JPH09199037A - Ac type plasma display panel - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【０００２】[0002]
【０００１】[0001]
【０００３】[0003]
【産業上の利用分野】本発明は、ＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC type plasma display panel.
【０００４】[0004]
【０００２】[0002]
【０００５】[0005]
【従来の技術】近年、大型で且つ薄型のカラー表示装置
としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の実用化
が期待されている。2. Description of the Related Art In recent years, practical use of a plasma display panel (PDP) as a large and thin color display device is expected.
【０００６】プラズマディスプレイパネルとしての面放
電型交流型プラズマディスプレイパネルの構造の一例を
図３に示す。図３のプラズマディスプレイパネルにおい
て、表示面側となるガラス基板１には、対をなす電極
２、２の複数がサスティン電極として数百ｎｍの膜厚で
形成され、さらに電極２を被覆して誘電体層３が２０〜
３０μｍの膜厚で形成され、誘電体層３を被覆してＭｇ
Ｏからなる保護層４が形成されている。FIG. 3 shows an example of the structure of a surface discharge type AC type plasma display panel as a plasma display panel. In the plasma display panel of FIG. 3, a plurality of paired electrodes 2 and 2 are formed as sustain electrodes with a film thickness of several hundreds nm on a glass substrate 1 on the display surface side. Body layer 3 is 20 ~
It is formed with a film thickness of 30 μm and covers the dielectric layer 3 to form Mg.
A protective layer 4 made of O is formed.
【０００７】サスティン電極２は、幅の広い透明導電膜
からなる透明電極２ａとその導電性を補う幅の狭い金属
膜からなる金属補助電極２ｂとから構成されている。The sustain electrode 2 is composed of a transparent electrode 2a made of a transparent conductive film having a wide width and a metal auxiliary electrode 2b made of a metal film having a narrow width which complements the conductivity.
【０００８】[0008]
【０００３】一方、背面側のガラス基板５には、電極６
がアドレス電極として形成され、電極６を被覆して蛍光
体層７が形成されている。基板１の電極２と基板５の電
極６とが対向して互いに直交するように、基板１，５が
離間配置されて放電空間８が形成され、基板１，５が封
着された後の放電空間８の排気後に希ガスが封入され
る。このように、基板１の電極２と基板５の電極６の交
点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマデ
ィスプレイパネルは複数の画素セルを有し、画像の表示
が可能となる。On the other hand, the glass substrate 5 on the back side has electrodes 6
Are formed as address electrodes, and the phosphor layer 7 is formed so as to cover the electrodes 6. Discharge after the substrates 1 and 5 are spaced apart to form the discharge space 8 so that the electrodes 2 of the substrate 1 and the electrodes 6 of the substrate 5 face each other and are orthogonal to each other, and the substrates 1 and 5 are sealed. After exhausting the space 8, a rare gas is filled. In this way, the pixel cell is formed around the intersection of the electrode 2 of the substrate 1 and the electrode 6 of the substrate 5, so that the plasma display panel has a plurality of pixel cells and an image can be displayed.
【０００９】上述の誘電体は、例えば酸化鉛（ＰｂＯ）
を含む低融点ガラスペーストをサスティン電極上に塗布
し、焼成して形成される。また、金属膜はＡｌ又はＡｌ
合金からなる。The above-mentioned dielectric is, for example, lead oxide (PbO).
It is formed by applying a low-melting-point glass paste containing Pt on the sustain electrode and firing it. The metal film is Al or Al
Made of alloy.
【００１０】[0010]
【０００４】[0004]
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】ところが、誘電体層を
酸化鉛を含む低融点ガラス層で構成すると、サスティン
電極のＡｌ又はＡｌ合金からなる金属膜と反応しその界
面で気泡が生じ易いという問題があった。このような気
泡の発生により誘電体層の膜厚が局部的に薄くなり、耐
圧の低下に起因する不要な放電が発生し、電極が断線す
るおそれがある。また、ＰｂＯを主成分とする誘電体層
は比誘電率が９〜１２と比較的大きいためにセルの容量
が大きく、放電電流が多いので消費電力が多くなる。However, when the dielectric layer is made of a low melting point glass layer containing lead oxide, it reacts with the metal film made of Al or an Al alloy of the sustain electrode and easily causes bubbles at the interface. was there. Due to the generation of such bubbles, the film thickness of the dielectric layer is locally thinned, and unnecessary discharge may occur due to the decrease in withstand voltage, and the electrodes may be broken. Further, the dielectric layer containing PbO as a main component has a relatively large relative permittivity of 9 to 12 and thus has a large cell capacity and a large discharge current, resulting in a large power consumption.
【００１２】そこで、比誘電率の低い例えばアルカリ系
ガラスを主成分とする低融点ガラスで誘電体層を構成す
ることが考えられるが、透明導電膜と接触すると、透明
導電膜を腐食させ、変色（黒化）させてしまい、発光効
率が低下する。Therefore, it is conceivable to form the dielectric layer with a low melting point glass having a low relative permittivity, for example, an alkaline glass as a main component, but when it contacts the transparent conductive film, the transparent conductive film is corroded and discolored. (Blackening) occurs, and the luminous efficiency is reduced.
【００１３】本発明は上述の問題に鑑み、耐圧の低下を
招く気泡の発生を防止し、表示の信頼性を高めることを
目的とする。In view of the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to prevent the generation of bubbles that cause a decrease in pressure resistance and to improve the reliability of display.
