JPH09189660A - 非破壊試料検査方法および非破壊検査装置 - Google Patents
非破壊試料検査方法および非破壊検査装置Info
- Publication number
- JPH09189660A JPH09189660A JP8343839A JP34383996A JPH09189660A JP H09189660 A JPH09189660 A JP H09189660A JP 8343839 A JP8343839 A JP 8343839A JP 34383996 A JP34383996 A JP 34383996A JP H09189660 A JPH09189660 A JP H09189660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- excitation
- excitation beam
- sample
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 30
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 35
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 75
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010895 photoacoustic effect Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0658—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of emissivity or reradiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/02—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
- G01B21/08—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness for measuring thickness
- G01B21/085—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness for measuring thickness using thermal means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 単一の励起源を用いて、試料の複数の箇所を
同時に分析することができる非破壊試料検査方法および
装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明による非破壊試料検査方法におい
ては、強度が変調された電磁励起ビームが試料面上の検
査箇所に入射され、その検査箇所から放射される熱輻射
が検出されて評価され、励起ビームは周期的に異なる方
向に向けられ、それぞれの方向において、励起ビームは
試料面上の異なる検査箇所に入射される。また、本発明
による非破壊試料検査装置は、電磁励起ビームを放出す
る励起源と、その励起ビームの強度を変調し試料面上の
検査箇所にその励起ビームを照射する光学的手段と、さ
らに、その検査箇所から放出される熱輻射を検出する検
出手段とを備える。その光学的手段は、励起ビームを周
期的に異なる方向に偏向する変調手段と、それぞれの方
向において励起ビームを試料面上の検査箇所に照射する
照射手段とを備える。
同時に分析することができる非破壊試料検査方法および
装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明による非破壊試料検査方法におい
ては、強度が変調された電磁励起ビームが試料面上の検
査箇所に入射され、その検査箇所から放射される熱輻射
が検出されて評価され、励起ビームは周期的に異なる方
向に向けられ、それぞれの方向において、励起ビームは
試料面上の異なる検査箇所に入射される。また、本発明
による非破壊試料検査装置は、電磁励起ビームを放出す
る励起源と、その励起ビームの強度を変調し試料面上の
検査箇所にその励起ビームを照射する光学的手段と、さ
らに、その検査箇所から放出される熱輻射を検出する検
出手段とを備える。その光学的手段は、励起ビームを周
期的に異なる方向に偏向する変調手段と、それぞれの方
向において励起ビームを試料面上の検査箇所に照射する
照射手段とを備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の非破壊検査
方法に関する。さらに具体的には、本発明は、強度が変
調された電磁波の励起ビームを試料の表面の検査箇所に
照射し、その検査箇所から放出される熱輻射を検出して
評価する、非破壊検査方法に関する。本発明は、また、
非破壊検査装置に関する。さらに具体的には、本発明
は、電磁波励起ビームを放出する励起源と、その電磁波
励起ビームの強度を変調して試料表面の検査箇所に照射
する光学手段と、その検査箇所から放出される熱輻射を
検出する検出手段とを備えた非破壊検査装置に関する。
方法に関する。さらに具体的には、本発明は、強度が変
調された電磁波の励起ビームを試料の表面の検査箇所に
照射し、その検査箇所から放出される熱輻射を検出して
評価する、非破壊検査方法に関する。本発明は、また、
非破壊検査装置に関する。さらに具体的には、本発明
は、電磁波励起ビームを放出する励起源と、その電磁波
励起ビームの強度を変調して試料表面の検査箇所に照射
する光学手段と、その検査箇所から放出される熱輻射を
検出する検出手段とを備えた非破壊検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】材料の表面を熱的に励起させることによ
る非破壊で非接触の検査、すなわち、強度変調した放射
を照射し、その表面から放出される熱輻射を時間ととも
に評価する方法は、この数年間のうちに成功が確認され
たプロセスである。その基本原理は、フォトサーマル放
射測定法(photothermal radiome
try;PTR)としても知られており、検査の対象物
である試料中に温度波(temperature wa
ves)が発生する事実に基づいている。このような波
は、その試料の材料の状態に応じた特有の拡がり方をし
て、超音波の場合と同様に、層の境界、剥離、亀裂ある
いは細孔などの熱的な不均一な箇所で拡散または反射さ
れる。超音波の場合と本質的に異なる点は、減衰がより
強く、散乱速度(dispersion speed)
がはるかに小さいことである。温度波の反射成分や散乱
成分は、もとの波や励起波と干渉して温度波のベクトル
和(sum vector)が形成され、一部は多重反
射や多重散乱を生ずる。検査の対象である試料に関して
測定される情報としてみると、このベクトル和は、ベク
トル量(vector quantity)と位相とを
含んでいる。このベクトル量は、工業的な応用分野では
十分な精度で調節することができない測定距離や照射角
度などの、外的な要因(external facto
rs)に強く依存するために利用することが困難であ
る。一方、位相はこれらの要因に殆ど依存せず、強度変
調された励起ビームの出力にさえ殆ど依存しない。した
がって、位相は高い信頼性で評価することができる。試
料表面の状態、例えば、その厚さは、その試料から放射
される熱輻射をその励起放射と比較した場合の位相のシ
フトに基づいて決定することができる。
る非破壊で非接触の検査、すなわち、強度変調した放射
を照射し、その表面から放出される熱輻射を時間ととも
に評価する方法は、この数年間のうちに成功が確認され
たプロセスである。その基本原理は、フォトサーマル放
射測定法(photothermal radiome
try;PTR)としても知られており、検査の対象物
である試料中に温度波(temperature wa
ves)が発生する事実に基づいている。このような波
は、その試料の材料の状態に応じた特有の拡がり方をし
て、超音波の場合と同様に、層の境界、剥離、亀裂ある
いは細孔などの熱的な不均一な箇所で拡散または反射さ
れる。超音波の場合と本質的に異なる点は、減衰がより
強く、散乱速度(dispersion speed)
がはるかに小さいことである。温度波の反射成分や散乱
成分は、もとの波や励起波と干渉して温度波のベクトル
和(sum vector)が形成され、一部は多重反
射や多重散乱を生ずる。検査の対象である試料に関して
測定される情報としてみると、このベクトル和は、ベク
トル量(vector quantity)と位相とを
含んでいる。このベクトル量は、工業的な応用分野では
十分な精度で調節することができない測定距離や照射角
度などの、外的な要因(external facto
rs)に強く依存するために利用することが困難であ
る。一方、位相はこれらの要因に殆ど依存せず、強度変
調された励起ビームの出力にさえ殆ど依存しない。した
がって、位相は高い信頼性で評価することができる。試
料表面の状態、例えば、その厚さは、その試料から放射
される熱輻射をその励起放射と比較した場合の位相のシ
フトに基づいて決定することができる。
【0003】ここで、このような励起放射は、使用する
赤外検知器の感度範囲外になるようにその波長を選択す
ることが便利である。そのようにすれば、散乱や反射さ
れた励起放射が検知器にノイズ信号を生ずるのを防ぐこ
とができる。
赤外検知器の感度範囲外になるようにその波長を選択す
ることが便利である。そのようにすれば、散乱や反射さ
れた励起放射が検知器にノイズ信号を生ずるのを防ぐこ
とができる。
【0004】フォトサーマル放射測定法は、その試料が
表面のコーティングや保護層の場合のように、熱的に薄
い(thermally thin)場合に特に有用で
ある。何故ならば、そのような場合に温度波の境界面
(interfaces)がもっとも明瞭になるからで
ある。フォトサーマル放射測定法についてのさらに詳細
な理論的説明は、C.A.Bennett、JrとR.
