JPH09194403A - 塩素化炭化水素の製造方法 - Google Patents

塩素化炭化水素の製造方法

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JPH09194403A JP8351004A JP35100496A JPH09194403A JP H09194403 A JPH09194403 A JP H09194403A JP 8351004 A JP8351004 A JP 8351004A JP 35100496 A JP35100496 A JP 35100496A JP H09194403 A JPH09194403 A JP H09194403A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 クロロベンゼン、ポリ塩素化ビフェニル(P
CB)、ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCDD)お
よびポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)の生成を低
減して塩素化炭化水素を製造するための改良された方法
を提供する。 【解決手段】 メタン、エタン、エチレン、アセチレ
ン、プロパン、プロピレン、メチルアセチレンおよびそ
れらのハロゲン置換体からなる群より選ばれたC1〜C
3 炭化水素反応体を出発材料とする方法で、前記反応体
と空気若しくは酸素を豊富に含む空気および塩化水素と
を接触させることを含み、ここで、接触は150℃〜6
00℃で運転されている加熱反応ゾーンにおいて銅(II)
オキシクロリネーション触媒の存在下で行われ、塩素化
炭化水素は反応ゾーンのエフルエントから回収され、空
気が芳香族炭化水素の除去のための手段により予備処理
されることを特徴とする方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、酸素源として周囲空気を使用す
る、C1 〜C3 炭化水素、特に、メタン、エタン、プロ
パン、エチレン、プロピレン、アセチレンおよびプロピ
ンのオキシクロリネーションを使用する方法に関する。
【0002】塩素の商業使用は、少量ではあるが、測定
可能な量のポリ塩素化芳香族化合物、例えば、クロロベ
ンゼン、ポリ塩化ビフェニル(PCB)、ポリ塩素化ジ
ベンゾジオキシン(PCDD)およびポリ塩素化ジベン
ゾフラン(PCDF)に集中しており、そのうちの後者
2 つを以下でPCDD/Fで参照し、それらは環境上、
毒性であると考えられている。ポリ塩素化芳香族、例え
ばPCB、PCDDおよびPCDFは望ましくない化合
物であり、それら全てを集合的にHUCで参照し、そし
てそれらは土壌および湖のセジメント中に見られ、工業
生産からそれらを減少させ、または無くすことが大きな
関心事となっている。文献には、多くの工業上の塩素含
有プロセスにおいてPCDD/Fの生成は避けられない
ものであるとされ、特に、塩化ビニルモノマー(VC
M)の製造において主要な中間生成物である、二塩化エ
チレン(EDC)とも呼ばれる1,2-ジクロロエタンのオ
キシクロリネーション法では避けられないものであると
されている。
【0003】例えば、固体廃棄物焼却炉、EDC/VC
M法および、非芳香族炭化水素のクロリネーション、オ
キシクロリネーションまたはヒドロクロリネーションを
用いる他の方法、例えば、逆のプロセス、即ち、脱塩素
化または脱塩化水素化において、微量のPCDD/Fが
モニターされている。欧州におけるEDC/VCM法か
らの排出物のケーススタディーより編纂された最近の報
告は、2,3,7,8-テトラクロロジベンゾジオキシン(TC
DD)の毒性相当物と呼ばれるものの年間排出量は1.
8kgであると評価している。De Vorming van PCDFs、
PCDDs en Gerelateerde Verbindingen Bij de Oxychlor
ination van Etheen, Evers, E.H.G., Dept. of Enviro
nmental Toxicology, University of Amsterdam, Contr
act No.ZH4005, Nat. Water Service District of So.
Holland (以下でNWS 研究(スタディー)と呼ぶ)1989.
