JPH09190647A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH09190647A JPH09190647A JP8000699A JP69996A JPH09190647A JP H09190647 A JPH09190647 A JP H09190647A JP 8000699 A JP8000699 A JP 8000699A JP 69996 A JP69996 A JP 69996A JP H09190647 A JPH09190647 A JP H09190647A
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- JP
- Japan
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- layer
- film
- recording medium
- optical recording
- substrate
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光記録媒体の湿度変化による反りの低減。
【解決手段】 プラスチック基板上の有機保護層より外
側にプラスチックフィルムでその片側に吸湿膨張しない
材料の層をもつものをその層が有機保護層の側になるよ
うに貼着して単板タイプの光記録媒体とする。
側にプラスチックフィルムでその片側に吸湿膨張しない
材料の層をもつものをその層が有機保護層の側になるよ
うに貼着して単板タイプの光記録媒体とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、単板構成の光ディ
スク、光磁気ディスク等の光記録媒体に関するものであ
る。
スク、光磁気ディスク等の光記録媒体に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、書き換え可能、高密度、大容量の
記憶容量、記録再生ヘッドと非接触等という特徴を有す
る記録媒体として、半導体レーザー光等の熱エネルギー
を用いて磁性膜の磁化反転を利用して情報を記録し磁気
光学効果を利用して読み出す光磁気ディスクや結晶から
アモルファスへの相変化を利用した相変化ディスクが開
発され、実用化に至っている。
記憶容量、記録再生ヘッドと非接触等という特徴を有す
る記録媒体として、半導体レーザー光等の熱エネルギー
を用いて磁性膜の磁化反転を利用して情報を記録し磁気
光学効果を利用して読み出す光磁気ディスクや結晶から
アモルファスへの相変化を利用した相変化ディスクが開
発され、実用化に至っている。
【０００３】上記光記録媒体ではレーザー光を基板上に
設けられたグループに沿って追随（トラッキング）させ
るとともに記録膜に焦点を合わせる（フォーカシング）
ことによって、記録、消去、再生を行う。媒体によって
は重ね書き可能な光磁気記録媒体や相変化ディスクがあ
る。
設けられたグループに沿って追随（トラッキング）させ
るとともに記録膜に焦点を合わせる（フォーカシング）
ことによって、記録、消去、再生を行う。媒体によって
は重ね書き可能な光磁気記録媒体や相変化ディスクがあ
る。
【０００４】そのため、媒体には正確な寸法形状、いわ
ゆる機械特性が要求される。この機械特性の中で特に反
りはトラッキング、フォーカシングに大きな影響を与え
るため、媒体の反りは無いことがまたは可能な限り小さ
いことが望ましい。とりわけ、３．５インチの単板状態
で用いられる光磁気記録媒体では低いエラーレートが要
求されるため重要な問題である。
ゆる機械特性が要求される。この機械特性の中で特に反
りはトラッキング、フォーカシングに大きな影響を与え
るため、媒体の反りは無いことがまたは可能な限り小さ
いことが望ましい。とりわけ、３．５インチの単板状態
で用いられる光磁気記録媒体では低いエラーレートが要
求されるため重要な問題である。
【０００５】また、今後さらなる容量増大のためにレー
ザー光の短波長化や記録マークの微小化、狭トラック化
が検討されている。この場合、隣接トラックからのクロ
