JPH09190969A - 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法Info
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- JPH09190969A JPH09190969A JP8019384A JP1938496A JPH09190969A JP H09190969 A JPH09190969 A JP H09190969A JP 8019384 A JP8019384 A JP 8019384A JP 1938496 A JP1938496 A JP 1938496A JP H09190969 A JPH09190969 A JP H09190969A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オプティカルインテグレータを用いた変形照
明系を利用し、被照射面を均一に照明し高集積度の半導
体デバイスの製造を容易にした投影露光装置及びそれを
用いたデバイスの製造方法を得ること。 【解決手段】 光入出射面を有し該光入射面で光源から
の光を受け、該光出射面側に２次光源を形成する２次光
源形成手段と、該２次光源からの光を物平面に照射する
光照射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像
平面上に投影する投影手段とを有し、該２次光源の近傍
に入射角度により透過率が異なるコーティングを施した
光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設
け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調
整していること。
明系を利用し、被照射面を均一に照明し高集積度の半導
体デバイスの製造を容易にした投影露光装置及びそれを
用いたデバイスの製造方法を得ること。 【解決手段】 光入出射面を有し該光入射面で光源から
の光を受け、該光出射面側に２次光源を形成する２次光
源形成手段と、該２次光源からの光を物平面に照射する
光照射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像
平面上に投影する投影手段とを有し、該２次光源の近傍
に入射角度により透過率が異なるコーティングを施した
光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設
け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調
整していること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は投影露光装置及びそ
れを用いたデバイスの製造方法に関し、具体的にはＩ
Ｃ、ＬＳＩ、磁気ヘッド、液晶パネル等の半導体デバイ
スの製造装置である所謂ステッパーにおいて、被照射面
であるレチクル面上のパターンを適切なる照度分布の光
束で照明し高い解像力が容易に得られるようにしたもの
である。
れを用いたデバイスの製造方法に関し、具体的にはＩ
Ｃ、ＬＳＩ、磁気ヘッド、液晶パネル等の半導体デバイ
スの製造装置である所謂ステッパーにおいて、被照射面
であるレチクル面上のパターンを適切なる照度分布の光
束で照明し高い解像力が容易に得られるようにしたもの
である。
【０００２】
【従来の技術】最近の半導体デバイスの製造技術は、電
子回路の高集積化に伴い解像パターン線幅も例えば１μ
ｍ以下となり、光学的な投影露光装置においても従来に
比べてより解像力化されたものが要望されている。解像
力を向上させる手段としては、露光波長を固定して光学
系のＮＡ（開口数）を大きくしていく方法や、露光波長
としてより短い波長の光を用いる方法等がある。この
他、レチクル面上への照明方法を変えることにより、即
ち投影光学系の瞳面上に形成される０次光の光強度分布
（有効光源分布）を変える、所謂、変形照明方法を用い
て解像力を高める方法がある。
子回路の高集積化に伴い解像パターン線幅も例えば１μ
ｍ以下となり、光学的な投影露光装置においても従来に
比べてより解像力化されたものが要望されている。解像
力を向上させる手段としては、露光波長を固定して光学
系のＮＡ（開口数）を大きくしていく方法や、露光波長
としてより短い波長の光を用いる方法等がある。この
他、レチクル面上への照明方法を変えることにより、即
ち投影光学系の瞳面上に形成される０次光の光強度分布
（有効光源分布）を変える、所謂、変形照明方法を用い
て解像力を高める方法がある。
【０００３】本出願人はこの変形照明方法を用いて、解
像力を高めた露光方法及びそれを用いた投影露光装置
を、特開平４−２６７５１５号公報で提案している。
像力を高めた露光方法及びそれを用いた投影露光装置
を、特開平４−２６７５１５号公報で提案している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般に投影光学系の瞳
面上の有効光源分布（光強度分布）は投影するパターン
像の解像力に大きく影響してくる。この為、現在の半導
体チップ製造用の投影露光装置では各工程毎に最適な方
法でレチクルを照明できる複数の照明モードをもって変
形照明することが提案されている。又、多くの投影露光
装置では、複数の照明モードのうち、ある照明モードＡ
で照度むらが最小になるように照明系の各要素の位置を
調整している。しかしながら、変形照明方法を用いて照
明モードを照明モードＡと異なる照明モードＢに変えた
ときは、照明系の各要素が照明モードＡと同じでは必ず
しも照度むらが最小とはならなかった。
面上の有効光源分布（光強度分布）は投影するパターン
像の解像力に大きく影響してくる。この為、現在の半導
体チップ製造用の投影露光装置では各工程毎に最適な方
法でレチクルを照明できる複数の照明モードをもって変
形照明することが提案されている。又、多くの投影露光
装置では、複数の照明モードのうち、ある照明モードＡ
で照度むらが最小になるように照明系の各要素の位置を
調整している。しかしながら、変形照明方法を用いて照
明モードを照明モードＡと異なる照明モードＢに変えた
ときは、照明系の各要素が照明モードＡと同じでは必ず
しも照度むらが最小とはならなかった。
【０００５】この為、照明系の各要素を調整した照明モ
ードＡでは照度むらが少なく露光装置の実力が発揮でき
