JPH09198719A

JPH09198719A - 情報記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09198719A
Application number: JP8026005A
Authority: JP
Inventors: Masataka Matsude; 雅隆松手; Hideo Owa; 英男応和
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-01-19
Filing date: 1996-01-19
Publication date: 1997-07-31

Abstract

(57)【要約】【課題】欠陥ピットを有するディスクの欠陥ピットを
修復して良品に転化させ、廃棄物を減らすこと、及びそ
の不法複製の防止。【解決手段】基板１に形成された欠陥ピット３に水溶
性透明樹脂６を充填して欠陥ピット３を修復し、その上
に光反射層７及び保護層８を形成して製品として完成さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体及び
その製造方法に関し、例えば、光ディスクの欠陥部の修
復及び光ディスクの複製を防止する構造及びその製造方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは、レーザービームを用いて
情報の読み出し、或いは書き込み、消去を行うことがで
きる記録媒体として知られている。これは、1980年代の
コンパクトディスクを皮切りに、ディジタル化しかつ非
接触の高密度記録媒体として広く普及している媒体であ
り、音楽用としてだけではなく、コンピューターやゲー
ムなどあらゆる分野における情報記録媒体として、その
生産量は年々増加の傾向にある。

【０００３】そして、このような需要の増加に伴い、更
に高密度化が要求されるようになり、１ビット当たりの
記録単位面積は増々小さくなっている。しかし、これに
もかかわらず僅かな欠陥も許されない難しい技術が要求
されるため、必然的に不良品の量も増加している。

【０００４】しかし、これらの不良品は、アルミニウム
やアルミニウム合金などの光反射層を蒸着する前の製造
段階で判明したものは、粉砕して、使用可能な材料は再
度使用することもできるが、上記した以後の製造段階又
は完成後に不良品であることが判明したものは、廃棄さ
れるか又は別の用途、例えば、トレーなどに加工して用
いられている。

【０００５】このように、不良品については資源の有効
活用のため再利用の努力がなされてはいるが、廃棄され
ているものが多いのが実情である。従って、生産量の増
加及び高密度化に伴う不良品の増加に比例して廃棄され
る量も増加しており、このような実態は資源保護上から
大きな社会問題であり、早急な対策がこれからの最大の
課題である。

【０００６】また、一方では、不法に複製される、いわ
ゆる海賊版の流通も後を断たず、有効な防止対策が切望
されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な実情に鑑みてなされたものであって、不良品として廃
棄処分される量を減らし、しかも信頼性の高い光ディス
ク等の情報記録媒体を提供することを目的とするもので
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、不良品を良品に転
換する方法に着目し、この方法が複製防止にも活用でき
るとの結論を得て、本発明に到達したものである。

【０００９】即ち、本発明の情報記録媒体は、情報が記
録された第１のピットと、この第１のピットとは別の第
２のピットとを有し、前記第２のピットに水溶性材料が
充填されていることを特徴とする情報記録媒体に係るも
のである。

【００１０】そして、本発明は、情報が記録された第１
のピットと、この第１のピットとは別の第２のピットと
を形成する工程と、前記第２のピットに水溶性材料を充
填する工程とを有する、情報記録媒体の製造方法にも係
るものである。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明に基づく情報記録媒体にお
いては、上記の第２のピットに充填された水溶性材料が
水溶性透明樹脂であって、その分子量が 1,000〜100,00
0 の水溶性樹脂であることが望ましい。

【００１２】また、上記の基板面に第１のピット及び第
２のピットが形成され、これらのピットを含む面上に光
反射層及び保護層が順次積層されていることが望まし
い。

【００１３】また、上記の第２のピットへの水溶性材料
の充填が、欠陥ピットの修復、及びピットの複製防止を
目的としてなされていることが望ましい。

【００１４】これにより、この情報記録媒体は、光反射
層及び保護層を基板から除去する際に、第２のピットに
充填された水溶性材料も除去されるように構成すること
ができる。

【００１５】従って、上記のようにして水溶性材料の除
去後に、再び第１のピット及び第２のピットを含む面上
に光反射層及び保護層を順次積層されるようになる。

【００１６】また、上記した情報記録媒体は、光反射層
がアルミニウム又はアルミニウム合金からなり、保護層
が紫外線硬化樹脂からなっていることが望ましい。

【００１７】また、上記の情報記録媒体は、基板、光反
射層又は半透明層及び保護層の組み合わせからなる単一
体、又はこの単一体の複数個の一体化物によって構成さ
れていてもよい。

【００１８】また、この製造方法における水溶性材料と
して、水溶性透明樹脂を用い、その分子量が 1,000〜10
0,000 の水溶性透明樹脂を用いることが望ましい。

【００１９】また、上記の製造方法は、基板上に光反射
層及び保護層が順次積層されている情報記録媒体を製造
するに際し、前記基板に形成した第２のピットを検出す
る工程と、前記第２のピットに分子量が 1,000〜100,00
0 の水溶性透明樹脂を充填する工程と、前記光反射層を
形成する工程と、前記保護層を形成する工程とを有して
いることが望ましい。

【００２０】そして、この場合、第１のピットに対応し
た凹凸を有するスタンパーの凹凸面に溶融した基板材料
を流し込む工程と、前記基板材料の流し込みによる凹凸
の転写時に発生した第２のピットに水溶性材料を充填す
る工程と、前記基板の転写面に光反射層を形成する工程
と、この反射層上に保護層を形成する工程とを有してい
ることが望ましい。

【００２１】更に、第２のピットに水溶性材料を充填し
てピットを修復し、また、第２のピットに水溶性材料を
充填してピットの複製を防止するようにすることが望ま
しい。