ストークが問題となってくる。このクロストークは前記
反りの影響を受けるので一層媒体の反りが小さいことが
要求される。
ザー光の短波長化や記録マークの微小化、狭トラック化
が検討されている。この場合、隣接トラックからのクロ
ストークが問題となってくる。このクロストークは前記
反りの影響を受けるので一層媒体の反りが小さいことが
要求される。
【０００６】ところで単板の光記録媒体は、一般にプラ
スチック基板上に記録膜、誘電体膜、金属反射膜、有機
保護膜等を設けることにより作成される。ところがこの
ような構成の光記録媒体はレーザー光入射面側すなわち
基板側と膜面側で透湿率に差があり、プラスチック基板
の吸湿または乾燥に伴い基板内の吸水量が厚さ方向で一
定の平衡に達するまでの間基板内に吸湿膨潤のアンバラ
ンスが生じ、基板が反って信号再生時にエラーが生じて
いた。
スチック基板上に記録膜、誘電体膜、金属反射膜、有機
保護膜等を設けることにより作成される。ところがこの
ような構成の光記録媒体はレーザー光入射面側すなわち
基板側と膜面側で透湿率に差があり、プラスチック基板
の吸湿または乾燥に伴い基板内の吸水量が厚さ方向で一
定の平衡に達するまでの間基板内に吸湿膨潤のアンバラ
ンスが生じ、基板が反って信号再生時にエラーが生じて
いた。
【０００７】そこで、この問題を解決する方法として特
開昭５９−７９４４５に記録膜面と反対側の基板表面に
基板の吸湿、乾燥防止のための透明誘電体膜を設けるこ
とが開示されている。しかし、この方法は効果はあるも
のの記録膜形成面と反対側の基板表面に透明誘電体膜を
形成するという余分な成膜工程が必要なためコストが高
くなるという欠点があった。
開昭５９−７９４４５に記録膜面と反対側の基板表面に
基板の吸湿、乾燥防止のための透明誘電体膜を設けるこ
とが開示されている。しかし、この方法は効果はあるも
のの記録膜形成面と反対側の基板表面に透明誘電体膜を
形成するという余分な成膜工程が必要なためコストが高
くなるという欠点があった。
【０００８】又、有機保護膜の上に基板の反りと逆方向
の反りを生じる０．１〜０．２ｍｍの厚さのプラスチッ
クフィルムを貼着し、基板の反りをキャンセルする記録
媒体も提案されている（特開平３−１６０６３７）。
の反りを生じる０．１〜０．２ｍｍの厚さのプラスチッ
クフィルムを貼着し、基板の反りをキャンセルする記録
媒体も提案されている（特開平３−１６０６３７）。
【０００９】しかしながら、このような対策を施した光
記録媒体を作成して検討してもレーザー光が６８０ｎｍ
と従来の７８０ｎｍより短波長で、トラックが１．６μ
ｍから１．１μｍと狭小化された光磁気記録媒体では、
プラスチック基板の吸湿膨張により反りが発生した場
合、チルトのクロストークに対する影響が大きくなり再
生エラーが発生するという問題があった。
記録媒体を作成して検討してもレーザー光が６８０ｎｍ
と従来の７８０ｎｍより短波長で、トラックが１．６μ
ｍから１．１μｍと狭小化された光磁気記録媒体では、
プラスチック基板の吸湿膨張により反りが発生した場
合、チルトのクロストークに対する影響が大きくなり再
生エラーが発生するという問題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る問題を解決しプラスチック基板が吸湿するような環境
でも反りの発生が改善された安価な単板構成の光記録媒
体を提供することである。
る問題を解決しプラスチック基板が吸湿するような環境
でも反りの発生が改善された安価な単板構成の光記録媒
体を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によれば、プラスチック基板上に少なくとも
記録層及び有機保護層を設けてなる光記録媒体におい
て、前記有機保護層より外側に、プラスチックフィルム
であってその片側に吸湿膨張しない層を形成したプラス
チックフィルムをその吸湿膨張しない材料の層が前記有
機保護層側になるように貼着することで単板タイプの光
記録媒体を得て達成される。
に、本発明によれば、プラスチック基板上に少なくとも
