JPH09189903A - 液晶装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶装置及びその製造方法Info
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- JPH09189903A JPH09189903A JP8002674A JP267496A JPH09189903A JP H09189903 A JPH09189903 A JP H09189903A JP 8002674 A JP8002674 A JP 8002674A JP 267496 A JP267496 A JP 267496A JP H09189903 A JPH09189903 A JP H09189903A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 平坦化層の平坦化性能及び耐酸性、耐アルカ
リ性を損なうことなく、平坦化層の耐久性を向上させる
ことでき、かつ平坦化層によるカラーフィルタの劣化を
防止することのできる液晶装置及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 基板１に形成されたカラーフィルタ層５
と、カラーフィルタ層５上面に設けられてカラーフィル
タ層５の凹凸を平坦化する平坦化層３との間に形成した
バリア層７により、基板１からの溶出物が平坦化層３に
触れるのを阻止し、この溶出物により平坦化層３が劣化
するのを防ぐようにする。さらに、このバリア層７にて
カラーフィルタ層５からの溶出物が平坦化層３に触れる
のを阻止し、この溶出物により平坦化層３が劣化するの
を防ぐようにする。また、このバリア層７により、平坦
化層３からの溶出物がカラーフィルタ層５に触れるのを
阻止し、この溶出物によりカラーフィルタ層５が劣化す
るのを防ぐようにする。
リ性を損なうことなく、平坦化層の耐久性を向上させる
ことでき、かつ平坦化層によるカラーフィルタの劣化を
防止することのできる液晶装置及びその製造方法を提供
する。 【解決手段】 基板１に形成されたカラーフィルタ層５
と、カラーフィルタ層５上面に設けられてカラーフィル
タ層５の凹凸を平坦化する平坦化層３との間に形成した
バリア層７により、基板１からの溶出物が平坦化層３に
触れるのを阻止し、この溶出物により平坦化層３が劣化
するのを防ぐようにする。さらに、このバリア層７にて
カラーフィルタ層５からの溶出物が平坦化層３に触れる
のを阻止し、この溶出物により平坦化層３が劣化するの
を防ぐようにする。また、このバリア層７により、平坦
化層３からの溶出物がカラーフィルタ層５に触れるのを
阻止し、この溶出物によりカラーフィルタ層５が劣化す
るのを防ぐようにする。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ層
を有する液晶装置であるカラーディスプレーに関し、特
にカラーフィルタ層上面に形成される平坦化層に関す
る。
を有する液晶装置であるカラーディスプレーに関し、特
にカラーフィルタ層上面に形成される平坦化層に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のカラーフィルタ層を有する液晶装
置であるカラーディスプレーにおいては、図７に示すよ
うに、基板１の上面に赤色フィルタ層２１、緑色フィル
タ層２２、青色フィルタ層２３及び図示しない白色フィ
ルタ層よりなるカラーフィルタ層２を形成するようにし
ている。ここで、このカラーフィルタ層２は、例えばフ
ォトリソ法により形成されるようになっているが、この
ようなカラーフィルタ層２を形成する際、各色フィルタ
層２１，２２，２３の層厚に差が生じると、カラーフィ
ルタ層２の表面に凹凸が生じるようになる。
置であるカラーディスプレーにおいては、図７に示すよ
うに、基板１の上面に赤色フィルタ層２１、緑色フィル
タ層２２、青色フィルタ層２３及び図示しない白色フィ
ルタ層よりなるカラーフィルタ層２を形成するようにし
ている。ここで、このカラーフィルタ層２は、例えばフ
ォトリソ法により形成されるようになっているが、この
ようなカラーフィルタ層２を形成する際、各色フィルタ
層２１，２２，２３の層厚に差が生じると、カラーフィ
ルタ層２の表面に凹凸が生じるようになる。
【０００３】ここで、このようにカラーフィルタ層２の
表面に凹凸が生じると、パターンエッジでの配向不良や
光漏れ等が生じるようになるので、従来はこの凹凸を均
一化するようカラーフィルタ層２の表面に平坦化層３を
形成するようにしている。