【００２２】上記のように構成することにより、上記の
情報記録媒体は、水溶性材料の充填が不完全な場合は、
充填した水溶性材料と共に光反射層及び保護層を除去
し、しかる後に水溶性材料の充填を繰り返すことができ
る。

【００２３】更に、上記の製造方法では、スタンパーの
凹凸面にポリカーボネートを流し込んで射出成形してポ
リカーボネート基板にピットを形成する工程と、前記ピ
ットのうち欠陥ピットや再生禁止ピットとなる第２のピ
ットに水溶性材料を充填する工程と、スパッタ或いは蒸
着によりアルミニウム又はアルミニウム合金を 300〜80
0Å蒸着して光反射層を形成する工程と、アクリル酸ベ
ースの紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照射して５〜
12μｍの膜厚で保護層を形成する工程とを有することが
望ましい。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。

【００２５】ＣＤ（コンパクトディスク）からなる光デ
ィスク（以降、ディスクと称することがある。）の作製
プロセスは、原盤工程及び複製工程の二つに大別され
る。そして、図１が原盤工程、図２が複製工程を示す図
であり、図３は上記した原盤工程及び複製工程のほか
に、更に記録する情報を予め作成し、編集する準備工程
を含めた光ディスク作製の一連のフロー図である。

【００２６】原盤の作製に際しては、まず図３に示すよ
うにプリマスタリング12と称する準備工程において、デ
ィスクに記録するものの編集内容をプログラミング13に
よって指示し、この編集方針に沿ってこれらが収録され
ているソフトウエア14から情報を記録してマスターテー
プ15を作製する。

【００２７】次いで、原盤工程であるマスタリング16の
工程が開始される。この工程においては、図１（ａ）及
び図１（ｂ）に示すように、まず、磨かれたガラス原板
（ガラスマスター）40を用意（図３における符号17に該
当する）し、この表面に感光材料であるフォトレジスト
41をスピンコート法等で一様に塗布する。なお、図１は
図４のＡ−Ａ線断面に対応する光ディスク９の一部分を
示す（以下、同様の各図は全て同じである）。

【００２８】次いで、図３のプリマスタリング12の段階
で作製したマスターテープ15を図３のように再生18しな
がら、レーザービームによる露光によって情報のレーザ
ー記録（カッティング）19を行い、これにより得られた
マスターディスクを現像液に浸して現像20する。このカ
ッティングには、カッティングシステムが使用され、図
１（ｃ）の状態が形成される。

【００２９】即ち、図１（ｂ）のように、フォトレジス
ト41が塗布されたガラス原板40をカッティングシステム
（図示省略）において、フォーマッタで制御されるスピ
ンドルモータで回転させながら、Ｈｅ−Ｃｄレーザーか
らのカッティングビームをＥＯＭ（電気光学変調器）、
ビームスプリッタ、ＡＯＭ（音響光学変調器）、ミラー
（又はビームスプリッタ）、更には対物レンズからなる
集光レンズを経てガラス原板40上に導く。

【００３０】この場合、Ｈｅ−Ｃｄレーザーからのカッ
ティングビームをＥＯＭ及びＡＯＭで変調し、変調され
たビーム４Ａ、４Ｂを図１（ｃ）のようにフォトレジス
ト41に選択的に照射、露光する。そして、上記したよう
に現像処理にて、ビーム４Ａ、４Ｂの照射部分41ａ、41
ｂのみをエッチング除去する。これにより、図３のマス
ターディスク21が完成する。このように、露光部分のみ
を除去すること（フォトレジスト41はポジ型）としたの
は、エッチング量をコントロールしてピット（又は後述
するグルーブ）の深さを決め易いからである。

【００３１】ここで、除去された部分41ａが例えばピッ
トに、41ｂが例えばプリグルーブに対応している。この
ピットのカッティングに用いる変調レーザー光４Ａは、
図３のプログラミング13について上記したように、マイ
クロコンピュータからなるフォーマッタによって上記し
たように予めプログラムされた周期で変調されたもので
ある。

【００３２】そして、このカッティング時に、レーザー
ビーム４Ａと同一光路上に、Ｈｅ−Ｎｅレーザーからの
サーボ用ビームをミラー、更にはレンズを介してガラス
原板40上に導き、このガラス原板40からの反射ビームを
逆方向へ戻し、ビームスプリッタを経てフォトディテク
タ上に入射させる。そして、このフォトディティクタに
よる検出結果に基づいて、フォーカスサーボ等を行って
いる。

【００３３】次いで、図３のニッケル電鋳22の前に、図
１（ｄ）のように全面に無電解めっき又はスパッタ法に
よって金属膜42を被着する。この金属膜42は、レジスト
41及びその除去部分41ａ、41ｂによる表面凹凸形状に追
随した凹凸形状を呈している。

【００３４】次いで、図１（ｅ）のように、全面に電気
めっきをかけ、例えばニッケルめっき層43を被着する。
そして、このめっき層43を剥離して図１（ｆ）のような
スタンパー44を作製する。このスタンパー44は、その凹
凸面には、グルーブとなる凸部51とランドとなる凹部52
とピットとなる凸部50とがそれぞれ形成されたものであ
る。このようにして、図３におけるニッケルスタンパー
工程23で、図１（ｆ）のようなスタンパー44が作製さ
れ、マスタリング（原盤工程）16が終了する。

【００３５】このようなスタンパー（原盤）44によって
基板１は複製されるが、例えば5.25インチや 3.5インチ
のＩＳＯフォーマットとして、各ピットによる信号を記
録するＣＤ（コンパクトディスク）用、ＭＤ（ミニディ
スク）用の如き場合には、１セクタ内にプリフォーマッ
ト部（アドレス部）、ミラーマーク部（フランジ部）、
データエリア部、更にはバッファ部を設けることがあ
る。