MTC Pub. No. MTC89EE を参照されたい。自然のプロセ
スおよび産業のプロセスの両方からどれくらいレベルの
これらの毒物が発生しているかについての専門家の意見
は別れている。
【0004】PCDD/Fを発生する様々な合成ルート
に関する調査の様々な文献が存在する。Chemosphere, V
ol. 23, Nos.8 〜10, O. Huntzinger 編, Peragamon Pr
ess,1991 を参照されたい。要約すると、文献中に記載
されているPCDD/Fを生成しうる重要な前駆体は、
クロロフェノール、ベンゼン、塩素化ベンゼンおよびジ
フェニルエーテルを含む。これらの種は縮合、ラジカル
およびイオン機構によりPCDD/Fに転化されること
が知られている。Chlorinated Dioxins and Related Co
mpounds, O. Huntzingerら編, Peragamon Press, 1982
を参照されたい。
【0005】非芳香族前駆体( 元素形態を含む) からの
PCBおよびPCDD/Fの直接合成はオキシクロネー
ションの文献中に報告されている。Chemosphere, Eklan
d, G.;Pederson, J.R.; Stromberg, B., 17, 575,1988
。例えば、NWSの研究は、多種のPCDD/Fがシ
ミュレートしたオキシクロリネーション法の気相および
触媒残留物中で検知されたことを示している。NWSの
実験において観測されたPCDD/Fの合計量は、生成
したEDC1.31g当たりに546ng(ナノグラ
ム)のPCDD/Fまたは417ng/g(ppb)で
あった。NMSの実験におけるPCDD/F種のパター
ンはライン川の入江に沿ったVCM産業の廃棄スラッジ
に見られるものと非常に似通っており、そして実験室で
の研究が商業工場で起こっているプロセスを正確にモデ
ル化できることを示している。NWSの研究の筆者は、
炭素、塩素、酸素および活性触媒表面が存在する媒質に
おいてPCDD/Fの生成に銅触媒が役割を担っている
と結論付けた。データは、PCDD/Fが避けられず、
そしてそれがアルカンおよびアルケンのオキシクロリネ
ーション、特にエチレンのオキシクロリネーションにお
いて直接生成されるという他の研究者の結論を確認する
ものである。明らかな直接合成を説明するために、単純
な炭素構造の芳香化が起こったと研究者は考えていた。
【0006】微量の塩素化アルケン、ベンゼン、フェノ
ールおよびビフェノールの直接生成は触媒の存在下での
CO2 およびHClの反応により起こることも報告され
ている。Chemosphere, Stromberg, B.27, 179, 1993; C
hemosphere, 23, 1515, 1990を参照されたい。これらの
触媒は、オキシクロネーション法において使用されるの
と同様の多くの商業上使用されている材料を含む。更
に、都市型固体廃棄物焼却炉からの飛散灰もPCDD/
Fの生成を触媒するものと示された。a)Chemosphere, R
oss, B. J.;Naikwadi, K. P.;Karasek, F.W., 19, 291,
1989; b) Chemosphere, Benefenati, E.; Mariani, G;
Fanelli, R.; Zuccotti, S., 22, 1045,1922; およびC
hemosphere, Born J.G.P.; Louw, R.; Mulder,P., 26,
2087, 1993 。このような研究の1 つは、好ましい条件
は280〜300℃にあることを示しており、PCDD
/Fが固体廃棄物焼却炉の燃焼済ベントガス冷却ゾーン
において生じる傾向がある焼却法に関する研究者と同一
見解である。このように、研究は、塩素化芳香族化合物
の直接的な塩素化は様々な条件において起こることを示
した。
【0007】産業上の塩素消費プロセスにおけるPCD
D/Fの直接生成の多くの報告では、これらの副生成物
を減らし、または無くすことが特に探究されているが、
明らかに困難な目標である。このことにも係わらず、幾
つかのアプローチは、所望の生成物を製造し、その為、