るが、照明モードＢでは照度むらが発生して露光装置の
実力を十分発揮することができないという問題点があっ
た。
ードＡでは照度むらが少なく露光装置の実力が発揮でき
るが、照明モードＢでは照度むらが発生して露光装置の
実力を十分発揮することができないという問題点があっ
た。
【０００６】本発明は、照明モードを種々と切り替えて
も照度むらが最小となり、レチクル面上の各種のパター
ンをウエハ面上に高い解像力で投影できる投影露光装置
及びそれを用いたデバイスの製造方法の提供を目的とす
る。
も照度むらが最小となり、レチクル面上の各種のパター
ンをウエハ面上に高い解像力で投影できる投影露光装置
及びそれを用いたデバイスの製造方法の提供を目的とす
る。
【０００７】特に、本発明は２次光源形成手段としての
オプティカルインテグレータを含む照明系を用いて被照
射面を照明する際、入射角度によって分光特性を異なる
光学素子を用いることにより、変形照明や通常照明等の
種々な照明モードにおいて、適切なる照度分布で被照射
面を照明することができ、レチクル面上のパターンをウ
エハ面上に高い解像力で容易に露光転写することができ
る投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法の
提供を目的とする。
オプティカルインテグレータを含む照明系を用いて被照
射面を照明する際、入射角度によって分光特性を異なる
光学素子を用いることにより、変形照明や通常照明等の
種々な照明モードにおいて、適切なる照度分布で被照射
面を照明することができ、レチクル面上のパターンをウ
エハ面上に高い解像力で容易に露光転写することができ
る投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法の
提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の投影露光装置
は、 （１−１）光入出射面を有し該光入射面で光源からの光
を受け、該光出射面側に２次光源を形成する２次光源形
成手段と、該２次光源からの光を物平面に照射する光照
射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像平面
上に投影する投影手段とを有し、該２次光源の近傍に入
射角度により透過率が異なるコーティングを施した光軸
に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設け、
該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調整し
ていることを特徴としている。
は、 （１−１）光入出射面を有し該光入射面で光源からの光
を受け、該光出射面側に２次光源を形成する２次光源形
成手段と、該２次光源からの光を物平面に照射する光照
射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像平面
上に投影する投影手段とを有し、該２次光源の近傍に入
射角度により透過率が異なるコーティングを施した光軸
に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設け、
該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調整し
ていることを特徴としている。
【０００９】特に、（１−１−１）前記光学素子に所定
の開口形状の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複
数個有し、該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開
口形状は互いに異なっており、このうちの１つの絞り一
体型光学素子を選択して光路中に挿脱可能に装着してい
ること、（１−１−２）前記光学素子は前記開口絞りに
対して回動可能となるように構成していること、（１−
１−３）前記光学素子は平行平面板又は光学楔より構成
されていることを特徴としている。
の開口形状の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複
数個有し、該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開
口形状は互いに異なっており、このうちの１つの絞り一
体型光学素子を選択して光路中に挿脱可能に装着してい
ること、（１−１−２）前記光学素子は前記開口絞りに
対して回動可能となるように構成していること、（１−
１−３）前記光学素子は平行平面板又は光学楔より構成
されていることを特徴としている。
【００１０】（１−２）光源からの光束を複数の微小レ
ンズを２次元的に配列したオプティカルインテグレータ
に導光し、該オプティカルインテグレータの光出射面か
らの光束を光照射手段により集光して、物平面上のパタ
ーンを照明し、該物平面上のパターンを投影光学系によ
り像平面上に投影する際、該オプティカルインテグレー
タの光出射面の近傍に入射角度により透過率が異なるコ
ーティングを施した光軸に対してなす角が変化する回動
可能な光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平
面上の照度分布を調整していることを特徴としている。
ンズを２次元的に配列したオプティカルインテグレータ
に導光し、該オプティカルインテグレータの光出射面か
らの光束を光照射手段により集光して、物平面上のパタ
ーンを照明し、該物平面上のパターンを投影光学系によ
り像平面上に投影する際、該オプティカルインテグレー
タの光出射面の近傍に入射角度により透過率が異なるコ
ーティングを施した光軸に対してなす角が変化する回動
可能な光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平
面上の照度分布を調整していることを特徴としている。
【００１１】特に、（１−２−１）前記光学素子に所定
の開口形状の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複
数個有し、該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開
口形状は互いに異なっており、このうちの１つの絞り一
体型光学素子を選択して光路中に挿脱可能に装着してい