【００３６】このようにして作製したスタンパー44に、
基板材料として溶融したポリカーボネートを射出成形し
て、図１（ｇ）に示すように基板１が形成される。しか
し、図示の如く、基板１の記録面には、スタンパー44の
凸部50によって転写されたピット２を多数形成する。こ
の場合、射出成形時に、溶融した材料の気泡等により、
不規則に欠陥ピット３が発生することがある。

【００３７】このような欠陥ピット３は、発見されない
場合は後述する複製工程において、正常なピット２と共
にこの上に光反射層が形成され、更に保護層が被せられ
光ディスクとして完成するが、この欠陥ピット３は異常
情報を発する。

【００３８】従って、上記のような欠陥ピット３が形成
された光ディスクは、例えばプレイヤーで再生する場
合、欠陥ピット３から出る異常情報によりプレイヤーは
直ちに停止するか或いはノイズを発生する。全てのプレ
イヤーには、こうした異常信号を感知する機能が具備さ
れている。従って、このように欠陥ピット３が形成され
た光ディスクは製品の検査段階で選別され、製品として
市場に出荷されることもなく、これまでは前述したよう
に不良品として処分される場合が多かった。

【００３９】前述したように、生産量の増加及び高密度
化に伴って不良品の発生も増加しているが、これら不良
品の中には、修復することによって製品として再生可能
なものが多い。本実施例は、本発明に基づいて、このよ
うな再生可能なものは修復して製品として利用すること
により、不良品として処分する量を減らすための効果的
な手段を提起するものである。この修復の方法は、次の
ように複製工程で行っている。

【００４０】図２は、上記した図１の原盤工程で作製し
たスタンパー44により複製された基板１に対して所要の
加工を施す複製工程を示したものである。まず、図３の
複製工程24において、上記したように射出成形25により
大量の基板１が複製される。

【００４１】このようにして作製された図２（ａ）の基
板１に対して、予め検出された欠陥ピット３部分のみを
露出させて、図２（ｂ）のように、欠陥ピット３以外の
面をマスク５により遮蔽する。このマスク５の穴５ａの
サイズは欠陥ピット３の開口部よりも小さくしてあり、
直径 0.2〜0.4 μｍ程度になっている。

【００４２】次いで、図２（ｃ）のように、上記したマ
スク５の上から全面に水溶性透明樹脂６を塗布する。そ
して、この水溶性透明樹脂６は分子量 1,000〜100,000
のものが好適である。従って、欠陥ピット３にも水溶性
透明樹脂６が充填され、このマスク５を剥離すれば、図
２（ｄ）のように、欠陥ピット３は修復される。

【００４３】更に、塗布する樹脂としては、光反射や複
屈折を起こさない透明な樹脂でなければならず、また、
基板樹脂の再利用、後述する複写防止のために水溶性ま
たはアルコール（例えば低級アルコール）溶解性の樹脂
であることが必要である。この場合、水とアルコールと
の混合溶媒に樹脂を溶解させた溶液を用いると、塗布時
に表面張力が低下し、上記したマスク５の穴５ａのサイ
ズと相俟って、ピット３に充填された樹脂６の面が平坦
となる。

【００４４】上記のような、水溶性の透明ポリマー６の
例としては、ポリエチレングリコール、セルロース、グ
ルコース、糖類、澱粉、トラガカントゴム、ポリビニル
アルコール及びその塩化合物、ポリビニル硫酸カリウ
ム、ｐ−スチレンスルホン酸及びその塩化合物、ポリア
クリル酸及びその塩化合物及びポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチルアミノエチルアクリレート等の極性基を持つポ
リマーなどがあり、一般的な電解質はこの中に含まれ
る。

【００４５】これらのポリマーは混合しても使用可能で
あるが、望ましくは金属塩の樹脂が良く、また分子量
は、固体状であれば小さいほど、水溶液に溶け易いので
よい。この方法の利点は、欠陥ピットの修復に用いる水
溶性ポリマーの量も極めて少量でよく、また方法も簡単
である。

【００４６】上記において、欠陥ピット３を水溶性樹脂
６で充填した後、図２（ｅ）のように、基板１の上面に
スパッタリング法又は蒸着法により、アルミニウム又は
アルミニウム合金を 300〜800 Å蒸着して光反射層７を
形成する。この光反射層７は充填された水溶性透明樹脂
６によって欠陥ピット３が既になくなっていて、この樹
脂６の部分は基板１の一部分となり、しかも透明である
ため、再生時の読み取り動作には何ら支障はない。

【００４７】次いで、図２（ｆ）のように、上記した光
反射層７の上にアクリル酸ベースの紫外線硬化樹脂を塗
布し、これに紫外線を照射して５〜12μｍの厚みで保護
層８を形成する。この場合、アクリル酸ベースとして
は、例えば、２−ＥＡＨ（２−エチルヘキシルアクリレ
ート）、ＢＤＤＡ（１，４−ブタンジオールジアクリレ
ート）、Ｖicure 10（ベンゾイルイソブチルエーテル）
の３成分の共重合体であってよい。

【００４８】上記した図２（ｅ）及び図２（ｆ）の工程
が、図３における複製工程24のアルミニウムスパッタリ
ング26及び保護膜塗布27の工程であり、このようにし
て、製品全体の厚さｔが規格の 1.2mmのコンパクトディ
スク又はミニディスクが完成する。これにより、従来は
不良品として廃棄処分していたものは廃棄することなく
製品に使用させることができる。