所望されない副生成物を少量にしか製造しないように反
応選択性を改良することに集中した。例えば、EDCの
製造において生じる副生成物のレベルの低下という観点
から考えられるの1つのアプローチは、米国特許第4,41
0,747 号('747 号) に開示された、改良された直接塩素
化である。'747号に教示されるようなエチレンと塩素と
の液相反応は金属塩化物触媒の存在下でEDC 液体の沸点
で行われ、そしてベンゼンのような芳香族炭化水素が加
えられる。望ましくない副生成物、主として1,1,2-トリ
クロロエタンを生成する副反応が抑えられる。PCDD
/Fの直接合成が起こるという見解によると、改良され
た反応選択性は、直接生成PCDD/Fのレベルを低下
することができる。
【0008】他の改良は、オキシクロリネーション法か
ら出てくるエフルエント体積の低減に焦点をあてたもの
である。EDCを製造するためのエチレンのオキシクロ
リネーションの均衡法においては、1,2-ジクロロエタン
から塩化ビニルモノマーへの分解から生じる塩化水素の
再捕獲および再使用が行われる。廃棄エフルエントの量
はHClの再使用でかなり低下される。この再生される
HCl は、通常、EDC、VCMおよび副生成物から蒸留
により分離される。この為、廃棄物の体積を低減するこ
とは環境上の影響を改善するが、HUCに関して、絶対
量を低減することが依然として最大の関心事である。
【0009】最近の実用において、オキシクロリネーシ
ョン法からのエフルエントの体積は、ベントリサイクル
システムの導入により更に低減されてきた。この方法に
おいて、触媒法からの反応気体は1段階以上の凝縮段階
において加圧下で冷却される。水および凝縮したEDC
は除去され、そして未反応の出発ガスおよび不活性ガス
の集合体は再加圧され、オキシクロリネーション法反応
器にリサイクルされる。空気でなく、酸素フィードと組
み合わされて使用されるこのリサイクル法は、ベントガ
ス体積を、空気を基礎とするワンスルーで製造したベン
トガス体積よりもわずかに少量に低減する。主として効
率の面でベントガスリサイクル法を使用する利点は多く
存在するが、PCDD/Fの観点からはベントガスをリ
サイクルする利点はない。というのは、PCDD/F化
合物は重質分として凝縮するからである。更に、本発明
は主な酸素源として空気を使用するワンスルー法に関す
るものである。
【0010】空気を基礎とするオキシクロリネーション
および酸素を基礎とするオキシクロリネーション法での
PCDD/Fの生成を比較する実験室調査を行った。こ
の研究は、PCDD/Fが空気を基礎とする方法ではよ
り多量に製造されることを示した。このことは、これら
の実験では、実践および理論上の観点からの相違は酸素
源だけであったので意外であった。PCDD/Fの直接
合成を示す上記の調査研究を基礎にして、酸素源に関係
なく、生成されるPCDD/Fが同一レベルであること
が期待されたはずである。この差異は説明されないまま
であった。空気を基礎とするオキシクロリネーション法
は世界中で確立された工業法である。世界の一部の地域
では、純粋酸素は入手できないか、または非常に高価で
あり、唯一の実現可能なアプローチとして空気を基礎と
する方法が残されている。それ故、空気を基礎とするオ
キシクロリネーション法において形成されるPCDD/
Fの量を低減するコスト効率的な方法は価値ある改良で
あろう。
【0011】空気および酸素の両方を使用して、銅(I
I)触媒を使用した、実験室オキシクロリネーション法
の注意深い定量測定において、意外にも直接合成から説
明できないが、周囲空気中に含まれる微量の芳香族化合
物から説明される、測定可能なレベルのPCDD/Fが
検出された。直接合成が適切に制御されたオキシクロリ
ネーション法において起こらなかったことの発見は、周
囲空気中に存在する微量の芳香族化合物を無くすことに
より、PCDD/Fの発生が全体として低減されるかま
たは無くすことができるという利点を提供する。新規の
アプローチは、それ故、オキシクロリネーションにおい
てPCDD/Fを生成しうる前駆体化合物の源を無くす