記録層及び有機保護層を設けてなる光記録媒体におい
て、前記有機保護層より外側に、プラスチックフィルム
であってその片側に吸湿膨張しない層を形成したプラス
チックフィルムをその吸湿膨張しない材料の層が前記有
機保護層側になるように貼着することで単板タイプの光
記録媒体を得て達成される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体においては、
有機保護層あるいは接着層を中心として、その層の両側
で実質的に構造上の対称性がとれているため、プラスチ
ック基板の反りはキャンセルされることとなる。具体的
には、プラスチック基板がプラスチックフィルムに、そ
して、第１、第２無機誘電体層、記録層、反射層等の無
機材料よりなる層が吸湿膨張しない層に対応する。
有機保護層あるいは接着層を中心として、その層の両側
で実質的に構造上の対称性がとれているため、プラスチ
ック基板の反りはキャンセルされることとなる。具体的
には、プラスチック基板がプラスチックフィルムに、そ
して、第１、第２無機誘電体層、記録層、反射層等の無
機材料よりなる層が吸湿膨張しない層に対応する。
【００１３】以下、図を用いて本発明を詳細に説明す
る。
る。
【００１４】図１は、本発明の光記録媒体の構成の一例
を示す模式図である。図中、１はプラスチックからなる
光学的透明基板を示す。この基板１上には干渉効果と腐
食防止効果を得るための、ＳｉＮX 等の無機誘電体から
なる第１無機誘電体層２が設けられている。さらに、そ
の上に記録層３であるアモルファス磁性層が形成され
る。さらに、磁性層の腐食を防止するためと干渉効果を
生みだすためにＳｉＮX等の無機誘電体層である第２無
機誘電体層４と金属の反射層５が設けられている。これ
らの膜は、真空を破らずに連続に成膜される。その後、
紫外線硬化樹脂等の有機保護層６が形成される。一方貼
着されるプラスチックフィルムは予め片側にそれ自体吸
湿膨張しない層８が形成される。この吸湿膨張しない層
８は金属膜あるいは無機誘電体膜からなる。これは本発
明の実施に便利である。この吸湿膨張しない層８が形成
されたプラスチックフィルム９をホットメルト接着剤等
の接着層７を介して層８の面が記録層３側になるように
前記有機保護層６の上に貼着する。
を示す模式図である。図中、１はプラスチックからなる
光学的透明基板を示す。この基板１上には干渉効果と腐
食防止効果を得るための、ＳｉＮX 等の無機誘電体から
なる第１無機誘電体層２が設けられている。さらに、そ
の上に記録層３であるアモルファス磁性層が形成され
る。さらに、磁性層の腐食を防止するためと干渉効果を
生みだすためにＳｉＮX等の無機誘電体層である第２無
機誘電体層４と金属の反射層５が設けられている。これ
らの膜は、真空を破らずに連続に成膜される。その後、
紫外線硬化樹脂等の有機保護層６が形成される。一方貼
着されるプラスチックフィルムは予め片側にそれ自体吸
湿膨張しない層８が形成される。この吸湿膨張しない層
８は金属膜あるいは無機誘電体膜からなる。これは本発
明の実施に便利である。この吸湿膨張しない層８が形成
されたプラスチックフィルム９をホットメルト接着剤等
の接着層７を介して層８の面が記録層３側になるように
前記有機保護層６の上に貼着する。
【００１５】プラスチック基板１の材料としては、この
分野で公知のポリカーボネート、ＰＭＭＡ等が使用可能
である。基板の厚さは、普及しているＣＤ−ＲＯＭとの
互換性を満たすこと、普及し始めている３．５インチ光
磁気ディスクとの互換性を考慮して１．２ｍｍ前後が望
ましい。基板厚さが薄くなるとクロストークに対するチ
ルトの影響が少なくなるが、成形が難しくなったり面振
れ等の機械特性が悪化しトラッキング等のサーボへの影
響が懸念されるのであまり薄くはできない。使用条件に
よって最適な基板厚さを選択すればよい。
分野で公知のポリカーボネート、ＰＭＭＡ等が使用可能
である。基板の厚さは、普及しているＣＤ−ＲＯＭとの
互換性を満たすこと、普及し始めている３．５インチ光
磁気ディスクとの互換性を考慮して１．２ｍｍ前後が望
