JPH09199038A - Ac type plasma display panel - Google Patents
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Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
Description
【０００２】[0002]
【０００１】[0001]
【０００３】[0003]
【産業上の利用分野】本発明は、ＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC type plasma display panel.
【０００４】[0004]
【０００２】[0002]
【０００５】[0005]
【従来の技術】近年、大型で且つ薄型のカラー表示装置
としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の実用化
が期待されている。2. Description of the Related Art In recent years, practical use of a plasma display panel (PDP) as a large and thin color display device is expected.
【０００６】プラズマディスプレイパネルとしての面放
電型交流型プラズマディスプレイパネルの構造の一例を
図３に示す。図３のプラズマディスプレイパネルにおい
て、表示面側となるガラス基板１には、対をなす電極
２、２の複数がサスティン電極として数百ｎｍの膜厚で
形成され、さらに電極２を被覆して誘電体層３が２０〜
３０μｍの膜厚で形成され、誘電体層３を被覆してＭｇ
Ｏからなる保護層４が形成されている。FIG. 3 shows an example of the structure of a surface discharge type AC type plasma display panel as a plasma display panel. In the plasma display panel of FIG. 3, a plurality of paired electrodes 2 and 2 are formed as sustain electrodes with a film thickness of several hundreds nm on a glass substrate 1 on the display surface side. Body layer 3 is 20 ~
It is formed with a film thickness of 30 μm and covers the dielectric layer 3 to form Mg.
A protective layer 4 made of O is formed.
【０００７】サスティン電極２は、幅の広い透明導電膜
からなる透明電極２ａとその導電性を補う幅の狭い金属
膜からなる金属補助電極２ｂとから構成されている。The sustain electrode 2 is composed of a transparent electrode 2a made of a transparent conductive film having a wide width and a metal auxiliary electrode 2b made of a metal film having a narrow width which complements the conductivity.
【０００８】一方、背面側のガラス基板５には、電極６
がアドレス電極として形成され、電極６を被覆して蛍光
体層７が形成されている。基板１の電極２と基板５の電
極６とが対向して互いに直交するように、基板１，５が
離間配置されて放電空間８が形成され、基板１，５が封
着された後の放電空間８の排気後に希ガスが封入され
る。このように、基板１の電極２と基板５の電極６の交
点を中心として画素セルが形成されるので、プラズマデ
ィスプレイパネルは複数の画素セルを有し、画像の表示
が可能となる。On the other hand, the glass substrate 5 on the back side has electrodes 6
Are formed as address electrodes, and the phosphor layer 7 is formed so as to cover the electrodes 6. Discharge after the substrates 1 and 5 are spaced apart to form the discharge space 8 so that the electrodes 2 of the substrate 1 and the electrodes 6 of the substrate 5 face each other and are orthogonal to each other, and the substrates 1 and 5 are sealed. After exhausting the space 8, a rare gas is filled. In this way, the pixel cell is formed around the intersection of the electrode 2 of the substrate 1 and the electrode 6 of the substrate 5, so that the plasma display panel has a plurality of pixel cells and an image can be displayed.
【０００９】上述のＰＤＰの表示面側のガラス基板は以
下のように製造される。The glass substrate on the display surface side of the above PDP is manufactured as follows.
【００１０】まず、ガラス基板１上にＳｎＯ2 （酸化
錫）やＩＴＯ（酸化インジウム）等からなる透明導電膜
を蒸着又はスパッタリングにより形成し、その上にフォ
トレジスト層を形成し、電極形成用マスクを介して露光
現像し、露光現像されたフォトレジスト層をマスクとし
て透明導電膜をエッチングする、いわゆるフォトリソ法
によって透明電極が形成される。First, a transparent conductive film made of SnO 2 (tin oxide), ITO (indium oxide) or the like is formed on a glass substrate 1 by vapor deposition or sputtering, and a photoresist layer is formed thereon, and a mask for electrode formation is formed. A transparent electrode is formed by a so-called photolithography method, in which the transparent conductive film is exposed and developed through a mask and the exposed and developed photoresist layer is used as a mask.
【００１１】次に、透明電極上にＡｌ，Ａｌ合金からな
る金属膜を蒸着又はスパッタリングにより形成し、同様
にフォトリソ法でパターンニングして、金属補助電極が
形成される。Next, a metal film made of Al or Al alloy is formed on the transparent electrode by vapor deposition or sputtering, and similarly patterned by the photolithography method to form a metal auxiliary electrode.
【００１２】次に、透明電極及び金属補助電極からなる
サスティン電極を被覆するように、低融点ガラスペース
トを塗布し、焼成することにより、誘電体層が形成さ
れ、さらにその上にＭｇＯを蒸着することにより保護層
が形成される。Next, a low-melting-point glass paste is applied so as to cover the sustain electrode composed of the transparent electrode and the metal auxiliary electrode and baked to form a dielectric layer, and MgO is vapor-deposited on the dielectric layer. As a result, the protective layer is formed.
