JPH09194443A - ４，６−ジアミノレゾルシノールの製造方法 - Google Patents
４，６−ジアミノレゾルシノールの製造方法Info
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- JPH09194443A JPH09194443A JP8002932A JP293296A JPH09194443A JP H09194443 A JPH09194443 A JP H09194443A JP 8002932 A JP8002932 A JP 8002932A JP 293296 A JP293296 A JP 293296A JP H09194443 A JPH09194443 A JP H09194443A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 可溶性金属触媒を用いて、4,6-ビス（アリー
ルアゾ）レゾルシノールから4,6-ジアミノレゾルシノー
ルを工業的有利に製造する。 【解決手段】 4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノー
ルを、溶媒中、可溶性金属触媒の存在下に水素化分解反
応させて、4,6-ジアミノレゾルシノールを製造するにあ
たり、予め水素と接触させた4,6-ビス（アリールアゾ）
レゾルシノールと溶媒の混合物と、可溶性金属触媒を混
合した後、水素化分解反応させることを特徴とする、4,
6-ジアミノレゾルシノールの製造方法。
ルアゾ）レゾルシノールから4,6-ジアミノレゾルシノー
ルを工業的有利に製造する。 【解決手段】 4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノー
ルを、溶媒中、可溶性金属触媒の存在下に水素化分解反
応させて、4,6-ジアミノレゾルシノールを製造するにあ
たり、予め水素と接触させた4,6-ビス（アリールアゾ）
レゾルシノールと溶媒の混合物と、可溶性金属触媒を混
合した後、水素化分解反応させることを特徴とする、4,
6-ジアミノレゾルシノールの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、4,6-ジアミノレゾ
ルシノールの製造方法に関し、詳しくは4,6-ビス（アリ
ールアゾ）レゾルシノールを、溶媒中、可溶性金属触媒
の存在下に水素化分解反応させることによる、4,6-ジア
ミノレゾルシノールの製造方法に関するものである。
ルシノールの製造方法に関し、詳しくは4,6-ビス（アリ
ールアゾ）レゾルシノールを、溶媒中、可溶性金属触媒
の存在下に水素化分解反応させることによる、4,6-ジア
ミノレゾルシノールの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】4,6-ジアミノレゾルシノールは、耐熱
性、耐薬品性に優れた特性を有するポリベンゾビスオキ
サゾール等の原料として有用である（例えば特表昭 61-
501452号公報(=WO 85/04178)、特開平 2-229143 号公
報）。また、その製造方法として、本発明者等は、例え
ば4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールを、溶媒
中、パラジウム−炭素等の非可溶性触媒、酢酸パラジウ
ム等の可溶性触媒などの金属触媒の存在下に水素を導入
して水素化分解反応させる方法を提案している( 特開平
7-242604 号公報)
性、耐薬品性に優れた特性を有するポリベンゾビスオキ
サゾール等の原料として有用である（例えば特表昭 61-
501452号公報(=WO 85/04178)、特開平 2-229143 号公
報）。また、その製造方法として、本発明者等は、例え
ば4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールを、溶媒
中、パラジウム−炭素等の非可溶性触媒、酢酸パラジウ
ム等の可溶性触媒などの金属触媒の存在下に水素を導入
して水素化分解反応させる方法を提案している( 特開平
7-242604 号公報)
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、触媒と
して、酢酸パラジウム等の可溶性金属触媒を用いた場合
は、パラジウム−炭素等の非可溶性金属触媒を用いた場
合に比し、目的物の収率が低いという難点があった。本
発明者等は、かかる難点を解決すべく、鋭意検討を重ね
た結果、予め水素と接触させた原料4,6-ビス（アリール
アゾ）レゾルシノールと溶媒との混合物に、触媒を混合
することにより、目的物の収率が著しく向上することを
見出し、本発明を完成した。
して、酢酸パラジウム等の可溶性金属触媒を用いた場合
は、パラジウム−炭素等の非可溶性金属触媒を用いた場