表面に凹凸が生じると、パターンエッジでの配向不良や
光漏れ等が生じるようになるので、従来はこの凹凸を均
一化するようカラーフィルタ層２の表面に平坦化層３を
形成するようにしている。
【０００４】ところで、このような構成のカラーディス
プレーにおいて、基板１として青板ガラスを用いた場
合、青板ガラスに含まれているＮａ+ イオン等の不純物
が溶出し、このＮａ+ イオン等の溶出物により平坦化層
３が劣化することから、従来は同図に示すように、基板
１上にＳｉＯ2 等によるバリア層４を形成し、Ｎａ+ イ
オン等が平坦化層３に触れることがないようにしてい
た。
プレーにおいて、基板１として青板ガラスを用いた場
合、青板ガラスに含まれているＮａ+ イオン等の不純物
が溶出し、このＮａ+ イオン等の溶出物により平坦化層
３が劣化することから、従来は同図に示すように、基板
１上にＳｉＯ2 等によるバリア層４を形成し、Ｎａ+ イ
オン等が平坦化層３に触れることがないようにしてい
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
従来のカラーディスプレーにおいては、平坦化層３はバ
リア層４によりＮａ+ イオン等の溶出物に触れるのは阻
止されるが、カラーフィルタ層２の上面に形成されてい
るのでカラーフィルタ層２の影響を受けるようになる。
即ち、カラーフィルタ層２からの残溶剤等の溶出物によ
り平坦化層３との間に化学反応が起こり、これによりガ
ス等が生じて平坦化層３が劣化するという問題点があっ
た。
従来のカラーディスプレーにおいては、平坦化層３はバ
リア層４によりＮａ+ イオン等の溶出物に触れるのは阻
止されるが、カラーフィルタ層２の上面に形成されてい
るのでカラーフィルタ層２の影響を受けるようになる。
即ち、カラーフィルタ層２からの残溶剤等の溶出物によ
り平坦化層３との間に化学反応が起こり、これによりガ
ス等が生じて平坦化層３が劣化するという問題点があっ
た。
【０００６】さらに、カラーフィルタ層２においても平
坦化層３からの溶出物により劣化するという問題点も生
じるようになる。
坦化層３からの溶出物により劣化するという問題点も生
じるようになる。
【０００７】なお、このような問題点を解決するため、
平坦化層３のＮａ+ イオンに対する耐性及びカラーフィ
ルタ層２からの溶出物等に対する耐性を向上させるよう
にすれば良いが、このような耐性性能を向上させるよう
にすると、本来の平坦化層３の目的である耐酸、耐アル
カリ性や平坦化性能等が低下し、特にＦＬＣＤの場合の
ように基板間のギャップ間隔を１．０〜１．５μｍに制
御することが必要な液晶装置において、ギャップ間隔の
確保が困難になるという他の問題点が生じるようにな
る。
平坦化層３のＮａ+ イオンに対する耐性及びカラーフィ
ルタ層２からの溶出物等に対する耐性を向上させるよう
にすれば良いが、このような耐性性能を向上させるよう
にすると、本来の平坦化層３の目的である耐酸、耐アル
カリ性や平坦化性能等が低下し、特にＦＬＣＤの場合の
ように基板間のギャップ間隔を１．０〜１．５μｍに制
御することが必要な液晶装置において、ギャップ間隔の
確保が困難になるという他の問題点が生じるようにな
る。
【０００８】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであり、平坦化層の平坦化性能及び耐
酸性、耐アルカリ性を損なうことなく、平坦化層の耐久
性を向上させることでき、かつ平坦化層によるカラーフ
ィルタの劣化を防止することのできる液晶装置及びその
製造方法を提供することを目的とする。
めになされたものであり、平坦化層の平坦化性能及び耐
酸性、耐アルカリ性を損なうことなく、平坦化層の耐久
性を向上させることでき、かつ平坦化層によるカラーフ
ィルタの劣化を防止することのできる液晶装置及びその
製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板に形成さ
れたカラーフィルタ層と、このカラーフィルタ層上面に
設けられて該カラーフィルタ層の凹凸を平坦化する平坦
化層とを有する液晶装置において、前記カラーフィルタ
層と平坦化層との間に、前記基板及び前記カラーフィル
タ層からの溶出物が前記平坦化層に触れるのを阻止して
該平坦化層が前記溶出物により劣化するのを防ぐバリア
層を形成することを特徴とするものである。
れたカラーフィルタ層と、このカラーフィルタ層上面に
設けられて該カラーフィルタ層の凹凸を平坦化する平坦
化層とを有する液晶装置において、前記カラーフィルタ
層と平坦化層との間に、前記基板及び前記カラーフィル
タ層からの溶出物が前記平坦化層に触れるのを阻止して