【００１３】[0013]
【０００３】[0003]
【００１４】[0014]
【発明が解決しようとする課題】ところで上述のように
透明導電膜上にアルミニウム又はアルミニウム合金から
なる金属膜を形成する工程でアルカリ溶液によりフォト
レジストの現像又は剥離除去を行うと、透明導電膜が腐
食し、変色（黒化）してしまうという問題があった。こ
れは、透明導電膜−金属膜の積層膜がレジスト剥離液の
ようなアルカリ溶液に浸されると、透明導電膜／アルカ
リ溶液／金属膜からなる一種の局部電池系が形成され、
透明導電膜を構成するＩＴＯ，ＳｎＯ2 膜の還元反応が
生じることにより発生するものと考えられる。本発明は
上述の問題に鑑み、透明導電膜の変色を防止し、発光効
率を向上させることを目的としている。When the photoresist is developed or peeled off with an alkaline solution in the step of forming the metal film made of aluminum or aluminum alloy on the transparent conductive film as described above, the transparent conductive film is formed. There is a problem that it corrodes and discolors (blackens). This is because when the laminated film of transparent conductive film-metal film is immersed in an alkaline solution such as a resist stripping solution, a kind of local battery system composed of transparent conductive film / alkali solution / metal film is formed,
It is considered that this is caused by the reduction reaction of the ITO and SnO 2 films forming the transparent conductive film. In view of the above problems, the present invention aims to prevent discoloration of the transparent conductive film and improve the luminous efficiency.
【００１５】[0015]
【０００４】[0004]
【００１６】[0016]
【課題を解決するための手段】ＡＣ型プラズマディスプ
レイパネルであって、放電空間を介して対向配置された
一対の基板と、一対の基板の内の表示面側の基板上に設
けられた電極と、電極を被覆する誘電体層とを有し、電
極は、表示面側の基板上に形成された幅の狭いアルミニ
ウム又はアルミニウム合金からなる金属膜と、金属膜を
被覆する幅の広い透明導電膜とから構成されていること
を特徴とする。An AC type plasma display panel, wherein a pair of substrates are arranged opposite to each other via a discharge space, and an electrode provided on the substrate on the display surface side of the pair of substrates. , A dielectric layer covering the electrode, the electrode being a metal film made of narrow aluminum or aluminum alloy formed on the substrate on the display surface side, and a wide transparent conductive film covering the metal film. It is composed of and.
【００１７】[0017]
【０００５】[0005]
【００１８】[0018]
【作用】本発明のＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
は、表示面側の基板上に形成される電極を、金属膜を透
明導電膜で被覆して構成したので、金属膜形成時のアル
カリ溶液処理過程における透明導電膜、アルカリ溶液、
金属膜で構成される局部電池の発生がなく、透明導電膜
が変色する現象を防止でき、発光効率を向上することが
できる。In the AC type plasma display panel of the present invention, the electrode formed on the substrate on the display surface side is formed by coating the metal film with the transparent conductive film. Transparent conductive film, alkaline solution,
It is possible to prevent the phenomenon that the transparent conductive film is discolored without generating a local battery composed of a metal film, and to improve the luminous efficiency.
【００１９】[0019]
【０００６】[0006]
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】本発明によるプラズマディスプレ
イパネルの実施の形態を図１及び図２を参照しながら説
明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS.
【００２１】図１は、３電極構造を採る面放電型交流型
プラズマディスプレイパネルを構成する複数の画素セル
のうちの１つの断面構造を示す。この画素セルは、表示
面となる透明な表示面側のガラス基板１と、背面側のガ
ラス基板５とが例えば１００〜２００μｍの間隙を介し
て互いに平行に対向している。さらに、表示面側のガラ
ス基板１と背面側のガラス基板５との間隙を保持するた
めに背面側のガラス基板５に隔壁（図示せず）が形成さ
れ、表示面側のガラス基板１と背面側のガラス基板５と
の間に放電空間８が形成される。FIG. 1 shows a sectional structure of one of a plurality of pixel cells constituting a surface discharge type AC plasma display panel having a three-electrode structure. In this pixel cell, a transparent display surface-side glass substrate 1 serving as a display surface and a rear surface-side glass substrate 5 face each other in parallel with a gap of, for example, 100 to 200 μm interposed therebetween. Further, a partition wall (not shown) is formed on the rear glass substrate 5 in order to maintain a gap between the glass substrate 1 on the display surface side and the glass substrate 5 on the rear surface side. A discharge space 8 is formed between the side glass substrate 5 and the side glass substrate 5.
【００２２】[0022]
【０００７】表示面側のガラス基板１には、背面側のガ
ラス基板５と対向する面に、対をなすサスティン電極
２，２が形成されている。サスティン電極２は、例えば
アルミニウム（Ａｌ）などからなる幅の狭い金属膜（金
属補助電極）２ｂと、この金属膜２ｂを覆うように、例
えばＩＴＯや酸化錫（ＳｎＯ2 ）などの蒸着によりおよ
そ数千オングストロームの膜厚で形成された透明導電膜
（透明電極）２ａとから構成されている。On the glass substrate 1 on the display surface side, paired sustain electrodes 2, 2 are formed on the surface facing the glass substrate 5 on the back surface side. The sustain electrode 2 has a narrow metal film (metal auxiliary electrode) 2b made of, for example, aluminum (Al) or the like, and is covered with the metal film 2b by vapor deposition of, for example, ITO or tin oxide (SnO 2 ). It is composed of a transparent conductive film (transparent electrode) 2a having a film thickness of 1,000 angstroms.
【００２３】このようにして形成されたサスティン電極
対２，２を被覆するように誘電体層３が２０〜５０μｍ
の膜厚で形成され、誘電体層３の上に酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）からなる保護層４がおよそ数百オングストロ
ームの膜厚で積層形成されている。The dielectric layer 3 has a thickness of 20 to 50 μm so as to cover the sustain electrode pairs 2 and 2 thus formed.
The protective layer 4 made of magnesium oxide (MgO) is laminated on the dielectric layer 3 to have a thickness of about several hundred angstroms.