【００１４】[0014]
【０００５】[0005]
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係わる
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介し
て対向配置された一対の基板の内の表示面側の基板上に
幅の広い透明導電膜とそれに積層された幅の狭いアルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる金属膜とから構成
されるサスティン電極と、サスティン電極を被覆する誘
電体層とを有するＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
あって、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成し、
金属膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との間に
電極保護層を介在させる。According to another aspect of the present invention, there is provided an AC type plasma display panel, which has a wide transparent conductive film on a display surface side substrate of a pair of substrates which are opposed to each other via a discharge space. What is claimed is: 1. An AC type plasma display panel, comprising: a sustain electrode composed of a film and a metal film made of aluminum or an aluminum alloy having a narrow width and laminated thereon; and a dielectric layer covering the sustain electrode. Composed of low melting point low melting point glass,
An electrode protective layer is interposed between the dielectric layer and the transparent conductive film while covering the metal film.
【００１６】請求項２の発明に係わるＡＣ型プラズマデ
ィスプレイパネルは、低誘電率の低融点ガラスがアルカ
リ系ガラスからなり、電極保護層は酸化鉛を主成分とす
る低融点ガラスからなる。In the AC type plasma display panel according to the second aspect of the present invention, the low melting point glass having a low dielectric constant is made of alkali glass, and the electrode protective layer is made of a low melting point glass containing lead oxide as a main component.
【００１７】[0017]
【０００６】[0006]
【００１８】[0018]
【作用】本発明のＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
は、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成し、金属
膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との間に電極
保護層を介在させたので、サスティン電極の金属膜との
反応による気泡が生じにくくなり、耐圧の低下を抑制で
きると共に透明導電膜の変色を防止することができる。In the AC type plasma display panel of the present invention, the dielectric layer is made of a low melting point glass having a low dielectric constant, the metal film is covered, and the electrode protective layer is interposed between the dielectric layer and the transparent conductive film. As a result, bubbles are less likely to be generated due to the reaction of the sustain electrode with the metal film, and it is possible to suppress a decrease in withstand voltage and prevent discoloration of the transparent conductive film.
【００１９】[0019]
【０００７】[0007]
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】本発明によるプラズマディスプレ
イパネルの実施の形態を図１及び図２を参照しながら説
明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS.
【００２１】図１は、３電極構造を採る面放電型交流型
プラズマディスプレイパネルを構成する複数の画素セル
のうちの１つの断面構造を示す。この画素セルは、表示
面となる透明な表示面側のガラス基板１１と、背面側の
ガラス基板１２とが例えば１００〜２００μｍの間隙を
介して互いに平行に対向している。さらに、表示面側の
ガラス基板１１と背面側のガラス基板１２との間隙を保
持するために背面側のガラス基板１２に隔壁（図示せ
ず）が形成され、表示面側のガラス基板１１と背面側の
ガラス基板１２との間に放電空間１３が形成される。FIG. 1 shows a sectional structure of one of a plurality of pixel cells constituting a surface discharge type AC plasma display panel having a three-electrode structure. In this pixel cell, a transparent display surface-side glass substrate 11 serving as a display surface and a rear surface-side glass substrate 12 face each other in parallel with each other with a gap of 100 to 200 μm, for example. Further, a partition wall (not shown) is formed on the rear glass substrate 12 in order to maintain a gap between the glass substrate 11 on the display surface side and the glass substrate 12 on the rear surface side. A discharge space 13 is formed between the glass substrate 12 and the glass substrate 12 on the side.
【００２２】[0022]
【０００８】表示面側のガラス基板１１には、背面側の
ガラス基板１２と対向する面に、対をなすサスティン電
極１４，１４が形成されている。サスティン電極はＩＴ
Ｏ、酸化錫（ＳｎＯ2 ）などの蒸着によりおよそ数千オ
ングストロームの膜厚で互いに平行に伸長する透明導電
膜（透明電極）１４ａと、この透明導電膜１４ａの導電
率を向上せしめるために、透明導電膜の幅よりも狭い幅
にて積層形成された、例えばアルミニウム（Ａｌ）又は
Ａｌ合金などからなる金属膜（金属補助電極）１４ｂか
らなる。このようにして形成されたサスティン電極の透
明導電膜１４ａを覆うように、電極保護層１６が５〜２
０μｍの膜厚で形成されている。この電極保護層１６及
び金属膜１４ｂの上に誘電体層１７が２０〜５０μｍの
膜厚で形成され、誘電体層１７の上に酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層１８がおよそ数百オングスト
ロームの膜厚で積層形成されている。On the glass substrate 11 on the display surface side, paired sustain electrodes 14, 14 are formed on the surface facing the glass substrate 12 on the back surface side. Sustain electrode is IT
A transparent conductive film (transparent electrode) 14a extending in parallel to each other with a film thickness of about several thousand angstroms by vapor deposition of O, tin oxide (SnO 2 ) or the like, and a transparent conductive film 14a for improving the conductivity of the transparent conductive film 14a. It is composed of a metal film (metal auxiliary electrode) 14b made of, for example, aluminum (Al) or an Al alloy, which is stacked and formed with a width narrower than the width of the conductive film. The electrode protection layer 16 has a thickness of 5 to 2 so as to cover the transparent conductive film 14a of the sustain electrode thus formed.
It is formed with a film thickness of 0 μm. A dielectric layer 17 having a film thickness of 20 to 50 μm is formed on the electrode protective layer 16 and the metal film 14b, and a protective layer 18 made of magnesium oxide (MgO) having a thickness of about several hundred angstroms is formed on the dielectric layer 17. The layers are formed to have a film thickness.