該平坦化層が前記溶出物により劣化するのを防ぐバリア
層を形成することを特徴とするものである。
【００１０】また本発明は、前記バリア層は、ＳｉＯ
ｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されること
を特徴とするものである。
ｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されること
を特徴とするものである。
【００１１】また本発明は、前記バリア層は、ＳｉＮｘ
などの窒化物にて形成されることを特徴とするものであ
る。
などの窒化物にて形成されることを特徴とするものであ
る。
【００１２】また本発明は、前記バリア層は、イオンバ
リア性耐溶剤性を有するポリアミド系、ポリイミド系、
シロキサン系の有機材料から形成されることを特徴とす
るものである。
リア性耐溶剤性を有するポリアミド系、ポリイミド系、
シロキサン系の有機材料から形成されることを特徴とす
るものである。
【００１３】また本発明は、前記バリア層により、前記
カラーフィルタ層が前記平坦化層からの溶出物に触れる
のを阻止して前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣
化するのを防ぐようにしていることを特徴とするもので
ある。
カラーフィルタ層が前記平坦化層からの溶出物に触れる
のを阻止して前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣
化するのを防ぐようにしていることを特徴とするもので
ある。
【００１４】また本発明は、基板にカラーフィルタ層を
形成した後、前記カラーフィルタ層上面に該カラーフィ
ルタ層の凹凸を平坦化するための平坦化層を形成するよ
うにした液晶装置の製造方法において、前記カラーフィ
ルタ層と平坦化層との間に、前記基板及び前記カラーフ
ィルタ層からの溶出物が前記平坦化層に触れるのを阻止
して該平坦化層が前記溶出物により劣化するのを防ぐバ
リア層を形成することを特徴とするものである。
形成した後、前記カラーフィルタ層上面に該カラーフィ
ルタ層の凹凸を平坦化するための平坦化層を形成するよ
うにした液晶装置の製造方法において、前記カラーフィ
ルタ層と平坦化層との間に、前記基板及び前記カラーフ
ィルタ層からの溶出物が前記平坦化層に触れるのを阻止
して該平坦化層が前記溶出物により劣化するのを防ぐバ
リア層を形成することを特徴とするものである。
【００１５】また本発明は、前記バリア層は、ＳｉＯ
ｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されること
を特徴とするものである。
ｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されること
を特徴とするものである。
【００１６】また本発明は、前記バリア層は、ＳｉＮｘ
などの窒化物にて形成されることを特徴とするものであ
る。
などの窒化物にて形成されることを特徴とするものであ
る。
【００１７】また本発明は、前記バリア層は、イオンバ
リア性耐溶剤性を有するポリアミド系、ポリイミド系、
シロキサン系の有機材料から形成されることを特徴とす
るものである。
リア性耐溶剤性を有するポリアミド系、ポリイミド系、
シロキサン系の有機材料から形成されることを特徴とす
るものである。
【００１８】また本発明は、前記バリア層により、前記
カラーフィルタ層が前記平坦化層からの溶出物に触れる
のを阻止して前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣
化するのを防ぐようにしていることを特徴とするもので
ある。
カラーフィルタ層が前記平坦化層からの溶出物に触れる
のを阻止して前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣
化するのを防ぐようにしていることを特徴とするもので
ある。
【００１９】また、このように構成することにより、基
板に形成されたカラーフィルタ層と、このカラーフィル
タ層上面に設けられてカラーフィルタ層の凹凸を平坦化
する平坦化層との間に形成したバリア層により、基板か
らの溶出物が平坦化層に触れるのを阻止し、この溶出物
により平坦化層が劣化するのを防ぐようにする。さら
に、このバリア層にてカラーフィルタ層からの溶出物が
平坦化層に触れるのを阻止し、この溶出物により平坦化
層が劣化するのを防ぐようにする。
板に形成されたカラーフィルタ層と、このカラーフィル