R.Pattyによりアプライド・オプティクス誌に発
表された「温度波インターフェロメトリ:光学音響効果
の応用(Thermal Wave Interfer
ometry:APotential Applica
tion of the Photo−acousti
c Effect)」(Applied Optic
s、vol.21、no.1、January 1、1
982、pp.49〜50)において議論されている。
表面のコーティングや保護層の場合のように、熱的に薄
い(thermally thin)場合に特に有用で
ある。何故ならば、そのような場合に温度波の境界面
(interfaces)がもっとも明瞭になるからで
ある。フォトサーマル放射測定法についてのさらに詳細
な理論的説明は、C.A.Bennett、JrとR.
R.Pattyによりアプライド・オプティクス誌に発
表された「温度波インターフェロメトリ:光学音響効果
の応用(Thermal Wave Interfer
ometry:APotential Applica
tion of the Photo−acousti
c Effect)」(Applied Optic
s、vol.21、no.1、January 1、1
982、pp.49〜50)において議論されている。
【0005】非破壊材料検査のための装置は、EP−A
−0 609 193に開示されている。その装置は、
変調されたレーザ・ビームまたは周期的に遮蔽すること
によって機械的な遮蔽により変調された連続レーザ・ビ
ームが試料表面に照射され、周期的に加熱するようにさ
れている。そして、赤外検出器により感知され、変換さ
れてコンピュータに送られて、摩擦ライニング(fri
ction linings)の多孔度(porosi
ty)を計算できることが示されている。
−0 609 193に開示されている。その装置は、
変調されたレーザ・ビームまたは周期的に遮蔽すること
によって機械的な遮蔽により変調された連続レーザ・ビ
ームが試料表面に照射され、周期的に加熱するようにさ
れている。そして、赤外検出器により感知され、変換さ
れてコンピュータに送られて、摩擦ライニング(fri
ction linings)の多孔度(porosi
ty)を計算できることが示されている。
【0006】フォトサーマル法による材料検査や層厚の
測定を行うための別の装置は、DE−A−36 31
652に開示されている。この文献の図1には、熱の放
射源とその下流に配置された変調器によって、強度が変
調された放射が生成され、ファイバを介して試料の表面
に照射される。
測定を行うための別の装置は、DE−A−36 31
652に開示されている。この文献の図1には、熱の放
射源とその下流に配置された変調器によって、強度が変
調された放射が生成され、ファイバを介して試料の表面
に照射される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、励起ビームを
発生するためにこれらの装置で使用されている励起源
は、一般的に高価な部品であり、EP−A−0 609
193で採用されているレーザの場合は、特に高価で
ある。また、導入や維持管理が高価なだけでなく、稼働
費用も高い。何故ならば、効率が低くてエネルギ消費率
が高く、冷却にも多額の費用が必要だからである。
発生するためにこれらの装置で使用されている励起源
は、一般的に高価な部品であり、EP−A−0 609
193で採用されているレーザの場合は、特に高価で
ある。また、導入や維持管理が高価なだけでなく、稼働
費用も高い。何故ならば、効率が低くてエネルギ消費率
が高く、冷却にも多額の費用が必要だからである。
【0008】また、フォトサーマル検査装置として前述
したそれぞれの例では、強度が変調された励起ビームを
生成するための励起源の利用効率は良くてもせいぜい5
0%以下である。EP−A−0 609 193の場合
のレーザの変調動作モードの場合は、少なくとも生成さ
れた放射は十分に利用されているが、レーザ装置それ自
体はそうではない。一方、EP−A−0 609 19
3やDE−A−3631 652の場合のように、連続
放射が遮蔽器によって変調される場合は、生成された放
射エネルギの50%は利用されない。このように放射エ
ネルギの50%を切り捨ててしまうと、装置内の熱の問
題を生じて、剰余の赤外放射によって偽の信号が発生す
ることもある。
したそれぞれの例では、強度が変調された励起ビームを
生成するための励起源の利用効率は良くてもせいぜい5
0%以下である。EP−A−0 609 193の場合
のレーザの変調動作モードの場合は、少なくとも生成さ
れた放射は十分に利用されているが、レーザ装置それ自
体はそうではない。一方、EP−A−0 609 19
3やDE−A−3631 652の場合のように、連続
放射が遮蔽器によって変調される場合は、生成された放
射エネルギの50%は利用されない。このように放射エ
ネルギの50%を切り捨ててしまうと、装置内の熱の問
題を生じて、剰余の赤外放射によって偽の信号が発生す
ることもある。
【0009】一方、工業的に応用される多くの場合に
は、試料の表面の多くの箇所が一度に検査されることも
ある。例えば、典型的なコーティング形成工程の場合に
は、コーティング処理室を通過するコンベア・システム
が設けられ、それぞれの対象物の2つの面または、一対
で運ばれる2つの対象物のそれぞれの1つの面にコーテ
ィング処理が施される。通常は、このようなコーティン
グ装置の両方の面は、正確に同一には動作しない。すな
わち、動作パラメータが同じであっても同一の層厚が自
動的に得られるわけではない。従って、品質管理上の観
点から、何らかの測定手段を用いてコーティングの両面
をモニタすることが必要である。
は、試料の表面の多くの箇所が一度に検査されることも
ある。例えば、典型的なコーティング形成工程の場合に
は、コーティング処理室を通過するコンベア・システム
が設けられ、それぞれの対象物の2つの面または、一対
で運ばれる2つの対象物のそれぞれの1つの面にコーテ
ィング処理が施される。通常は、このようなコーティン
グ装置の両方の面は、正確に同一には動作しない。すな
わち、動作パラメータが同じであっても同一の層厚が自
動的に得られるわけではない。従って、品質管理上の観
点から、何らかの測定手段を用いてコーティングの両面
をモニタすることが必要である。
【0010】EP−A−0 609 193やDE−A
−36 31 652に開示されているような測定シス
テムでは、それぞれの測定ステーション(statio
n)が完全な測定系を必要とし、それぞれ独立した励起
源を必要とする。単一の励起源を用いて、試料の複数の
箇所を同時に分析することができる装置は、従来は知ら
れていなかった。
−36 31 652に開示されているような測定シス
テムでは、それぞれの測定ステーション(statio
n)が完全な測定系を必要とし、それぞれ独立した励起
源を必要とする。単一の励起源を用いて、試料の複数の
箇所を同時に分析することができる装置は、従来は知ら
れていなかった。
【0011】すなわち、本発明の目的は、試料を非破壊
的に検査し、且つ、試料の複数の箇所を同時に検査する
ことができる方法と装置を提供することである。また、
本発明のもうひとつの目的は、このような方法および装