【００４９】なお、上記のようにして、欠陥ピット３を
水溶性透明樹脂６で埋め込んで修復しても、埋め込み量
が不十分である等、その修復が不完全である場合は、再
度やり直しができる。

【００５０】即ち、このような場合には、そのディスク
をアルカリ性（特にｐＨ13以上、例えばｐＨ14）のアル
カリ溶液、又は酸性（特にｐＨ２以下、例えば 1.0）の
溶液の中へ浸漬して、超音波照射することにより、光反
射層７（例えばアルミニウム）を溶解させ、基板１から
剥離させ、これに伴って、欠陥ピット３に埋め込んだ水
溶性透明樹脂６も同時に除去される。ここで使用可能な
アルカリ溶液は例えばＮａＯＨ水溶液、酸性溶液は例え
ばＨＣｌ水溶液がある。

【００５１】これによって、基板１は図２（ａ）の状
態、即ち、スタンパー44により複製された直後の状態に
戻るので、上記した図２（ａ）〜図２（ｆ）の工程を再
び行えば、欠陥ピット３を完全に樹脂６で埋めることが
できる。

【００５２】欠陥ピット３の発生の原因は、前述したよ
うに、基板１の射出成形時の基板材料である溶融された
ポリカーボネート内の気泡のほかにも、例えば、上記し
たカッティング工程において数μｍの大きさの異物が付
着していた場合もその原因となる。そして、このような
欠陥の発生場所は通常は不規則的であるが、これらの欠
陥箇所は光学顕微鏡等で検出すれば、上記した修復を確
実に行うことができる。

【００５３】図４は、光ディスク９に転写されたピット
２と同じトラック上に欠陥ピット３が発生している場合
を誇張して示した図である。そして、このような欠陥ピ
ット３は１ケ所だけではなく、数ケ所に発生することも
あるが、たとえ１ケ所にあっても、そのままではその光
ディスクは不良品となるため、本発明に基づく欠陥修復
のもつ意義は大きい。

【００５４】上記した光ディスクは基板１、光反射層７
及び保護層８の組み合わせからなるいわゆる１層式の光
ディスクであるが、記録容量の増大化に伴い、上記した
１層式を貼り合わせ又は積み重ねたいわゆる２層式化の
傾向がある。しかし、２層式の場合も１層式と同様に、
欠陥ピットは同じ原因で発生する。

【００５５】図５は、２層式光ディスクの一例を示す製
造工程である。この光ディスクの場合も、製造プロセス
は前記したものと光反射層７の形成過程は同じである。
従って、スタンパーによる複製工程の要点につい説明す
る。

【００５６】即ち、図５（ａ）のように、Ａ面Ａを有す
る基板１を第１のスタンパー44により射出成形し、次い
で、図５（ｂ）のように、Ｂ面Ｂを有する基板１を第２
のスタンパー44Ａにより射出成形する。そして、いずれ
にも欠陥ピット３が発生したとする。

【００５７】次いで、図５（ｃ）及び図５（ｄ）のよう
に、欠陥ピット３に前記と同様に水溶性透明樹脂６を充
填後に、アルミニウムを用いて光反射層７、７’が形成
される。これにより、欠陥ピット３は修復される。

【００５８】上記のようにして形成した基板１のＡ面Ａ
とＢ面Ｂとを向かい合わせて全体の厚さを 1.2mmに一体
化し、図示のように間の空間には紫外線硬化樹脂からな
る保護層８を介在させる。

【００５９】この場合、基板１には半透明の誘電体材料
の光反射層７’又はアルミニウムの光反射層７が使用さ
れる。従って、Ａ面Ａのある基板１に半透明の光反射層
７’が形成された場合は、Ａ面Ａ側からの片側の読み取
り用となり、またアルミニウムの光反射層７が形成され
る場合は、両面からの読み取り用となる。

【００６０】また、図６は２層式光ディスクの他の例を
示す製造工程である。この光ディスクの場合も製造のプ
ロセスは同じであるので要点について説明する。

【００６１】この２層式光ディスクも図５の場合と同様
に、Ａ面Ａ及びＢ面Ｂのある基板１、１が図６（ａ）及
び図６（ｂ）のようにして作製される。そして、それぞ
れの基板１、１に欠陥ピット３が形成されたとすれば、
欠陥ピット３を水溶性透明樹脂６で埋めた後に、図６
（ｃ）及び図６（ｄ）のようにアルミニウムを使用して
光反射層７を形成する。

【００６２】更に、光反射層７の上にそれぞれに紫外線
硬化樹脂を塗布して保護層８を形成した後、図６（ｅ）
のように背中合わせ状態で全体の厚さｔが 1.2mmになる
ようにして、接着剤を用いて接着したものである。従っ
て、この場合は両面からの読み取り用となっている。

【００６３】図７は、更に他の２層式光ディスクの例を
示す製造工程である。この光ディスクは、前記した図２
の場合と同様の製造プロセスを経ながら作製される。即
ち、図７（ａ）〜図７（ｃ）までは、半透明の光反射層
７’が形成される以外は図２の場合と同じであり、図７
（ｃ）が図２（ｆ）の状態である。そして、これにより
Ａ面Ａが完成する。

【００６４】そしてこの場合は、図７（ｄ）のように、
保護層８’の上から第２のスタンパー44Ａにより保護層
８’に情報が転写され、これによりＢ面Ｂのある基板１
にピット２が形成される。しかし、この場合は、ピット
は射出成形により形成するものではないので、図示のよ
うに欠陥ピットは通常生じない。

【００６５】上記のように形成されたＢ面Ｂのある基板
１のピット上には、図７（ｅ）のようにアルミニウムを
使用した光反射層７が形成され、更にその上に図７
（ｆ）のように、紫外線硬化樹脂で保護層８が形成され
て全体の厚さｔを 1.2mmにして完成する。従って、この
２層式光ディスクはＡ面Ａ側からの読み取り用である。