タ層上面に設けられてカラーフィルタ層の凹凸を平坦化
する平坦化層との間に形成したバリア層により、基板か
らの溶出物が平坦化層に触れるのを阻止し、この溶出物
により平坦化層が劣化するのを防ぐようにする。さら
に、このバリア層にてカラーフィルタ層からの溶出物が
平坦化層に触れるのを阻止し、この溶出物により平坦化
層が劣化するのを防ぐようにする。
【００２０】また、このバリア層により、平坦化層から
の溶出物がカラーフィルタ層に触れるのを阻止し、この
溶出物によりカラーフィルタ層が劣化するのを防ぐよう
にする。
の溶出物がカラーフィルタ層に触れるのを阻止し、この
溶出物によりカラーフィルタ層が劣化するのを防ぐよう
にする。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。
の形態を説明する。
【００２２】図１は、本発明の実施の形態に係る液晶装
置であるカラーディスプレーの表面拡大図、図２はその
基板部分の構成を示す断面図である。なお、図１，２に
おいて、図７と同一符号は、同一部分を示している。
置であるカラーディスプレーの表面拡大図、図２はその
基板部分の構成を示す断面図である。なお、図１，２に
おいて、図７と同一符号は、同一部分を示している。
【００２３】図１において、１Ａはカラーディスプレ
ー、Ｒ，Ｂ，Ｇ，Ｗはカラーディスプレー１Ａに形成さ
れたカラーフィルタ層５を構成する赤色フィルタ層、青
色フィルタ層、緑色フィルタ層及び白色フィルタ層であ
る。なお、このカラーフィルタ層５の各色フィルタ層
Ｒ，Ｂ，Ｇ，Ｗは、フィルタ層形成材料となる各色感光
性樹脂（宇部興産社製、Ｐａ、ポリアミド主体の感光性
樹脂）をスピンコート、露光、現像する行程を４回繰り
返すことにより形成されている。
ー、Ｒ，Ｂ，Ｇ，Ｗはカラーディスプレー１Ａに形成さ
れたカラーフィルタ層５を構成する赤色フィルタ層、青
色フィルタ層、緑色フィルタ層及び白色フィルタ層であ
る。なお、このカラーフィルタ層５の各色フィルタ層
Ｒ，Ｂ，Ｇ，Ｗは、フィルタ層形成材料となる各色感光
性樹脂（宇部興産社製、Ｐａ、ポリアミド主体の感光性
樹脂）をスピンコート、露光、現像する行程を４回繰り
返すことにより形成されている。
【００２４】また、図２において６は基板１上に形成さ
れている遮光マスクであり、この遮光マスク６は、例え
ば青板ガラス上にＣｒなど金属スバッタ膜を形成した
後、フォトリソ法により形成されるようになっている。
れている遮光マスクであり、この遮光マスク６は、例え
ば青板ガラス上にＣｒなど金属スバッタ膜を形成した
後、フォトリソ法により形成されるようになっている。
【００２５】ところで、カラーフィルタ層５は、この遮
光マスク６が形成された後形成されるようになっている
が、カラーフィルタ層５を形成する際、スピンコートに
よる膜厚制御では各色フィルタ層Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｗの膜厚
に差が生じ、この膜厚差によりカラーフィルタ層５の表
面に凹凸が生じるので、凹凸を均一化するよう既述した
ようにカラーフィルタ層５の表面に平坦化層３を形成す
るようにしている。
光マスク６が形成された後形成されるようになっている
が、カラーフィルタ層５を形成する際、スピンコートに
よる膜厚制御では各色フィルタ層Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｗの膜厚
に差が生じ、この膜厚差によりカラーフィルタ層５の表
面に凹凸が生じるので、凹凸を均一化するよう既述した
ようにカラーフィルタ層５の表面に平坦化層３を形成す
るようにしている。
【００２６】なお、通常カラーフィルタ層５において
１．５μｍ程度の膜厚を得るようにした場合、材料や製
造プロセスの不安定さから最大膜厚と最小膜厚との差
は、約３０００Åとなるが、このように平坦化層３を形
成することにより凹凸を１／１０程度（３００Å）とす
ることができる。
１．５μｍ程度の膜厚を得るようにした場合、材料や製
造プロセスの不安定さから最大膜厚と最小膜厚との差
は、約３０００Åとなるが、このように平坦化層３を形
成することにより凹凸を１／１０程度（３００Å）とす
ることができる。
【００２７】一方、同図において、７は平坦化層３とカ
ラーフィルタ層５との間に形成されたバリア層であり、
本実施の形態において、このバリア層７は平坦化層３の
形成前にＳｉＯ2 等により形成された５００Å程度のス
パッタ膜である。
ラーフィルタ層５との間に形成されたバリア層であり、
本実施の形態において、このバリア層７は平坦化層３の
形成前にＳｉＯ2 等により形成された５００Å程度のス