ことを基礎とし、生成が避けられず、そして、発生した
後に下流での単離および廃棄物処分に集中するアプロー
チよりも好ましい。
【0012】本発明によると、塩素化炭化水素の製造の
ために操作されるオキシクロリネーション法が提供され
る。この方法は、1〜3個の炭素原子を含む炭化水素反
応体の固定床または流動床触媒オキシクロリネーション
を用いる。オキシクロリネーション法は、C1 〜C3
化水素反応体を空気およびHClと接触させることを含
む。フィードストックは150〜600℃で運転されて
いる加熱反応ゾーンにおいて反応し、ここで、塩素化炭
化水素生成物は反応ゾーンのエフルエントから回収され
る。この方法は、空気が、運転されているオキシクロリ
ネーション法において使用される前に、芳香族炭化水素
の除去のための手段により、処理されることを特徴とす
る。
【0013】本発明はPCDD/Fの直接合成が、工業
実施条件において、非芳香族炭化水素のオキシクロリネ
ーション法において必ずしも起こらないことを予期せず
に発見したことに基づくものである。空気を基礎とする
オキシクロリネーション法のエフルエント中に見られる
主要量のPCDD/Fは脂肪族炭化水素のオキシクロリ
ネーションの間の直接合成によるものでなく、空気フィ
ードストリーム中に発見される低レベルの芳香族化合物
によるものであることが示された。これらの芳香族化合
物は、本発明のオキシクロリネーション法において使用
される前に、従来の手段により空気から除去され、これ
により、オキシクロリネーションの間のPCBおよびP
CDD/Fへの転化を防止する。
【0014】空気の蒸留による芳香族炭化水素の除去
は、凝縮器を具備した容器において空気を凝縮する工
程、次に、非凝縮性気体から凝縮した蒸気を分離する工
程を含む。蒸発および凝縮の工程は、好ましくは、様々
な液体を蒸留するのに広く使用されているような、向流
多段精留手段を含む。
【0015】微量の芳香族化合物の除去のために空気を
処理するための他の手段は、当業界において知られてお
り、例えば、固体若しくは液体の吸着剤または吸収剤を
含む容器を通して空気を通過させることである。吸着剤
は当業界において知られており、そして、制限するわけ
ではないが、活性炭、ゼオライト、アルミナ、珪藻土、
様々な形態のシリカ、例えば、シリカゲル、および、担
持された、選択的に吸収または吸着するポリマー樹脂を
含む。液体の吸収剤は、制限するわけではないが、パラ
フィン、例えば、脂肪族炭化水素、例えば、ペンタン、
ヘキサン、C5〜C9 蒸留留分等および水を含む。
【0016】空気からの芳香族炭化水素の除去は、芳香
族炭化水素を飽和脂環式化合物へ転化させるための水素
源の存在下で、ニッケル、白金またはパラジウムのよう
な水素化金属触媒で空気を処理することを含む水素化反
応により、非芳香族種に転化させることによっても行わ
れることができる。
【0017】芳香族化合物を二酸化炭素および水に転化
させるための、酸素の存在下での酸化触媒上での触媒酸
化は芳香族化合物を空気から除去するための別の適切な
手段である。
【0018】空気から芳香族炭化水素を除去するための
特定の方法は、その選ばれた方法が、空気中の芳香族化
合物レベルを有効に約0.1ppt(または0.1ng
/g)未満に低減するかぎり重要ではなく、そして実施
者により、この開示の範囲をを越えて、単に入手できる
装置および好ましい経済性を基に選ばれることができ
る。更に、方法の選択は、特定の場所で周囲空気中に存
在する芳香族炭化水素レベルを基準にしてなされてもよ
い。例えば、ヒューストン地方モニタリングネットワー
クは空気中の1990年の年間平均ベンゼン濃度を1〜
3.5体積ppbと測定している。他の地域では、これ
より高いまたは低いレベルで含むであろう。使用可能な
予備処理工程の中で、好ましい方法は、酸化触媒での処
理、活性炭を含む吸着塔への空気の通過、およびパラフ
ィン液体での抽出を含む。
【0019】本発明の別の態様において、改良されたオ
キシクロリネーション法エフルエントが提供され、その
廃棄部分は、低減された、そして好ましくは0.1pp
b未満のポリ塩化芳香族化合物を含み、この方法のエフ
