板の変位量を
検出する光学式リニアエンコーダにおいて、該パルス板
と該マスク板のうちのいずれか一方の透光部（透光部A)
は該パルス板の変位方向の幅がｅで該変位方向と略直角
方向に長いスリットを該変位方向に第１の周期ｐA で複
数個設けたものとし、他方の透光部（透光部B)は該スリ
ットの１つに対応する領域内に形成した複数の開口部
（例えば丸穴）又は該スリットと略同じスリットを該変
位方向に第２の周期ｐB でｎの倍数設け、この時これら
の要素が：
【００８２】
【数６】 ｄ＋ｅ≦ｐA/ｎ （但し、ｄは該透光部B の該変位方向の直径又はスリッ
トの幅、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足するように構成す
れば上記の理論により実施形態４をリニアエンコーダに
適用した光学式エンコーダを達成することができる。
トの幅、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足するように構成す
れば上記の理論により実施形態４をリニアエンコーダに
適用した光学式エンコーダを達成することができる。
【００８３】また、実施形態３で述べた隣り合う丸穴同
志をピッチ方向と略直角方向にずらす手法を実施形態１
に適用して更に高分解能な光学式エンコーダを構成する
ことも可能である。
志をピッチ方向と略直角方向にずらす手法を実施形態１
に適用して更に高分解能な光学式エンコーダを構成する
ことも可能である。
【００８４】更に、実施形態２ではθ3 ＝２θ2 ，実施
形態３ではθ5 ＝２θ4 であったが、これを夫々θ3 ＝
（２以上の整数）×θ2 ，θ5 ＝（２以上の整数）×θ
4 としてスリット幅ｅ、丸穴ｄ、ピッチθ2 ，θ4 を以
下の条件式 θ2 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ θ4 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ を満たすように構成しても同様の効果を得ることができ
る。
形態３ではθ5 ＝２θ4 であったが、これを夫々θ3 ＝
（２以上の整数）×θ2 ，θ5 ＝（２以上の整数）×θ
4 としてスリット幅ｅ、丸穴ｄ、ピッチθ2 ，θ4 を以
下の条件式 θ2 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ θ4 ≧（ｅ＋ｄ）／ｒ を満たすように構成しても同様の効果を得ることができ
る。
【００８５】
【発明の効果】本発明は以上の構成により、パルス板
（第１スケール）とマスク板（第２スケール）に設ける
透光部の形状を適切に設定することにより、ピッチの細
かいパターンを基板上に容易に製作することができ、高
分解能化を容易にした光学式エンコーダを達成する。
（第１スケール）とマスク板（第２スケール）に設ける
透光部の形状を適切に設定することにより、ピッチの細
かいパターンを基板上に容易に製作することができ、高
分解能化を容易にした光学式エンコーダを達成する。
【００８６】更に、本発明によれば、コストの高いエッ
チング等によらず従来と同様のプレス加工で製作可能な
パルス板、マスク板を用いるので従来のものと同様に低
コストで高分解能の光学式エンコーダを達成することが
できる。
チング等によらず従来と同様のプレス加工で製作可能な
パルス板、マスク板を用いるので従来のものと同様に低
コストで高分解能の光学式エンコーダを達成することが
できる。
【図１】 本発明の光学式エンコーダの実施形態１の要
部概略図
部概略図
【図２】 実施形態１のパルス板とマスク板の平面図
【図３】 実施形態１の作用説明図
【図４】 本発明の光学式エンコーダの実施形態２のパ
ルス板とマスク板の平面図
ルス板とマスク板の平面図
【図５】 実施形態２の作用説明図
【図６】 本発明の光学式エンコーダの実施形態３のパ
ルス板とマスク板の平面図
ルス板とマスク板の平面図
【図７】 実施形態３の作用説明図
【図８】 本発明の光学式エンコーダの実施形態４のパ
ルス板とマスク板の平面図
ルス板とマスク板の平面図
【図９】 実施形態４の作用説明図
【図１０】 従来の光学式エンコーダの要部概略図
１ 発光素子 ２ 受光素子 ３，５，７，９ パルス板 ３ａ，５ａ，７ａ，９ａ 円板部 ３ｂ，５ｂ，７ｂ，９ｂ 軸 ４，６，８，１０ マスク板 ４ａ，６ａ，８ａ，９ｃ スリット ５ｃi ，５ｄi ，５ｅi 丸穴 ７ｃi ，７ｄi ，７ｅi ，７ｆi ，７ｇi ，７ｈi 丸
穴 １０ａ，１０ｂ，１０ｃ 丸穴 ｄ 丸穴の直径 ｅ スリットの幅 ｒ 円板部の中心から丸穴までの距離 θ1 〜θ8 ピッチ θ0 分解能
穴 １０ａ，１０ｂ，１０ｃ 丸穴 ｄ 丸穴の直径 ｅ スリットの幅 ｒ 円板部の中心から丸穴までの距離 θ1 〜θ8 ピッチ θ0 分解能
Claims (13)
- 【請求項１】 発光素子が放射する光を、該光を横切る
方向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の
透光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変
化を計測することにより該パルス板の変位量を検出する
光学式エンコーダにおいて、 該パルス板と該マスク板のうちの一方の透光部は該パル
ス板の変位方向と略直角方向に長い１つのスリットであ
り、他方の透光部は該スリットに対応する領域内に形成
した複数の開口部を該パルス板の変位方向に周期的に複
数個並べて設けていることを特徴とする光学式エンコー
ダ。 - 【請求項２】 前記複数の開口部を前記変位方向に周期
的に複数個並べて設けて透光部を形成する際、 前記変位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と
略直角方向にずらして設けていることを特徴とする請求
項１の光学式エンコーダ。 - 【請求項３】 前記開口部は丸穴であることを特徴とす
る請求項１又は２の光学式エンコーダ。 - 【請求項４】 発光素子が放射する光を、該光を横切る
方向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の
透光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変
化を計測することにより該パルス板の変位量を検出する
光学式エンコーダにおいて、 該パルス板と該マスク板のうちのいずれか一方の透光部
は該パルス板の変位方向と略直角方向に長いスリットを
該変位方向に第１の周期で複数個設けたものであり、他