【００２３】[0023]
【０００９】上記誘電体層１７は、軟化点が６５０℃以
下であり且つ比誘電率が８以下の低融点ガラスにて形成
されている。そして、この低融点ガラスは、組成に少な
くとも酸化ナトリウム（Ｎａ2 Ｏ）及び酸化ほう素（Ｂ
2 Ｏ3 ）を含むものである。このような低融点ガラスと
しては、例えば表１に示すように、日本電気硝子株式会
社製の所定のガラスコード（製品番号）を有する低融点
ガラスが用いられている。The dielectric layer 17 is formed of a low melting point glass having a softening point of 650 ° C. or lower and a relative dielectric constant of 8 or lower. The composition of this low melting point glass is at least sodium oxide (Na 2 O) and boron oxide (B
2 O 3 ). As such a low melting point glass, for example, as shown in Table 1, a low melting point glass having a predetermined glass code (product number) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. is used.
【００２４】[0024]
【００１０】[0010]
【００２５】[0025]
【表１】 [Table 1]
【００２６】[0026]
【００１１】次に、上記電極保護層１６は、例えば誘電
体層１７とは種類の異なる酸化鉛（ＰｂＯ）を含む非ア
ルカリ系の低融点ガラスからなり、透明導電膜１４ａを
保護するために設けられている。すなわち、誘電体層１
７を形成する低融点ガラスはアルカリ系ガラスであるた
めに、アルカリ系ガラスからなる誘電体層１７が直接透
明導電膜１４ａに接触するとガラスに含まれるナトリウ
ム（Ｎａ）が透明導電膜内に拡散して透明導電膜１４ａ
を腐食し、変色させるので、Ｎａの透明導電膜１４ａへ
の拡散を防止すべく誘電体層１７と透明導電膜１４ａと
の間に形成するものである。また、電極保護層１６は、
金属膜１４ｂ上に積層形成しないために、金属膜１４ｂ
と反応し、気泡を生じることがない。Next, the electrode protection layer 16 is made of, for example, a non-alkali low melting point glass containing lead oxide (PbO) different in kind from the dielectric layer 17, and is provided to protect the transparent conductive film 14a. Has been. That is, the dielectric layer 1
Since the low melting glass forming 7 is an alkaline glass, when the dielectric layer 17 made of an alkaline glass directly contacts the transparent conductive film 14a, sodium (Na) contained in the glass diffuses into the transparent conductive film. Transparent conductive film 14a
Is corroded and discolored, so that it is formed between the dielectric layer 17 and the transparent conductive film 14a in order to prevent Na from diffusing into the transparent conductive film 14a. Further, the electrode protection layer 16 is
Since the metal film 14b is not laminated on the metal film 14b,
Reacts with and does not generate bubbles.
【００２７】[0027]
【００１２】一方、背面側のガラス基板１２には、表示
面側のガラス基板１１と対向する面に、アドレス電極２
１が形成されている。このアドレス電極２１は、例えば
ＡｌやＡｌ合金からなり、サスティン電極１４と対向し
ながらサスティン電極１４の伸長方向と直交する方向に
およそ１μｍの膜厚で伸長して形成されている。また、
アドレス電極２１はＡｌやＡｌ合金などの反射率の高い
金属にて形成されているので、波長帯域：３８０〜６５
０ｎｍにおいて、８０％以上の反射率を有している。On the other hand, on the rear glass substrate 12, the address electrode 2 is provided on the surface facing the display surface glass substrate 11.
1 is formed. The address electrode 21 is made of, for example, Al or an Al alloy, and is formed so as to extend in a thickness of about 1 μm in a direction orthogonal to the extending direction of the sustain electrode 14 while facing the sustain electrode 14. Also,
Since the address electrode 21 is formed of a metal having a high reflectance such as Al or Al alloy, the wavelength band is 380 to 65.
It has a reflectance of 80% or more at 0 nm.
【００２８】[0028]
【００１３】さらに、例えば背面側のガラス基板１２の
アドレス電極２１を覆うように蛍光体層２２が形成され
る。上記プラズマディスプレイパネルにおいてカラー表
示を行う場合は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわ
ちＲ，Ｇ，Ｂの蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光
体層として形成される。Further, a phosphor layer 22 is formed so as to cover the address electrode 21 of the glass substrate 12 on the back side, for example. When performing color display in the plasma display panel, for example, one of three colors of R, G, and B phosphors is sequentially formed as a phosphor layer for each address electrode.
【００２９】このようにして、サスティン電極対１４，
１４とアドレス電極２１との交点を中心とする発光領域
の１つが放電空間１３に形成されて画素セルが構成され
る。そして、プラズマディスプレイパネルのカラー表示
を行う場合、各画素セルが蛍光体の３色のうちの対応す
る色に発光する。In this way, the sustain electrode pair 14,
One of the light emitting regions centering on the intersection of 14 and the address electrode 21 is formed in the discharge space 13 to form a pixel cell. When performing color display on the plasma display panel, each pixel cell emits light in a corresponding color of the three colors of the phosphor.
【００３０】[0030]
【００１４】上述の如く、サスティン電極対１４，１４
及びアドレス電極２１がそれぞれ形成された表示面側の
ガラス基板１１及び背面側のガラス基板１２は封着され
て放電空間１３の排気が行われ、さらにベーキングによ
り保護層１８（ＭｇＯ層）の表面が活性化される。次
に、放電空間１３に希ガスとして例えばキセノン（Ｘ
ｅ）を１〜１０％含む不活性混合ガスが２００〜６００
ｔｏｒｒ封入される。As described above, the sustain electrode pairs 14, 14
The glass substrate 11 on the display surface side and the glass substrate 12 on the rear surface side on which the address electrodes 21 are formed are sealed and the discharge space 13 is evacuated, and the surface of the protective layer 18 (MgO layer) is removed by baking. Activated. Then, for example, xenon (X
e) 200 to 600, which is an inert mixed gas containing 1 to 10%
torr enclosed.
