JPH09191015A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
- Publication number
- JPH09191015A JPH09191015A JP1923796A JP1923796A JPH09191015A JP H09191015 A JPH09191015 A JP H09191015A JP 1923796 A JP1923796 A JP 1923796A JP 1923796 A JP1923796 A JP 1923796A JP H09191015 A JPH09191015 A JP H09191015A
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- Japan
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- heat treatment
- workpiece
- work piece
- treatment plate
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 加工物を熱処理板に載置する際のエアクッシ
ョンによる加工物の移動を防止し、また、載置手段の動
作による加工物への衝撃を緩和する。 【解決手段】 加工物１が近接した状態もしくは接触し
た状態で載置される熱処理板４と、加工物を熱処理板上
に載置する手段とを有する熱処理装置において、熱処理
板はその上面に多数の細溝を有する。また、載置手段
は、加工物を水平な状態で上下動させることにより熱処
理板上への載置および取上げを行うものであり、かつそ
の上下動の始点および終点において上下動速度を曲線的
に加減速するものである。載置手段は、加工物を支持
し、熱処理板の貫通孔を通して上下動することができる
支持ピンを有する支持部材２、５と、この支持部材を上
下動させるＳ字状カム６とを有するものとして構成する
ことができる。
ョンによる加工物の移動を防止し、また、載置手段の動
作による加工物への衝撃を緩和する。 【解決手段】 加工物１が近接した状態もしくは接触し
た状態で載置される熱処理板４と、加工物を熱処理板上
に載置する手段とを有する熱処理装置において、熱処理
板はその上面に多数の細溝を有する。また、載置手段
は、加工物を水平な状態で上下動させることにより熱処
理板上への載置および取上げを行うものであり、かつそ
の上下動の始点および終点において上下動速度を曲線的
に加減速するものである。載置手段は、加工物を支持
し、熱処理板の貫通孔を通して上下動することができる
支持ピンを有する支持部材２、５と、この支持部材を上
下動させるＳ字状カム６とを有するものとして構成する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、加工物を水平に載
置し、加工物の下方に位置する加熱板あるいは冷却板に
より、加工物の熱処理を行う熱処理装置に関するもので
ある。
置し、加工物の下方に位置する加熱板あるいは冷却板に
より、加工物の熱処理を行う熱処理装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の熱処理装置は、特公平３−
１２７８２０号公報や特公平３−１３５０１１号公報に
示される様に、加工物を熱処理板上に近接状態で載置し
て熱処理を行う様に構成されている。加工物は、処理前
に載置機構上に置かれ、載置機構の動作により熱処理板
上に載置される。載置された加工物は、熱処理板上に、
接触するか又は３点以上の支持点により近接状態で保持
される。そして、あらかじめ定められた時間の熱処理が
終了した後、加工物は載置機構によって熱処理板より離
され、次工程への払い出し待ちとなる。
１２７８２０号公報や特公平３−１３５０１１号公報に
示される様に、加工物を熱処理板上に近接状態で載置し
て熱処理を行う様に構成されている。加工物は、処理前
に載置機構上に置かれ、載置機構の動作により熱処理板
上に載置される。載置された加工物は、熱処理板上に、
接触するか又は３点以上の支持点により近接状態で保持
される。そして、あらかじめ定められた時間の熱処理が
終了した後、加工物は載置機構によって熱処理板より離
され、次工程への払い出し待ちとなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、処理効率の向上のため、実際の熱処理時間の
前後における載置機構の動作速度を上げると、下記の不
具合が生じる。
来例では、処理効率の向上のため、実際の熱処理時間の
前後における載置機構の動作速度を上げると、下記の不
具合が生じる。
【０００４】（１）加工物が薄い板上の場合、エアクッ
ションにより熱処理板上を移動し、処理後の取出しにお
いて位置が不適となる。
ションにより熱処理板上を移動し、処理後の取出しにお
いて位置が不適となる。
【０００５】（２）加工物が薄い板上でかつ剛性が高い
材質の場合、載置機構の動作始点および終点で、加工物
が衝撃により移動し、処理後の取出しにおいて位置が不
適となる。
材質の場合、載置機構の動作始点および終点で、加工物
が衝撃により移動し、処理後の取出しにおいて位置が不
適となる。
【０００６】（３）加工物がその加工の過程において高
度な清浄度を要求される場合、エアクッションによるパ
ーティクルの巻き上げおよび衝撃によるパーティクルの
発生が想定される。
度な清浄度を要求される場合、エアクッションによるパ
ーティクルの巻き上げおよび衝撃によるパーティクルの
発生が想定される。
【０００７】そこで本発明は、加工物を熱処理板に載置
する際のエアクッションによる加工物の移動を防止し、
また、載置機構の動作による加工物への衝撃を緩和する
ことを目的とする。
する際のエアクッションによる加工物の移動を防止し、
また、載置機構の動作による加工物への衝撃を緩和する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
第１の発明は、加工物が近接した状態もしくは接触した
状態で載置される熱処理板と、加工物を熱処理板上に載
置する手段とを有する熱処理装置において、熱処理板は
その上面に多数の細溝を有することを特徴とする。
第１の発明は、加工物が近接した状態もしくは接触した
状態で載置される熱処理板と、加工物を熱処理板上に載