ましい。基板厚さが薄くなるとクロストークに対するチ
ルトの影響が少なくなるが、成形が難しくなったり面振
れ等の機械特性が悪化しトラッキング等のサーボへの影
響が懸念されるのであまり薄くはできない。使用条件に
よって最適な基板厚さを選択すればよい。
【００１６】第１及び第２の無機誘電体層は、耐食性の
向上や多重反射による光学特性の向上を目的として設け
られるものである。材料としては、ＳｉＮ，ＳｉＯ，Ｓ
ｉＣ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳ・ＳｉＯ2 等が用いられ
る。
向上や多重反射による光学特性の向上を目的として設け
られるものである。材料としては、ＳｉＮ，ＳｉＯ，Ｓ
ｉＣ，ＳｉＡｌＯＮ，ＺｎＳ・ＳｉＯ2 等が用いられ
る。
【００１７】記録層３としては、希土類−遷移金属のア
モルファス磁性層やカルコゲン化合物に代表される相変
化材料が用いられる。希土類−遷移金属のアモルファス
磁性層の磁性材料としては、Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｎｄ等
の希土類元素とＦｅ，Ｃｏ等の鉄族遷移金属の合金が用
いられる。例えば、Ｔｂ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｄ
ｙＦｅＣｏ，ＴｂＤｙＦｅＣｏである。あるいはこれら
の材料の積層膜であってもよい。それらの磁性層は互い
に交換結合してもいなくても本発明が実施できる。ま
た、耐食性を向上させるためにＣｒ，Ｔｉ，Ｔａ等の元
素が添加されていてもよい。カルコゲン化合物の材料と
してはＴｅ，Ｓｅ，Ｇｅ，Ｓｂ等の合金からなるカルコ
ゲナイド化合物が用いられる。例えば、ＳｂＴｅ，Ｇｅ
ＳｂＴｅ，ＳｂＳｅである。多数回の繰り返し書き換え
可能なようにＰｄ，Ｎｂ，Ｐｔが添加されていてもよ
い。
モルファス磁性層やカルコゲン化合物に代表される相変
化材料が用いられる。希土類−遷移金属のアモルファス
磁性層の磁性材料としては、Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｎｄ等
の希土類元素とＦｅ，Ｃｏ等の鉄族遷移金属の合金が用
いられる。例えば、Ｔｂ−Ｆｅ，Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ，Ｄ
ｙＦｅＣｏ，ＴｂＤｙＦｅＣｏである。あるいはこれら
の材料の積層膜であってもよい。それらの磁性層は互い
に交換結合してもいなくても本発明が実施できる。ま
た、耐食性を向上させるためにＣｒ，Ｔｉ，Ｔａ等の元
素が添加されていてもよい。カルコゲン化合物の材料と
してはＴｅ，Ｓｅ，Ｇｅ，Ｓｂ等の合金からなるカルコ
ゲナイド化合物が用いられる。例えば、ＳｂＴｅ，Ｇｅ
ＳｂＴｅ，ＳｂＳｅである。多数回の繰り返し書き換え
可能なようにＰｄ，Ｎｂ，Ｐｔが添加されていてもよ
い。
【００１８】さらに、反射層５は上記記録層及び各誘電
体層を透過したレーザー光をも反射させることによりカ
ー効果増大や位相差、光吸収率差等を調整するために設
けられているもので、通常Ａｌ，Ｃｕ，Ａｇ等の金属及
び添加元素を添加した合金等が用いられている。
体層を透過したレーザー光をも反射させることによりカ
ー効果増大や位相差、光吸収率差等を調整するために設
けられているもので、通常Ａｌ，Ｃｕ，Ａｇ等の金属及
び添加元素を添加した合金等が用いられている。
【００１９】吸湿膨張しない層８の材料としては、金属
膜あるいは無機誘電体膜が本発明では特に好ましく用い
られる。特に金属膜は吸湿しないため膨張もせず好まし
い。金属膜に用いられる材料としてはＡｌ，Ｃｒ，Ｔ
ｉ，Ｎｉ，Ｔａ等の耐食性のある金属が好ましい。これ
らには合金として他の元素を添加してもよい。形成方法
は、スパッタ、蒸着等の手段が用いられる。形成する膜
厚は、第１、第２無機誘電体層、記録層及び反射層の合
計の膜厚に実質的に等しい膜厚が好ましいが、実質的に
はプラスチック基板１によって生じる反りの量をどの程
度キャンセルするかによって適宜決めることができる。
又、ここで用いる無機誘電体膜の材料としては、Ｓｉ