【００３１】[0031]
【００１５】上述の如く形成されたプラズマディスプレ
イパネルにおいて、サスティン電極対１４，１４には画
素セルの発光開始、発光維持及び消去を駆動制御するパ
ルス電圧が印加され、アドレス電極２１には各画素セル
の画像データパルスが印加されて、各画素セルの発光の
開始、維持及び消去が行われる。In the plasma display panel formed as described above, the sustain electrode pairs 14 and 14 are applied with a pulse voltage for driving and controlling light emission start, light emission maintenance and erasure of the pixel cell, and the address electrode 21 is applied to each pixel cell. Image data pulse is applied to start, maintain and erase light emission of each pixel cell.
【００３２】[0032]
【００１６】次に図２により、本発明の表示面側のガラ
ス基板の製造方法について説明する。図２（ａ）は、ガ
ラス基板２０３上にＩＴＯをスパッタ法で成膜して透明
導電膜２０２を形成し、フォトリソ法により、透明導電
膜２０２のパターンニングを行う。すなわち、透明導電
膜２０２上にフォトレジスト層（ポジ型）２０１を形成
し、マスク２０５を介して露光し、露光部分２１１が形
成され、これを現像し、フォトレジスト層をマスクとし
てエッチング処理を行った後、フォトレジスト層を除去
する。このようにして、図２（ｂ）に示す透明導電膜か
らなる透明電極２０４が形成される。ここ迄をフォトリ
ソ法と呼ぶ。Next, a method of manufacturing the glass substrate on the display surface side of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2A, an ITO film is formed on a glass substrate 203 by a sputtering method to form a transparent conductive film 202, and the transparent conductive film 202 is patterned by a photolithography method. That is, a photoresist layer (positive type) 201 is formed on the transparent conductive film 202 and exposed through a mask 205 to form an exposed portion 211, which is developed and etched using the photoresist layer as a mask. After that, the photoresist layer is removed. In this way, the transparent electrode 204 made of the transparent conductive film shown in FIG. 2B is formed. The process up to this point is called the photolithography method.
【００３３】[0033]
【００１７】次に図２（ｃ）に移り、透明電極２０４の
上にアルミニウムの金属膜２０７を蒸着し、その上に図
２（ａ）で行ったと同じフォトリソ法により、図２
（ｄ）の金属膜からなる金属補助電極２０８が形成され
る。2C, an aluminum metal film 207 is vapor-deposited on the transparent electrode 204, and the same photolithography method as that shown in FIG.
A metal auxiliary electrode 208 made of the metal film of (d) is formed.
【００３４】次に図２（ｄ）の如く、透明電極２０４上
に酸化鉛（ＰｂＯ）を含む非アルカリ系の低融点ガラス
ペーストをスクリーン印刷し焼成することにより、電極
保護層２０９を形成する。さらに図２（ｅ）では、その
上からアルカリ系ガラスからなる低融点ガラスペースト
を全面に塗布し、焼成することで誘電体層２１０が形成
される。その上に図２（ｆ）に示すように、酸化マグネ
シウム（ＭｇＯ）の保護層２１２を蒸着することで図２
（ｇ）に示すような表示面側のガラス基板が作製され
る。Next, as shown in FIG. 2D, a non-alkaline low melting point glass paste containing lead oxide (PbO) is screen-printed on the transparent electrode 204 and baked to form an electrode protective layer 209. Further, in FIG. 2E, the dielectric layer 210 is formed by applying a low-melting glass paste made of an alkaline glass on the entire surface and baking it. By depositing a protective layer 212 of magnesium oxide (MgO) thereon, as shown in FIG.
A glass substrate on the display surface side as shown in (g) is produced.
【００３５】[0035]
【００１８】[0018]
【００３６】[0036]
【発明の効果】本発明によるＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルは、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成
し、金属膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との
間に電極保護層を介在させることにより、サスティン電
極のアルミニウム又はアルミニウム合金すらなる金属膜
との反応による気泡が生じにくくなり、表示の信頼性を
高めることができる。In the AC type plasma display panel according to the present invention, the dielectric layer is made of a low melting point glass having a low dielectric constant, and is covered with a metal film and an electrode protective layer is provided between the dielectric layer and the transparent conductive film. By interposing, the bubbles are less likely to be generated due to the reaction with the metal film of the sustain electrode, which is made of aluminum or even aluminum alloy, and the reliability of the display can be improved.
【図１】本発明の実施の形態によるＡＣ型ＰＤＰの構造
を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a structure of an AC type PDP according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施の形態によるＡＣ型ＰＤＰの表示
面側のガラス基板の製造方法を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a method of manufacturing the glass substrate on the display surface side of the AC PDP according to the embodiment of the present invention.
【図３】従来のＡＣ型ＰＤＰの構造を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a structure of a conventional AC PDP.