ルエントは、150〜600℃で運転されている加熱反
応ゾーンにおいて、オキシクロリネーション触媒と、C
1 〜C3 炭化水素反応体、例えば、メタン、エタン、エ
チレン、プロパン、プロピレン、アセチレン、プロピ
ン、クロロエタン、クロロプロパン、ジクロロメタン、
ジクロロエタン等とを空気および塩化水素の存在下で接
触させることによるオキシネーション法において製造さ
れる。
【0020】オキシクロリネーション法において使用さ
れる適切な触媒は従来から知られており、そして理解さ
れている。例は、米国特許第3,624,170 号、第4,446,24
9 号、第4,740,642 号および第5,011,808 号並びに欧州
特許出願公開第0255156 号に開示されている。接触オキ
シクロリネーションにおいて必要なプロセス条件も当業
界において知られており、そして確立されている。例は
Harpringらの米国特許第3,488,398 号に記載されてい
る。オキシクロリネーション触媒は固定床または流動床
のいずれのタイプの形態でも適切である。
【0021】1、2または3個の炭素原子を含む飽和炭
化水素のオキシクロリネーションの場合に、加熱反応ゾ
ーンは一般に300〜600℃で運転される。2または
3個の炭素原子を含む不飽和炭化水素のオキシクロリネ
ーションの場合に、加熱反応ゾーンは150〜300℃
で運転される。ハロゲン化誘導体も、本発明の方法を使
用して、有利に塩素化されることができ、そしてそれら
はクロロメタン、ジクロロメタン、クロロエタン、ジク
ロロエタン、トリクロロエタン、フルオロメタン、フル
オロエタン、フルオロプロパン、クロロフルオロメタ
ン、クロロフルオロエタン、クロロフルオロプロパンお
よびブロモ置換C1 〜C3 炭化水素を含む。プロセス
は、大気圧以上で運転される。反応体フィード気体HC
l/C2 4/O2 のモル比は、一般に、2/1〜1.
5/0.5〜1.0に維持される。塩素化生成物の更な
る処理は当業界において確立されている従来の熱分解お
よび/または精製手段を使用して可能である。
【0022】実験 幾つかの実験は、オキシクロリネーション法の酸素源と
して使用される空気ストリームからの芳香族化合物の注
意深い除去は、PCBおよびPCDD/Fの量を大きく
低下するであろうということを示すものであった。
【0023】210℃〜245℃で運転され、15〜4
0秒間の接触時間であり、そしてそれ以外は商業ユニッ
トでの運転の範囲である実験室スケールの流動床オキシ
クロリネーション反応器で反応を行った。接触時間は、
触媒床の流動床体積を、反応器制御温度および反応器塔
頂圧でのフィード気体の合計の体積流速で割った商とし
て規定される。幾つかの実験では、事前に測定したレベ
ルの芳香族化合物をフィード気体とともに反応器に導入
させた。他の実験は、ベンゼン、ジクロロベンゼンまた
はトルエンをモデル化合物として故意に添加することを
含んだ。ベースライン対照実験は、芳香族化合物がフィ
ードにもまたは触媒上にも存在しないで行われた。
【0024】PCBおよびPCDD/Fの定量分析を扱
う科学文献において、オキシクロリネーションおよび他
の方法において生成されるPCBおよび特にPCDD/
Fは触媒上に蓄積し、そして濃縮され、そして固体触媒
粒子から抽出可能な残留物において検出されることが報
告されている。De Vorming van PCDFs, PCDDs en Gerel
ateerde Verbindingen Bij de Oxychlorination van Et
heen, Evers, E.H.G.,Doctoral Thesis, University of
Amsterdam, 1989. MTC Pub. No.MTC89EE。下記に要約
される実験研究において、反応器エフルエント( 製品お
よび気体) および固体触媒粒子の両方に対して分析を行
った。分析の一貫性および単純化のために、触媒試料か
らの残留物に対する分析結果のみを下記に報告する。
【0025】オキシクロリネーション試験条件 孤立して製造した実験室スケールの流動床反応器を使用
した。触媒約300gを充填し、そして抵抗加熱の手段によ