【００６６】本発明に基づく欠陥ピットの修復方法は、
上記した１層式又は２層式に限らず、これ以上の多層式
でも適用可能である。

【００６７】このように、欠陥ピット３が水溶性透明樹
脂の充填により修復されることにより、それぞれの２層
式光ディスクにおいても欠陥ピットは修復され、異常信
号を発することはない。そして、勿論、このような２層
式の場合も修復が不完全な場合は前記したのと同じくア
ルカリ溶液又は酸性溶液に浸けて超音波照射し、アルミ
ニウム層７又は半透明反射層７’及び保護層８を除去
し、再度修復をやり直すことができる。

【００６８】光ディスクでは、情報はディスク面上に例
えば幅１μｍ以下、トラックピッチは例えば約２μｍ程
度のピットの配列で記録されている。そして、情報の記
録再生には、直径約１〜２μｍに絞り込まれたレーザー
光束が用いられる。図８は、記録再生用の光学系の基本
構成を示したものである。

【００６９】即ち、レーザー31から出射されたレーザー
光束Ｌ₁はレンズ32によって拡大光束Ｌ₂になり、追従
ミラー34を経て絞り込みレンズ33によって縮小されなが
ら光ディスク28上の情報記録面に微小スポットＬ₃とし
て絞り込まれて入射する。そして、情報記録面からの反
射光は、入射時と同じ光路を戻り、ビームスプリッター
35によって光検出器36へ導かれる。

【００７０】情報再生時には、レーザー31は連続発振し
光ディスク28の情報記録面上のピットの有無による反射
光の強度変化を光検出器36で捕らえて信号を再生する。

【００７１】情報の記録再生時には、光ディスク28上の
情報記録面はディスク基板の反りやうねり等により、回
転に応じて上下に振動するので、これをフォーカスサー
ボ機構で制御して対物レンズ33を矢印37のように振動さ
せている。また、ディスク上の情報トラックは、ディス
クの偏心や歪み等によって半径方向に移動するので、ト
ラッキングサーボをミラー38のように行う。

【００７２】図８は、１層式光ディスクを例として説明
したが、これが２層式の場合には、レンズ33がＡ面及び
Ｂ面のある各基板の情報記録面にレーザースポットＬ₃
の焦点を合わせるように上下動する。そして、このよう
な情報再生用としてのレーザー31は、Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー、半導体レーザー等が通常は用いられている。

【００７３】上記のような情報記録媒体の読み取り機構
によっても、前述した修復ピットは、異常信号として捕
足されることはない。従って、いわゆる海賊版と称され
る不法複製を防止することができる。これについて、以
下に説明する。

【００７４】図９〜図12は、前述した光ディスクが不正
に複製される過程を要点的に示したものである。この場
合、不正な複製を行うためには、上記した光ディスクに
対しその光反射層及び保護層を剥離し、基板の凹凸面
（信号記録面）を復元することになる。こうした剥離の
ためには、例えばＥＰ公開No. 601719Ａ１に示されたア
ルカリ水溶液を用い、これにディスクを浸漬することに
より、基板から光反射層を剥離することが考えられる。

【００７５】従って、複製の過程では、まず、例えば図
９に示すように、ｐＨ14の水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）水溶液30を入れた容器29の中へ光ディスク28を浸漬
させる。この結果、図10のように構成されている（即
ち、欠陥ピット３が水溶性樹脂６で充填されている）光
ディスクにおいて、図11のように、光反射層７の溶解、
更には保護層８の剥離が生じ、これと同時に欠陥ピット
３に充填してある水溶性透明樹脂６もアルカリ水溶液に
溶出して除去され、元の欠陥ピット３が露出する。

【００７６】しかし、欠陥ピット３の存在については、
この光ディスクの製造者以外には認識されていないの
で、不正な複製者は通常の複製工程に則り、図11の基板
の凹凸面上に無電解めっき及び電気めっきを施してスタ
ンパーを作り、これを用いて基板を複製し、或いは図11
の基板１をそのまま用い、図12のように光反射層７及び
保護層８を形成して、光ディスク複製を完了する筈であ
る。しかし、このように複製された光ディスクは、欠陥
ピット３が正常なピット２と共にそのまま不可避的に複
製されることになる。

【００７７】従って、図４に示した状態は勿論、例えば
図13のように、故意に欠陥ピットに相当する疑似ピット
10を特定の場所（例えばカテゴリーコードの領域）に設
けておき、その欠陥ピットにも水溶性透明樹脂を充填し
ておけば、上記の要領により不正に複製された場合で
も、欠陥ピットの存在によってディスク再生時に自動的
にプレイヤーが停止するようにしておく。即ち、欠陥ピ
ットが再生禁止ピットとして機能するから、製品として
全く通用しないことになり、不法なディスク複製品の作
製又は流出の禁止を促す作用をする。

【００７８】勿論、この場合にも、欠陥ピット３はサブ
ミクロンサイズの疑似ピットであり、製造者以外には疑
似ピットであることを知るすべはない。従って、このよ
うな疑似ピットは図示の如く、ディスクの外周又は内周
側のカテゴリーコードの領域に設けることにより、これ
を複製してプレイヤーにかけた場合に直ちにプレイヤー
が感知することになるので効果的である。こうした再生
禁止ピットの数は僅かでよく、使用する水溶性樹脂も少
なくてよい。