Ｎ，ＳｉＯ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 等の水分に対して安
定な材料が用いられる。形成方法は、スパッタ、蒸着に
より行われる。膜厚はすでに金属膜のところで述べてい
る。吸湿膨張しない層は無機誘電体膜、金属膜の単層膜
に限らず、これらの積層膜であってもよい。
膜あるいは無機誘電体膜が本発明では特に好ましく用い
られる。特に金属膜は吸湿しないため膨張もせず好まし
い。金属膜に用いられる材料としてはＡｌ，Ｃｒ，Ｔ
ｉ，Ｎｉ，Ｔａ等の耐食性のある金属が好ましい。これ
らには合金として他の元素を添加してもよい。形成方法
は、スパッタ、蒸着等の手段が用いられる。形成する膜
厚は、第１、第２無機誘電体層、記録層及び反射層の合
計の膜厚に実質的に等しい膜厚が好ましいが、実質的に
はプラスチック基板１によって生じる反りの量をどの程
度キャンセルするかによって適宜決めることができる。
又、ここで用いる無機誘電体膜の材料としては、Ｓｉ
Ｎ，ＳｉＯ，ＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 等の水分に対して安
定な材料が用いられる。形成方法は、スパッタ、蒸着に
より行われる。膜厚はすでに金属膜のところで述べてい
る。吸湿膨張しない層は無機誘電体膜、金属膜の単層膜
に限らず、これらの積層膜であってもよい。
【００２０】プラスチックフィルムの材料としては、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ
樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレン等が
用いられる。透湿性の小さい材料が好ましい。
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート、エポキシ
樹脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエチレン等が
用いられる。透湿性の小さい材料が好ましい。
【００２１】接着層７の材料としては、種々の接着剤が
使用可能であるがホットメルト型接着剤が好ましく使用
される。
使用可能であるがホットメルト型接着剤が好ましく使用
される。
【００２２】以下に実施例を用いて詳細に示す。
【００２３】
実施例１ 厚さ１．２ｍｍのφ８６ｍｍのプリグループのついてい
るポリカーボネート基板上に、マグネトロンスパッタ装
置を用いて、酸化防止と干渉効果を得るために、第１無
機誘電体層としてＳｉＮを１００ｎｍ、記録層としてＴ
ｂＦｅＣｏからなるアモルファス磁性層を２８ｎｍ、そ
の後酸化防止と干渉効果を高めるために第２無機誘電体
層としてＳｉＮを３０ｎｍ、反射層としてＡｌＣｒ膜を
５０ｎｍ順次真空を破ることなく連続して成膜し、その
後膜表面に有機保護層６として紫外線硬化樹脂を１０μ
ｍコートした。そして片側に吸湿膨張しない層８として
ＡｌＣｒ膜を２００ｎｍ形成した厚さ０．２ｍｍのポリ
カーボネートフィルムをホットメルト型接着剤によりＡ
ｌＣｒ膜側を接着面にして前記光磁気ディスクと貼り合
わせることにより本発明の光記録媒体を得た。
るポリカーボネート基板上に、マグネトロンスパッタ装
置を用いて、酸化防止と干渉効果を得るために、第１無
機誘電体層としてＳｉＮを１００ｎｍ、記録層としてＴ
ｂＦｅＣｏからなるアモルファス磁性層を２８ｎｍ、そ
の後酸化防止と干渉効果を高めるために第２無機誘電体
層としてＳｉＮを３０ｎｍ、反射層としてＡｌＣｒ膜を
５０ｎｍ順次真空を破ることなく連続して成膜し、その
後膜表面に有機保護層６として紫外線硬化樹脂を１０μ
ｍコートした。そして片側に吸湿膨張しない層８として
ＡｌＣｒ膜を２００ｎｍ形成した厚さ０．２ｍｍのポリ
カーボネートフィルムをホットメルト型接着剤によりＡ
ｌＣｒ膜側を接着面にして前記光磁気ディスクと貼り合
わせることにより本発明の光記録媒体を得た。
【００２４】このようにして得た光磁気ディスクを常温