り210℃〜245℃の温度に制御した。この装置を大
気圧で運転した。フィード気体、C2 4 、HClおよ
び空気またはN 2 およびO2 を触媒床からすぐ下で反応
器に導入した。流動床の接触時間が約25秒間であり、
そしてHCl/C2 4 /O2 のモルフィード比がそれ
ぞれ約1.96/1.0/1になるように、市販の質量
流量計を使用してフィード速度を維持した。
【0026】反応体および生成物は、生成気体を触媒粒
子と分離するディスエンゲイジメントゾーンへと流動床
を上に向かって通過する。生成気体は、その後、気体サ
ンプリングステーションへ、密閉系を通過して輸送され
る。分析が行われようとするときに、反応器および全て
の下流試料ラインは気体の露点より高く維持されている
ことが必須であった。
【0027】反応条件の間に反応器から触媒試料を取り
出した。反応器のボトム付近であるが、フィード気体が
導入される点よりも高い所にある試料ポートを開け、そ
して触媒試料を透明なガラスバイアル中に入れ、そして
シールした。
【0028】次の手順によりトルエンで触媒試料を抽出
した。5gの触媒を50ccのクリンプバイアルに入れ
た。トルエン(25ml)を加え、そして試料を機械的
に7時間振り、その後、約15時間放置した。触媒およ
び溶剤を、#2ワットマン紙を通して濾過して6ドラム
のアンバーバイアルに入れた。2,4,8-トリクロロジベン
ゾジオキシンを内部回収標準として加えた。試料を、そ
の後、蒸発乾固させた。残留物を2〜3mlのイソオク
タン中に再溶解させ、4mlのアンバーバイアルに移
し、そして加熱することなく蒸発乾固させた。GC分析
のために残留物を0.1mlのオクタン中で抽出した。
【0029】GC分析による2種の方法を用いた。電子
捕獲検知器(ECD)およびRTX−5コラムを具備し
たHP5890シリーズII GCで定量スクリーニン
グを行った。HP5790質量選択検知器および30m
XTI−5毛細管コラム(0.25μmフィルム)を具
備したHP5870 GCで定量分析を行った。試料サ
イズは2μlであり、そしてコラム条件は70℃で2分
間、15℃/分で300℃まで上昇、および17.7分
の浸漬時間であった。検出限界は反応器から取り出され
た触媒1g当たりに0.1ngのPCBまたはPCDD
/Fであった。
【0030】下記に報告した定量データは触媒上でのn
g/g単位で示す。8、9および10個の塩素原子を含
むPCBの値は合計して、「PCBs」として報告され
る。ヘッディングの下の「OCDD」および「OCD
F」はそれぞれ八塩素化ジベンゾジオキシンおよび八塩
素化ジベンゾフランである。オキシクロリネーション法
はより高度に塩素化されたPCDFの生成を優先し、こ
の為、より低い塩素化の、より環境に危険な種よりも低
い毒性の誘導体の生成を優先することが当業界において
知られている。
【0031】実験室のオキシクロリネーション反応器に
おいて事前に使用した触媒、添加した芳香族炭化水素お
よび塩素化芳香族炭化水素の存在下で実験室オキシクロ
リネーション反応において事前に使用した触媒ととも
に、フレッシュ触媒で実験を行った。塩素化エテン誘導
体が芳香族化合物またはその既知の前駆体(ブタジエン
の誘導体)となるかどうかを決定するためにも実験を行
った。全ての場合に、反応器へのフィードがC2 4
HCl、O2 およびN2 のみを含むときには、C 2 炭化
水素の芳香族化またはPCBまたはPCDD/Fの生成
の証拠は見つからなかった。
【0032】例1フレッシュ触媒(ベースライン) 米国特許第5,292,703 号に開示されたタイプのフレッシ
ュのオキシクロリネーション触媒の試料を上記のように
抽出した。定量的および定性的GC分析は、フレッシュ触
媒は、ほんのわずかなレベルのPCBおよびPCDD/
Fしか含まないことを示した。見られた汚染レベルは、
文献中に報告されたものと一致していた。それは様々な
市販材料および非売材料に見られるバックグランドレベ
ルと同様である。
【0033】ベースラインを作るために、フレッシュ触
媒の5個の追加の試料でこの分析を繰り返した。結果を
下記の表1に要約する。単位は製造されたEDC1g当