方の透光部は該スリットの１つに対応する領域内に形成
した複数の開口部を該変位方向に該第１の周期より小さ
い第２の周期で複数個設けたことを特徴とする光学式エ
ンコーダ。 - 【請求項５】 前記第２の周期は前記第１の周期の整数
（２以上）分の１であることを特徴とする請求項４の光
学式エンコーダ。 - 【請求項６】 前記複数の開口部を前記変位方向に前記
第２の周期で複数個並べて透光部を形成する際、 該変位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略
直角方向にずらして設けていることを特徴とする請求項
４又は５の光学式エンコーダ。 - 【請求項７】 前記開口部は丸穴であることを特徴とす
る請求項４〜６のいずれか１項に記載の光学式エンコー
ダ。 - 【請求項８】 発光素子が放射する光を、該光を横切る
方向に変位するパルス板の透光部と、固定のマスク板の
透光部とを介して受光素子により受光し、受光光量の変
化を計測することにより該パルス板の変位量を検出する
光学式エンコーダにおいて、 該パルス板と該マスク板のうちのいずれか一方の透光部
（透光部A)は該パルス板の変位方向と略直角方向に長い
スリットを該変位方向に第１の周期で複数個設けたもの
であり、他方の透光部（透光部B)は該スリットの１つに
対応する領域内に形成した複数の開口部又は該スリット
と略同じスリットを該変位方向に該第１の周期より小さ
い第２の周期で複数個設けたことを特徴とする光学式エ
ンコーダ。 - 【請求項９】 前記光学式エンコーダは前記パルス板の
回転変位量を検出するもので、前記透光部B として前記
透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成した
複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記変
位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、 該透光部A のスリットの幅をｅ、 該透光部B の開口部の該変位方向の直径又はスリットの
幅をｄ、 該パルス板の回転中心から開口部までの距離をｒ、 前記第１の周期をθA 、 該第２の周期をθB として、これらの要素が： 【数１】 （ｄ＋ｅ）／ｒ≦θA ／ｎ （但し、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足していることを特
徴とする請求項８の光学式エンコーダ。 - 【請求項１０】 前記光学式エンコーダは前記パルス板
の直線変位量を検出するもので、前記透光部B として前
記透光部A のスリットの１つに対応する領域内に形成し
た複数の開口部又は該スリットと略同じスリットを前記
変位方向に前記第２の周期でｎの倍数設け、 該透光部A のスリットの幅をｅ、 該透光部B の開口部の該変位方向の直径又はスリットの
幅をｄ、 前記第１の周期をｐA 、 該第２の周期をｐB として、これらの要素が： 【数２】 ｄ＋ｅ≦ｐA ／ｎ （但し、ｎ，ｍは２以上の自然数で、互いに素であり、
且つｎ＞ｍである。）なる関係を満足していることを特
徴とする請求項８の光学式エンコーダ。 - 【請求項１１】 前記複数の開口部を前記変位方向に前
記第２の周期で複数個並べて透光部B を形成する際、 該変位方向に隣り合う該複数の開口部は該変位方向と略
直角方向にずらして設けていることを特徴とする請求項
８〜１０のいずれか１項に記載の光学式エンコーダ。 - 【請求項１２】 前記開口部は丸穴であることを特徴と
する請求項８〜１１のいずれか１項に記載の光学式エン
コーダ。 - 【請求項１３】 光源手段からの光束を対向配置したパ
ルス板（第１スケール）とマスク板（第２スケール）に
各々設けた透光部を介して受光手段で受光し、該受光手
段からの信号を用いて該パルス板とマスク板との相対的
な変位情報を検出する光学式エンコーダにおいて、 該パルス板とマスク板に設けた透光部のうち、一方の透
光部は変位方向と直交する方向に複数の開口部を独立し
て設けたパターン部を複数個該変位方向に周期的に配列
して構成しており、他方の透光部は該変位方向と直交す
る方向に長い開口を有する１つのスリット又は該変位方
向に周期的に配列した複数のスリットより構成している
ことを特徴とする光学式エンコーダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1938596A JPH09189572A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 光学式エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1938596A JPH09189572A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 光学式エンコーダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189572A true JPH09189572A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11997837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1938596A Pending JPH09189572A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 光学式エンコーダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09189572A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105823495A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-08-03 | 重庆世纪之光科技实业有限公司 | 机械计数器的读数装置和方法 |
-
1996
- 1996-01-10 JP JP1938596A patent/JPH09189572A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105823495A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-08-03 | 重庆世纪之光科技实业有限公司 | 机械计数器的读数装置和方法 |
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