【００２４】[0024]
【０００８】上記誘電体層３は、軟化点が６５０℃以下
であり且つ誘電率が１０〜１２程度の酸化鉛を含む非ア
ルカリ系の低融点ガラス又は、軟化点が６５０℃以下で
あり且つ比誘電率が８以下の酸化ナトリウム（Ｎａ
2 Ｏ）を含むアルカリ系の低融点ガラスを塗布し、５０
０〜６００℃で焼成することにより形成される。The dielectric layer 3 has a softening point of 650 ° C. or lower and a non-alkali low-melting glass containing lead oxide having a dielectric constant of about 10 to 12 or a softening point of 650 ° C. or lower and a ratio of Sodium oxide with a dielectric constant of 8 or less (Na
2 O) containing an alkali-based low melting point glass,
It is formed by firing at 0 to 600 ° C.
【００２５】尚、誘電体層３として、アルカリ系の低融
点ガラスを用いる場合、誘電体層３と透明導電膜２ａと
の間に例えば非アルカリ系の低融点ガラスなどからなる
電極保護層を設けることが好ましい。これにより、アル
カリ系ガラスに含まれるナトリウムによる透明導電膜２
ａの腐食、変色が抑制されることになる。When an alkaline low melting point glass is used as the dielectric layer 3, an electrode protective layer made of, for example, non-alkali low melting point glass is provided between the dielectric layer 3 and the transparent conductive film 2a. It is preferable. As a result, the transparent conductive film 2 made of sodium contained in the alkaline glass is used.
Corrosion and discoloration of a will be suppressed.
【００２６】[0026]
【０００９】一方、背面側のガラス基板５では、表示面
側のガラス基板１と対向する面に、アドレス電極６が形
成されている。このアドレス電極６は、例えばＡｌやＡ
ｌ合金からなり、サスティン電極２と対向しながらサス
ティン電極２の伸長方向と直交する方向におよそ１μｍ
の膜厚で伸長して形成されている。また、アドレス電極
６はＡｌやＡｌ合金などの反射率の高い金属にて形成さ
れているので、波長帯域：３８０〜６５０ｎｍにおい
て、８０％以上の反射率を有している。On the other hand, on the rear glass substrate 5, an address electrode 6 is formed on the surface facing the glass substrate 1 on the display surface side. This address electrode 6 is made of, for example, Al or A.
1 μm in the direction perpendicular to the extending direction of the sustain electrode 2 while facing the sustain electrode 2.
It is formed by extending the film thickness. Further, since the address electrode 6 is formed of a metal having a high reflectance such as Al or an Al alloy, it has a reflectance of 80% or more in the wavelength band of 380 to 650 nm.
【００２７】[0027]
【００１０】さらに、背面側のガラス基板５のアドレス
電極６を覆うように蛍光体層７が形成される。上記プラ
ズマディスプレイパネルにおいてカラー表示を行う場合
は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわちＲ，Ｇ，Ｂ
の蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光体層として形
成される。Further, a phosphor layer 7 is formed so as to cover the address electrodes 6 of the glass substrate 5 on the back side. When performing color display on the plasma display panel, for example, three colors, that is, R, G, and B, are provided for each address electrode.
One of the phosphors is sequentially formed as a phosphor layer.
【００２８】このようにして、サスティン電極対２，２
とアドレス電極６との交点を中心とする発光領域の１つ
が放電空間８に形成されて画素セルが構成される。そし
て、プラズマディスプレイパネルのカラー表示を行う場
合、各画素セルが蛍光体の３色のうちの対応する色に発
光する。In this way, the sustain electrode pair 2, 2
One of the light emitting regions centered on the intersection of the address electrode 6 and the address electrode 6 is formed in the discharge space 8 to form a pixel cell. When performing color display on the plasma display panel, each pixel cell emits light in a corresponding color of the three colors of the phosphor.
【００２９】[0029]
【００１１】上述の如く、サスティン電極対２，２及び
アドレス電極６がそれぞれ形成された表示面側のガラス
基板１及び背面側のガラス基板５は封着されて放電空間
８の排気が行われ、さらにベーキングにより保護層４
（ＭｇＯ層）の表面が活性化される。次に、放電空間８
に希ガスとして例えばキセノン（Ｘｅ）を１〜１０％含
む不活性混合ガスが２００〜６００ｔｏｒｒ封入され
る。As described above, the glass substrate 1 on the display surface side and the glass substrate 5 on the rear surface side on which the sustain electrode pairs 2 and 2 and the address electrode 6 are formed are sealed and the discharge space 8 is evacuated. Further protective layer 4 by baking
The surface of the (MgO layer) is activated. Next, the discharge space 8
An inert gas mixture containing 1 to 10% of xenon (Xe) as a rare gas is sealed in the amount of 200 to 600 torr.
【００３０】[0030]
【００１２】上述の如く形成されたプラズマディスプレ
イパネルにおいて、サスティン電極対２，２には画素セ
ルの発光開始、発光維持及び消去を駆動制御するパルス
電圧が印加され、アドレス電極６には各画素セルの画像
データパルスが印加されて、各画素セルの発光の開始、
維持及び消去が行われる。In the plasma display panel formed as described above, the sustain electrodes 2 and 2 are applied with a pulse voltage for driving and controlling the start of light emission of the pixel cell, the maintenance of light emission, and the erasing, and the address electrode 6 is applied to each pixel cell. Image data pulse is applied to start emission of light from each pixel cell,
It is maintained and erased.