合に比し、目的物の収率が低いという難点があった。本
発明者等は、かかる難点を解決すべく、鋭意検討を重ね
た結果、予め水素と接触させた原料4,6-ビス（アリール
アゾ）レゾルシノールと溶媒との混合物に、触媒を混合
することにより、目的物の収率が著しく向上することを
見出し、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、4,6-
ビス（アリールアゾ）レゾルシノールを、溶媒中、可溶
性金属触媒の存在下に水素化分解反応させて、4,6-ジア
ミノレゾルシノールを製造するにあたり、予め水素と接
触させた4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールと溶
媒の混合物と、可溶性金属触媒を混合した後、水素化分
解反応させることを特徴とする、4,6-ジアミノレゾルシ
ノールの工業的に優れた製造方法を提供するものであ
る。
ビス（アリールアゾ）レゾルシノールを、溶媒中、可溶
性金属触媒の存在下に水素化分解反応させて、4,6-ジア
ミノレゾルシノールを製造するにあたり、予め水素と接
触させた4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールと溶
媒の混合物と、可溶性金属触媒を混合した後、水素化分
解反応させることを特徴とする、4,6-ジアミノレゾルシ
ノールの工業的に優れた製造方法を提供するものであ
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の原料である4,6-ビス（アリールアゾ）レ
ゾルシノールにおける、アリールとしては、例えばフェ
ニル、置換基を有するフェニル、ナフチル、置換基を有
するナフチル等が挙げられる。ここで、置換基を有する
フェニル、置換基を有するナフチルにおける置換基とし
ては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、無
置換のまたは置換されたフェニル基、無置換のまたは置
換されたフェノキシ基、ヒドロキシル基、無置換のまた
は置換されたアミノ基、カルボキシル基、スルホン酸
基、ハロゲン原子などが挙げられる。
する。本発明の原料である4,6-ビス（アリールアゾ）レ
ゾルシノールにおける、アリールとしては、例えばフェ
ニル、置換基を有するフェニル、ナフチル、置換基を有
するナフチル等が挙げられる。ここで、置換基を有する
フェニル、置換基を有するナフチルにおける置換基とし
ては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、無
置換のまたは置換されたフェニル基、無置換のまたは置
換されたフェノキシ基、ヒドロキシル基、無置換のまた
は置換されたアミノ基、カルボキシル基、スルホン酸
基、ハロゲン原子などが挙げられる。
【０００６】低級アルキル基の具体例は、メチル、エチ
ル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、
i-ブチル、t-ブチルなどであり、低級アルコキシ基の具
体例は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポ
キシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、i-ブトキシ、t-ブト
キシなどである。フェニルまたはナフチルの置換基であ
るフェニル基およびフェノキシ基にさらに置換してもよ
い基としては、例えば、上記と同様の低級アルキル基、
上記と同様の低級アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙
げられる。フェニルまたはナフチルの置換基であるアミ
ノ基は、無置換であっても、モノ- またはジ- 置換であ
っても良く、アミノ基に置換していても良い基として
は、例えば上記と同様の低級アルキル基が挙げられる。
フェニルまたはナフチルは、以上説明したようないずれ
かの置換基１個によってあるいは同種または異種の置換
基２個以上によって置換されていてもよい。
ル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、
i-ブチル、t-ブチルなどであり、低級アルコキシ基の具
体例は、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、i-プロポ
キシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、i-ブトキシ、t-ブト
キシなどである。フェニルまたはナフチルの置換基であ
るフェニル基およびフェノキシ基にさらに置換してもよ
い基としては、例えば、上記と同様の低級アルキル基、
上記と同様の低級アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙
げられる。フェニルまたはナフチルの置換基であるアミ
ノ基は、無置換であっても、モノ- またはジ- 置換であ
っても良く、アミノ基に置換していても良い基として
は、例えば上記と同様の低級アルキル基が挙げられる。
フェニルまたはナフチルは、以上説明したようないずれ
かの置換基１個によってあるいは同種または異種の置換
基２個以上によって置換されていてもよい。
【０００７】アリールのなかでも、無置換のフェニルも
しくはナフチルまたは、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、フェノキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、N-置
換アミノ基、N,N-ジ−置換アミノ基のような電子供与性
基で置換されたフェニルもしくはナフチルが好ましい。
さらに好ましいアリールとしては、フェニルおよびp-メ
トキシフェニルが挙げられ、とりわけp-メトキシフェニ
ルであるものが好ましく使用される。
しくはナフチルまたは、低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、フェノキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基、N-置
換アミノ基、N,N-ジ−置換アミノ基のような電子供与性
基で置換されたフェニルもしくはナフチルが好ましい。
さらに好ましいアリールとしては、フェニルおよびp-メ
トキシフェニルが挙げられ、とりわけp-メトキシフェニ
ルであるものが好ましく使用される。
【０００８】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
の代表例としては、例えば次のようなものが挙げられ
る。4,6-ビス（フェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビ
ス（α−ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス（β
−ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-ま
たは4-メチルフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス
(2-、3-または4-メトキシフェニルアゾ) レゾルシノー
ル、4,6-ビス (2-、3-または4-ビフェニルイルアゾ）レ
ゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-または4-フェノキシフ
ェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス（2-、3-または
4-ヒドロキシフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス
（2-、3-または4-アミノフェニルアゾ）レゾルシノー
ル、4,6-ビス[(2-、3-または4-(N,N- ジメチルアミノ）
フェニルアゾ] レゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-また
は4-カルボキシフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビ
ス (2-、3-または4-スルホフェニルアゾ）レゾルシノー
ル、4,6-ビス (2-、3-、4-、5-、5-、7-または8-スルホ
-1- ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス (1-、3
-、4-、5-、6-、7-または8-スルホ-2- ナフチルアゾ）
レゾルシノールなど。
の代表例としては、例えば次のようなものが挙げられ
る。4,6-ビス（フェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビ
ス（α−ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス（β
−ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-ま
たは4-メチルフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス
(2-、3-または4-メトキシフェニルアゾ) レゾルシノー
ル、4,6-ビス (2-、3-または4-ビフェニルイルアゾ）レ
ゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-または4-フェノキシフ
ェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス（2-、3-または