パッタ膜である。
【００２８】ここで、このように平坦化層３とカラーフ
ィルタ層５との間にバリア層７を形成することにより、
平坦化層３と基板１とを隔離することができ、基板１か
らのＮａ+ イオンなどの溶出物が平坦化層３に接触する
のを防ぐことができるようにしている。これにより、青
板ガラスなど不純物の溶出がある基板１を使用した場合
でも、このバリア層７により平坦化層３の劣化を防止す
ることができる。
ィルタ層５との間にバリア層７を形成することにより、
平坦化層３と基板１とを隔離することができ、基板１か
らのＮａ+ イオンなどの溶出物が平坦化層３に接触する
のを防ぐことができるようにしている。これにより、青
板ガラスなど不純物の溶出がある基板１を使用した場合
でも、このバリア層７により平坦化層３の劣化を防止す
ることができる。
【００２９】また、このバリア層７により平坦化層３と
カラーフィルタ層５とを隔離することができ、これによ
りカラーフィルタ層５からの溶出物が平坦化層３に接触
するのを防ぐことができ、化学反応による平坦化層３の
劣化を抑えることができるようにしている。さらに、カ
ラーフィルタ層５においても、平坦化層３と隔離される
ことにより、平坦化層３からの溶出物に触れることがな
くなるので劣化を防ぐことができる。
カラーフィルタ層５とを隔離することができ、これによ
りカラーフィルタ層５からの溶出物が平坦化層３に接触
するのを防ぐことができ、化学反応による平坦化層３の
劣化を抑えることができるようにしている。さらに、カ
ラーフィルタ層５においても、平坦化層３と隔離される
ことにより、平坦化層３からの溶出物に触れることがな
くなるので劣化を防ぐことができる。
【００３０】したがって、このようにバリア層７により
平坦化層３と基板１及びカラーフィルタ層５とを隔離す
ることにより、平坦化層３は耐酸、アルカリ性や平坦化
性能等を損なうことなく、Ｎａ+ イオン等に対する耐性
及びカラーフィルタ層５からの溶出物（残溶剤、反応
物）等に対する耐性を向上させることができる。
平坦化層３と基板１及びカラーフィルタ層５とを隔離す
ることにより、平坦化層３は耐酸、アルカリ性や平坦化
性能等を損なうことなく、Ｎａ+ イオン等に対する耐性
及びカラーフィルタ層５からの溶出物（残溶剤、反応
物）等に対する耐性を向上させることができる。
【００３１】さらに、このように平坦化性能を損なうこ
となく平坦化層３を形成することができるようにするこ
とにより、既述したＦＬＣＤの場合のように基板１のギ
ャップ間隔を１．０〜１．５μｍに制御することが重要
な液晶装置においても、ギャップ間隔を確保することが
できる。
となく平坦化層３を形成することができるようにするこ
とにより、既述したＦＬＣＤの場合のように基板１のギ
ャップ間隔を１．０〜１．５μｍに制御することが重要
な液晶装置においても、ギャップ間隔を確保することが
できる。
【００３２】次に、このような構成のカラーディスプレ
ーの製造方法について説明する。
ーの製造方法について説明する。
【００３３】カラーディスプレー１Ａを製造するには、
まず図３に示すように青板ガラス等で形成された基板１
上にＣｒ等の金属スバッタ膜を形成し、フォトリソ法に
より遮光マスク６を形成する。次に、感光性樹脂をスピ
ンコート、露光、現像する行程を計４回動繰り返すこと
により、図４に示すように基板１上に赤色フィルタ層
Ｒ、緑色フィルタ層Ｒ、青色フィルタ層Ｂ及び白色フィ
ルタ層（図示せず）よりなるカラーフィルタ層５を形成
する。
まず図３に示すように青板ガラス等で形成された基板１
上にＣｒ等の金属スバッタ膜を形成し、フォトリソ法に
より遮光マスク６を形成する。次に、感光性樹脂をスピ
ンコート、露光、現像する行程を計４回動繰り返すこと
により、図４に示すように基板１上に赤色フィルタ層
Ｒ、緑色フィルタ層Ｒ、青色フィルタ層Ｂ及び白色フィ
ルタ層（図示せず）よりなるカラーフィルタ層５を形成
する。
【００３４】次に、このように形成したカラーフィルタ
層５の上面に、図５に示すようにＳｉＯ2 等よりなるバ
リア層７を形成した後、バリア層７の上面に１〜２μｍ
の平坦化層３を形成する（図２参照）。更にこの後、こ
の平坦化層３の上に、ＩＴＯ膜およびメタル補助電極膜
を各々パターニング、エッチングすることによりストラ
イプ電極を形成する。
層５の上面に、図５に示すようにＳｉＯ2 等よりなるバ
リア層７を形成した後、バリア層７の上面に１〜２μｍ
の平坦化層３を形成する（図２参照）。更にこの後、こ
の平坦化層３の上に、ＩＴＯ膜およびメタル補助電極膜
を各々パターニング、エッチングすることによりストラ
イプ電極を形成する。