１１ ・・・・・ 表示面側のガラス基板 １２ ・・・・・ 背面側のガラス基板 １３ ・・・・・ 放電空間 １４ ・・・・・ サスティン電極 １４ａ・・・・・ 透明導電膜 １４ｂ・・・・・ 金属膜 １６ ・・・・・ 電極保護層 １７ ・・・・・ 誘電体層 １８ ・・・・・ 保護層 ２２ ・・・・・ 蛍光体層 ２１ ・・・・・ アドレス電極 ２０３ ・・・・・ ガラス基板 ２０４ ・・・・・ 透明電極 ２０８ ・・・・・ 金属補助電極 ２０９ ・・・・・ 電極保護層 ２１０ ・・・・・ 誘電体層 ２１２ ・・・・・ 保護層 11 ・ ・ ・ Glass substrate on the display side 12 ・ ・ ・ Glass substrate on the back side 13 ・ ・ ・ Discharge space 14 ・ ・ ・ Sustain electrode 14a ・ ・ ・ Transparent conductive film 14b ・··· Metal film 16 ··· Electrode protective layer 17 ··· Dielectric layer 18 ··· Protection layer 22 ··· Phosphor layer 21 ··· Address electrode 203 Glass substrate 204 Transparent electrode 208 Metal auxiliary electrode 209 Electrode protective layer 210 Dielectric layer 212 Protective layer
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成８年１２月１９日[Submission date] December 19, 1996
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Correction target item name] Detailed description of the invention
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC type plasma display panel.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、大型で且つ薄型のカラー表示装置
としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の実用化
が期待されている。プラズマディスプレイパネルとして
の面放電型交流型プラズマディスプレイパネルの構造の
一例を図３に示す。図３のプラズマディスプレイパネル
において、表示面側となるガラス基板１には、対をなす
電極２、２の複数がサスティン電極として数百ｎｍの膜
厚で形成され、さらに電極２を被覆して誘電体層３が２
０〜３０μｍの膜厚で形成され、誘電体層３を被覆して
ＭｇＯからなる保護層４が形成されている。サスティン
電極２は、幅の広い透明導電膜からなる透明電極２ａと
その導電性を補う幅の狭い金属膜からなる金属補助電極
２ｂとから構成されている。2. Description of the Related Art In recent years, practical use of a plasma display panel (PDP) as a large and thin color display device is expected. FIG. 3 shows an example of the structure of a surface discharge type AC plasma display panel as a plasma display panel. In the plasma display panel of FIG. 3, a plurality of paired electrodes 2 and 2 are formed as sustain electrodes with a film thickness of several hundreds nm on a glass substrate 1 on the display surface side. Body layer 3 is 2
A protective layer 4 made of MgO is formed to a thickness of 0 to 30 μm and covers the dielectric layer 3. The sustain electrode 2 is composed of a transparent electrode 2a made of a transparent conductive film having a wide width and a metal auxiliary electrode 2b made of a metal film having a narrow width which complements the conductivity.
【０００３】一方、背面側のガラス基板５には、電極６
がアドレス電極として形成され、電極６を被覆して蛍光
体層７が形成されている。基板１の電極２と基板５の電
極６とが対向して互いに直交するように、基板１，５が
離間配置されて放電空間８が形成され、基板１，５が封
着された後の放電空間８の排気後に希ガスが封入され
る。このように、基板１の電極２と基板５の電極６の交
点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマデ
ィスプレイパネルは複数の画素セルを有し、画像の表示
が可能となる。上述の誘電体は、例えば酸化鉛（Ｐｂ
Ｏ）を含む低融点ガラスペーストをサスティン電極上に
塗布し、焼成して形成される。また、金属膜はＡｌ又は
Ａｌ合金からなる。On the other hand, the glass substrate 5 on the back side has electrodes 6
Are formed as address electrodes, and the phosphor layer 7 is formed so as to cover the electrodes 6. Discharge after the substrates 1 and 5 are spaced apart to form the discharge space 8 so that the electrodes 2 of the substrate 1 and the electrodes 6 of the substrate 5 face each other and are orthogonal to each other, and the substrates 1 and 5 are sealed. After exhausting the space 8, a rare gas is filled. In this way, the pixel cell is formed around the intersection of the electrode 2 of the substrate 1 and the electrode 6 of the substrate 5, so that the plasma display panel has a plurality of pixel cells and an image can be displayed. The above-mentioned dielectric is, for example, lead oxide (Pb
It is formed by applying a low-melting-point glass paste containing O) on the sustain electrode and firing it. The metal film is made of Al or Al alloy.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところが、誘電体層を
酸化鉛を含む低融点ガラス層で構成すると、サスティン
電極のＡｌ又はＡｌ合金からなる金属膜と反応しその界
面で気泡が生じ易いという問題があった。このような気
泡の発生により誘電体層の膜厚が局部的に薄くなり、耐
圧の低下に起因する不要な放電が発生し、電極が断線す
るおそれがある。また、ＰｂＯを主成分とする誘電体層
は比誘電率が９〜１２と比較的大きいためにセルの容量
が大きく、放電電流が多いので消費電力が多くなる。そ
こで、比誘電率の低い例えばアルカリ系ガラスを主成分
とする低融点ガラスで誘電体層を構成することが考えら
れるが、透明導電膜と接触すると、透明導電膜を腐食さ
せ、変色（黒化）させてしまい、発光効率が低下する。
本発明は上述の問題に鑑み、耐圧の低下を招く気泡の発
生を防止し、表示の信頼性を高めることを目的とする。However, when the dielectric layer is made of a low melting point glass layer containing lead oxide, it reacts with the metal film made of Al or an Al alloy of the sustain electrode and easily causes bubbles at the interface. was there. Due to the generation of such bubbles, the film thickness of the dielectric layer is locally thinned, and unnecessary discharge may occur due to the decrease in withstand voltage, and the electrodes may be broken. Further, the dielectric layer containing PbO as a main component has a relatively large relative permittivity of 9 to 12 and thus has a large cell capacity and a large discharge current, resulting in a large power consumption. Therefore, it is conceivable to form the dielectric layer with a low melting point glass having a low relative permittivity, for example, an alkaline glass as a main component, but when it contacts the transparent conductive film, the transparent conductive film is corroded to cause discoloration (blackening). ) And the luminous efficiency is reduced.