4-ヒドロキシフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス
（2-、3-または4-アミノフェニルアゾ）レゾルシノー
ル、4,6-ビス[(2-、3-または4-(N,N- ジメチルアミノ）
フェニルアゾ] レゾルシノール、4,6-ビス (2-、3-また
は4-カルボキシフェニルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビ
ス (2-、3-または4-スルホフェニルアゾ）レゾルシノー
ル、4,6-ビス (2-、3-、4-、5-、5-、7-または8-スルホ
-1- ナフチルアゾ）レゾルシノール、4,6-ビス (1-、3
-、4-、5-、6-、7-または8-スルホ-2- ナフチルアゾ）
レゾルシノールなど。
【０００９】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
は、公知の方法、例えば特開平 7-242604 号公報に記載
の方法に準拠して、対応するアリールアミンとレゾルシ
ノールから製造し得る。
は、公知の方法、例えば特開平 7-242604 号公報に記載
の方法に準拠して、対応するアリールアミンとレゾルシ
ノールから製造し得る。
【００１０】
【００１１】（式中、Ｘはアリールを表す。）
【００１２】本発明は、予め水素と接触させた4,6-ビス
（アリールアゾ）レゾルシノールと溶媒の混合物と、可
溶性金属触媒を混合することを特徴とするものである
が、溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、n-
プロパノール、i-プロパノール等の低級アルコールが通
常使用される。 低級アルコールは含水品であっても使
用し得る。溶媒の使用量は、4,6-ビス（アリールアゾ）
レゾルシノールに対して、通常１〜50重量倍程度、好ま
しくは２〜20重量倍程度である。
（アリールアゾ）レゾルシノールと溶媒の混合物と、可
溶性金属触媒を混合することを特徴とするものである
が、溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、n-
プロパノール、i-プロパノール等の低級アルコールが通
常使用される。 低級アルコールは含水品であっても使
用し得る。溶媒の使用量は、4,6-ビス（アリールアゾ）
レゾルシノールに対して、通常１〜50重量倍程度、好ま
しくは２〜20重量倍程度である。
【００１３】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
と溶媒の混合物と、水素との接触は、例えば攪拌等によ
って充分混合することにより実施される。水素は、混合
物中に導入しても良いし、反応器の気相部に導入しても
良い。また接触は、常圧下、加圧下いずれで実施しても
良い。その温度も特に限定はないが、室温下で通常実施
される。
と溶媒の混合物と、水素との接触は、例えば攪拌等によ
って充分混合することにより実施される。水素は、混合
物中に導入しても良いし、反応器の気相部に導入しても
良い。また接触は、常圧下、加圧下いずれで実施しても
良い。その温度も特に限定はないが、室温下で通常実施
される。
【００１４】予め水素と接触させた混合物と、可溶性金
属触媒との混合は、系を窒素等の不活性ガスで系を置換
した後、通常実施される。可溶性金属触媒としては、例
えば酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、ジクロ
ロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジ−μ
−クロロビス（η−アリル）パラジウム、ジクロロ（η
−1,5-シクロオクタジエン）パラジウム、ジクロロ（η
-2,5- ノルボルナジエン）パラジウム、ジクロロビス
（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾ
ニトリル）パラジウム、ジクロロビス（N,N-ジメチルホ
ルムアミド）パラジウム、ビス（アセチルアセトナト）
パラジウム、ビス（ジメチルグリオキシマト）パラジウ
ム等の有機パラジウム錯体が挙げられる。なかでも酢酸
パラジウムが好ましく用いられる。かかる触媒の使用量
は、4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールに対し
て、金属換算で、通常0.005 〜10重量％程度、好ましく
は0.01〜５重量％程度である。
属触媒との混合は、系を窒素等の不活性ガスで系を置換
した後、通常実施される。可溶性金属触媒としては、例
えば酢酸パラジウム、プロピオン酸パラジウム、ジクロ
ロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジ−μ