【００３５】そして最後に、このように電極を形成した
基板１に絶縁層、配向膜を形成すると共に、この基板１
を対向して貼り合わせ、これら基板１のギャップ間に液
晶を注入、封止することによりカラーディスプレーが完
成する。
基板１に絶縁層、配向膜を形成すると共に、この基板１
を対向して貼り合わせ、これら基板１のギャップ間に液
晶を注入、封止することによりカラーディスプレーが完
成する。
【００３６】ところで、これまでの説明においてはＳｉ
Ｏ2 をバリア層７の形成材料として使用した場合につい
て述べてきたが、本発明はこれに限らず形成材料として
例えばＳｉＣｘ、ＴａＯｘ等の酸化物ＳｉＮｒなどの窒
化物などの材料を使用することもできる。
Ｏ2 をバリア層７の形成材料として使用した場合につい
て述べてきたが、本発明はこれに限らず形成材料として
例えばＳｉＣｘ、ＴａＯｘ等の酸化物ＳｉＮｒなどの窒
化物などの材料を使用することもできる。
【００３７】また、この形成材料として要求される特性
としては、透過率の低下があまりなくバリア性に優れて
いることであることから、形成材料としては既述した酸
化物、窒化物に限らず高分子材料でも性能を十分満足で
きる。ところで、このような高分子材料としては、例え
ばポリイミド系や、カラーフィルタ層５の形成材料であ
るポリアミド系や、平坦化層３の形成材料であるシロキ
サン系がある。なお、このシロキサン系材料は、バリア
効果と平滑化性能を両立させるのは難しいことから、平
坦化層３を形成する場合には、まずバリア性を有するシ
ロキサン系材料にてバリア層７を形成し、次に平坦化性
能に優れているシロキサン系材料にて平坦化層３を形成
するようにしている。
としては、透過率の低下があまりなくバリア性に優れて
いることであることから、形成材料としては既述した酸
化物、窒化物に限らず高分子材料でも性能を十分満足で
きる。ところで、このような高分子材料としては、例え
ばポリイミド系や、カラーフィルタ層５の形成材料であ
るポリアミド系や、平坦化層３の形成材料であるシロキ
サン系がある。なお、このシロキサン系材料は、バリア
効果と平滑化性能を両立させるのは難しいことから、平
坦化層３を形成する場合には、まずバリア性を有するシ
ロキサン系材料にてバリア層７を形成し、次に平坦化性
能に優れているシロキサン系材料にて平坦化層３を形成
するようにしている。
【００３８】一方、ストライプ電極を形成する際、平坦
化層上に更にＳｉＯ2 等のバリア層７を形成することに
より、ＩＴＯ膜およびメタル補助電極膜形成におけるエ
ッチング液に対する耐溶剤性を平坦化層３から分離する
こともできる。なお、通常シロキサン系の平坦化層３の
場合は、耐酸性と平坦性との性能を分離させてもそれ程
のメリットはないことから、本実施の形態においてはバ
リア層７は基板１及びカラーフィルタ層２からの溶出物
から平坦化層３をバリアするために形成されている。
化層上に更にＳｉＯ2 等のバリア層７を形成することに
より、ＩＴＯ膜およびメタル補助電極膜形成におけるエ
ッチング液に対する耐溶剤性を平坦化層３から分離する
こともできる。なお、通常シロキサン系の平坦化層３の
場合は、耐酸性と平坦性との性能を分離させてもそれ程
のメリットはないことから、本実施の形態においてはバ
リア層７は基板１及びカラーフィルタ層２からの溶出物
から平坦化層３をバリアするために形成されている。
【００３９】ところで、図６は耐酸性、耐溶液性、平坦
化能力（平坦化層形成前と後とにおける凹凸の比）、カ
ラーフィルタ層との反応性に基づくシロキサン系の４つ
の平坦化材料（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）の使用の可否を示した
表である。
化能力（平坦化層形成前と後とにおける凹凸の比）、カ
ラーフィルタ層との反応性に基づくシロキサン系の４つ
の平坦化材料（Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ）の使用の可否を示した
表である。
【００４０】そして、同表から明らかなように耐酸性、
耐溶液性等の特性から従来評価では平坦化材料として使
用できないと評価された平坦化材料Ｂ，Ｃ，Ｄにおいて
も、平坦化層３とカラーフィルタ層５との間にバリア層
７を形成することにより、平坦化層の膜性能から下地か
らの耐性効果を除くことができるため平坦化能力及び耐
酸性、耐アルカリ性の性能が更に向上した膜に改良する
ことが可能となる。
耐溶液性等の特性から従来評価では平坦化材料として使
用できないと評価された平坦化材料Ｂ，Ｃ，Ｄにおいて
も、平坦化層３とカラーフィルタ層５との間にバリア層