【００７９】以上の本実施例の効果を実証するために、
市販のコンパクトディスクを用いて実施した各種の試験
結果及びその評価を以下に説明する。

【００８０】＜例１＞市販の音楽ＣＤをＣＤプレイヤー
で再生し、オリジナル信号とした。このＣＤをＮａＯＨ
を含むｐＨ14のアルカリ水溶液に浸け、超音波照射して
アルミニウム光反射層と保護膜を除去した。

【００８１】光反射層と保護膜を除去したディスク基板
の信号ピット４つに、 0.3μｍの孔が４つ開いたマスク
をディスクのピットと一致するように合わせて覆った。
重合度 500のポリビニルアルコール１重量部を、水10重
量部に対しメタノール30重量部を混合した溶媒に溶かし
た溶液をドクターブレードで塗布コートして、ドライヤ
の熱風で乾燥した。その後、マスクを剥がし、更に30
℃、真空中で10時間乾燥させたものにアルミニウム光反
射膜を蒸着してその上にスピンコート法で紫外線硬化樹
脂を一様に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ディス
クを作成した。このディスクをＣＤプレイヤーで再生
し、出力を評価した。

【００８２】更に、このディスクを上記したｐＨ14のア
ルカリ水溶液に浸け、超音波照射してアルミニウム光反
射層と保護膜を除去した。この際、ピットに埋め込まれ
た水溶性樹脂も除去された。このディスクにアルミニウ
ム光反射膜を蒸着して、その上にスピンコート法で紫外
線硬化樹脂を一様に塗布し、紫外線を照射して硬化さ
せ、前記した不法複製と同様にしてディスクを作成し、
再度その出力を評価した。

【００８３】＜例２＞塗布する樹脂を重合度 1,800〜2,
500 のポリビニルアルコールに代えた他はすべて例１と
同じである。

【００８４】＜例３＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
2,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例１と同じである。

【００８５】＜例４＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
53,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例１と同じである。

【００８６】＜例５＞塗布する樹脂を重量平均分子量 8
65,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例１と同じである。

【００８７】＜例６＞塗布する樹脂を重量平均分子量8
9,000のソジウムカルボキシキシメチルセルロースに代
えた他はすべて例１と同じである。

【００８８】＜例７＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
94のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例１と
同じである。

【００８９】＜例８＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,030のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例
１と同じである。

【００９０】＜例９＞塗布する樹脂を重量平均分子量2
3,000のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例
１と同じである。

【００９１】＜例10＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,800のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代えた他
はすべて例１と同じである。

【００９２】＜例11＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
00,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代えた他
はすべて例１と同じである。

【００９３】＜例12＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,132,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代え
た他はすべて例１と同じである。

【００９４】＜例13＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
8,000のポリビニル硫酸カリウムに代えた他はすべて例
１と同じである。

【００９５】＜例14＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
30,000のポリビニル硫酸カリウムに代えた他はすべて例
１と同じである。

【００９６】＜例15＞塗布する樹脂を重量平均分子量
2,100のポリアクリル酸ナトリウムに代えた他はすべて
例１と同じである。

【００９７】＜例16＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
25,000のポリアクリル酸カリウムに代えた他はすべて例
１と同じである。

【００９８】＜例17＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,800のポリビニルアルコールナトリウム塩に代えた他
はすべて例１と同じである。

【００９９】＜例18＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
45,000のポリビニルアルコールナトリウム塩に代えた他
はすべて例１と同じである。

【０１００】＜例19＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールと重量平均分子量17,000
のポリビニルアルコールナトリウム塩の５対５混合物に
代えた他はすべて例１と同じである。

【０１０１】＜例20＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールと重量平均分子量17,000
のポリビニルアルコールナトリウム塩の３対７混合物に
代えた他はすべて例１と同じである。

【０１０２】＜例21＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
3,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエチル
アクリレートに代えた他はすべて例１と同じである。

【０１０３】＜例22＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
30,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエチル
アクリレートに代えた他はすべて例１と同じである。

【０１０４】＜例23＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールナトリウムと重量平均分
子量13,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエ
チルアクリレートの５対５混合物に代えた他はすべて例
１と同じである。

【０１０５】＜例24＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
0,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムと重量平均
分子量13,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノ
エチルアクリレートの５対５混合物に代えた他はすべて
例１と同じである。

【０１０６】＜例25＞ｐＨ14のアルカリ水溶液に代えて
ｐＨ１の塩酸（ＨＣｌ水溶液）を用いた以外は例１と同
様に処理した。

【０１０７】＜例26＞塗布する樹脂を重合度 1,800〜2,
500 のポリビニルアルコールに代えた他はすべて例25と
同じである。

【０１０８】＜例27＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
2,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例25と同じである。

【０１０９】＜例28＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
53,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例25と同じである。

【０１１０】＜例29＞塗布する樹脂を重量平均分子量 8
65,000のヒドロキシプロピルセルロースに代えた他はす
べて例25と同じである。

【０１１１】＜例30＞塗布する樹脂を重量平均分子量8
9,000のソジウムカルボキシキシメチルセルロースに代
えた他はすべて例25と同じである。

【０１１２】＜例31＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
94のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例25と
同じである。

【０１１３】＜例32＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,030のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例2
5と同じである。

【０１１４】＜例33＞塗布する樹脂を重量平均分子量2
3,000のポリエチレングリコールに代えた他はすべて例2
5と同じである。

【０１１５】＜例34＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,800のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代えた他
はすべて例25と同じである。

【０１１６】＜例35＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
00,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代えた他
はすべて例25と同じである。

【０１１７】＜例36＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,132,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムに代え
た他はすべて例25と同じである。

【０１１８】＜例37＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
8,000のポリビニル硫酸カリウムに代えた他はすべて例2
5と同じである。