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．５ｍｒａｄであった。
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．５ｍｒａｄであった。
【００２５】比較例１ 図２に示すようにプラスチックフィルムに吸湿膨張しな
い層を設けない以外は実施例１と同様な光磁気ディスク
を作成した。この記録媒体を実施例１と同様の環境下に
投入した。このときの反り量の最大値は２．５ｍｒａｄ
であった。
い層を設けない以外は実施例１と同様な光磁気ディスク
を作成した。この記録媒体を実施例１と同様の環境下に
投入した。このときの反り量の最大値は２．５ｍｒａｄ
であった。
【００２６】比較例２ 図３に示すようにプラスチックフィルムを貼着しない以
外は実施例１と同様な光磁気ディスクを作成した。この
記録媒体を実施例１と同様の環境下に投入した。このと
きの反り量の最大値は４ｍｒａｄであった。
外は実施例１と同様な光磁気ディスクを作成した。この
記録媒体を実施例１と同様の環境下に投入した。このと
きの反り量の最大値は４ｍｒａｄであった。
【００２７】実施例２ 実施例１のプラスチックフィルムの吸湿膨張しない層と
したＡｌＣｒ層に代えてＣｒ層を１００ｎｍ形成した以
外は実施例１と同様な光磁気ディスクを作成した。
したＡｌＣｒ層に代えてＣｒ層を１００ｎｍ形成した以
外は実施例１と同様な光磁気ディスクを作成した。
【００２８】このようにして得た光磁気ディスクを常温
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．７ｍｒａｄであった。
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．７ｍｒａｄであった。
【００２９】実施例３ プラスチックフィルムの吸湿膨張しない層としてＳｉＯ
層を実施例１と同様に１００ｎｍ形成した以外は実施例
１と同様な光磁気ディスクを作成した。
層を実施例１と同様に１００ｎｍ形成した以外は実施例
１と同様な光磁気ディスクを作成した。
【００３０】このようにして得た光磁気ディスクを常温
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．８ｍｒａｄであった。
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．８ｍｒａｄであった。
【００３１】実施例４ 厚さ１．２ｍｍのφ８６ｍｍのプリグループのついてい
るポリカーボネート基板上に、ＲＦマグネトロンスパッ
タ装置を用いて、酸化防止と干渉効果を得るために、第
１無機誘電体層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ2 を１７０ｎ
ｍ、記録層３としてＰｄＧｅＳｂＴｅからなるカルコゲ
ン記録層を２５ｎｍ、その後酸化防止と干渉効果を高め
るために第２無機誘電体層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ2 を
２５ｎｍ、反射層５としてＡｌＣｒ膜５を１３０ｎｍ順
次真空を破ることなく連続して成膜し、その後膜表面に
有機保護層６として紫外線硬化樹脂を１０μｍコートし
た。そして片側に吸湿膨張しない層８としてＡｌＣｒ膜
を２００ｎｍ形成した厚さ０．２ｍｍのポリカーボネー
トフィルムをホットメルト型接着剤によりＡｌＣｒ膜側
を接着面にして前記光磁気ディスクと貼り合わせること
により本発明の光記録媒体を得た。
るポリカーボネート基板上に、ＲＦマグネトロンスパッ
タ装置を用いて、酸化防止と干渉効果を得るために、第
１無機誘電体層２としてＺｎＳ・ＳｉＯ2 を１７０ｎ
ｍ、記録層３としてＰｄＧｅＳｂＴｅからなるカルコゲ
ン記録層を２５ｎｍ、その後酸化防止と干渉効果を高め
るために第２無機誘電体層４としてＺｎＳ・ＳｉＯ2 を
２５ｎｍ、反射層５としてＡｌＣｒ膜５を１３０ｎｍ順
次真空を破ることなく連続して成膜し、その後膜表面に
有機保護層６として紫外線硬化樹脂を１０μｍコートし
た。そして片側に吸湿膨張しない層８としてＡｌＣｒ膜