ること、（１−２−２）前記光学素子は前記開口絞りに
対して回動可能となるように構成しているこ、（１−２
−３）前記光学素子は平行平面板又は光学楔より構成さ
れていることを特徴としている。
の開口形状の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複
数個有し、該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開
口形状は互いに異なっており、このうちの１つの絞り一
体型光学素子を選択して光路中に挿脱可能に装着してい
ること、（１−２−２）前記光学素子は前記開口絞りに
対して回動可能となるように構成しているこ、（１−２
−３）前記光学素子は平行平面板又は光学楔より構成さ
れていることを特徴としている。
【００１２】本発明のデバイスの製造方法は、 （２−１）光源からの光束を２次光源を形成する複数の
微小レンズより成るオプティカルインテグレータに導光
し、該オプティカルインテグレータの光出射面からの光
束を光照射手段により集光してレチクル面上のパターン
を照明し、該パターンを投影光学系によりウエハ面上に
投影し露光した後に、該ウエハを現像処理してデバイス
を製造する際、該オプティカルインテグレータの光出射
面の近傍に入射角度により透過率が異なるコーティング
を施した光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学
素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度
分布を調整していることを特徴としている。
微小レンズより成るオプティカルインテグレータに導光
し、該オプティカルインテグレータの光出射面からの光
束を光照射手段により集光してレチクル面上のパターン
を照明し、該パターンを投影光学系によりウエハ面上に
投影し露光した後に、該ウエハを現像処理してデバイス
を製造する際、該オプティカルインテグレータの光出射
面の近傍に入射角度により透過率が異なるコーティング
を施した光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学
素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度
分布を調整していることを特徴としている。
【００１３】特に、（２−１−１）前記光学素子は前記
開口絞りに対して回動可能となるように構成しているこ
と、（２−１−２）前記光学素子は平行平面板又は光学
楔より構成されていることを特徴としている。
開口絞りに対して回動可能となるように構成しているこ
と、（２−１−２）前記光学素子は平行平面板又は光学
楔より構成されていることを特徴としている。
【００１４】（２−２）前記光学素子に所定の開口形状
の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複数個有し、
該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開口形状は互
いに異なっており、このうちの１つの絞り一体型光学素
子を選択して光路中に挿脱可能に装着していることを特
徴としている。
の開口絞りを設けた絞り一体型光学素子を複数個有し、
該複数の絞り一体型光学素子の開口絞りの開口形状は互
いに異なっており、このうちの１つの絞り一体型光学素
子を選択して光路中に挿脱可能に装着していることを特
徴としている。
【００１５】特に、（２−２−１）前記光学素子は前記
開口絞りに対して回動可能となるように構成しているこ
と、（２−２−２）前記光学素子は平行平面板又は光学
楔より構成されていることを特徴としている。
開口絞りに対して回動可能となるように構成しているこ
と、（２−２−２）前記光学素子は平行平面板又は光学
楔より構成されていることを特徴としている。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の要部
概略図である。図２は図１の一部分の拡大説明図であ
る。
概略図である。図２は図１の一部分の拡大説明図であ
る。
【００１７】図中、２は楕円鏡である。１は光源として
の発光管であり、紫外線及び遠紫外線等を放射する高輝
度の発光部１ａを有している。発光部１ａは楕円鏡２の
第１焦点２ａ近傍に配置している。３はコールドミラー
であり、多層膜を備え、発光部１ａからの光の内の大部
分の赤外光と可視光を透過させると共に大部分の紫外光
を反射する。楕円鏡２はコールドミラー３を介して第２
焦点４近傍に発光部１ａの像（光源像）１ｂを形成して
いる。
の発光管であり、紫外線及び遠紫外線等を放射する高輝
度の発光部１ａを有している。発光部１ａは楕円鏡２の
第１焦点２ａ近傍に配置している。３はコールドミラー
であり、多層膜を備え、発光部１ａからの光の内の大部
分の赤外光と可視光を透過させると共に大部分の紫外光
を反射する。楕円鏡２はコールドミラー３を介して第２
焦点４近傍に発光部１ａの像（光源像）１ｂを形成して
いる。
【００１８】５は光学系であり、コンデンサーレンズや
ズームレンズ（変倍光学系）等から成り、第２焦点４近
傍に形成した発光部像１ｂをオプティカルインテグレー
タ６の光入射面６ａに再結像させている。この時の結像
倍率は光学系５をズームレンズより構成し、それにより
変更可能としている。
ズームレンズ（変倍光学系）等から成り、第２焦点４近
傍に形成した発光部像１ｂをオプティカルインテグレー
タ６の光入射面６ａに再結像させている。この時の結像
倍率は光学系５をズームレンズより構成し、それにより
変更可能としている。
【００１９】尚、光学系５の光路中には必要に応じてプ
リズムを設けて、後述する変形照明に対応してオプティ
カルインテグレータ６の入射面６ａ上での照度分布を調
整するようにしている。
リズムを設けて、後述する変形照明に対応してオプティ
カルインテグレータ６の入射面６ａ上での照度分布を調
整するようにしている。
【００２０】オプティカルインテグレータ６は複数の微
小レンズ６−ｉ（ｉ＝１〜Ｎ）を光軸と直交する平面に
沿って２次元的に所定のピッチで配列してハエの眼レン
ズを構成しており、その光射出面６ｂ近傍に２次光源を
形成している。
小レンズ６−ｉ（ｉ＝１〜Ｎ）を光軸と直交する平面に
沿って２次元的に所定のピッチで配列してハエの眼レン
ズを構成しており、その光射出面６ｂ近傍に２次光源を
形成している。