置を従来の方法および装置よりも安価で稼働コストも安
く、提供することである。
的に検査し、且つ、試料の複数の箇所を同時に検査する
ことができる方法と装置を提供することである。また、
本発明のもうひとつの目的は、このような方法および装
置を従来の方法および装置よりも安価で稼働コストも安
く、提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段および効果】本発明によれ
ば、上述の目的は、請求項1に記載した構成によって特
徴づけられる方法および、請求項5に記載した構成によ
って特徴づけられる装置によって達成される。本発明に
よる方法および装置は、単一の励起源の放射パワーを1
00%利用することによって、1またはそれ以上の試料
の複数の箇所を同時に検査することができる。例えば、
コーティング形成の場合には、本発明による方法および
装置によれば、コートされる両側の面の層厚を測定する
ことができる。
ば、上述の目的は、請求項1に記載した構成によって特
徴づけられる方法および、請求項5に記載した構成によ
って特徴づけられる装置によって達成される。本発明に
よる方法および装置は、単一の励起源の放射パワーを1
00%利用することによって、1またはそれ以上の試料
の複数の箇所を同時に検査することができる。例えば、
コーティング形成の場合には、本発明による方法および
装置によれば、コートされる両側の面の層厚を測定する
ことができる。
【0013】本発明による方法および装置によれば、励
起源は連続的に励起ビームを放出し、その励起ビームは
適切な構造要素によって、少なくとも2つの方向または
2つの角度位置(チャネル)の間を周期的に切り換えら
れる。このようにして、励起源の放射パワーの100%
が利用され、交互にチャネルのいずれかに切り換えられ
る。2つの角度位置によって2つのチャネルが形成され
る場合には、変調される励起放射のデューティ・サイク
ルは50%となる。この2つのチャネルの励起ビーム
は、位相が互いに180°シフトしている。このよう
に、放射パワーは2つのチャネルに変調され、少なくと
も2つの異なる検査箇所、例えばコーティング形成にお
ける試料の異なる面、での熱励起が可能となる。試料面
上の検査箇所は、励起ビームが照射される度に周期的に
加熱される。検査している箇所の温度の時間に対する挙
動は、その表面状態、すなわち、層厚、層の付着性ある
いは組成など、に特有のものであり、測定個所毎に別々
に放射測定法(radiometry)によって検出さ
れ、適当な電子的手段とソフトウエアによって評価され
る。励起放射の位相が180°シフトしていることは、
特に問題を生ずることなく信号評価で考慮に入れること
ができる。励起ビームのそれぞれは、例えばビーム・ス
プリッタによって2またはそれ以上の部分的なビームに
分割され、測定と評価の箇所を増やすこともできる。
起源は連続的に励起ビームを放出し、その励起ビームは
適切な構造要素によって、少なくとも2つの方向または
2つの角度位置(チャネル)の間を周期的に切り換えら
れる。このようにして、励起源の放射パワーの100%
が利用され、交互にチャネルのいずれかに切り換えられ
る。2つの角度位置によって2つのチャネルが形成され
る場合には、変調される励起放射のデューティ・サイク
ルは50%となる。この2つのチャネルの励起ビーム
は、位相が互いに180°シフトしている。このよう
に、放射パワーは2つのチャネルに変調され、少なくと
も2つの異なる検査箇所、例えばコーティング形成にお
ける試料の異なる面、での熱励起が可能となる。試料面
上の検査箇所は、励起ビームが照射される度に周期的に
加熱される。検査している箇所の温度の時間に対する挙
動は、その表面状態、すなわち、層厚、層の付着性ある
いは組成など、に特有のものであり、測定個所毎に別々
に放射測定法(radiometry)によって検出さ
れ、適当な電子的手段とソフトウエアによって評価され
る。励起放射の位相が180°シフトしていることは、
特に問題を生ずることなく信号評価で考慮に入れること
ができる。励起ビームのそれぞれは、例えばビーム・ス
プリッタによって2またはそれ以上の部分的なビームに
分割され、測定と評価の箇所を増やすこともできる。
【0014】本発明に関連した構成は、「フォトサーマ
ル放射測定法の実験的局面(Experimental
aspects of photothermal
radiometry)」(S.O.Kanstad、
CAN.J.PHYS.,vol.64、1986、p
p.1155〜1164)に開示されている。この開示
された実施例では、励起放射を変調するためにメタライ
ズされたチョッパが用いられ、レーザ出力について測定
系を校正するために、放射のうちの50%がパワー・メ
ータに入力される。しかし、最初に説明したように、フ
ォトサーマル表面検査においてパワーを測定しなくて済
むようにするためには、誘起された温度振動の位相を測
定することが望ましい。その結果として、励起放射のう
ちのパワー・メータ入力に対応する部分は、その他の測
定個所を励起するために利用することができる。
ル放射測定法の実験的局面(Experimental
aspects of photothermal
radiometry)」(S.O.Kanstad、
CAN.J.PHYS.,vol.64、1986、p
p.1155〜1164)に開示されている。この開示
された実施例では、励起放射を変調するためにメタライ
ズされたチョッパが用いられ、レーザ出力について測定
系を校正するために、放射のうちの50%がパワー・メ
ータに入力される。しかし、最初に説明したように、フ
ォトサーマル表面検査においてパワーを測定しなくて済
むようにするためには、誘起された温度振動の位相を測
定することが望ましい。その結果として、励起放射のう
ちのパワー・メータ入力に対応する部分は、その他の測
定個所を励起するために利用することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1から図3までの図面において
は、同一の部材には同一の符号を付して説明を省略す
る。
は、同一の部材には同一の符号を付して説明を省略す
る。
【0016】図1は、本発明の第1の実施例を表す概略
構成図である。図1の左側には、2つの試料10および
12がとなりあわせに配置されている状態が示されてい
る。これらの試料は、箱14として概略的に示したコー
ティング処理室に搬入される。コーティング処理室で
は、試料10および12の外側の面16および18にコ
ーティングが施され、同時に又は続けて、そのコーティ
ング層の厚さの測定や表面荒さのチェックなどの表面検
査が施される。
構成図である。図1の左側には、2つの試料10および
12がとなりあわせに配置されている状態が示されてい
る。これらの試料は、箱14として概略的に示したコー
ティング処理室に搬入される。コーティング処理室で
は、試料10および12の外側の面16および18にコ
ーティングが施され、同時に又は続けて、そのコーティ
ング層の厚さの測定や表面荒さのチェックなどの表面検
査が施される。
【0017】励起源20は、電磁波の励起放射Sを発生
する。本実施の形態においては、励起源20は、レーザ
源であり、レーザ・ビームSを出射することを想定して