In view of the above problems, it is an object of the present invention to prevent the generation of bubbles that cause a decrease in withstand voltage and improve the reliability of display.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係わる
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルは、放電空間を介し
て対向配置された一対の基板の内の表示面側の基板上に
幅の広い透明導電膜とそれに積層された幅の狭いアルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる金属膜とから構成
されるサスティン電極と、サスティン電極を被覆する誘
電体層とを有するＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
あって、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成し、
金属膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との間に
電極保護層を介在させる。請求項２の発明に係わるＡＣ
型プラズマディスプレイパネルは、低誘電率の低融点ガ
ラスがアルカリ系ガラスからなり、電極保護層は酸化鉛
を主成分とする低融点ガラスからなる。According to another aspect of the present invention, there is provided an AC type plasma display panel, which has a wide transparent conductive film on a display surface side substrate of a pair of substrates which are opposed to each other via a discharge space. What is claimed is: 1. An AC type plasma display panel, comprising: a sustain electrode composed of a film and a metal film made of aluminum or an aluminum alloy having a narrow width and laminated thereon; and a dielectric layer covering the sustain electrode. Composed of low melting point low melting point glass,
An electrode protective layer is interposed between the dielectric layer and the transparent conductive film while covering the metal film. AC according to the invention of claim 2
In the type plasma display panel, the low-melting-point glass having a low dielectric constant is made of alkali glass, and the electrode protection layer is made of a low-melting point glass containing lead oxide as a main component.
【０００６】[0006]
【作用】本発明のＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
は、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成し、金属
膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との間に電極
保護層を介在させたので、サスティン電極の金属膜との
反応による気泡が生じにくくなり、耐圧の低下を抑制で
きると共に透明導電膜の変色を防止することができる。In the AC type plasma display panel of the present invention, the dielectric layer is made of a low melting point glass having a low dielectric constant, the metal film is covered, and the electrode protective layer is interposed between the dielectric layer and the transparent conductive film. As a result, bubbles are less likely to be generated due to the reaction of the sustain electrode with the metal film, and it is possible to suppress a decrease in withstand voltage and prevent discoloration of the transparent conductive film.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】本発明によるプラズマディスプレ
イパネルの実施の形態を図１及び図２を参照しながら説
明する。図１は、３電極構造を採る面放電型交流型プラ
ズマディスプレイパネルを構成する複数の画素セルのう
ちの１つの断面構造を示す。この画素セルは、表示面と
なる透明な表示面側のガラス基板１１と、背面側のガラ
ス基板１２とが例えば１００〜２００μｍの間隙を介し
て互いに平行に対向している。さらに、表示面側のガラ
ス基板１１と背面側のガラス基板１２との間隙を保持す
るために背面側のガラス基板１２に隔壁（図示せず）が
形成され、表示面側のガラス基板１１と背面側のガラス
基板１２との間に放電空間１３が形成される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a cross-sectional structure of one of a plurality of pixel cells forming a surface discharge AC plasma display panel having a three-electrode structure. In this pixel cell, a transparent display surface-side glass substrate 11 serving as a display surface and a rear surface-side glass substrate 12 face each other in parallel with each other with a gap of 100 to 200 μm, for example. Further, a partition wall (not shown) is formed on the rear glass substrate 12 in order to maintain a gap between the glass substrate 11 on the display surface side and the glass substrate 12 on the rear surface side. A discharge space 13 is formed between the glass substrate 12 and the glass substrate 12 on the side.
【０００８】表示面側のガラス基板１１には、背面側の
ガラス基板１２と対向する面に、対をなすサスティン電
極１４，１４が形成されている。サスティン電極はＩＴ
Ｏ、酸化錫（ＳｎＯ２）などの蒸着によりおよそ数千オ
ングストロームの膜厚で互いに平行に伸長する透明導電
膜（透明電極）１４ａと、この透明導電膜１４ａの導電
率を向上せしめるために、透明導電膜の幅よりも狭い幅
にて積層形成された、例えばアルミニウム（Ａｌ）又は
Ａｌ合金などからなる金属膜（金属補助電極）１４ｂか
らなる。このようにして形成されたサスティン電極の透
明導電膜１４ａを覆うように、電極保護層１６が５〜２
０μｍの膜厚で形成されている。この電極保護層１６及
び金属膜１４ｂの上に誘電体層１７が２０〜５０μｍの
膜厚で形成され、誘電体層１７の上に酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層１８がおよそ数百オングスト
ロームの膜厚で積層形成されている。On the glass substrate 11 on the display surface side, paired sustain electrodes 14, 14 are formed on the surface facing the glass substrate 12 on the back surface side. Sustain electrode is IT
A transparent conductive film (transparent electrode) 14a extending in parallel to each other with a film thickness of about several thousand angstroms by vapor deposition of O, tin oxide (SnO 2 ) or the like, and a transparent conductive film 14a for improving conductivity of the transparent conductive film 14a. It is composed of a metal film (metal auxiliary electrode) 14b made of, for example, aluminum (Al) or an Al alloy, which is stacked and formed with a width narrower than the width of the conductive film. The electrode protection layer 16 has a thickness of 5 to 2 so as to cover the transparent conductive film 14a of the sustain electrode thus formed.
It is formed with a film thickness of 0 μm. A dielectric layer 17 having a film thickness of 20 to 50 μm is formed on the electrode protective layer 16 and the metal film 14b, and a protective layer 18 made of magnesium oxide (MgO) having a thickness of about several hundred angstroms is formed on the dielectric layer 17. The layers are formed to have a film thickness.