【００２１】ここでオプティカルインテグレータ６は光
入射面６ａを有し、光入射面６ａで光源１からの光を受
け、光出射面６ｂに２次光源を形成する２次光源形成手
段の一要素を構成している。又、楕円鏡２、ミラー３、
そして光学系５は光源１の像を２次光源形成手段の光入
射面に投影する光源像投影手段の一要素を構成してい
る。
入射面６ａを有し、光入射面６ａで光源１からの光を受
け、光出射面６ｂに２次光源を形成する２次光源形成手
段の一要素を構成している。又、楕円鏡２、ミラー３、
そして光学系５は光源１の像を２次光源形成手段の光入
射面に投影する光源像投影手段の一要素を構成してい
る。
【００２２】７は可変開口絞りであり、通常の円形開口
の絞りを含む、図３（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）に
示すような投影レンズ１３の瞳面１４上の光強度分布を
変化させる各種の絞りから成っている。これにより、所
謂、変形照明を行っている。
の絞りを含む、図３（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）に
示すような投影レンズ１３の瞳面１４上の光強度分布を
変化させる各種の絞りから成っている。これにより、所
謂、変形照明を行っている。
【００２３】図３（Ａ）が示す絞りは通常用いられてい
る開口絞りであり、開口径はσ値（＝照明光学系のＮＡ
／投影光学系のＮＡ）が０．５〜０．７程度となる大き
さである。図３（Ｂ）が示す絞りはσ値が０．３〜０．
４程度となる開口径をもつ開口絞りであり、位相シフト
マスクを用いたとき等に用いられる。図３（Ｃ）が示す
絞りは輪帯照明用開口絞りであり、図３（Ｄ）が示す開
口絞りは４重極照明用開口絞りであり、解像力及び焦点
深度を向上させる変形照明を行なう絞りの一種である。
る開口絞りであり、開口径はσ値（＝照明光学系のＮＡ
／投影光学系のＮＡ）が０．５〜０．７程度となる大き
さである。図３（Ｂ）が示す絞りはσ値が０．３〜０．
４程度となる開口径をもつ開口絞りであり、位相シフト
マスクを用いたとき等に用いられる。図３（Ｃ）が示す
絞りは輪帯照明用開口絞りであり、図３（Ｄ）が示す開
口絞りは４重極照明用開口絞りであり、解像力及び焦点
深度を向上させる変形照明を行なう絞りの一種である。
【００２４】本実施形態では、可変開口絞り７として７
ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの何れかを選択することにより照
明モードを変えている。この為に、開口絞り７ａ〜７ｄ
を形成した円盤状ターレットを用いている。
ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄの何れかを選択することにより照
明モードを変えている。この為に、開口絞り７ａ〜７ｄ
を形成した円盤状ターレットを用いている。
【００２５】１７は照度むら補正板であり、透明基板上
に入射角度によって透過率又は分光透過率が変わるコー
ティング（多層膜）を施した光学素子より成っている。
照度むら補正板１７は光軸Ｌａに対して所定の角度傾け
られるホルダー１８によって保持している。又、ホルダ
ー１８は光軸Ｌａに対して回転可能となっている。これ
により照度むら補正板１７への光束の入射角を種々と変
えて、被照射面上における照度むらを調整している。
に入射角度によって透過率又は分光透過率が変わるコー
ティング（多層膜）を施した光学素子より成っている。
照度むら補正板１７は光軸Ｌａに対して所定の角度傾け
られるホルダー１８によって保持している。又、ホルダ
ー１８は光軸Ｌａに対して回転可能となっている。これ
により照度むら補正板１７への光束の入射角を種々と変
えて、被照射面上における照度むらを調整している。
【００２６】本実施形態では、図２に示すように、開口
絞り７、照度むら補正板１７、そしてホルダー１８は一
つのユニット１９として構成している。このユニット１
９は絞り付きフィルター交換機構１６に簡単に着脱可能
となっており、必要に応じて交換可能である。絞り付き
フィルター交換機構１６には複数のユニット１９が装着
でき、ユニット１９は照明モードに応じて絞り付きフィ
ルター交換機構１６の回転によって任意に選択してい
る。本実施形態において、開口絞り７や光学系５、そし
て照度むら補正板１７などは２次光源の光強度分布を変
える２次光源調整手段の一要素を構成している。
絞り７、照度むら補正板１７、そしてホルダー１８は一
つのユニット１９として構成している。このユニット１
９は絞り付きフィルター交換機構１６に簡単に着脱可能
となっており、必要に応じて交換可能である。絞り付き
フィルター交換機構１６には複数のユニット１９が装着
でき、ユニット１９は照明モードに応じて絞り付きフィ
ルター交換機構１６の回転によって任意に選択してい
る。本実施形態において、開口絞り７や光学系５、そし
て照度むら補正板１７などは２次光源の光強度分布を変
える２次光源調整手段の一要素を構成している。
【００２７】８は集光レンズとしてのコンデンサーレン
ズである。９はミラー、１０はマスキングブレードであ
る。オプティカルインテグレータ６の光射出面６ｂ近傍
の２次光源から射出した複数の光束は、照度むら補正板
１７を通過した後に、集光レンズ８で集光され、ミラー
９で反射し、マスキングブレード１０に入射し、該マス
キングブレード１０の開口面を均一に照明している。マ
スキングブレード１０は、複数の可動の遮光板より成
り、任意の開口形状が形成されるようにしている。
ズである。９はミラー、１０はマスキングブレードであ
る。オプティカルインテグレータ６の光射出面６ｂ近傍
の２次光源から射出した複数の光束は、照度むら補正板
１７を通過した後に、集光レンズ８で集光され、ミラー
９で反射し、マスキングブレード１０に入射し、該マス
キングブレード１０の開口面を均一に照明している。マ
スキングブレード１０は、複数の可動の遮光板より成
り、任意の開口形状が形成されるようにしている。
【００２８】１１は結像レンズであり、マスキングブレ
ード１０の開口を被照射面としてのレチクル（物平面）
１２面上に結像し且つ、レチクル１２面上の必要な領域
を均一に照明している。ここで集光レンズ８、ミラー
９、結像レンズ１１などは２次光源からの光を物平面に
照射する光照射手段の一要素を構成している。
ード１０の開口を被照射面としてのレチクル（物平面）
１２面上に結像し且つ、レチクル１２面上の必要な領域