７を形成することにより、平坦化層の膜性能から下地か
らの耐性効果を除くことができるため平坦化能力及び耐
酸性、耐アルカリ性の性能が更に向上した膜に改良する
ことが可能となる。
【００４１】なお、このように平坦化層の膜性能から下
地からの耐性効果を除くことができることにより、平坦
化材料として使用できる高分子材料の種類を増やすこと
ができる。
地からの耐性効果を除くことができることにより、平坦
化材料として使用できる高分子材料の種類を増やすこと
ができる。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラーフィルタ層と平坦化層との間にバリア層を形成す
ることにより、基板及びカラーフィルタ層からの溶出物
により平坦化層が劣化するのを防ぐことができ、これに
より平坦化層の平坦化性能及び耐酸性、耐アルカリ性を
損なうことなく、平坦化層の耐久性を向上させることが
できる。
カラーフィルタ層と平坦化層との間にバリア層を形成す
ることにより、基板及びカラーフィルタ層からの溶出物
により平坦化層が劣化するのを防ぐことができ、これに
より平坦化層の平坦化性能及び耐酸性、耐アルカリ性を
損なうことなく、平坦化層の耐久性を向上させることが
できる。
【００４３】また、このバリア層により、平坦化層から
の溶出物によりカラーフィルタ層が劣化するのを防ぐこ
とができ、平坦化層によるカラーフィルタの劣化を防止
することができる。
の溶出物によりカラーフィルタ層が劣化するのを防ぐこ
とができ、平坦化層によるカラーフィルタの劣化を防止
することができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶装置であるカラ
ーディスプレーの表面拡大図。
ーディスプレーの表面拡大図。
【図２】上記カラーディスプレーの基板部分の構成を示
す断面図。
す断面図。
【図３】上記カラーディスプレーの基板上に遮光マスク
を形成する様子を示す図。
を形成する様子を示す図。
【図４】上記基板上にカラーフィルタ層を形成する様子
を示す図。
を示す図。
【図５】上記カラーフィルタ層の上面にバリア層を形成
する様子を示す図。
する様子を示す図。
【図６】上記バリア層の上面に形成される平坦化層の４
つの平坦化材料の使用の可否を示した図表である。
つの平坦化材料の使用の可否を示した図表である。
【図７】従来のカラーディスプレーの基板部分の構成を
示す図。
示す図。
１ ガラス基板 １Ａ カラーディスプレー ２，５ カラーフィルタ層 ３ 平坦化層 ４，７ バリア層
Claims (10)
- 【請求項１】 基板に形成されたカラーフィルタ層と、
このカラーフィルタ層上面に設けられて該カラーフィル
タ層の凹凸を平坦化する平坦化層とを有する液晶装置に
おいて、 前記カラーフィルタ層と平坦化層との間に、前記基板及
び前記カラーフィルタ層からの溶出物が前記平坦化層に
触れるのを阻止して該平坦化層が前記溶出物により劣化
するのを防ぐバリア層を形成することを特徴とする液晶
装置。 - 【請求項２】 前記バリア層は、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、
ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されることを特徴とする請
求項１記載の液晶装置。 - 【請求項３】 前記バリア層は、ＳｉＮｘなどの窒化物
にて形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶装
置。 - 【請求項４】 前記バリア層は、イオンバリア性耐溶剤
性を有するポリアミド系、ポリイミド系、シロキサン系
の有機材料から形成されることを特徴とする請求項１記
載の液晶装置。 - 【請求項５】 前記バリア層により、前記カラーフィル
タ層が前記平坦化層からの溶出物に触れるのを阻止して
前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣化するのを防
ぐようにしていることを特徴とする請求項１記載の液晶
装置。 - 【請求項６】 基板にカラーフィルタ層を形成した後、
前記カラーフィルタ層上面に該カラーフィルタ層の凹凸
を平坦化するための平坦化層を形成するようにした液晶
装置の製造方法において、 前記カラーフィルタ層と平坦化層との間に、前記基板及
び前記カラーフィルタ層からの溶出物が前記平坦化層に
触れるのを阻止して該平坦化層が前記溶出物により劣化
するのを防ぐバリア層を形成することを特徴とする液晶