置する手段とを有する熱処理装置において、熱処理板は
その上面に多数の細溝を有することを特徴とする。
【０００９】これによれば、加工物を熱処理板上に載置
する際に、加工物が熱処理板に高速で接近したとして
も、熱処理板と加工物との間の空気は、細溝に沿って流
出するため、加工物のエアクッション効果による移動が
防止される。
する際に、加工物が熱処理板に高速で接近したとして
も、熱処理板と加工物との間の空気は、細溝に沿って流
出するため、加工物のエアクッション効果による移動が
防止される。
【００１０】また、第２の発明は、加工物が近接した状
態もしくは接触した状態で載置される熱処理板と、加工
物を熱処理板上に載置する手段とを有する熱処理装置に
おいて、載置手段は、加工物を水平な状態で上下動させ
ることにより熱処理板上への載置および取上げを行うも
のであり、かつその上下動の始点および終点において上
下動速度を曲線的に加減速するものであることを特徴と
する。
態もしくは接触した状態で載置される熱処理板と、加工
物を熱処理板上に載置する手段とを有する熱処理装置に
おいて、載置手段は、加工物を水平な状態で上下動させ
ることにより熱処理板上への載置および取上げを行うも
のであり、かつその上下動の始点および終点において上
下動速度を曲線的に加減速するものであることを特徴と
する。
【００１１】これによれば加工物を載置しおよび取上げ
る際の上下動の始点および終点における加工物への衝撃
が防止される。
る際の上下動の始点および終点における加工物への衝撃
が防止される。
【００１２】載置手段は、加工物を支持し、熱処理板の
貫通孔を通して上下動することができる支持ピンを有す
る支持部材と、この支持部材を上下動させるＳ字状カム
とを有するものとして構成することができる。
貫通孔を通して上下動することができる支持ピンを有す
る支持部材と、この支持部材を上下動させるＳ字状カム
とを有するものとして構成することができる。
【００１３】さらに、かかる第１発明および第２発明に
より、従来例に比べ、載置動作が迅速になり、熱処理時
間以外の無駄な時間が短縮され、単位時間当たりの加工
物の処理枚数が向上する。
より、従来例に比べ、載置動作が迅速になり、熱処理時
間以外の無駄な時間が短縮され、単位時間当たりの加工
物の処理枚数が向上する。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施形態に係る
熱処理装置を示す。図中、１は加工物、４は加工物１に
熱処理を施すための熱板、２は加工物１を支持し、熱板
４の貫通孔を通って上下動する載置機構ピン、３は熱板
４上に載置される加工物１を熱板４上の近接距離におい
て支持する近接距離決めピン、６はＳ字カム、５は載置
機構ピン２を支持し、Ｓ字カム６によって上下動する従
動部、７はＳ字カム６を駆動するカム動作源である。図
２は熱板４の斜視図であり、図中の８は熱板４の表面に
平行に加工された多数の細溝である。
熱処理装置を示す。図中、１は加工物、４は加工物１に
熱処理を施すための熱板、２は加工物１を支持し、熱板
４の貫通孔を通って上下動する載置機構ピン、３は熱板
４上に載置される加工物１を熱板４上の近接距離におい
て支持する近接距離決めピン、６はＳ字カム、５は載置
機構ピン２を支持し、Ｓ字カム６によって上下動する従
動部、７はＳ字カム６を駆動するカム動作源である。図
２は熱板４の斜視図であり、図中の８は熱板４の表面に
平行に加工された多数の細溝である。
【００１５】この構成において、加工物１は、カム動作
源７によりＳ字カム６を移動させて従動部５を、したが
って載置機構ピン２を上下動させることにより、熱板４
上の近接距離決めピン３の上に保持され、あるいはそこ
から取上げられる。この加工物１の上下動時に加工物１
を支持する載置機構ピン２は、Ｓ字カム６の作用により
微速で加工物１に接し、なめらかに増減速した後、停止
する。また、熱板４上に加工物１が接近する際には、熱
板４上に加工された細溝８を介して、加工物１と熱板４
間の空気が流出する。
源７によりＳ字カム６を移動させて従動部５を、したが
って載置機構ピン２を上下動させることにより、熱板４
上の近接距離決めピン３の上に保持され、あるいはそこ
から取上げられる。この加工物１の上下動時に加工物１
を支持する載置機構ピン２は、Ｓ字カム６の作用により
微速で加工物１に接し、なめらかに増減速した後、停止
する。また、熱板４上に加工物１が接近する際には、熱
板４上に加工された細溝８を介して、加工物１と熱板４
間の空気が流出する。
【００１６】図３は、熱板４の別の加工例を示す。この
場合、細溝８は、熱板４を中心とする放射状に設けられ
ている。
場合、細溝８は、熱板４を中心とする放射状に設けられ
ている。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
加工物を熱処理板に載置する際のエアクッションによる
加工物の移動を防止し、また載置手段の動作による加工
物への衝撃を緩和する。
加工物を熱処理板に載置する際のエアクッションによる
加工物の移動を防止し、また載置手段の動作による加工
物への衝撃を緩和する。
【００１８】これにより、特に半導体製造に使用される
シリコンウェーハ等の熱処理工程においては、処理時間
外となるウェーハの受け渡しのための準備動作時間を従
来よりも短縮することが可能となり、処理効率が向上す
る。また、空気の巻き返しによるパーティクルの浮上を
減少させることができる。さらに、ウェーハ載置時の衝
撃緩和は同様にパーティクルの発生を抑え、処理工程の
特性を向上させる。
シリコンウェーハ等の熱処理工程においては、処理時間
外となるウェーハの受け渡しのための準備動作時間を従
来よりも短縮することが可能となり、処理効率が向上す
る。また、空気の巻き返しによるパーティクルの浮上を
減少させることができる。さらに、ウェーハ載置時の衝
撃緩和は同様にパーティクルの発生を抑え、処理工程の
特性を向上させる。
【図１】 本発明の一実施形態による熱処理装置を示す
図である。
図である。
【図２】 図１の装置の熱板の加工状態を示す図であ
る。
る。
【図３】 図１の装置の熱板の別の加工例を示す図であ
る。
る。
１：加工物、２：載置機構ピン、３：近接距離決めピ
ン、４：熱板、５：載置動作機構、６：Ｓ字カム、７：
カム動作源、８：細溝。
ン、４：熱板、５：載置動作機構、６：Ｓ字カム、７：
カム動作源、８：細溝。