【００３１】[0031]
【００１３】次に、図２により表示面側のガラス基板１
の側の基板の製造方法について説明する。図２（ａ）で
は、ガラス基板２０３上に金属膜２０７をＡｌ等の蒸着
により形成した上に、フォトレジスト（ポジ型）を塗布
し、フォトリソ法に従って金属補助電極パターン形成用
マスク２０５ａを介してフォトレジスト層２０１を露光
し現像する。現像されると露光された部分が除去され、
現像されたフォトレジスト層をマスクとして金属膜にエ
ッチング処理を行う。その後、フォトレジスト層を除去
し図２（ｂ）のように金属膜からなる金属補助電極２０
８が得られる。図２（ｃ）では、図２（ｂ）の上に、透
明導電膜２０２を蒸着し、フォトレジスト層２０６を塗
布した上に透明電極パターン形成用マスク２０５ｂを介
して前述したと同様にフォトリソ法により処理し、図２
（ｄ）のように金属補助電極を覆うように透明導電膜か
らなる透明電極２０４が形成される。Next, referring to FIG. 2, the glass substrate 1 on the display surface side.
A method of manufacturing the substrate on the side will be described. In FIG. 2A, a metal film 207 is formed on a glass substrate 203 by vapor deposition of Al or the like, a photoresist (positive type) is applied, and a metal auxiliary electrode pattern forming mask 205a is formed according to a photolithography method. The photoresist layer 201 is exposed and developed. When developed, the exposed parts are removed,
The metal film is etched using the developed photoresist layer as a mask. Then, the photoresist layer is removed and the metal auxiliary electrode 20 made of a metal film is formed as shown in FIG.
8 is obtained. In FIG. 2C, a transparent conductive film 202 is vapor-deposited on the structure of FIG. 2B, a photoresist layer 206 is applied, and a transparent electrode pattern forming mask 205b is used to interpose the photolithography method as described above. Figure 2
As shown in (d), the transparent electrode 204 made of a transparent conductive film is formed so as to cover the metal auxiliary electrode.
【００３２】図２（ｅ）では、図２（ｄ）で得られた基
板の上に誘電体層２１０が低融点ガラスペーストを塗布
した後焼成することにより形成される。In FIG. 2E, a dielectric layer 210 is formed by applying a low melting point glass paste on the substrate obtained in FIG. 2D and then firing it.
【００３３】図２（ｆ）では、図２（ｅ）で得られた誘
電体層２１０の上に保護層２０９がＭｇＯ層の蒸着によ
り形成される。In FIG. 2F, a protective layer 209 is formed on the dielectric layer 210 obtained in FIG. 2E by vapor deposition of a MgO layer.
【００３４】[0034]
【００１４】なお、上記発明の実施の形態は、表示面側
の基板にサスティン電極を設け、且つ背面基板にアドレ
ス電極及び蛍光体層を設けた反射型と呼称されるＡＣ型
ＰＤＰについて説明した。しかしながら、本発明は、上
記構成に限らず、表示面側の基板に設けられた電極が誘
電体で覆われている全ての表示素子に適用でき、上記発
明の実施の形態と同様な効果を奏ずるものである。The embodiment of the invention has been described with reference to an AC type PDP called reflection type in which a sustain electrode is provided on the substrate on the display surface side and an address electrode and a phosphor layer are provided on the rear substrate. However, the present invention is not limited to the above configuration, and can be applied to all display elements in which the electrodes provided on the substrate on the display surface side are covered with a dielectric material, and the same effects as those of the embodiments of the present invention can be obtained. It's a trick.
【００３５】[0035]
【００１５】[0015]
【００３６】[0036]
【発明の効果】本発明によるＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルは、アルミニウム又はアルミニウム合金からな
る金属膜を透明導電膜で被覆することにより、透明導電
膜の形成過程で局部電池系が形成されないので透明導電
膜の還元反応が生じない。従って、透明導電膜の黒化現
象を防止でき、発光効率を向上することができる。In the AC type plasma display panel according to the present invention, by coating a metal film made of aluminum or aluminum alloy with a transparent conductive film, a local battery system is not formed in the process of forming the transparent conductive film, so that the transparent conductive film is formed. The reduction reaction of does not occur. Therefore, the blackening phenomenon of the transparent conductive film can be prevented and the luminous efficiency can be improved.
【００３７】又、金属膜と透明導電膜の選択エッチング
性を考慮することなく、金属膜及びそのエッチング液を
選択できるので、製造工程の自由度が増える。Further, since the metal film and its etching solution can be selected without considering the selective etching properties of the metal film and the transparent conductive film, the degree of freedom in the manufacturing process is increased.
【図１】本発明の実施の形態によるＡＣ型ＰＤＰの構造
を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a structure of an AC type PDP according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施の形態によるＡＣ型ＰＤＰの製造
方法を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a method of manufacturing an AC PDP according to an embodiment of the present invention.
【図３】従来のＡＣ型ＰＤＰの構造を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a structure of a conventional AC PDP.