を均一に照明している。ここで集光レンズ８、ミラー
９、結像レンズ１１などは２次光源からの光を物平面に
照射する光照射手段の一要素を構成している。
【００２９】１３はレンズ系より成る投影光学系（投影
手段）であり、レチクル１２面上の回路パターンをウエ
ハチャックに載置した像平面であるウエハ（基板）１５
面上に縮小投影している。投影光学系は屈折系の他に投
影ミラーなどの反射系を含む反射屈折光学系等により構
成しても良い。１４は投影光学系１３の瞳面（絞り）で
ある。
手段）であり、レチクル１２面上の回路パターンをウエ
ハチャックに載置した像平面であるウエハ（基板）１５
面上に縮小投影している。投影光学系は屈折系の他に投
影ミラーなどの反射系を含む反射屈折光学系等により構
成しても良い。１４は投影光学系１３の瞳面（絞り）で
ある。
【００３０】本実施形態における光学系では、発光部１
ａと第２焦点４とオプティカルインテグレータ６の入射
面６ａが略共役関係となっている。又、マスキングブレ
ード１０とレチクル１２とウエハ１５が共役関係となっ
ている。又、開口絞り７と投影光学系１３の瞳面１４と
が略共役関係となっている。
ａと第２焦点４とオプティカルインテグレータ６の入射
面６ａが略共役関係となっている。又、マスキングブレ
ード１０とレチクル１２とウエハ１５が共役関係となっ
ている。又、開口絞り７と投影光学系１３の瞳面１４と
が略共役関係となっている。
【００３１】本実施形態では以上のような構成により、
レチクル１２面上の回路パターンをウエハ１５面上に縮
小投影し、ウエハ１５を回路パターン像により露光して
いる。そして所定の現像処理過程を経て半導体素子を製
造している。
レチクル１２面上の回路パターンをウエハ１５面上に縮
小投影し、ウエハ１５を回路パターン像により露光して
いる。そして所定の現像処理過程を経て半導体素子を製
造している。
【００３２】次に、本実施形態において開口絞り７の開
口形状を変えて照明モードを変えると共に照度むら補正
板１７を回動させることにより、ウエハ１５面上の照度
むらを補正する方法について説明する。
口形状を変えて照明モードを変えると共に照度むら補正
板１７を回動させることにより、ウエハ１５面上の照度
むらを補正する方法について説明する。
【００３３】図４（Ａ），（Ｂ）は本実施形態における
照度むら補正板１７で用いている光学薄膜（コーティン
グ膜）の光学特性（分光特性）の説明図である。同図で
は、横軸に波長、縦軸に透過率Ｔをとっている。
照度むら補正板１７で用いている光学薄膜（コーティン
グ膜）の光学特性（分光特性）の説明図である。同図で
は、横軸に波長、縦軸に透過率Ｔをとっている。
【００３４】同図では、特定の波長に対して高い透過率
を示す光学薄膜の分光特性を示している。図中、λ0 は
露光波長、実線の曲線Ｐａは入射角度θ＝０、点線の曲
線Ｐｂは入射角度θ＝εの場合の分光透過率を示してい
る。一般に光学薄膜は入射角が大きくなると分光特性が
短波長側にシフトする。光学薄膜が露光波長に対して透
過率が傾きを持つ曲線Ｐａのような特性を持つ場合、入
射角度が０度でなくなると分光特性が短波長側にシフト
して曲線Ｐｂの状態になる。このとき露光光は、照度む
ら補正板への入射角度の違いによって透過率の差がΔＴ
となる。
を示す光学薄膜の分光特性を示している。図中、λ0 は
露光波長、実線の曲線Ｐａは入射角度θ＝０、点線の曲
線Ｐｂは入射角度θ＝εの場合の分光透過率を示してい
る。一般に光学薄膜は入射角が大きくなると分光特性が
短波長側にシフトする。光学薄膜が露光波長に対して透
過率が傾きを持つ曲線Ｐａのような特性を持つ場合、入
射角度が０度でなくなると分光特性が短波長側にシフト
して曲線Ｐｂの状態になる。このとき露光光は、照度む
ら補正板への入射角度の違いによって透過率の差がΔＴ
となる。
【００３５】本実施形態では以上のような分光特性を有
する光学薄膜を施した照度むら補正板１７を用いて、露
光光に対する透過率を入射角度の変化により敏感に変化
させている。即ち、図５に示すように、照度むら補正板
１７を光路中で回転させて光束の入射角度を変えること
により、マスキングブレード１０（ウエハ面１５）の各
点Ｑａ，Ｑｂ，Ｑｃでの照度むらを種々と補正するよう
にしている。
する光学薄膜を施した照度むら補正板１７を用いて、露
光光に対する透過率を入射角度の変化により敏感に変化
させている。即ち、図５に示すように、照度むら補正板
１７を光路中で回転させて光束の入射角度を変えること
により、マスキングブレード１０（ウエハ面１５）の各
点Ｑａ，Ｑｂ，Ｑｃでの照度むらを種々と補正するよう
にしている。
【００３６】図５は図１の照度むら補正板１７近傍の光
路の拡大説明図を示している。同図においては、フライ
アイレンズ６の射出面６ｂ近傍には絞り７があり、任意
の２次光源形状を形成している。２次光源からの光束は
照度むら補正板１７を透過し、コンデンサーレンズ８に
よって収斂し、マスキングブレード（被照射面）１０を
照明する。このとき２次光源からの射出角が同じ光線は
被照射面１０上の同じ場所を照明する。即ち、射出角α
の光線は点Ｑａ、射出角０の光線は点Ｑｂ、射出角γの
光線は点Ｑｃに集光する。従って位置Ｑａの照度を低く
したいときには、射出角αの光線の透過率を低くしてや
ればよい。
路の拡大説明図を示している。同図においては、フライ
アイレンズ６の射出面６ｂ近傍には絞り７があり、任意
の２次光源形状を形成している。２次光源からの光束は
照度むら補正板１７を透過し、コンデンサーレンズ８に
よって収斂し、マスキングブレード（被照射面）１０を
照明する。このとき２次光源からの射出角が同じ光線は
被照射面１０上の同じ場所を照明する。即ち、射出角α
の光線は点Ｑａ、射出角０の光線は点Ｑｂ、射出角γの
光線は点Ｑｃに集光する。従って位置Ｑａの照度を低く
したいときには、射出角αの光線の透過率を低くしてや
ればよい。
【００３７】例えば、図３（Ｃ）の絞り７を用いた輪帯
照明のときの照度むらが、図６（Ａ）であったとする。
おおざっぱにみると高い像高では照度が高くなってい
る。よって照度むら補正板１７には、図４（Ａ）のよう
な入射角が大きくなるほど照度が落ちる特性の膜をもつ
ものを用いる。照度むら補正板１７を光軸に対して垂直
に挿入すると照度むらは図６（Ｃ）のようになる。照度
むら補正板１７を光軸に垂直に挿入すると光軸に対して
同一像高での照度の補正量はほぼ等しいので、図５の位
置Ｑａ、位置Ｑｃともに照度が低下している。しかし中