−クロロビス（η−アリル）パラジウム、ジクロロ（η
−1,5-シクロオクタジエン）パラジウム、ジクロロ（η
-2,5- ノルボルナジエン）パラジウム、ジクロロビス
（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾ
ニトリル）パラジウム、ジクロロビス（N,N-ジメチルホ
ルムアミド）パラジウム、ビス（アセチルアセトナト）
パラジウム、ビス（ジメチルグリオキシマト）パラジウ
ム等の有機パラジウム錯体が挙げられる。なかでも酢酸
パラジウムが好ましく用いられる。かかる触媒の使用量
は、4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノールに対し
て、金属換算で、通常0.005 〜10重量％程度、好ましく
は0.01〜５重量％程度である。
【００１５】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
を水素化分解反応させるに当たっては、系に水素を導入
することにより実施される。水素は、混合物中に導入し
ても良いし、反応器の気相部に導入しても良い。水素化
分解反応は、通常−30〜100 ℃℃、好ましくは10〜70℃
で実施される。水素圧は１〜100kg/cm2 ・G 程度、好ま
しくは１〜20kg/cm2・G 程度である。
を水素化分解反応させるに当たっては、系に水素を導入
することにより実施される。水素は、混合物中に導入し
ても良いし、反応器の気相部に導入しても良い。水素化
分解反応は、通常−30〜100 ℃℃、好ましくは10〜70℃
で実施される。水素圧は１〜100kg/cm2 ・G 程度、好ま
しくは１〜20kg/cm2・G 程度である。
【００１６】かくして、目的とする2,6-ジアミノレゾル
シノールが生成するするが、目的物は、例えば以下の方
法に反応マスから取り出すことができる。目的物が溶媒
に全部又は一部溶けている場合は、例えば反応液を濃
縮、冷却し、必要に応じてそこへ水素化分解に用いた溶
媒と異なる溶媒を加えて、目的物を結晶化させ、次いで
固液分離により、液体側に可溶性金属触媒とアリールア
ミンを、固体側に目的物を得ることができる。また目的
物が溶媒に不溶の場合は、固液分離により、液体側に可
溶性金属触媒とアリールアミンを、固体側に目的物を得
ることができる。これらの操作は、目的物が酸化されや
すいため、無酸素雰囲気下で行うことが望ましく、ある
いは、塩化スズのような還元剤の存在下で、これらの操
作を行ってもよい。
シノールが生成するするが、目的物は、例えば以下の方
法に反応マスから取り出すことができる。目的物が溶媒
に全部又は一部溶けている場合は、例えば反応液を濃
縮、冷却し、必要に応じてそこへ水素化分解に用いた溶
媒と異なる溶媒を加えて、目的物を結晶化させ、次いで
固液分離により、液体側に可溶性金属触媒とアリールア
ミンを、固体側に目的物を得ることができる。また目的
物が溶媒に不溶の場合は、固液分離により、液体側に可
溶性金属触媒とアリールアミンを、固体側に目的物を得
ることができる。これらの操作は、目的物が酸化されや
すいため、無酸素雰囲気下で行うことが望ましく、ある
いは、塩化スズのような還元剤の存在下で、これらの操
作を行ってもよい。
【００１７】得られた目的物は、必要に応じて鉱酸を加
えて鉱酸塩にしたあと、再結晶により、さらに精製する
ことができる。再結晶溶媒としては、水；塩酸、硫酸水
溶液、燐酸水溶液のような鉱酸水溶液；メタノール、エ
タノールのようなアルコール系溶媒；アセトンのような
ケトン系溶媒；N,N-ジメチルホルムアミドのような非プ
ロトン性極性溶媒などが挙げられ、これらをそれぞれ単
独で、または２種以上を組み合わせて用いることができ
る。好ましくは、水または塩酸が用いられる。再結晶
は、温度降下による晶析および、鉱酸の添加による酸析
のいずれでも行うことができ、またこれらを組み合わせ
ることもできる。
えて鉱酸塩にしたあと、再結晶により、さらに精製する
ことができる。再結晶溶媒としては、水；塩酸、硫酸水
溶液、燐酸水溶液のような鉱酸水溶液；メタノール、エ
タノールのようなアルコール系溶媒；アセトンのような
ケトン系溶媒；N,N-ジメチルホルムアミドのような非プ
ロトン性極性溶媒などが挙げられ、これらをそれぞれ単
独で、または２種以上を組み合わせて用いることができ
る。好ましくは、水または塩酸が用いられる。再結晶
は、温度降下による晶析および、鉱酸の添加による酸析
のいずれでも行うことができ、またこれらを組み合わせ
ることもできる。
【００１８】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。例中にある％は、特にことわらないかぎり重
量基準である。
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。例中にある％は、特にことわらないかぎり重