１ ・・・・・ 表示面側のガラス基板 ２ ・・・・・ サスティン電極 ２ａ ・・・・・ 透明導電膜 ２ｂ ・・・・・ 金属膜 ３ ・・・・・ 誘電体層 ４ ・・・・・ 保護層 ５ ・・・・・ 背面側のガラス基板 ６ ・・・・・ アドレス電極 ７ ・・・・・ 蛍光体層 ８ ・・・・・ 放電空間 ２０１ ・・・・・ フォトレジスト層 ２０２ ・・・・・ 透明導電膜 ２０３ ・・・・・ ガラス基板 ２０４ ・・・・・ 透明電極 ２０５ ・・・・・ マスク ２０６ ・・・・・ フォトレジスト層 ２０７ ・・・・・ 金属膜 ２０８ ・・・・・ 金属補助電極 ２０９ ・・・・・ 保護層 ２１０ ・・・・・ 誘電体層 1 ・ ・ ・ Glass substrate on display side 2 ・ ・ ・ Sustain electrode 2a ・ ・ ・ Transparent conductive film 2b ・ ・ ・ Metal film 3 ・ ・ ・ ・ ・ Dielectric layer 4 ・ ・ ・..Protective layer 5 .. Rear glass substrate 6 .. Address electrode 7 .. Phosphor layer 8 .. Discharge space 201 ... Photoresist layer 202.・ ・ ・ Transparent conductive film 203 ・ ・ ・ ・ ・ Glass substrate 204 ・ ・ ・ ・ ・ Transparent electrode 205 ・ ・ ・ ・ ・ Mask 206 ・ ・ ・ ・ ・ Photoresist layer 207 ・ ・ ・ Metal film 208 ・.... Metal auxiliary electrode 209 ... Protective layer 210 ... Dielectric layer
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成８年１２月１９日[Submission date] December 19, 1996
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】発明の詳細な説明[Correction target item name] Detailed description of the invention
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC type plasma display panel.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、大型で且つ薄型のカラー表示装置
としてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の実用化
が期待されている。プラズマディスプレイパネルとして
の面放電型交流型プラズマディスプレイパネルの構造の
一例を図３に示す。図３のプラズマディスプレイパネル
において、表示面側となるガラス基板１には、対をなす
電極２、２の複数がサスティン電極として数百ｎｍの膜
厚で形成され、さらに電極２を被覆して誘電体層３が２
０〜３０μｍの膜厚で形成され、誘電体層３を被覆して
ＭｇＯからなる保護層４が形成されている。サスティン
電極２は、幅の広い透明導電膜からなる透明電極２ａと
その導電性を補う幅の狭い金属膜からなる金属補助電極
２ｂとから構成されている。一方、背面側のガラス基板
５には、電極６がアドレス電極として形成され、電極６
を被覆して蛍光体層７が形成されている。基板１の電極
２と基板５の電極６とが対向して互いに直交するよう
に、基板１，５が離間配置されて放電空間８が形成さ
れ、基板１，５が封着された後の放電空間８の排気後に
希ガスが封入される。このように、基板１の電極２と基
板５の電極６の交点を中心として画素セルが形成される
ので、プラズマディスプレイパネルは複数の画素セルを
有し、画像の表示が可能となる。上述のＰＤＰの表示面
側のガラス基板は以下のように製造される。まず、ガラ
ス基板１上にＳｎＯ２（酸化錫）やＩＴＯ（酸化インジ
ウム）等からなる透明導電膜を蒸着又はスパッタリング
により形成し、その上にフォトレジスト層を形成し、電
極形成用マスクを介して露光現像し、露光現像されたフ
ォトレジスト層をマスクとして透明導電膜をエッチング
する、いわゆるフォトリソ法によって透明電極が形成さ
れる。次に、透明電極上にＡｌ，Ａｌ合金からなる金属
膜を蒸着又はスパッタリングにより形成し、同様にフォ
トリソ法でパターンニングして、金属補助電極が形成さ
れる。次に、透明電極及び金属補助電極からなるサステ
ィン電極を被覆するように、低融点ガラスペーストを塗
布し、焼成することにより、誘電体層が形成され、さら
にその上にＭｇＯを蒸着することにより保護層が形成さ
れる。2. Description of the Related Art In recent years, practical use of a plasma display panel (PDP) as a large and thin color display device is expected. FIG. 3 shows an example of the structure of a surface discharge type AC plasma display panel as a plasma display panel. In the plasma display panel of FIG. 3, a plurality of paired electrodes 2 and 2 are formed as sustain electrodes with a film thickness of several hundreds nm on a glass substrate 1 on the display surface side. Body layer 3 is 2
A protective layer 4 made of MgO is formed to a thickness of 0 to 30 μm and covers the dielectric layer 3. The sustain electrode 2 is composed of a transparent electrode 2a made of a transparent conductive film having a wide width and a metal auxiliary electrode 2b made of a metal film having a narrow width which complements the conductivity. On the other hand, electrodes 6 are formed as address electrodes on the rear glass substrate 5,
To form a phosphor layer 7. Discharge after the substrates 1 and 5 are spaced apart to form the discharge space 8 so that the electrodes 2 of the substrate 1 and the electrodes 6 of the substrate 5 face each other and are orthogonal to each other, and the substrates 1 and 5 are sealed. After exhausting the space 8, a rare gas is filled. In this way, the pixel cell is formed around the intersection of the electrode 2 of the substrate 1 and the electrode 6 of the substrate 5, so that the plasma display panel has a plurality of pixel cells and an image can be displayed. The glass substrate on the display surface side of the above PDP is manufactured as follows. First, a transparent conductive film made of SnO 2 (tin oxide), ITO (indium oxide), or the like is formed on a glass substrate 1 by vapor deposition or sputtering, and a photoresist layer is formed on the transparent conductive film. A transparent electrode is formed by a so-called photolithography method of exposing and developing, and etching the transparent conductive film using the exposed and developed photoresist layer as a mask. Next, a metal film made of Al or Al alloy is formed on the transparent electrode by vapor deposition or sputtering, and similarly patterned by photolithography to form a metal auxiliary electrode. Next, a low-melting-point glass paste is applied so as to cover the sustain electrode including the transparent electrode and the metal auxiliary electrode, and the paste is baked to form a dielectric layer, and MgO is vapor-deposited on the dielectric layer to protect it. A layer is formed.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで上述のように
透明導電膜上にアルミニウム又はアルミニウム合金から