いる。しかし、赤外光やその他の波長を有する電磁波放
射を使用することも同様に可能である。回転可能であ
り、その鏡の面に垂直な回転軸を有する鏡22がレーザ
・ビームSの出射光路上に配置されている。
する。本実施の形態においては、励起源20は、レーザ
源であり、レーザ・ビームSを出射することを想定して
いる。しかし、赤外光やその他の波長を有する電磁波放
射を使用することも同様に可能である。回転可能であ
り、その鏡の面に垂直な回転軸を有する鏡22がレーザ
・ビームSの出射光路上に配置されている。
【0018】鏡22は、その円周上に複数の凹部または
切り欠き部が形成されており、連続的に回転されるか、
または、2つの所定の角度位置の間を振動するように前
後に動かされる。励起ビームSは、その鏡の表面に入射
した時は透過し、凹部に入射した時は、反射されて偏向
する。これらは、すべて鏡の位置に依存している。この
鏡は、円形状にして、その円周上の一定の間隔で弧が切
り取られているようにすることが望ましい。
切り欠き部が形成されており、連続的に回転されるか、
または、2つの所定の角度位置の間を振動するように前
後に動かされる。励起ビームSは、その鏡の表面に入射
した時は透過し、凹部に入射した時は、反射されて偏向
する。これらは、すべて鏡の位置に依存している。この
鏡は、円形状にして、その円周上の一定の間隔で弧が切
り取られているようにすることが望ましい。
【0019】この回転可能な鏡の回転軸は、例えば、モ
ータ、スキャナあるいは回転マグネットの軸と同一の軸
とすることができる。あるいは、これらの手段のいずれ
かによって駆動される、別の回転軸とすることもでき
る。
ータ、スキャナあるいは回転マグネットの軸と同一の軸
とすることができる。あるいは、これらの手段のいずれ
かによって駆動される、別の回転軸とすることもでき
る。
【0020】鏡22の回転運動または往復運動によっ
て、励起ビームSは、およそ50%のデューティ・サイ
クルで変調され、位相がおよそ180°シフトした2つ
の励起ビームAおよびBが生成する。この変調された励
起ビームAおよびBは、測定チャネルAおよびBと考え
ることもできる。励起ビームSは鏡の回転軸からできる
だけ遠くに入射させ、また、レンズ32を鏡22に前に
配置して鏡の面でのビームの断面積をできるだけ小さく
なるように収束させることが望ましい。すなわち、この
ようにすれば、チャネルAおよびBの両方のために強度
が変調された励起放射が概ね長方形状の光路によって供
給される。このようにすれば、励起放射によってカバー
される試料の検査対象となるすべての表面部分または箇
所は、同様の熱的な励起、すなわち同一のデューティ・
サイクルで同一の位相、を受け取ることとなる。励起ビ
ームが鏡の軸から離れた場所に入射するようにすれば、
例えば円周の切り欠きのような鏡の形状の不均一性の影
響を抑えることができる。
て、励起ビームSは、およそ50%のデューティ・サイ
クルで変調され、位相がおよそ180°シフトした2つ
の励起ビームAおよびBが生成する。この変調された励
起ビームAおよびBは、測定チャネルAおよびBと考え
ることもできる。励起ビームSは鏡の回転軸からできる
だけ遠くに入射させ、また、レンズ32を鏡22に前に
配置して鏡の面でのビームの断面積をできるだけ小さく
なるように収束させることが望ましい。すなわち、この
ようにすれば、チャネルAおよびBの両方のために強度
が変調された励起放射が概ね長方形状の光路によって供
給される。このようにすれば、励起放射によってカバー
される試料の検査対象となるすべての表面部分または箇
所は、同様の熱的な励起、すなわち同一のデューティ・
サイクルで同一の位相、を受け取ることとなる。励起ビ
ームが鏡の軸から離れた場所に入射するようにすれば、
例えば円周の切り欠きのような鏡の形状の不均一性の影
響を抑えることができる。
【0021】図1に示した構成においては、鏡22の後
方にはレンズ34(チャネルA)とレンズ36(チャネ
ルB)とが配置され、これらのレンズは、レンズ32と
ともにビームを平行にして、必要であればビームを広げ
て、より長い距離をガイドするようにしている。鏡26
は、ビームのガイドの役割を有する。図1に示した以外
にも、特定の場合には、ビームをガイドするために鏡の
ような光学素子がさらに必要となることもある。
方にはレンズ34(チャネルA)とレンズ36(チャネ
ルB)とが配置され、これらのレンズは、レンズ32と
ともにビームを平行にして、必要であればビームを広げ
て、より長い距離をガイドするようにしている。鏡26
は、ビームのガイドの役割を有する。図1に示した以外
にも、特定の場合には、ビームをガイドするために鏡の
ような光学素子がさらに必要となることもある。
【0022】変調の周波数は、鏡22に形成されている
切り欠き部や分割の数と、その鏡のために用いられてい
る駆動手段の回転速度とに依存する。同期性の優れたモ
ータであれば1ヘルツ以下から数100ヘルツまでの変
調周波数を得ることができる。
切り欠き部や分割の数と、その鏡のために用いられてい
る駆動手段の回転速度とに依存する。同期性の優れたモ
ータであれば1ヘルツ以下から数100ヘルツまでの変
調周波数を得ることができる。
【0023】チャネルAおよびBの励起ビームはいずれ
も最終的には測定ヘッド38および40に入射する。そ
れぞれの測定ヘッドは、屈折性または反射性の光学素
子、鏡28および30、およびレンズ42および44に
よって入射した励起ビームAおよびBの形状を調節し、
試料10および12の検査面16および18にそれぞれ
入射させる。検査箇所から放出される熱輻射A’および
B’は、赤外輻射であり、表面温度に依存し、入射経路
に配置されている光学素子46および48を介して対応
する検出器50または52にそれぞれ入射される。図1
に示した実施の形態では、入射経路上の光学素子として
レンズを採用している。しかし、これらの光学素子とし
ては、例えば、凹面鏡であっても良い。検出器50およ
び52のそれぞれの前には、フィルタ54および56
を、カットオフ・フィルタまたはエッジ(edge)・
フィルタとしてそれぞれ配置することもできる。このよ
うにすれば、例えば、工場の照明から発せられる50H
z、60Hzあるいは100Hzで変調された赤外領域
付近の不要な放射を遮断することができる。検出器によ
って感知された熱輻射は、その下段に配置されている図
示しない電子回路および評価装置によって処理され、例
えば、表面コート層の層厚が決定される。
も最終的には測定ヘッド38および40に入射する。そ
れぞれの測定ヘッドは、屈折性または反射性の光学素
子、鏡28および30、およびレンズ42および44に
よって入射した励起ビームAおよびBの形状を調節し、
試料10および12の検査面16および18にそれぞれ
入射させる。検査箇所から放出される熱輻射A’および
B’は、赤外輻射であり、表面温度に依存し、入射経路
に配置されている光学素子46および48を介して対応
する検出器50または52にそれぞれ入射される。図1
に示した実施の形態では、入射経路上の光学素子として
レンズを採用している。しかし、これらの光学素子とし
ては、例えば、凹面鏡であっても良い。検出器50およ
び52のそれぞれの前には、フィルタ54および56