を２００ｎｍ形成した厚さ０．２ｍｍのポリカーボネー
トフィルムをホットメルト型接着剤によりＡｌＣｒ膜側
を接着面にして前記光磁気ディスクと貼り合わせること
により本発明の光記録媒体を得た。
【００３２】このようにして得た光磁気ディスクを常温
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．５ｍｒａｄであった。
常湿から３０℃、９０％ＲＨの環境下に投入したときの
反り量の最大値は１．５ｍｒａｄであった。
【００３３】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば例えばプラスチックフィルムの片側に吸湿膨張しな
い層を設けこの面を接着面にして光記録媒体の記録面側
と貼着することによりプラスチック基板の温湿度環境変
化に伴う反りの発生を低減できた。
れば例えばプラスチックフィルムの片側に吸湿膨張しな
い層を設けこの面を接着面にして光記録媒体の記録面側
と貼着することによりプラスチック基板の温湿度環境変
化に伴う反りの発生を低減できた。
【図１】本発明の光記録媒体の１例を表す模式図
【図２】従来の光記録媒体の１例を表す模式図
【図３】従来の他の光記録媒体の１例を表す模式図
１ プラスチック基板 ２ 第１無機誘電体層 ３ 記録層 ４ 第２無機誘電体層 ５ 反射層 ６ 有機保護層 ７ 接着層 ８ 吸湿膨張しない層 ９ プラスチックフィルム
Claims (3)
- 【請求項１】 プラスチック基板上に少なくとも記録層
及び有機保護層を設けてなる光記録媒体において、前記
有機保護層より外側に、プラスチックフィルムであって
その片側に吸湿膨張しない材料よりなる層を形成したプ
ラスチックフィルムを、その吸湿膨張しない材料の層が
前記有機保護層側になるように貼着したことを特徴とす
る単板タイプの光記録媒体。 - 【請求項２】 吸湿膨張しない材料よりなる層が金属膜
あるいは無機誘電体膜であることを特徴とする請求項１
に記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 プラスチックフィルムがポリカーボネー
トよりなり、吸湿膨張しない材料よりなる層がＡｌＣ
ｒ，ＣｒまたはＳｉＯのいずれかよりなることを特徴と
する請求項１に記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8000699A JPH09190647A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8000699A JPH09190647A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09190647A true JPH09190647A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11481021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8000699A Pending JPH09190647A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09190647A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100444711B1 (ko) * | 2000-11-15 | 2004-08-16 | 샤프 가부시키가이샤 | 광정보 기록 매체 |
-
1996
- 1996-01-08 JP JP8000699A patent/JPH09190647A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100444711B1 (ko) * | 2000-11-15 | 2004-08-16 | 샤프 가부시키가이샤 | 광정보 기록 매체 |
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