なる金属膜を形成する工程でアルカリ溶液によりフォト
レジストの現像又は剥離除去を行うと、透明導電膜が腐
食し、変色（黒化）してしまうという問題があった。こ
れは、透明導電膜−金属膜の積層膜がレジスト剥離液の
ようなアルカリ溶液に浸されると、透明導電膜／アルカ
リ溶液／金属膜からなる一種の局部電池系が形成され、
透明導電膜を構成するＩＴＯ，ＳｎＯ２膜の還元反応が
生じることにより発生するものと考えられる。本発明は
上述の問題に鑑み、透明導電膜の変色を防止し、発光効
率を向上させることを目的としている。When the photoresist is developed or peeled off with an alkaline solution in the step of forming the metal film made of aluminum or aluminum alloy on the transparent conductive film as described above, the transparent conductive film is formed. There is a problem that it corrodes and discolors (blackens). This is because when the laminated film of transparent conductive film-metal film is immersed in an alkaline solution such as a resist stripping solution, a kind of local battery system composed of transparent conductive film / alkali solution / metal film is formed,
It is considered that this is caused by the reduction reaction of the ITO and SnO 2 films forming the transparent conductive film. In view of the above problems, the present invention aims to prevent discoloration of the transparent conductive film and improve the luminous efficiency.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】ＡＣ型プラズマディスプ
レイパネルであって、放電空間を介して対向配置された
一対の基板と、一対の基板の内の表示面側の基板上に設
けられた電極と、電極を被覆する誘電体層とを有し、電
極は、表示面側の基板上に形成された幅の狭いアルミニ
ウム又はアルミニウム合金からなる金属膜と、金属膜を
被覆する幅の広い透明導電膜とから構成されていること
を特徴とする。An AC type plasma display panel, wherein a pair of substrates are arranged opposite to each other via a discharge space, and an electrode provided on the substrate on the display surface side of the pair of substrates. , A dielectric layer covering the electrode, the electrode being a metal film made of narrow aluminum or aluminum alloy formed on the substrate on the display surface side, and a wide transparent conductive film covering the metal film. It is composed of and.
【０００５】[0005]
【作用】本発明のＡＣ型プラズマディスプレイパネルで
は、表示面側の基板上に形成される電極を、金属膜を透
明導電膜で被覆して構成したので、金属膜形成時のアル
カリ溶液処理過程における透明導電膜、アルカリ溶液、
金属膜で構成される局部電池の発生がなく、透明導電膜
が変色する現象を防止でき、発光効率を向上することが
できる。In the AC type plasma display panel of the present invention, the electrode formed on the substrate on the display surface side is formed by coating the metal film with the transparent conductive film. Transparent conductive film, alkaline solution,
It is possible to prevent the phenomenon that the transparent conductive film is discolored without generating a local battery composed of a metal film, and to improve the luminous efficiency.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】本発明によるプラズマディスプレ
イパネルの実施の形態を図１及び図２を参照しながら説
明する。図１は、３電極構造を採る面放電型交流型プラ
ズマディスプレイパネルを構成する複数の画素セルのう
ちの１つの断面構造を示す。この画素セルは、表示面と
なる透明な表示面側のガラス基板１と、背面側のガラス
基板５とが例えば１００〜２００μｍの間隙を介して互
いに平行に対向している。さらに、表示面側のガラス基
板１と背面側のガラス基板５との間隙を保持するために
背面側のガラス基板５に隔壁（図示せず）が形成され、
表示面側のガラス基板１と背面側のガラス基板５との間
に放電空間８が形成される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a plasma display panel according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a cross-sectional structure of one of a plurality of pixel cells forming a surface discharge AC plasma display panel having a three-electrode structure. In this pixel cell, a transparent display surface-side glass substrate 1 serving as a display surface and a rear surface-side glass substrate 5 face each other in parallel with a gap of, for example, 100 to 200 μm interposed therebetween. Further, a partition wall (not shown) is formed on the glass substrate 5 on the back side to maintain a gap between the glass substrate 1 on the display surface side and the glass substrate 5 on the back side,
A discharge space 8 is formed between the glass substrate 1 on the display surface side and the glass substrate 5 on the back surface side.
【０００７】表示面側のガラス基板１には、背面側のガ
ラス基板５と対向する面に、対をなすサスティン電極
２，２が形成されている。サスティン電極２は、例えば
アルミニウム（Ａｌ）などからなる幅の狭い金属膜（金
属補助電極）２ｂと、この金属膜２ｂを覆うように、例
えばＩＴＯや酸化錫（ＳｎＯ２）などの蒸着によりおよ
そ数千オングストロームの膜厚で形成された透明導電膜
（透明電極）２ａとから構成されている。このようにし
て形成されたサスティン電極対２，２を被覆するように
誘電体層３が２０〜５０μｍの膜厚で形成され、誘電体
層３の上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層
４がおよそ数百オングストロームの膜厚で積層形成され
ている。On the glass substrate 1 on the display surface side, paired sustain electrodes 2, 2 are formed on the surface facing the glass substrate 5 on the back surface side. The sustain electrode 2 has a narrow metal film (metal auxiliary electrode) 2b made of, for example, aluminum (Al) or the like, and is covered with the metal film 2b by vapor deposition of, for example, ITO or tin oxide (SnO 2 ). It is composed of a transparent conductive film (transparent electrode) 2a having a film thickness of 1,000 angstroms. A dielectric layer 3 having a thickness of 20 to 50 μm is formed so as to cover the sustain electrode pairs 2 and 2 thus formed, and a protective layer 4 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the dielectric layer 3. Are laminated with a film thickness of approximately several hundred angstroms.