を、カットオフ・フィルタまたはエッジ(edge)・
フィルタとしてそれぞれ配置することもできる。このよ
うにすれば、例えば、工場の照明から発せられる50H
z、60Hzあるいは100Hzで変調された赤外領域
付近の不要な放射を遮断することができる。検出器によ
って感知された熱輻射は、その下段に配置されている図
示しない電子回路および評価装置によって処理され、例
えば、表面コート層の層厚が決定される。
【0024】図2は、本発明の他の実施の形態による検
査装置を表す概略構成図である。図2においては、励起
放射を変調するために図1において用いられている回転
可能な鏡の代わりに、揺動可能な鏡(pivotabl
e mirror)60が採用されている。分割されて
いない(non−segmented)鏡60は、その
鏡面に平行に伸びる軸62に装着されている。その軸6
2は、振動できるようにされ、スキャナあるいは回転マ
グネットのような駆動ユニットに連結されている。揺動
可能な鏡60の機械軸62は、アンバランスを防ぐため
に鏡の重心点を通るように配置することが望ましい。
査装置を表す概略構成図である。図2においては、励起
放射を変調するために図1において用いられている回転
可能な鏡の代わりに、揺動可能な鏡(pivotabl
e mirror)60が採用されている。分割されて
いない(non−segmented)鏡60は、その
鏡面に平行に伸びる軸62に装着されている。その軸6
2は、振動できるようにされ、スキャナあるいは回転マ
グネットのような駆動ユニットに連結されている。揺動
可能な鏡60の機械軸62は、アンバランスを防ぐため
に鏡の重心点を通るように配置することが望ましい。
【0025】動作に際しては、励起放射Sが入射する鏡
60が、所定の2つの角度の間を往復運動することによ
って、励起ビームは鏡の2つの傾斜位置の角度差の2倍
の角度に対応する2方向の間で偏向される。このように
して得られた強度変調された2つの励起ビームAおよび
Bは、図1に関して前述したと同様に、2つの測定ヘッ
ドに周期的に入射する。本実施の形態において得られる
変調周波数は、約25ヘルツよりも大きい。何故なら
ば、この振動系は機械的な慣性が大きいので、図1に示
した実施の形態の場合と同程度にデューティ・サイクル
を自由に調節することはできないからである。
60が、所定の2つの角度の間を往復運動することによ
って、励起ビームは鏡の2つの傾斜位置の角度差の2倍
の角度に対応する2方向の間で偏向される。このように
して得られた強度変調された2つの励起ビームAおよび
Bは、図1に関して前述したと同様に、2つの測定ヘッ
ドに周期的に入射する。本実施の形態において得られる
変調周波数は、約25ヘルツよりも大きい。何故なら
ば、この振動系は機械的な慣性が大きいので、図1に示
した実施の形態の場合と同程度にデューティ・サイクル
を自由に調節することはできないからである。
【0026】レンズ32によって、鏡60上での励起ビ
ームSのサイズは縮小され、あるいは収束される。従っ
て、鏡60は小さくすることができ、また、機械振動系
の慣性も小さくすることができる。図1に示した実施の
形態と同様に、レンズ34および36は、ビームを平行
にして、必要であれば、ビームを広げる。また、鏡2
6、64、66および68は、ビームをガイドする素子
である。
ームSのサイズは縮小され、あるいは収束される。従っ
て、鏡60は小さくすることができ、また、機械振動系
の慣性も小さくすることができる。図1に示した実施の
形態と同様に、レンズ34および36は、ビームを平行
にして、必要であれば、ビームを広げる。また、鏡2
6、64、66および68は、ビームをガイドする素子
である。
【0027】図3は、本発明のさらに別の実施の形態を
表す概略構成図である。図3に示した構成は、図2に示
した構成と類似するが、ここでは揺動可能な鏡70は圧
電素子(piezo element)のドライブ72
によって調節される。
表す概略構成図である。図3に示した構成は、図2に示
した構成と類似するが、ここでは揺動可能な鏡70は圧
電素子(piezo element)のドライブ72
によって調節される。
【0028】この構成によれば、圧電素子を用いること
によって非常に速く正確な位置決めが可能となり、およ
そ50%のデューティ・サイクルで数100ヘルツまで
の変調周波数を得ることができるという利点がある。圧
電素子により得られる偏向角度は比較的小さいが、複数
の鏡に連続して励起ビームSを入射させることによっ
て、偏向角度を十分に大きくすることができる。この場
合には、これらの鏡を圧電素子によって同期して駆動す
ることによって、合計の揺動角度を鏡の枚数倍とするこ
とができる。
によって非常に速く正確な位置決めが可能となり、およ
そ50%のデューティ・サイクルで数100ヘルツまで
の変調周波数を得ることができるという利点がある。圧
電素子により得られる偏向角度は比較的小さいが、複数
の鏡に連続して励起ビームSを入射させることによっ
て、偏向角度を十分に大きくすることができる。この場
合には、これらの鏡を圧電素子によって同期して駆動す
ることによって、合計の揺動角度を鏡の枚数倍とするこ
とができる。
【0029】また、図3の変形例として、圧電素子によ
り揺動する鏡70と、揺動するかまたは静止しているも
うひとつの鏡74との間に励起ビームを入射させ、出射
するまでの間に数回往復反射させることもできる。ま
た、このようにして偏向角度を増倍することもできる。
図3においては、鏡70が第1の位置にあり、励起ビー
ムSをチャネルAに導く時の励起ビームの経路を実線で
示し、また、鏡70が第2の位置にあり、励起ビームを
チャネルBに導く時の励起ビームの経路を破線で示して
いる。図1および図2に関して説明したと同様に、いず
れの励起チャネルも最終的にはそれぞれの測定ヘッド3
8および40に到達する。圧電素子を有する本実施の形
態は、励起のためにレーザ放射が用いられる場合には、
特に有用である。圧電素子は、特に高速で且つ正確にス
イッチングするために適しており、レーザ放射と組み合
わせることによって検査装置を小さくすることができ
る。
り揺動する鏡70と、揺動するかまたは静止しているも
うひとつの鏡74との間に励起ビームを入射させ、出射
するまでの間に数回往復反射させることもできる。ま
た、このようにして偏向角度を増倍することもできる。
図3においては、鏡70が第1の位置にあり、励起ビー
ムSをチャネルAに導く時の励起ビームの経路を実線で
示し、また、鏡70が第2の位置にあり、励起ビームを
チャネルBに導く時の励起ビームの経路を破線で示して
いる。図1および図2に関して説明したと同様に、いず
れの励起チャネルも最終的にはそれぞれの測定ヘッド3
8および40に到達する。圧電素子を有する本実施の形
態は、励起のためにレーザ放射が用いられる場合には、
特に有用である。圧電素子は、特に高速で且つ正確にス
イッチングするために適しており、レーザ放射と組み合
わせることによって検査装置を小さくすることができ
る。
【0030】さらに、同図の構成においても収束レンズ
32を設けることは有利である。何故ならば、レンズ3
2は揺動可能な鏡70の位置でのビームの断面積を縮小
するので、鏡70および74をさらに小さくすることが