【０１１９】＜例38＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
30,000のポリビニル硫酸カリウムに代えた他はすべて例
25と同じである。

【０１２０】＜例39＞塗布する樹脂を重量平均分子量
2,100のポリアクリル酸ナトリウムに代えた他はすべて
例25と同じである。

【０１２１】＜例40＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
25,000のポリアクリル酸カリウムに代えた他はすべて例
25と同じである。

【０１２２】＜例41＞塗布する樹脂を重量平均分子量
1,800のポリビニルアルコールナトリウム塩に代えた他
はすべて例25と同じである。

【０１２３】＜例42＞塗布する樹脂を重量平均分子量 1
45,000のポリビニルアルコールナトリウム塩に代えた他
はすべて例25と同じである。

【０１２４】＜例43＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールと重量平均分子量17,000
のポリビニルアルコールナトリウム塩の５対５混合物に
代えた他はすべて例25と同じである。

【０１２５】＜例44＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールと重量平均分子量17,000
のポリビニルアルコールナトリウム塩の３対７混合物に
代えた他はすべて例25と同じである。

【０１２６】＜例45＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
3,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエチル
アクリレートに代えた他はすべて例25と同じである。

【０１２７】＜例46＞塗布する樹脂を重量平均分子量 2
30,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエチル
アクリレートに代えた他はすべて例25と同じである。

【０１２８】＜例47＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
7,000のポリビニルアルコールナトリウムと重量平均分
子量13,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノエ
チルアクリレートの５対５混合物に代えた他はすべて例
25と同じである。

【０１２９】＜例48＞塗布する樹脂を重量平均分子量1
0,000のポリスチレンスルホン酸ナトリウムと重量平均
分子量13,000のポリ塩化Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアミノ
エチルアクリレートの５対５混合物に代えた他はすべて
例25と同じである。

【０１３０】上記した各例の結果を下記の表１〜表６に
まとめて示し、それぞれの出力を評価した。各表におけ
る評価の記号は、○：完全に元の信号が読み取れる、
△：一部が読み取れない、×：読み取れない、を表した
ものである。

【０１３１】

【０１３２】

【０１３３】

【０１３４】

【０１３５】

【０１３６】

【０１３７】以上の各試験の結果から、欠陥ピットの充
填に用いる水溶性樹脂が、確実かつ容易にアルカリ水溶
液（実際には水）に溶けると共に、無色透明のものであ
れば（例１〜22、例25〜46）、欠陥ピットの修復効果が
良好である上に、再処理した場合には信号の再生が不可
能となり、不法な複製等を防止できることが明らかであ
る。

【０１３８】即ち、例１〜22及び例25〜46のように、本
実施例によれば、欠陥ピットに水溶性樹脂が充填される
ことにより、不良品を良品に転化できるため、歩留りが
向上し、不良品として処分する必要がなくなる。

【０１３９】また、充填材料として水溶性樹脂が用いら
れているので、アルカリ水溶液に浸漬することにより、
光反射層のアルミニウムや保護層と共に充填した水溶性
樹脂も容易に剥離されるから、水溶性樹脂の充填が不完
全な場合は再度やり直すことができ、また、修復場所が
隠されているのでこの方法を利用して不正な複製を防止
することもできる。更に、方法が簡単であり、これによ
り製造工程の増加に伴う工数の増加があっても、歩留り
の向上により生産効率は上昇する。

【０１４０】以上、本発明を実施例について説明した
が、上述した実施例は、本発明の技術的思想に基づいて
種々変形が可能である。

【０１４１】例えば、上述した水溶性樹脂の種類やその
溶媒は様々に変化させてよい。また上述した光反射層除
去用の薬剤はアルカリ水溶液以外にもそのメタノール、
エタノール、プロパノール等、低級アルコール水溶液で
あってよく、アルカリもＮａＯＨ以外であってよい。ま
た、アルカリの場合は処理速度が早いが、ＨＣｌ、Ｈ₂
ＳＯ₄等の酸溶液も効果がある。

【０１４２】また、上述の信号ピットと欠陥ピットは、
同時に形成されるが、これらは別々の時点で形成される
こともある。

【０１４３】コンパクトディスクやミニディスクのよう
な光ディスク以外にも、例えば、光を使わない情報記録
媒体などにも、本発明を適用することが可能である。

【０１４４】

【発明の作用効果】本発明は、情報が記録された第１の
ピットと、この第１のピットとは別の第２のピットとを
有し、前記第２のピットに水溶性材料が充填されている
ので、これにより、第２のピットが欠陥ピットであって
もこれが修復され、そのまま良品な製品に転化され、不
良品として処分する必要がなくなり、歩留りが向上す
る。また、修復が不完全な場合には、充填の材料が水溶
性であるため、アルカリ水溶液等に浸漬させることによ
り容易に溶解して除去され、再び修復することができ
る。

【０１４５】また、これにより、第２ピットが例えば複
製防止のために意図的に疑似ピットとして設けられる
と、これを水溶性材料で修復しておけば、その溶解、除
去により疑似ピットが現れるため、これが再生禁止ピッ
トとして機能し、媒体の複製を防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による光ディスクの作製工程の
一部分を示す概略断面図である。