【０００８】上記誘電体層３は、軟化点が６５０℃以下
であり且つ誘電率が１０〜１２程度の酸化鉛を含む非ア
ルカリ系の低融点ガラス又は、軟化点が６５０℃以下で
あり且つ比誘電率が８以下の酸化ナトリウム（Ｎａ
２Ｏ）を含むアルカリ系の低融点ガラスを塗布し、５０
０〜６００℃で焼成することにより形成される。尚、誘
電体層３として、アルカリ系の低融点ガラスを用いる場
合、誘電体層３と透明導電膜２ａとの間に例えば非アル
カリ系の低融点ガラスなどからなる電極保護層を設ける
ことが好ましい。これにより、アルカリ系ガラスに含ま
れるナトリウムによる透明導電膜２ａの腐食、変色が抑
制されることになる。The dielectric layer 3 has a softening point of 650 ° C. or lower and a non-alkali low-melting glass containing lead oxide having a dielectric constant of about 10 to 12 or a softening point of 650 ° C. or lower and a ratio of Sodium oxide with a dielectric constant of 8 or less (Na
2 O) containing an alkaline low melting point glass,
It is formed by firing at 0 to 600 ° C. When an alkali low melting point glass is used as the dielectric layer 3, it is preferable to provide an electrode protective layer made of, for example, a non-alkali low melting point glass between the dielectric layer 3 and the transparent conductive film 2a. . As a result, corrosion and discoloration of the transparent conductive film 2a due to sodium contained in the alkaline glass can be suppressed.
【０００９】一方、背面側のガラス基板５では、表示面
側のガラス基板１と対向する面に、アドレス電極６が形
成されている。このアドレス電極６は、例えばＡｌやＡ
ｌ合金からなり、サスティン電極２と対向しながらサス
ティン電極２の伸長方向と直交する方向におよそ１μｍ
の膜厚で伸長して形成されている。また、アドレス電極
６はＡｌやＡｌ合金などの反射率の高い金属にて形成さ
れているので、波長帯域：３８０〜６５０ｎｍにおい
て、８０％以上の反射率を有している。On the other hand, on the rear glass substrate 5, an address electrode 6 is formed on the surface facing the glass substrate 1 on the display surface side. This address electrode 6 is made of, for example, Al or A.
1 μm in the direction perpendicular to the extending direction of the sustain electrode 2 while facing the sustain electrode 2.
It is formed by extending the film thickness. Further, since the address electrode 6 is formed of a metal having a high reflectance such as Al or an Al alloy, it has a reflectance of 80% or more in the wavelength band of 380 to 650 nm.
【００１０】さらに、背面側のガラス基板５のアドレス
電極６を覆うように蛍光体層７が形成される。上記プラ
ズマディスプレイパネルにおいてカラー表示を行う場合
は、例えばアドレス電極毎に３色、すなわちＲ，Ｇ，Ｂ
の蛍光体のうちの１つが順に対応して蛍光体層として形
成される。このようにして、サスティン電極対２，２と
アドレス電極６との交点を中心とする発光領域の１つが
放電空間８に形成されて画素セルが構成される。そし
て、プラズマディスプレイパネルのカラー表示を行う場
合、各画素セルが蛍光体の３色のうちの対応する色に発
光する。Further, a phosphor layer 7 is formed so as to cover the address electrodes 6 of the glass substrate 5 on the back side. When performing color display on the plasma display panel, for example, three colors, that is, R, G, and B, are provided for each address electrode.
One of the phosphors is sequentially formed as a phosphor layer. In this way, one of the light emitting regions centering on the intersection of the sustain electrode pair 2, 2 and the address electrode 6 is formed in the discharge space 8 to form a pixel cell. When performing color display on the plasma display panel, each pixel cell emits light in a corresponding color of the three colors of the phosphor.
【００１１】上述の如く、サスティン電極対２，２及び
アドレス電極６がそれぞれ形成された表示面側のガラス
基板１及び背面側のガラス基板５は封着されて放電空間
８の排気が行われ、さらにベーキングにより保護層４
（ＭｇＯ層）の表面が活性化される。次に、放電空間８
に希ガスとして例えばキセノン（Ｘｅ）を１〜１０％含
む不活性混合ガスが２００〜６００ｔｏｒｒ封入され
る。As described above, the glass substrate 1 on the display surface side and the glass substrate 5 on the rear surface side on which the sustain electrode pairs 2 and 2 and the address electrode 6 are formed are sealed and the discharge space 8 is evacuated. Further protective layer 4 by baking
The surface of the (MgO layer) is activated. Next, the discharge space 8
An inert gas mixture containing 1 to 10% of xenon (Xe) as a rare gas is sealed in the amount of 200 to 600 torr.
【００１２】上述の如く形成されたプラズマディスプレ
イパネルにおいて、サスティン電極対２，２には画素セ
ルの発光開始、発光維持及び消去を駆動制御するパルス
電圧が印加され、アドレス電極６には各画素セルの画像
データパルスが印加されて、各画素セルの発光の開始、
維持及び消去が行われる。In the plasma display panel formed as described above, the sustain electrodes 2 and 2 are applied with a pulse voltage for driving and controlling the start of light emission of the pixel cell, the maintenance of light emission, and the erasing, and the address electrode 6 is applied to each pixel cell. Image data pulse is applied to start emission of light from each pixel cell,
It is maintained and erased.