できるからである。また、偏向角度が小さい場合でも、
レンズの収束効果によって2つのチャネルを幾何学的に
容易に分離することができる。収束レンズ34および3
6は、ビームを平行にするために用いられ、さらに必要
であればビームを広げるために用いられる。
32を設けることは有利である。何故ならば、レンズ3
2は揺動可能な鏡70の位置でのビームの断面積を縮小
するので、鏡70および74をさらに小さくすることが
できるからである。また、偏向角度が小さい場合でも、
レンズの収束効果によって2つのチャネルを幾何学的に
容易に分離することができる。収束レンズ34および3
6は、ビームを平行にするために用いられ、さらに必要
であればビームを広げるために用いられる。
【0031】前述したすべての実施の形態においては、
さらに、測定ヘッド38および40に図示しないビーム
・スプリッタを備え、強度が変調された励起放射を試料
表面の2以上の異なる測定個所に照射するようにするこ
ともできる。
さらに、測定ヘッド38および40に図示しないビーム
・スプリッタを備え、強度が変調された励起放射を試料
表面の2以上の異なる測定個所に照射するようにするこ
ともできる。
【0032】本願明細書または図面に記載されている構
成は、それぞれ単独で、または組み合わされて本発明を
特徴づけるための本質的要素に過ぎず、本発明の範囲を
限定するものではない。
成は、それぞれ単独で、または組み合わされて本発明を
特徴づけるための本質的要素に過ぎず、本発明の範囲を
限定するものではない。
【図1】本発明の第1の実施の形態を表す概略構成図で
ある。
ある。
【図2】本発明の第2の実施の形態を表す概略構成図で
ある。
ある。
【図3】本発明の第3の実施の形態を表す概略構成図で
ある。
ある。
10、12 試料 14 コーティング処理室 16、18 検査面 20 励起源 22、26、28、30 鏡 32、34、36、42、44、46、48 レンズ 38、40 測定ヘッド 54、56 フィルタ 60 揺動可能な鏡 62 軸 64、66、68 鏡 70 鏡 72 圧電素子ドライブ 74 鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ホルスト、アダムス ドイツ連邦共和国ノネンホルン、ワッセル ブルガーシュトラーセ、42
Claims (18)
- 【請求項1】連続的な電磁励起ビーム(S)を周期的に
異なる方向に向けることによって強度が変調された複数
のビーム(AおよびB)を生成し、それぞれのビームを
試料面上の異なる検査箇所(16および18)に入射さ
せ、前記検査箇所から放出される熱輻射を検出して評価
する、非破壊試料検査方法。 - 【請求項2】前記励起ビーム(S)を、およそ0.1か
ら500Hzの範囲の周波数で偏向することを特徴とす
る請求項1記載の方法。 - 【請求項3】前記励起ビーム(S)を、約50%のデュ
ーティ・サイクルで2つの方向(A、B)に向け、位相
が互いに約180°シフトしている2つの励起ビーム
(A、B)に変調することを特徴とする請求項1または
2に記載の方法。 - 【請求項4】前記励起ビーム(S、A、B)を複数の部
分的なビームに分割することを特徴とする請求項1〜3
のいずれか1つに記載の方法。 - 【請求項5】電磁励起ビーム(S)を放出する励起源
(20)と、 前記励起ビーム(S)の強度を変調し、試料面上の検査
箇所(16、18)に前記励起ビームを入射させるため
の光学的手段(22、26;60、64、66、68、
26;70、74、66、26)と、 前記検査箇所から放出される熱輻射を検出する検出手段
(50、52)と、を備えた非破壊試料検査装置におい
て、 前記光学的手段は、 前記励起ビームを周期的に異なる方向(A、B)に偏向
する変調手段と、 それぞれの方向(A、B)において、試料面上の異なる
検査箇所(16、18)に前記励起ビームを試料表面上
の異なる検査箇所に導く導波手段とを備えたことを特徴
とする非破壊試料検査装置。 - 【請求項6】前記検出手段は、前記異なる検査箇所から
放出される熱輻射を検出するための複数の検出器(5
0、52)を備えたことを特徴とする請求項5記載の装
置。 - 【請求項7】前記変調手段は、前記励起ビーム(S)を
異なる方向(A、B)に向けるように調節することが可
能な鏡(22;60;70)を備えたことを特徴とする
請求項5または6に記載の装置。 - 【請求項8】前記変調手段は、前記鏡の面に垂直な回転
軸と凹部とを有し、その回転位置に応じて前記励起ビー
ム(S)を透過または反射するように配置された回転可
能な鏡(22)を備えたことを特徴とする請求項5〜7
のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項9】前記鏡(22)は円形であり、一定の間隔
でその円周から切り取られた部分を有することを特徴と
する請求項8記載の装置。 - 【請求項10】前記変調手段は、揺動可能な鏡(60;
70)であって、その鏡面に平行な揺動軸を有しその揺
動位置に応じて前記励起ビーム(S)を透過または反射
するように前記励起源(20)に対して配置された鏡
(60;70)を備えたことを特徴とする請求項5〜7
のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項11】前記変調手段は、揺動可能な鏡(60;
70)であって、その鏡面に平行な揺動軸を有しその揺
動位置に応じて前記励起ビーム(S)を所定の複数の方
向のうちのいずれかに向けるように前記励起源(20)
に対して配置された鏡(60;70)を備えたことを特
徴とする請求項5〜7のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項12】前記変調手段は、多重反射によって前記
励起ビーム(S)を所定の複数の方向(A、B)のうち
のいずれかに向けるように実質的に互いに対向して配置
された複数の鏡(70、74)を備えたことを特徴とす
る請求項11記載の装置。 - 【請求項13】前記鏡(70、74)のうちの少なくも
いずれかは圧電素子(72)によって2つの所定の角度
位置の間を往復的に揺動するようにされていることを特
徴とする請求項12記載の装置。 - 【請求項14】前記光学的手段は、前記励起ビーム
(S、A、B)を複数の部分的なビームに分割するため
に少なくとも1つのビーム・スプリッタを備えたことを
特徴とする請求項5〜13のいずれか1つに記載の装
置。 - 【請求項15】前記励起ビーム(S)を収束するために
前記励起源(20)と前記光学的手段(22;60;7
0)との間に収束レンズ(32)が配置されたことを特
徴とする請求項5〜14のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項16】前記導波手段は、強度が変調された前記
励起ビーム(S、A、B)を平行にするためにレンズ組
立体(34、36)を備えたことを特徴とする請求項5
〜15のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項17】試料のコーティングの層厚を測定する方
法であって、請求項1〜4のいずれか1つに記載の方
法。 - 【請求項18】試料のコーティングの層厚を測定する装