【図２】同光ディスクの複製工程（欠陥修復を含む。）
を示す概略断面図である。

【図３】同光ディスク作製工程を示すフロー図である。

【図４】同光ディスクの情報記録面を一部拡大して示し
た平面図である。

【図５】同２層式光ディスクの複製工程における一部分
を示す概略断面図である。

【図６】同他の２層式光ディスクの複製工程における一
部分を示す概略断面図である。

【図７】同更に他の２層式光ディスクの複製工程におけ
る一部分を示す概略断面図である。

【図８】光ディスクの情報再生機構を示す概略図であ
る。

【図９】光ディスクをアルカリ水溶液に浸漬した状態を
示す図である。

【図10】同光ディスクの要部を示す断面図である。

【図11】図10の状態から光反射層及び保護層と共に、ピ
ットに充填した水溶性樹脂が除去された状態の基板を示
す断面図である。

【図12】図11の状態の基板に光反射層及び保護層を形成
して複製した状態を示す断面図である。

【図13】同光ディスクに疑似ピットの設置場所を一部拡
大して示す平面図である。

【符号の説明】

１・・・ＰＣ基板２・・・ピット３・・・欠陥ピット４Ａ、４Ｂ・・・レーザー光５・・・マスク６・・・水溶性透明樹脂７・・・Ａｌ反射膜７’・・・半透明膜８・・・保護膜９・・・光ディスク 10・・・疑似ピット 12・・・プリマスタリング（準備工程） 13・・・ソフトウエア準備 14・・・マスターテープ編集 15・・・プログラミング 16・・・原盤工程 18・・・マスターテープ再生 19・・・レーザー記録（カッティング） 20・・・マスターディスク 22・・・ニッケルめっき 23・・・ニッケルスタンパー 24・・・複製工程 25・・・射出成形 26・・・アルミニウムスパッタリング 27・・・保護膜塗布 28・・・完成したＣＤ又はＭＤ 28ａ・・・記録情報面 29・・・容器 30・・・アルカリ水溶液 31・・・レーザー 32・・・レンズ 33・・・絞り込みレンズ 40・・・ガラス原板 41・・・フォトレジスト 42・・・金属膜 43・・・めっき層 44・・・スタンパー 50・・・ピット 51・・・グルーブ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】情報が記録された第１のピットと、この
第１のピットとは別の第２のピットとを有し、前記第２
のピットに水溶性材料が充填されていることを特徴とす
る情報記録媒体。
【請求項２】第２のピットに充填された水溶性材料が
水溶性透明樹脂からなっている、請求項１に記載した情
報記録媒体。
【請求項３】水溶性材料が分子量 1,000〜100,000 の
水溶性樹脂である、請求項２に記載した情報記録媒体。
【請求項４】基板面に第１のピット及び第２のピット
が形成され、これらのピットを含む面上に光反射層及び
保護層が順次積層されている、請求項１に記載した情報
記録媒体。
【請求項５】第２のピットへの水溶性材料の充填が、
欠陥ピットの修復を目的としてなされている、請求項１
に記載した情報記録媒体。
【請求項６】第２のピットへの水溶性材料の充填が、
ピットの複製防止を目的としてなされている、請求項１
に記載した情報記録媒体。
【請求項７】光反射層及び保護層を基板から除去する
際に、第２のピットに充填された水溶性材料も除去され
るように構成した、請求項４に記載した情報記録媒体。
【請求項８】水溶性材料の除去後に、第１のピット及
び第２のピットを含む面上に光反射層及び保護層が順次
積層される、請求項７に記載した情報記録媒体。
【請求項９】光反射層がアルミニウム又はアルミニウ
ム合金からなっている、請求項４に記載した情報記録媒
体。
【請求項10】保護層が紫外線硬化樹脂からなってい
る、請求項４に記載した情報記録媒体。
【請求項11】基板、光反射層又は半透明層及び保護層
の組み合わせからなる単一体、又はこの単一体の複数個
の一体化物によって構成されている、請求項１に記載し
た情報記録媒体。
【請求項12】情報が記録された第１のピットと、この
第１のピットとは別の第２のピットとを形成する工程
と、前記第２のピットに水溶性材料を充填する工程とを有す
る、情報記録媒体の製造方法。
【請求項13】水溶性材料として、水溶性透明樹脂を用
いる、請求項12に記載した方法。
【請求項14】分子量が 1,000〜100,000 の水溶性透明
樹脂を用いる、請求項13に記載した方法。
【請求項15】基板上に光反射層及び保護層が順次積層
されている情報記録媒体を製造するに際し、前記基板に形成した第２のピットを検出する工程と、前記第２のピットに分子量が 1,000〜100,000 の水溶性
透明樹脂を充填する工程と、前記光反射層を形成する工程と、前記保護層を形成する工程とを有する、請求項12に記載
した方法。
【請求項16】第１のピットに対応した凹凸を有するス
タンパーの凹凸面に溶融した基板材料を流し込む工程
と、前記基板材料の流し込みによる凹凸の転写時に発生した
第２のピットに水溶性材料を充填する工程と、前記基板の転写面に光反射層を形成する工程と、この反射層上に保護層を形成する工程とを有する、請求
項12に記載した方法。
【請求項17】第２のピットに水溶性材料を充填してピ
ットを修復する、請求項15に記載した方法。
【請求項18】第２のピットに水溶性材料を充填してピ
ットの複製を防止する、請求項12に記載した方法。
【請求項19】水溶性材料の充填が不完全な場合は、充
填した水溶性材料と共に光反射層及び保護層を除去し、
しかる後に水溶性材料の充填を繰り返す、請求項12又は
15に記載した方法。
【請求項20】スタンパーの凹凸面にポリカーボネート
を流し込んで射出成形してポリカーボネート基板にピッ
トを形成する工程と、前記ピットのうち欠陥ピットや再生禁止ピットとなる第
２のピットに水溶性材料を充填する工程と、スパッタ或いは蒸着によりアルミニウム又はアルミニウ
ム合金を 300〜800Å蒸着して光反射層を形成する工程
と、アクリル酸ベースの紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を
照射して５〜12μｍの膜厚で保護層を形成する工程とを
有する、請求項16に記載した方法。