たりのナノグラム(ng/g)で示される。
【0034】 表1触媒 PCBs(ng/g) OCDD(ng/g) OCDF(ng/g) 1−A <0.1 検知されず 約0.8 1−B <5 検知されず <5 1−C 3.0 検知されず 2.3 1−D <1 検知されず <1 1−E <1 検知されず <1 1−F <1 検知されず <1
【0035】例2(比較) 225℃で運転され、HCl/C2 4 /O2 のモル比
が1.97/1.0/1.1および接触時間が約25秒
間に制御されている実験室オキシクロリネーション反応
器においてフレッシュ触媒の試料を使用した。HCl、
エチレンおよび空気を芳香族化合物の除去のために定量
的に予備処理した。上記のように触媒をサンプリング
し、そして抽出した。驚くべきことに、高いレベル(ベ
ースラインの実験と比較して)のPCBまたはPCDD
/Fの証拠は触媒粒子の定量分析では見られなかった。
避けられないポリ塩素化芳香族化合物の直接合成が起こ
っていたとすれば、触媒粒子上のPCBおよび/または
PCDD/Fの容易に検知可能な増加が観測されていた
はずである。それ故、芳香族化合物を除去するための適
切な手段を使用した処理の後には、空気中に芳香族化合
物が存在せず、オキシクロリネーションエフルエントは
低いレベルのPCBおよびPCDD/Fを含む。
【0036】例3(比較) フレッシュ触媒を上記の条件で実験室オキシクロリネー
ション反応器中に入れた。主にキシレンおよびC3 −ベ
ンゼンからなる芳香族炭化水素の混合物を、空気フィー
ド速度を基準に約100ppbの混合レベルで導入し
た。反応を約24時間行い、安定状態にさせ、そして上
記のように触媒をサンプリングし、そして分析した。G
C−MSD結果は、高くなったレベルのPCBおよびP
CDD/Fを示した:PCB=21.2ng/g;OC
DD=検知されず;OCDF=94.2ng/g。同様
の実験において、PCB=23.9ng/g;OCDD
=検知されず;OCDF=14.6ng/gであること
を確認した。これらの測定は、空気ストリーム中に存在
する芳香族化合物はオキシクロリネーションエフルエン
ト中に見られる、ベースラインより上の測定可能なポリ
塩素化芳香族化合物の量に貢献することを示す。
【0037】例4(比較) 例3と同様の手順により、空気フィード速度の約7%の
速度でベンゼンを6時間導入した。上記のように触媒を
サンプリングし、そして分析し、そして高いレベルのP
CBおよびPCDD/Fが見られた:PCB=5.3n
g/g;OCDD=検知されず;OCDF=1137n
g/g。
【0038】例5(比較) 例4と同様の手順により、空気フィード速度の約2%の
速度でトルエンを導入した。約6時間の暴露後の触媒の
分析は次の結果を示した:PCB=46.4ng/g;
OCDD=42.3ng/g;OCDF=315.6n
g/g。
【0039】例6(芳香化試験) オレフィンと反応して芳香族化合物を生成することが知
られているブタジエンおよびブタジエン誘導体を生成す
ることにクロロカーボンが参加するかどうかを決定する
ために、ペルクロロエチレンを、例5と同様の条件下で
運転している実験室オキシクロリネーション反応器に導
入した。GC−MSD分析による反応生成物の定量分析
はエタンおよびエテンの全ての塩素化誘導体の存在を示
した。しかし、C3 、C4 またはそれより高級の炭化水
素またはその誘導体の証拠は見られなかった。このこと
は、通常のオキシクロリネーション条件下で芳香化が起
こらないことを示す。上記の実験に使用されるタイプの
触媒は観測される挙動に関してユニークでなく、そし
て、商業的使用における典型的なオキシクロリネーショ
ン触媒の単なる例示に過ぎない。
【0040】議論 例1は、オキシクロリネーション反応における使用の前
に、フレッシュ触媒はほんの微量のPCBおよびPCD
D/Fを含むことを示した。例2は、本方法において使
用される全てのフィード成分が芳香族化合物を含まない
ときに、工業規模の運転に適切な条件下でPCBおよび
PCDD/Fの直接合成が起こらないという意外な結果
を示す。本方法から蓄積される排水スラッジおよび粗E