量基準である。
【００１９】実施例１ オートクレーブに、純度92.3％の4,6-(p- メトキシフェ
ニルアゾ) レゾルシノール 41gとメタノール227gを入
れ、窒素置換後、水素圧３kg/cm2・G に保ちながら25℃
で１時間攪拌することにより水素処理を実施した。次い
で常圧に戻し再度窒素置換した後、これに酢酸パラジウ
ム0.04g を加えて、再度水素圧３kg/cm2・G に保ちなが
ら40℃で攪拌を続けた。水素の吸収が停止したところ
で、25℃まで冷却して常圧に戻し、窒素置換した。次い
で窒素雰囲気下、反応マスを濾過することにより、粗4,
6-ジアミノレゾルシノールを固体として12g ( 含量61
％) を得た（理論収量の53％）。濾液を高速液体クロマ
トグラフィーで分析した結果、濾液中におけるp-アニシ
ジン回収率は98％、4,6-レゾルシノールは理論収量の24
％であった。窒素雰囲気下、得られた粗4,6-ジアミノレ
ゾルシノールと脱気した水227gと塩化第一スズ1gを混合
して０℃まで冷却した後、これに35％塩酸21g を加え
て、4,6-ジアミノレゾルシノールを塩酸塩として水に溶
解させた。 次いで、更に35％塩酸125g加えて結晶を析
出させ、結晶を濾過、乾燥することにより、4,6-ジアミ
ノレゾルシノール２塩酸塩（含量92％）9.1gを得た。
ニルアゾ) レゾルシノール 41gとメタノール227gを入
れ、窒素置換後、水素圧３kg/cm2・G に保ちながら25℃
で１時間攪拌することにより水素処理を実施した。次い
で常圧に戻し再度窒素置換した後、これに酢酸パラジウ
ム0.04g を加えて、再度水素圧３kg/cm2・G に保ちなが
ら40℃で攪拌を続けた。水素の吸収が停止したところ
で、25℃まで冷却して常圧に戻し、窒素置換した。次い
で窒素雰囲気下、反応マスを濾過することにより、粗4,
6-ジアミノレゾルシノールを固体として12g ( 含量61
％) を得た（理論収量の53％）。濾液を高速液体クロマ
トグラフィーで分析した結果、濾液中におけるp-アニシ
ジン回収率は98％、4,6-レゾルシノールは理論収量の24
％であった。窒素雰囲気下、得られた粗4,6-ジアミノレ
ゾルシノールと脱気した水227gと塩化第一スズ1gを混合
して０℃まで冷却した後、これに35％塩酸21g を加え
て、4,6-ジアミノレゾルシノールを塩酸塩として水に溶
解させた。 次いで、更に35％塩酸125g加えて結晶を析
出させ、結晶を濾過、乾燥することにより、4,6-ジアミ
ノレゾルシノール２塩酸塩（含量92％）9.1gを得た。
【００２０】比較例１ 実施例１において、オートクレーブに、4,6-(p- メトキ
シフェニルアゾ) レゾルシノールとメタノール入れて窒
素置換、水素と接触、再度窒素置換した後に酢酸パラジ
ウムを加える代わりに、4,6-(p- メトキシフェニルア
ゾ) レゾルシノールとメタノールと酢酸パラジウムを加
えて窒素置換する以外は、実施例１に準拠して反応を実
施した。水素の吸収が停止したところで、25℃まで冷却
して常圧に戻し、窒素置換した。反応マスを高速液体ク
ロマトグラフィーで分析したところ、4,6-ジアミノレゾ
ルシノールの収率は約10％であった。
シフェニルアゾ) レゾルシノールとメタノール入れて窒
素置換、水素と接触、再度窒素置換した後に酢酸パラジ
ウムを加える代わりに、4,6-(p- メトキシフェニルア
ゾ) レゾルシノールとメタノールと酢酸パラジウムを加
えて窒素置換する以外は、実施例１に準拠して反応を実
施した。水素の吸収が停止したところで、25℃まで冷却
して常圧に戻し、窒素置換した。反応マスを高速液体ク
ロマトグラフィーで分析したところ、4,6-ジアミノレゾ
ルシノールの収率は約10％であった。
【００２１】参考例１ 実施例１において、酢酸パラジウムの代わりに５％パラ
ジウム−炭素(52 ％含水品)0.88gを用い、オートクレー
ブに、4,6-(p- メトキシフェニルアゾ) レゾルシノール
とメタノール入れて窒素置換、水素と接触、再度窒素置
換した後に酢酸パラジウムを加える代わりに、4,6-(p-
メトキシフェニルアゾ) レゾルシノールとメタノールと
５％パラジウム−炭素を加えて窒素置換する以外は、実
施例１に準拠して反応を実施した。水素の吸収が停止し
たところで、25℃まで冷却して常圧に戻し、窒素置換し
た。次いで窒素雰囲気下、反応マスを濾過することによ
り、粗4,6-ジアミノレゾルシノールを固体として11g (
含量58％) を得た（理論収量の46％）。濾液を高速液体
クロマトグラフィーで分析した結果、濾液中におけるp-
アニシジン回収率は93％、4,6-レゾルシノールは理論収
量の33％であった。得られた粗4,6-ジアミノレゾルシノ
ールを実施例１に準拠して塩酸で処理することにより、
4,6-ジアミノレゾルシノール２塩酸塩（含量100 ％）8.