心照度に対して位置Ｑａでは照度が高く、位置Ｑｃでは
照度が低くなっている。
照明のときの照度むらが、図６（Ａ）であったとする。
おおざっぱにみると高い像高では照度が高くなってい
る。よって照度むら補正板１７には、図４（Ａ）のよう
な入射角が大きくなるほど照度が落ちる特性の膜をもつ
ものを用いる。照度むら補正板１７を光軸に対して垂直
に挿入すると照度むらは図６（Ｃ）のようになる。照度
むら補正板１７を光軸に垂直に挿入すると光軸に対して
同一像高での照度の補正量はほぼ等しいので、図５の位
置Ｑａ、位置Ｑｃともに照度が低下している。しかし中
心照度に対して位置Ｑａでは照度が高く、位置Ｑｃでは
照度が低くなっている。
【００３８】これは照度むらが像高別照度むら（光軸に
対して等しい照度むら。レンズの反射防止膜の角度特性
などに起因する。）だけでなく、非対称な照度むら（像
面上で傾きを持つ照度むら。レンズ系の偏心などに起因
する。）があるからである。
対して等しい照度むら。レンズの反射防止膜の角度特性
などに起因する。）だけでなく、非対称な照度むら（像
面上で傾きを持つ照度むら。レンズ系の偏心などに起因
する。）があるからである。
【００３９】ここで照度むら補正板１７を矢印ｔの方向
に傾ければＱａに集光される光線の照度むら補正板１７
に入射する角度は大きくなり、点Ｑｃに集光される光線
の照度むら補正板１７に入射する角度は小さくなる。す
ると点Ｑａに集光する光線の透過率は小さくなり、点Ｑ
ｃに集光する光線の透過率は大きくなり、相対的に点Ｑ
ｃの照度は上昇する。これにより照射面１０上での照度
むらを、図６（Ｃ）のごとくなるように改善している。
に傾ければＱａに集光される光線の照度むら補正板１７
に入射する角度は大きくなり、点Ｑｃに集光される光線
の照度むら補正板１７に入射する角度は小さくなる。す
ると点Ｑａに集光する光線の透過率は小さくなり、点Ｑ
ｃに集光する光線の透過率は大きくなり、相対的に点Ｑ
ｃの照度は上昇する。これにより照射面１０上での照度
むらを、図６（Ｃ）のごとくなるように改善している。
【００４０】また図３（Ｂ），（Ｄ）等の絞りを用いた
別の照明モードにおいて、照射面上での高い像高になる
ほど照度が低くなるような照度むらを示した場合には、
図４（Ｂ）のごとく入射角が大きくなるほど透過率が大
きくなるようなコーティングを施した照度むら補正板を
用いることにより、速やかに照度むらを補正するように
している。このように各照明モードに応じた分光特性の
異なる照度むら補正板を用い、かつ照度むら補正板の光
軸に対する角度を制御することにより、照明モードを変
えても照射面上の照度むらを小さく押さえるようにして
いる。
別の照明モードにおいて、照射面上での高い像高になる
ほど照度が低くなるような照度むらを示した場合には、
図４（Ｂ）のごとく入射角が大きくなるほど透過率が大
きくなるようなコーティングを施した照度むら補正板を
用いることにより、速やかに照度むらを補正するように
している。このように各照明モードに応じた分光特性の
異なる照度むら補正板を用い、かつ照度むら補正板の光
軸に対する角度を制御することにより、照明モードを変
えても照射面上の照度むらを小さく押さえるようにして
いる。
【００４１】本実施形態では、像面上のある断面での照
度むら補正について述べているが、絞りに対して照度む
ら補正板が回転できる構造になっていることにより、あ
らゆる断面での照度むらを補正することができる。また
照度むら補正板はホルダーにより絞りと一体化されてい
るが、絞り付きフィルター交換機構１６とは簡単に着脱
可能となっており、別の絞りと別の照度むら補正板を組
み合わせて装着しても良く、これによれば、あらゆる変
形照明に対して均一な照度を得ることができる。
度むら補正について述べているが、絞りに対して照度む
ら補正板が回転できる構造になっていることにより、あ
らゆる断面での照度むらを補正することができる。また
照度むら補正板はホルダーにより絞りと一体化されてい
るが、絞り付きフィルター交換機構１６とは簡単に着脱
可能となっており、別の絞りと別の照度むら補正板を組
み合わせて装着しても良く、これによれば、あらゆる変
形照明に対して均一な照度を得ることができる。
【００４２】次に図７（Ａ）〜（Ｃ），図８（Ａ）〜
（Ｃ）に照度むら補正板などの他の実施形態を示すが、
便宜上、照度むら補正用の光学薄膜については、図４
（Ａ）のように入射角が大きくなるほど透過率が小さく
なるようなコーティングを施したものを用いるとする。
（Ｃ）に照度むら補正板などの他の実施形態を示すが、
便宜上、照度むら補正用の光学薄膜については、図４
（Ａ）のように入射角が大きくなるほど透過率が小さく
なるようなコーティングを施したものを用いるとする。
【００４３】図７（Ａ）は照度むら補正板１７の角度を
容易に制御できるホルダー１８の実施形態を示してい
る。このホルダー１８は円筒を斜めに切った２つの鏡筒
１８ａ，１８ｂからなり、それぞれの鏡筒１８ａ，１８
ｂが光軸に対して独立に回転できるようになっている。
そして射出側の鏡筒１８ｂの射出面に照度むら補正板１
７を固定している。
容易に制御できるホルダー１８の実施形態を示してい
る。このホルダー１８は円筒を斜めに切った２つの鏡筒
１８ａ，１８ｂからなり、それぞれの鏡筒１８ａ，１８
ｂが光軸に対して独立に回転できるようになっている。
そして射出側の鏡筒１８ｂの射出面に照度むら補正板１
７を固定している。
【００４４】以下に本機構によって像面上の照度が補正
できることを説明する。図７（Ｂ）は、この２組の鏡筒
１８ａ，１８ｂを互い違いに構成して、絞り面の照射面
側に設置した概略図である。このときの照度分布が図６
（Ｂ）のごとく照射面Ｑａの照度が相対的に高いとす
る。このとき本実施形態の射出面側の鏡筒１８ｂを１８
０度回転させて（図７（Ｃ））、照度むら補正板１７を
光軸に対して傾けて、これにより照射面１０上の照度む
らを補正している。
できることを説明する。図７（Ｂ）は、この２組の鏡筒
１８ａ，１８ｂを互い違いに構成して、絞り面の照射面
側に設置した概略図である。このときの照度分布が図６
（Ｂ）のごとく照射面Ｑａの照度が相対的に高いとす
る。このとき本実施形態の射出面側の鏡筒１８ｂを１８
０度回転させて（図７（Ｃ））、照度むら補正板１７を
光軸に対して傾けて、これにより照射面１０上の照度む
らを補正している。
【００４５】図８（Ａ）は角度制御機構１７を照度むら