DC中に含まれる重質エンド副生成物はゼロレベルのP
CBおよびPCDD/Fに近づき、または到達すること
ができるので、オキシクロリネーション法エフルエント
中にPCBおよびPCDD/Fの生成が起こることを防
止されるという利点がある。排水エフルエントの汚染物
除去の工程を無くすという大きな経済的な利点もある。
環境汚染は究極的に低減される。上記の理解から見て、
塩素化、塩化水素化および逆のプロセスのような他の同
様の方法への本発明の応用が評価されるであろう。PC
BおよびPCDD/Fの生成を防止することができる能
力は、脂肪族炭化水素の芳香族炭化水素への転化を防止
する条件下で、塩素、塩化水素および脂肪族炭化水素を
使用するいかなる工業法でも達成可能である。本発明は
芳香族およびポリ塩素化芳香族化の直接合成が本質的に
起こる方法、または、芳香族化合物が方法の一部に用い
られる方法には応用できない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョセフ アレン カウファー アメリカ合衆国,オハイオ 44012,エイ ボン レイク,ロックウッド コート 522 (72)発明者 ローレンス ポピエル アメリカ合衆国,テキサス 77059,ヒュ ーストン,ビューフィールド コート 13902

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クロロベンゼン、ポリ塩素化ビフェニル
    (PCB)、ポリ塩素化ジベンゾジオキシン(PCD
    D)およびポリ塩素化ジベンゾフラン(PCDF)の生
    成を低減して塩素化炭化水素を製造するための改良され
    た方法であって、前記方法は、メタン、エタン、エチレ
    ン、アセチレン、プロパン、プロピレン、メチルアセチ
    レンおよびそれらのハロゲン置換体からなる群より選ば
    れたC1〜C3 炭化水素反応体を出発材料とし、前記方
    法は、前記反応体と空気若しくは酸素を豊富に含む空気
    および塩化水素とを接触させることを含み、ここで、接
    触は150℃〜600℃で運転されている加熱反応ゾー
    ンにおいて銅(II)オキシクロリネーション触媒の存在下
    で行われ、塩素化炭化水素は反応ゾーンのエフルエント
    から回収され、前記方法は空気が芳香族炭化水素の除去
    のための手段により予備処理されることを特徴とする方
    法。
  2. 【請求項2】 前記空気からの芳香族化合物の除去のた
    めの前記手段が蒸留、吸着、吸収、水素化および酸化か
    らなる群より選ばれたものである請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 芳香族化合物の除去のための前記手段
    が、(a)前記空気を活性炭を含む容器に通過させるこ
    と、(b)前記空気を活性炭で処理すること、(c)前
    記空気をシリカで処理すること、(d)前記空気を芳香
    族化合物吸着性樹脂で処理すること、(e)前記空気を
    水素化プロセスに付すこと、(f)脂肪族液体炭化水素
    で空気を抽出すること、および、(g)前記空気を酸化
    プロセスに付すこと、からなる群より選ばれたものであ
    る、請求項1記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記炭化水素がメタン、エタンおよびプ
    ロパンからなる群より選ばれ、且つ、前記加熱反応ゾー
    ンが300℃〜600℃で運転される、請求項1記載の
    方法。
  5. 【請求項5】 前記炭化水素がエチレン、アセチレン、
    プロピレンおよびメチルアセチレンからなる群より選ば
    れ、且つ、前記加熱反応ゾーンが150℃〜300℃で
    運転される、請求項1記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記炭化水素がエチレンである、請求項
    1記載の方法。
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