置であって、請求項5〜16のいずれか1つに記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19548036A DE19548036C2 (de) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | Verfahren und Vorrichtung zum zerstörungsfreien Prüfen von Werkstücken |
| DE19548036.8 | 1995-12-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189660A true JPH09189660A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=7780950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8343839A Pending JPH09189660A (ja) | 1995-12-21 | 1996-12-24 | 非破壊試料検査方法および非破壊検査装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5841138A (ja) |
| EP (1) | EP0780682B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09189660A (ja) |
| CN (1) | CN1159579A (ja) |
| AT (1) | ATE225035T1 (ja) |
| DE (2) | DE19548036C2 (ja) |
| TW (1) | TW336277B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7776626B2 (en) | 2005-03-11 | 2010-08-17 | Renesas Technology Corp. | Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19928171B4 (de) * | 1999-06-19 | 2011-01-05 | Leybold Optics Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Bestimmung der optischen Schichtdicke von Beschichtungen |
| DE10013172C2 (de) * | 2000-03-17 | 2002-05-16 | Wagner Internat Ag Altstaetten | Verfahren und Vorrichtung zur photothermischen Analyse einer Materialschicht, insbesondere zur Schichtdickenmessung |
| DE10013173C2 (de) * | 2000-03-17 | 2002-02-28 | Wagner Internat Ag Altstaetten | Verfahren und Vorrichtung zur photothermischen Analyse einer Materialschicht, insbesondere zur Schichtdickenmessung |
| US7401976B1 (en) * | 2000-08-25 | 2008-07-22 | Art Advanced Research Technologies Inc. | Detection of defects by thermographic analysis |
| DE10336097B3 (de) | 2003-08-06 | 2005-03-10 | Testo Ag | Visiereinrichtung für ein Radiometer sowie Verfahren |
| EP1656539B1 (de) * | 2003-08-06 | 2010-06-30 | Testo AG | Radiometer, visiereinrichtung für ein ir-gerät sowie verfahren |
| KR101939406B1 (ko) * | 2010-05-03 | 2019-01-16 | 오로라 솔라 테크놀로지스 (캐나다) 인크. | 반도체 층의 도펀트 함유량의 비접촉 측정 |
| FR3007831B1 (fr) * | 2013-07-01 | 2015-06-19 | Enovasense | Procede de mesure de l'epaisseur d'une couche d'un materiau, procede de galvanisation et dispositif de mesure associes |
| CN109059776B (zh) * | 2018-07-05 | 2023-05-12 | 江西飞达电气设备有限公司 | 一种多功能限位器行程误差测试设备 |
| US11950677B2 (en) | 2019-02-28 | 2024-04-09 | L'oreal | Devices and methods for electrostatic application of cosmetics |
| LU101529B1 (de) * | 2019-12-12 | 2021-06-15 | Aim Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Materialeigenschaft eines Prüfkörpers in einem oberflächennahen Prüfkörperbereich |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE228916C (ja) * | ||||
| US3569696A (en) * | 1968-10-08 | 1971-03-09 | Pollution Control Ind Inc | Method and apparatus for measuring simultaneously a plurality of components of a test sample |
| JPS5248031B2 (ja) * | 1974-05-13 | 1977-12-07 | ||
| DE3234534C2 (de) * | 1982-09-17 | 1986-09-11 | Kievskoe naučno-proizvodstvennoe obiedinenie "Analitpribor", Kiev | Anordnung zum Aufstäuben von optischen Filmschichten |
| FR2555308B1 (fr) * | 1983-11-21 | 1986-12-05 | Cit Alcatel | Tete photometrique et applications a des dispositifs de controle de l'epaisseur d'une couche mince |