装置の製造方法。 - 【請求項７】 前記バリア層は、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、
ＴａＯｘ等の酸化物にて形成されることを特徴とする請
求項６記載の液晶装置の製造方法。 - 【請求項８】 前記バリア層は、ＳｉＮｘなどの窒化物
にて形成されることを特徴とする請求項６記載の液晶装
置の製造方法。 - 【請求項９】 前記バリア層は、イオンバリア性耐溶剤
性を有するポリアミド系、ポリイミド系、シロキサン系
の有機材料から形成されることを特徴とする請求項６記
載の液晶装置の製造方法。 - 【請求項１０】 前記バリア層により、前記カラーフィ
ルタ層が前記平坦化層からの溶出物に触れるのを阻止し
て前記溶出物により該カラーフィルタ層が劣化するのを
防ぐようにしていることを特徴とする請求項６記載の液
晶装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8002674A JPH09189903A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 液晶装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8002674A JPH09189903A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 液晶装置及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09189903A true JPH09189903A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11535865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8002674A Pending JPH09189903A (ja) | 1996-01-10 | 1996-01-10 | 液晶装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09189903A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476919B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2005-03-17 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판, 컬러 필터 기판의 제조 방법, 액정 표시장치, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및전자 기기 |
| JP2008026812A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JP2013071390A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-22 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | バリアーフィルム及びバリアーフィルムの製造方法 |
-
1996
- 1996-01-10 JP JP8002674A patent/JPH09189903A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100476919B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2005-03-17 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 컬러 필터 기판, 컬러 필터 기판의 제조 방법, 액정 표시장치, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및전자 기기 |
| JP2008026812A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JP2013071390A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-22 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | バリアーフィルム及びバリアーフィルムの製造方法 |
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