9gを得た。
ジウム−炭素(52 ％含水品)0.88gを用い、オートクレー
ブに、4,6-(p- メトキシフェニルアゾ) レゾルシノール
とメタノール入れて窒素置換、水素と接触、再度窒素置
換した後に酢酸パラジウムを加える代わりに、4,6-(p-
メトキシフェニルアゾ) レゾルシノールとメタノールと
５％パラジウム−炭素を加えて窒素置換する以外は、実
施例１に準拠して反応を実施した。水素の吸収が停止し
たところで、25℃まで冷却して常圧に戻し、窒素置換し
た。次いで窒素雰囲気下、反応マスを濾過することによ
り、粗4,6-ジアミノレゾルシノールを固体として11g (
含量58％) を得た（理論収量の46％）。濾液を高速液体
クロマトグラフィーで分析した結果、濾液中におけるp-
アニシジン回収率は93％、4,6-レゾルシノールは理論収
量の33％であった。得られた粗4,6-ジアミノレゾルシノ
ールを実施例１に準拠して塩酸で処理することにより、
4,6-ジアミノレゾルシノール２塩酸塩（含量100 ％）8.
9gを得た。
Claims (4)
- 【請求項１】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
を、溶媒中、可溶性金属触媒の存在下に水素化分解反応
させて、4,6-ジアミノレゾルシノールを製造するにあた
り、予め水素と接触させた4,6-ビス（アリールアゾ）レ
ゾルシノールと溶媒の混合物と、可溶性金属触媒を混合
した後、水素化分解反応させることを特徴とする、4,6-
ジアミノレゾルシノールの製造方法。 - 【請求項２】溶媒が、低級アルコールである請求項１に
記載の製造方法。 - 【請求項３】4,6-ビス（アリールアゾ）レゾルシノール
が、4,6-(p- メトキシフェニルアゾ) レゾルシノールま
たは4,6-( フェニルアゾ) レゾルシノールである請求項
１〜２に記載の製造方法。 - 【請求項４】可溶性金属触媒が、酢酸パラジウムである
請求項１〜３に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8002932A JPH09194443A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | ４，６−ジアミノレゾルシノールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8002932A JPH09194443A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | ４，６−ジアミノレゾルシノールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09194443A true JPH09194443A (ja) | 1997-07-29 |
Family
ID=11543130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8002932A Pending JPH09194443A (ja) | 1996-01-11 | 1996-01-11 | ４，６−ジアミノレゾルシノールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09194443A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999037601A1 (en) * | 1998-01-27 | 1999-07-29 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for producing 4,6-diaminoresorcinol or its salts |
-
1996
- 1996-01-11 JP JP8002932A patent/JPH09194443A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999037601A1 (en) * | 1998-01-27 | 1999-07-29 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for producing 4,6-diaminoresorcinol or its salts |
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