補正板そのものに持たせる他の実施形態を示している。
本実施形態では、図８（Ａ）のごとく照度むら補正板１
７が同じ斜角の２枚の光学楔１７ａ，１７ｂより構成し
ている。そして光学楔１７ａ，１７ｂが光軸に対してそ
れぞれ独立に回転できるようになっている。本実施形態
では照度むら補正用の光学薄膜は２つの光学楔１７ａ，
１７ｂのそれぞれ向かい合う２面に施されている。以下
に本機構によって像面上の照度が補正できることを説明
する。
補正板そのものに持たせる他の実施形態を示している。
本実施形態では、図８（Ａ）のごとく照度むら補正板１
７が同じ斜角の２枚の光学楔１７ａ，１７ｂより構成し
ている。そして光学楔１７ａ，１７ｂが光軸に対してそ
れぞれ独立に回転できるようになっている。本実施形態
では照度むら補正用の光学薄膜は２つの光学楔１７ａ，
１７ｂのそれぞれ向かい合う２面に施されている。以下
に本機構によって像面上の照度が補正できることを説明
する。
【００４６】図８（Ｂ）はこの２組の光学楔１７ａ，１
７ｂを厚い部分と薄い部分が向き合うように構成して絞
り面の照射面側に設置した概略図である。このときの照
度分布が図６（Ｂ）のごとく照射面Ｑａの照度が相対的
に高いとする。このとき本実施形態の入射側の光学楔１
７ａを１８０度回転させる（図８（Ｃ））と点Ｑａに集
光する光線の１つ目の光学楔１７ａを射出する際の透過
率が図８（Ｂ）の状態より高くなり、点Ｑｃに集光する
光線の１つ目の光学楔１７ａを射出する際の透過率が図
８（Ｂ）の状態より低くなる。これによって相対的に照
射面上での照度むらを補正している。
７ｂを厚い部分と薄い部分が向き合うように構成して絞
り面の照射面側に設置した概略図である。このときの照
度分布が図６（Ｂ）のごとく照射面Ｑａの照度が相対的
に高いとする。このとき本実施形態の入射側の光学楔１
７ａを１８０度回転させる（図８（Ｃ））と点Ｑａに集
光する光線の１つ目の光学楔１７ａを射出する際の透過
率が図８（Ｂ）の状態より高くなり、点Ｑｃに集光する
光線の１つ目の光学楔１７ａを射出する際の透過率が図
８（Ｂ）の状態より低くなる。これによって相対的に照
射面上での照度むらを補正している。
【００４７】尚、以上の各実施形態においては水銀ラン
プを光源とする投影露光装置の例を示したが、レーザー
光源を用いる場合にも照度むらを同様に補正することが
できる。
プを光源とする投影露光装置の例を示したが、レーザー
光源を用いる場合にも照度むらを同様に補正することが
できる。
【００４８】次に上記説明した投影露光装置を利用した
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
【００４９】図９は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、或いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造の
フローを示す。
半導体チップ、或いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造の
フローを示す。
【００５０】ステップ１（回路設計）では半導体デバイ
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
【００５１】一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、前記用意したマ
スクとウエハを用いてリソグラフィ技術によってウエハ
上に実際の回路を形成する。
コン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、前記用意したマ
スクとウエハを用いてリソグラフィ技術によってウエハ
上に実際の回路を形成する。
【００５２】次のステップ５（組立）は後工程と呼ば
れ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシ
ング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。
れ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシ
ング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。
【００５３】ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００５４】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。
【００５５】ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
【００５６】ステップ１７（現像）では露光したウエハ
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングがすんで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングがすんで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００５７】本実施形態の製造方法を用いれば、従来は
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
【００５８】
【発明の効果】本発明によれば、以上のように各要素を
設定することにより、照明モードを種々と切り替えても
照度むらが最小となり、レチクル面上の各種のパターン
をウエハ面上に高い解像力で投影できる投影露光装置及
びそれを用いたデバイスの製造方法を達成することがで
きる。
設定することにより、照明モードを種々と切り替えても
照度むらが最小となり、レチクル面上の各種のパターン
をウエハ面上に高い解像力で投影できる投影露光装置及
びそれを用いたデバイスの製造方法を達成することがで
きる。
【００５９】又、本発明によれば以上のように、２次光
源形成手段としてのオプティカルインテグレータを含む
照明系を用いて被照射面を照明する際、入射角度によっ
て分光特性を異なる光学素子を用いることにより、変形
照明や通常照明等の種々な照明モードにおいて、適切な
る照度分布で被照射面を照明することができ、レチクル
面上のパターンをウエハ面上に高い解像力で容易に露光
転写することができる投影露光装置及びそれを用いたデ
バイスの製造方法を達成することができる。