【０００９】上記誘電体層１７は、軟化点が６５０℃以
下であり且つ比誘電率が８以下の低融点ガラスにて形成
されている。そして、この低融点ガラスは、組成に少な
くとも酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）及び酸化ほう素（Ｂ
２Ｏ３）を含むものである。このような低融点ガラスと
しては、例えば表１に示すように、日本電気硝子株式会
社製の所定のガラスコード（製品番号）を有する低融点
ガラスが用いられている。The dielectric layer 17 is formed of a low melting point glass having a softening point of 650 ° C. or lower and a relative dielectric constant of 8 or lower. The composition of this low melting point glass is at least sodium oxide (Na 2 O) and boron oxide (B
2 O 3 ). As such a low melting point glass, for example, as shown in Table 1, a low melting point glass having a predetermined glass code (product number) manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. is used.
【００１０】[0010]
【表１】[Table 1]
【００１１】次に、上記電極保護層１６は、例えば誘電
体層１７とは種類の異なる酸化鉛（ＰｂＯ）を含む非ア
ルカリ系の低融点ガラスからなり、透明導電膜１４ａを
保護するために設けられている。すなわち、誘電体層１
７を形成する低融点ガラスはアルカリ系ガラスであるた
めに、アルカリ系ガラスからなる誘電体層１７が直接透
明導電膜１４ａに接触するとガラスに含まれるナトリウ
ム（Ｎａ）が透明導電膜内に拡散して透明導電膜１４ａ
を腐食し、変色させるので、Ｎａの透明導電膜１４ａへ
の拡散を防止すべく誘電体層１７と透明導電膜１４ａと
の間に形成するものである。また、電極保護層１６は、
金属膜１４ｂ上に積層形成しないために、金属膜１４ｂ
と反応し、気泡を生じることがない。Next, the electrode protection layer 16 is made of, for example, a non-alkali low melting point glass containing lead oxide (PbO) different in kind from the dielectric layer 17, and is provided to protect the transparent conductive film 14a. Has been. That is, the dielectric layer 1
Since the low melting glass forming 7 is an alkaline glass, when the dielectric layer 17 made of an alkaline glass directly contacts the transparent conductive film 14a, sodium (Na) contained in the glass diffuses into the transparent conductive film. Transparent conductive film 14a
Is corroded and discolored, so that it is formed between the dielectric layer 17 and the transparent conductive film 14a in order to prevent Na from diffusing into the transparent conductive film 14a. Further, the electrode protection layer 16 is
Since the metal film 14b is not laminated on the metal film 14b,
Reacts with and does not generate bubbles.
【００１２】一方、背面側のガラス基板１２には、表示
面側のガラス基板１１と対向する面に、アドレス電極２
１が形成されている。このアドレス電極２１は、例えば
ＡｌやＡｌ合金からなり、サスティン電極１４と対向し
ながらサスティン電極１４の伸長方向と直交する方向に
およそ１μｍの膜厚で伸長して形成されている。また、
アドレス電極２１はＡｌやＡｌ合金などの反射率の高い
金属にて形成されているので、波長帯域：３８０〜６５
０ｎｍにおいて、８０％以上の反射率を有している。On the other hand, on the rear glass substrate 12, the address electrode 2 is provided on the surface facing the display surface glass substrate 11.
1 is formed. The address electrode 21 is made of, for example, Al or an Al alloy, and is formed so as to extend in a thickness of about 1 μm in a direction orthogonal to the extending direction of the sustain electrode 14 while facing the sustain electrode 14. Also,
Since the address electrode 21 is formed of a metal having a high reflectance such as Al or Al alloy, the wavelength band is 380 to 65.
It has a reflectance of 80% or more at 0 nm.
【００１３】さらに、例えば背面側のガラス基板１２の
アドレス電極２１を覆うように蛍光体層２２が形成され
る。上記プラズマディスプレイパネルにおいてカラー表
示を行う場合は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわ
ちＲ，Ｇ，Ｂの蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光
体層として形成される。このようにして、サスティン電
極対１４，１４とアドレス電極２１との交点を中心とす
る発光領域の１つが放電空間１３に形成されて画素セル
が構成される。そして、プラズマディスプレイパネルの
カラー表示を行う場合、各画素セルが蛍光体の３色のう
ちの対応する色に発光する。Further, a phosphor layer 22 is formed so as to cover the address electrode 21 of the glass substrate 12 on the back side, for example. When performing color display in the plasma display panel, for example, one of three colors of R, G, and B phosphors is sequentially formed as a phosphor layer for each address electrode. In this way, one of the light emitting regions centering on the intersection of the sustain electrode pair 14, 14 and the address electrode 21 is formed in the discharge space 13 to form a pixel cell. When performing color display on the plasma display panel, each pixel cell emits light in a corresponding color of the three colors of the phosphor.
【００１４】上述の如く、サスティン電極対１４，１４
及びアドレス電極２１がそれぞれ形成された表示面側の
ガラス基板１１及び背面側のガラス基板１２は封着され
て放電空間１３の排気が行われ、さらにベーキングによ
り保護層１８（ＭｇＯ層）の表面が活性化される。次
に、放電空間１３に希ガスとして例えばキセノン（Ｘ
ｅ）を１〜１０％含む不活性混合ガスが２００〜６００
ｔｏｒｒ封入される。As described above, the sustain electrode pairs 14, 14
The glass substrate 11 on the display surface side and the glass substrate 12 on the rear surface side on which the address electrodes 21 are formed are sealed and the discharge space 13 is evacuated, and the surface of the protective layer 18 (MgO layer) is removed by baking. Activated. Then, for example, xenon (X
e) 200 to 600, which is an inert mixed gas containing 1 to 10%
torr enclosed.