【００１３】次に、図２により表示面側のガラス基板１
の側の基板の製追方法について説明する。図２（ａ）で
は、ガラス基板２０３上に金属膜２０７をＡｌ等の蒸着
により形成した上に、フォトレジスト（ポジ型）を塗布
し、フォトリソ法に従って金属補助電極パターン形成用
マスク２０５ａを介してフォトレジスト層２０１を露光
し現像する。現像されると露光された部分が除去され、
現像されたフォトレジスト層をマスクとして金属膜にエ
ッチング処理を行う。その後、フォトレジスト層を除去
し図２（ｂ）のように金属膜からなる金属補助電極２０
８が得られる。図２（ｃ）では、図２（ｂ）の上に、透
明導電膜２０２を蒸着し、フォトレジスト層２０６を塗
布した上に透明電極パターン形成用マスク２０５ｂを介
して前述したと同様にフォトリソ法により処理し、図２
（ｄ）のように金属補助電極を覆うように透明導電膜か
らなる透明電極２０４が形成される。図２（ｅ）では、
図２（ｄ）で得られた基板の上に誘電体層２１０が低融
点ガラスペーストを塗布した後焼成することにより形成
される。図２（ｆ）では、図２（ｅ）で得られた誘電体
層２１０の上に保護層２０９がＭｇＯ層の蒸着により形
成される。Next, referring to FIG. 2, the glass substrate 1 on the display surface side.
A method for manufacturing the substrate on the side of will be described. In FIG. 2A, a metal film 207 is formed on a glass substrate 203 by vapor deposition of Al or the like, a photoresist (positive type) is applied, and a metal auxiliary electrode pattern forming mask 205a is formed according to a photolithography method. The photoresist layer 201 is exposed and developed. When developed, the exposed parts are removed,
The metal film is etched using the developed photoresist layer as a mask. Then, the photoresist layer is removed and the metal auxiliary electrode 20 made of a metal film is formed as shown in FIG.
8 is obtained. In FIG. 2C, a transparent conductive film 202 is vapor-deposited on the structure of FIG. 2B, a photoresist layer 206 is applied, and a transparent electrode pattern forming mask 205b is used to interpose the photolithography method as described above. Figure 2
As shown in (d), the transparent electrode 204 made of a transparent conductive film is formed so as to cover the metal auxiliary electrode. In FIG. 2 (e),
A dielectric layer 210 is formed on the substrate obtained in FIG. 2D by applying a low-melting point glass paste and baking it. In FIG. 2F, a protective layer 209 is formed on the dielectric layer 210 obtained in FIG. 2E by vapor deposition of a MgO layer.
【００１４】なお、上記発明の実施の形態は、表示面側
の基板にサスティン電極を設け、且つ背面基板にアドレ
ス電極及び蛍光体層を設けた反射型と呼称されるＡＣ型
ＰＤＰについて説明した。しかしながら、本発明は、上
記構成に限らず、表示面側の基板に設けられた電極が誘
電体で覆われている全ての表示素子に適用でき、上記発
明の実施の形態と同様な効果を奏ずるものである。The embodiment of the invention has been described with reference to an AC type PDP called reflection type in which a sustain electrode is provided on the substrate on the display surface side and an address electrode and a phosphor layer are provided on the rear substrate. However, the present invention is not limited to the above configuration, and can be applied to all display elements in which the electrodes provided on the substrate on the display surface side are covered with a dielectric material, and the same effects as those of the embodiments of the present invention can be obtained. It's a trick.
【００１５】[0015]
【発明の効果】本発明によるＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルは、アルミニウム又はアルミニウム合金からな
る金属膜を透明導電膜で被覆することにより、透明導電
膜の形成過程で局部電池系が形成されないので透明導電
膜の還元反応が生じない。従って、透明導電膜の黒化現
象を防止でき、発光効率を向上することができる。又、
金属膜と透明導電膜の選択エッチング性を考慮すること
なく、金属膜及びそのエッチング液を選択できるので、
製造工程の自由度が増える。In the AC type plasma display panel according to the present invention, by coating a metal film made of aluminum or aluminum alloy with a transparent conductive film, a local battery system is not formed in the process of forming the transparent conductive film, so that the transparent conductive film is formed. The reduction reaction of does not occur. Therefore, the blackening phenomenon of the transparent conductive film can be prevented and the luminous efficiency can be improved. or,
Since the metal film and its etching solution can be selected without considering the selective etching property of the metal film and the transparent conductive film,
The flexibility of the manufacturing process increases.
Claims (1)
基板と、前記一対の基板の内の表示面側の基板上に設け
られた電極と、前記電極を被覆する誘電体層とを有した
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルであって、前記電極
は、前記表示面側の基板上に形成された幅の狭いアルミ
ニウム又はアルミニウム合金からなる金属膜と、 前記金属膜を被覆する幅の広い透明導電膜とから構成さ
れていることを特徴とするＡＣ型プラズマディスプレイ
パネル。 【０００１】1. A pair of substrates arranged to face each other via a discharge space, an electrode provided on a substrate on the display surface side of the pair of substrates, and a dielectric layer covering the electrodes. In the AC plasma display panel described above, the electrodes include a metal film made of aluminum or an aluminum alloy having a narrow width formed on the substrate on the display surface side, and a wide transparent conductive film covering the metal film. An AC type plasma display panel characterized by comprising: [0001]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8027291A JPH09199038A (en) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | Ac type plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8027291A JPH09199038A (en) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | Ac type plasma display panel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199038A true JPH09199038A (en) | 1997-07-31 |
Family
ID=12216985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8027291A Pending JPH09199038A (en) | 1996-01-22 | 1996-01-22 | Ac type plasma display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09199038A (en) |
-
1996
- 1996-01-22 JP JP8027291A patent/JPH09199038A/en active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040420 |