| DE3631652C2 (de) * | 1986-09-17 | 1994-05-19 | Siemens Ag | Meßanordnung zur berührungslosen Dickenbestimmung |
| DE69121633T2 (de) * | 1990-05-22 | 1997-01-16 | Tsutomu Ichimura | Verfahren und Apparat zur Messung spektraler Absorption in undurchsichtigem Material und Verfahren und Apparat zur Messung einer Verteilung mikroskopischer Absorption |
| DE4223337C2 (de) * | 1992-07-16 | 1996-02-22 | Jenoptik Jena Gmbh | Verfahren und Anordnung zur photothermischen Spektroskopie |
| AT399592B (de) * | 1993-01-26 | 1995-06-26 | Hoerbiger & Co | Verfahren und einrichtung zur messung der porosität von reibbelägen |
-
1995
- 1995-12-21 DE DE19548036A patent/DE19548036C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-30 DE DE59609723T patent/DE59609723D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-30 EP EP96117416A patent/EP0780682B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-30 AT AT96117416T patent/ATE225035T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-12-10 US US08/763,245 patent/US5841138A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-16 CN CN96121565A patent/CN1159579A/zh active Pending
- 1996-12-18 TW TW085115648A patent/TW336277B/zh active
- 1996-12-24 JP JP8343839A patent/JPH09189660A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7776626B2 (en) | 2005-03-11 | 2010-08-17 | Renesas Technology Corp. | Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device |
| US8357933B2 (en) | 2005-03-11 | 2013-01-22 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1159579A (zh) | 1997-09-17 |
| US5841138A (en) | 1998-11-24 |
| EP0780682A1 (de) | 1997-06-25 |
| DE19548036A1 (de) | 1997-06-26 |
| DE19548036C2 (de) | 1999-09-09 |
| EP0780682B1 (de) | 2002-09-25 |
| DE59609723D1 (de) | 2002-10-31 |
| TW336277B (en) | 1998-07-11 |
| ATE225035T1 (de) | 2002-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4632561A (en) | Evaluation of surface and subsurface characteristics of a sample | |
| US6188478B1 (en) | Method and apparatus for film-thickness measurements | |
| US4581939A (en) | Noncontact ultrasonic flaw detecting method and apparatus therefor | |
| KR0169066B1 (ko) | 표면의 광열검사장치 | |
| JPH09189660A (ja) | 非破壊試料検査方法および非破壊検査装置 | |
| KR850000669A (ko) | 거리측정 시스템 | |
| JPH034151A (ja) | 光熱式検査方法とこの方法を実施するための装置 | |
| US20060146334A1 (en) | Apparatus for varying the path length of a beam of radiation | |
| JPH0694604A (ja) | 2台の干渉計を用いた分光撮影装置 | |
| CN101379391B (zh) | 用于测量薄片性质的光学扫描仪 | |
| JP2004527741A5 (ja) | ||
| JPH0694605A (ja) | パルス電磁波源および干渉計を用いた分光撮影装置 | |
| JPH04331358A (ja) | 物体の表面特性を決定する装置 | |
| CN113412561A (zh) | 表征激光增益芯片的方法和装置 | |
| JP2012242245A (ja) | ラマン散乱光検出装置 | |
| KR20020050833A (ko) | 비접촉식 결정입경 측정장치 및 방법 | |
| US5285260A (en) | Spectroscopic imaging system with ultrasonic detection of absorption of modulated electromagnetic radiation | |
| KR19980050105A (ko) | 공작물의 비파괴 검사방법 및 장치 | |
| JP3294148B2 (ja) | レーザ超音波探傷装置 | |
| JPH01260351A (ja) | 位置監視方法及び装置 | |
| KR102738745B1 (ko) | 재료 층의 두께를 측정하는 측정 장치 | |
| JPH10274623A (ja) | 無侵襲生体光計測装置 | |
| JP3638261B2 (ja) | 煙濃度測定装置 | |
| JP2010091428A (ja) | 走査光学系 | |
| JP7247075B2 (ja) | レーザ光集光装置、レーザ光受光装置、およびレーザ光集光方法 |