Claims (3)
- 【請求項１】 加工物が近接した状態もしくは接触した
状態で載置される熱処理板と、加工物を熱処理板上に載
置する手段とを有する熱処理装置において、熱処理板は
その上面に多数の細溝を有することを特徴とする熱処理
装置。 - 【請求項２】 加工物が近接した状態もしくは接触した
状態で載置される熱処理板と、加工物を熱処理板上に載
置する手段とを有する熱処理装置において、載置手段
は、加工物を水平な状態で上下動させることにより熱処
理板上への載置および取上げを行うものであり、かつそ
の上下動の始点および終点において上下動速度を曲線的
に加減速するものであることを特徴とする熱処理装置。 - 【請求項３】 載置手段は、加工物を支持し、熱処理板
の貫通孔を通して上下動することができる支持ピンを有
する支持部材と、この支持部材を上下動させるＳ字状カ
ムとを有することを特徴とする請求項２記載の熱処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1923796A JPH09191015A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1923796A JPH09191015A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | 熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09191015A true JPH09191015A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11993794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1923796A Pending JPH09191015A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09191015A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11297789A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2002164423A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハリフト装置を備えたウェーハ保持装置 |
| JP2002231792A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-16 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP2003168712A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Japan Steel Works Ltd:The | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
| JP2006066850A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-03-09 | Kyocera Corp | ピン昇降機およびこれを用いたプレートチャック装置 |
| JP2007201292A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Kyocera Corp | 試料位置決め装置 |
| JP2010040788A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Olympus Corp | リフト装置、及び、基板検査装置 |
| JP2018526822A (ja) * | 2015-08-14 | 2018-09-13 | エム キューブド テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 摩擦が低減された支持表面を特徴とするウエハチャック |
-
1996
- 1996-01-11 JP JP1923796A patent/JPH09191015A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11297789A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2002164423A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハリフト装置を備えたウェーハ保持装置 |
| JP2002231792A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-16 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP2003168712A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Japan Steel Works Ltd:The | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
| JP2006066850A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-03-09 | Kyocera Corp | ピン昇降機およびこれを用いたプレートチャック装置 |
| JP2007201292A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Kyocera Corp | 試料位置決め装置 |
| JP2010040788A (ja) * | 2008-08-05 | 2010-02-18 | Olympus Corp | リフト装置、及び、基板検査装置 |
| JP2018526822A (ja) * | 2015-08-14 | 2018-09-13 | エム キューブド テクノロジーズ， インコーポレイテッド | 摩擦が低減された支持表面を特徴とするウエハチャック |
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