源形成手段としてのオプティカルインテグレータを含む
照明系を用いて被照射面を照明する際、入射角度によっ
て分光特性を異なる光学素子を用いることにより、変形
照明や通常照明等の種々な照明モードにおいて、適切な
る照度分布で被照射面を照明することができ、レチクル
面上のパターンをウエハ面上に高い解像力で容易に露光
転写することができる投影露光装置及びそれを用いたデ
バイスの製造方法を達成することができる。
【図１】 本発明の実施形態１の要部概略図
【図２】 図１の一部分の拡大斜視図
【図３】 図１の一部分の説明図
【図４】 図１の光学素子の分光特性の説明図
【図５】 図１の一部分の拡大説明図
【図６】 図１の被照射面の照度むらの説明図
【図７】 図１の光学素子の駆動方法の説明図
【図８】 図１の光学素子の駆動方法の説明図
【図９】 本発明に係るデバイスの製造方法のフローチ
ャート
ャート
【図１０】 本発明に係るデバイスの製造方法のフロー
チャート
チャート
１ 水銀ランプ等の紫外線源 １ａ 発光部 ２ 楕円ミラー ３ コールドミラー ４ 第２焦点 ５，８，１１ コンデンサーレンズ ６ オプティカルインテグレータ（ハエの目レンズ） ６ａ ハエの目レンズレンズ入射部 ６ｂ ハエの目レンズレンズ射出部 ７ 絞り ９ 反射ミラー １０ マスキングブレード １２ レチクル １３ 投影レンズ １４ 投影レンズ瞳 １５ ウエハ １６ 絞り付きフィルター交換機構 １７ 照度むら補正板（光学素子） １８ ホルダー
Claims (16)
- 【請求項１】 光入出射面を有し該光入射面で光源から
の光を受け、該光出射面側に２次光源を形成する２次光
源形成手段と、該２次光源からの光を物平面に照射する
光照射手段と、光照射された該物平面上のパターンを像
平面上に投影する投影手段とを有し、該２次光源の近傍
に入射角度により透過率が異なるコーティングを施した
光軸に対してなす角が変化する回動可能な光学素子を設
け、該光学素子を回動させて該物平面上の照度分布を調
整していることを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項２】 光源からの光束を複数の微小レンズを２
次元的に配列したオプティカルインテグレータに導光
し、該オプティカルインテグレータの光出射面からの光
束を光照射手段により集光して、物平面上のパターンを
照明し、該物平面上のパターンを投影光学系により像平
面上に投影する際、該オプティカルインテグレータの光
出射面の近傍に入射角度により透過率が異なるコーティ
ングを施した光軸に対してなす角が変化する回動可能な
光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上の
照度分布を調整していることを特徴とする投影露光装
置。 - 【請求項３】 前記光学素子に所定の開口形状の開口絞
りを設けた絞り一体型光学素子を複数個有し、該複数の
絞り一体型光学素子の開口絞りの開口形状は互いに異な
っており、このうちの１つの絞り一体型光学素子を選択
して光路中に挿脱可能に装着していることを特徴とする
請求項１の投影露光装置。 - 【請求項４】 前記光学素子に所定の開口形状の開口絞
りを設けた絞り一体型光学素子を複数個有し、該複数の
絞り一体型光学素子の開口絞りの開口形状は互いに異な
っており、このうちの１つの絞り一体型光学素子を選択
して光路中に挿脱可能に装着していることを特徴とする
請求項２の投影露光装置。 - 【請求項５】 前記光学素子は前記開口絞りに対して回
動可能となるように構成していることを特徴とする請求
項３の投影露光装置。 - 【請求項６】 前記光学素子は前記開口絞りに対して回
動可能となるように構成していることを特徴とする請求
項４の投影露光装置。 - 【請求項７】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔よ
り構成されていることを特徴とする請求項１の投影露光
装置。 - 【請求項８】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔よ
り構成されていることを特徴とする請求項２の投影露光
装置。 - 【請求項９】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔よ
り構成されていることを特徴とする請求項３の投影露光
装置。 - 【請求項１０】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔
より構成されていることを特徴とする請求項４の投影露
光装置。 - 【請求項１１】 光源からの光束を２次光源を形成する
複数の微小レンズより成るオプティカルインテグレータ
に導光し、該オプティカルインテグレータの光出射面か
らの光束を光照射手段により集光してレチクル面上のパ
ターンを照明し、該パターンを投影光学系によりウエハ
面上に投影し露光した後に、該ウエハを現像処理してデ
バイスを製造する際、該オプティカルインテグレータの
光出射面の近傍に入射角度により透過率が異なるコーテ
ィングを施した光軸に対してなす角が変化する回動可能
な光学素子を設け、該光学素子を回動させて該物平面上
の照度分布を調整していることを特徴とするデバイスの
製造方法。 - 【請求項１２】 前記光学素子は前記開口絞りに対して
回動可能となるように構成していることを特徴とする請
求項１１のデバイスの製造方法。 - 【請求項１３】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔
より構成されていることを特徴とする請求項１１のデバ
イスの製造方法。 - 【請求項１４】 前記光学素子に所定の開口形状の開口
絞りを設けた絞り一体型光学素子を複数個有し、該複数
の絞り一体型光学素子の開口絞りの開口形状は互いに異
なっており、このうちの１つの絞り一体型光学素子を選
択して光路中に挿脱可能に装着していることを特徴とす
る請求項１１のデバイスの製造方法。 - 【請求項１５】 前記光学素子は前記開口絞りに対して
回動可能となるように構成していることを特徴とする請
求項１４のデバイスの製造方法。 - 【請求項１６】 前記光学素子は平行平面板又は光学楔
より構成されていることを特徴とする請求項１４のデバ
イスの製造方法。
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