【００１５】上述の如く形成されたプラズマディスプレ
イパネルにおいて、サスティン電極対１４，１４には画
素セルの発光開始、発光維持及び消去を駆動制御するパ
ルス電圧が印加され、アドレス電極２１には各画素セル
の画像データパルスが印加されて、各画素セルの発光の
開始、維持及び消去が行われる。In the plasma display panel formed as described above, the sustain electrode pairs 14 and 14 are applied with a pulse voltage for driving and controlling light emission start, light emission maintenance and erasure of the pixel cell, and the address electrode 21 is applied to each pixel cell. Image data pulse is applied to start, maintain and erase light emission of each pixel cell.
【００１６】次に図２により、本発明の表示面側のガラ
ス基板の製造方法について説明する。図２（ａ）は、ガ
ラス基板２０３上にＩＴＯをスパッタ法で成膜して透明
導電膜２０２を形成し、フォトリソ法により、透明導電
膜２０２のパターンニングを行う。すなわち、透明導電
膜２０２上にフォトレジスト層（ポジ型）２０１を形成
し、マスク２０５を介して露光し、露光部分２１１が形
成され、これを現像し、フォトレジスト層をマスクとし
てエッチング処理を行った後、フォトレジスト層を除去
する。このようにして、図２（ｂ）に示す透明導電膜か
らなる透明電極２０４が形成される。ここ迄をフォトリ
ソ法と呼ぶ。Next, a method of manufacturing the glass substrate on the display surface side of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2A, an ITO film is formed on a glass substrate 203 by a sputtering method to form a transparent conductive film 202, and the transparent conductive film 202 is patterned by a photolithography method. That is, a photoresist layer (positive type) 201 is formed on the transparent conductive film 202 and exposed through a mask 205 to form an exposed portion 211, which is developed and etched using the photoresist layer as a mask. After that, the photoresist layer is removed. In this way, the transparent electrode 204 made of the transparent conductive film shown in FIG. 2B is formed. The process up to this point is called the photolithography method.
【００１７】次に図２（ｃ）に移り、透明電極２０４の
上にアルミニウムの金属膜２０７を蒸着し、その上に図
２（ａ）で行ったと同じフォトリソ法により、図２
（ｄ）の金属膜からなる金属補助電極２０８が形成され
る。次に図２（ｄ）の如く、透明電極２０４上に酸化鉛
（ＰｂＯ）を含む非アルカリ系の低融点ガラスペースト
をスクリーン印刷し焼成することにより、電極保護層２
０９を形成する。さらに図２（ｅ）では、その上からア
ルカリ系ガラスからなる低融点ガラスペーストを全面に
塗布し、焼成することで誘電体層２１０が形成される。
その上に図２（ｆ）に示すように、酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）の保護層２１２を蒸着することで図２（ｇ）
に示すような表示面側のガラス基板が作製される。2C, an aluminum metal film 207 is vapor-deposited on the transparent electrode 204, and the same photolithography method as that shown in FIG.
A metal auxiliary electrode 208 made of the metal film of (d) is formed. Next, as shown in FIG. 2D, a non-alkali low-melting-point glass paste containing lead oxide (PbO) is screen-printed on the transparent electrode 204 and fired to burn the electrode protective layer 2.
09 is formed. Further, in FIG. 2E, the dielectric layer 210 is formed by applying a low-melting glass paste made of an alkaline glass on the entire surface and baking it.
By depositing a protective layer 212 of magnesium oxide (MgO) thereon, as shown in FIG.
A glass substrate on the display surface side as shown in is produced.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明によるＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルは、誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成
し、金属膜を被覆すると共に誘電体層と透明導電膜との
間に電極保護層を介在させることにより、サスティン電
極のアルミニウム又はアルミニウム合金すらなる金属膜
との反応による気泡が生じにくくなり、表示の信頼性を
高めることができる。In the AC type plasma display panel according to the present invention, the dielectric layer is made of a low melting point glass having a low dielectric constant, and is covered with a metal film and an electrode protective layer is provided between the dielectric layer and the transparent conductive film. By interposing, the bubbles are less likely to be generated due to the reaction with the metal film of the sustain electrode, which is made of aluminum or even aluminum alloy, and the reliability of the display can be improved.
Claims (2)
基板の内の表示面側の基板上に幅の広い透明導電膜とそ
れに積層された幅の狭い金属膜とから構成される電極
と、 前記電極を被覆する誘電体層とを有するＡＣ型プラズマ
ディスプレイパネルであって、 前記誘電体層を低誘電率の低融点ガラスで構成し、前記
金属膜を被覆すると共に前記誘電体層と前記透明導電膜
との間に電極保護層を介在させたことを特徴とするＡＣ
型プラズマディスプレイパネル。1. An electrode comprising a transparent conductive film having a wide width and a metal film having a narrow width laminated on the transparent conductive film on a substrate on a display surface side of a pair of substrates opposed to each other via a discharge space. An AC plasma display panel having a dielectric layer covering the electrodes, wherein the dielectric layer is made of a low-melting-point glass having a low dielectric constant, the metal film is covered, and the dielectric layer and the dielectric layer are combined. AC characterized in that an electrode protection layer is interposed between the transparent conductive film and the transparent conductive film.
Type plasma display panel.
リ系ガラスからなり、前記電極保護層は酸化鉛を含む非
アルカリ系の低融点ガラスからなることを特徴とする請
求項１記載のＡＣ型プラズマディスプレイパネル。 【０００１】2. The AC according to claim 1, wherein the low-melting-point glass having a low dielectric constant is made of an alkali-type glass, and the electrode protective layer is made of a non-alkali-type low-melting-point glass containing lead oxide. Type plasma display panel. [0001]
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1996
- 1996-01-22 JP JP2729296A patent/JP3499360B2/en not_active Expired - Fee Related
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