JPH09202641A - 表示装置用基板ガラスおよびその製法 - Google Patents
表示装置用基板ガラスおよびその製法Info
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- JPH09202641A JPH09202641A JP30171396A JP30171396A JPH09202641A JP H09202641 A JPH09202641 A JP H09202641A JP 30171396 A JP30171396 A JP 30171396A JP 30171396 A JP30171396 A JP 30171396A JP H09202641 A JPH09202641 A JP H09202641A
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-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来技術においては、溶融およびフロート法
成形が容易とはいえず、さらに直接通電溶融する際に電
極におよぼす弊害がある。本発明はそれら不具合を解消
し、歪点が高く、熱膨張率が適正で、体積抵抗率に優れ
たガラス、特にＰＤＰ用として好適な表示装置用基板ガ
ラスを提供する。 【解決手段】 重量％表示で、SiO2 52 〜54、Al2O3 7
〜11、ZrO2 0〜5 、MgO1 〜5 、CaO 5 〜 9、SrO O 〜5
、BaO 8 〜14、MgO ＋CaO ＋SrO ＋BaO 20〜25、TiO2
0〜1 、Li2O 0〜5 、Na2O 2〜6 、K2O 7 〜11、およびL
i2O＋Na2O＋K2Oを13〜15の範囲で含有する表示装置用基
板ガラス、およびその製法。
成形が容易とはいえず、さらに直接通電溶融する際に電
極におよぼす弊害がある。本発明はそれら不具合を解消
し、歪点が高く、熱膨張率が適正で、体積抵抗率に優れ
たガラス、特にＰＤＰ用として好適な表示装置用基板ガ
ラスを提供する。 【解決手段】 重量％表示で、SiO2 52 〜54、Al2O3 7
〜11、ZrO2 0〜5 、MgO1 〜5 、CaO 5 〜 9、SrO O 〜5
、BaO 8 〜14、MgO ＋CaO ＋SrO ＋BaO 20〜25、TiO2
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i2O＋Na2O＋K2Oを13〜15の範囲で含有する表示装置用基
板ガラス、およびその製法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種表示装置用基
板ガラス、特にプラズマディスプレイ (ＰＤＰ)用基板
ガラスとして好適なガラスであって、電気溶融法を含め
た溶融、およびフロート法による成形 (製板) が容易な
表示装置用基板ガラス、およびその製法に関する。
板ガラス、特にプラズマディスプレイ (ＰＤＰ)用基板
ガラスとして好適なガラスであって、電気溶融法を含め
た溶融、およびフロート法による成形 (製板) が容易な
表示装置用基板ガラス、およびその製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表示装置用基板ガラスとしては、
ソーダ石灰シリカ系ガラスが用いられるケースが多い。
一例としてＰＤＰ用ガラス基板においては、ガラス基板
にニッケルやアルミニウム等の電極や絶縁塗膜等をスク
リーン印刷などにより施し、600 ℃に近い温度での焼成
を繰返してパネルを製作する。基板ガラスは電極や塗膜
との熱膨張率が異なるとそれらの亀裂や剥離を生じ易い
ので、熱膨張率を整合させる必要があり、前記ソーダ石
灰シリカ系ガラスにおいては熱膨張率がほぼ90×10-7／
℃と、電極や塗膜との熱膨張率に近い点において有用で
あるが、歪点が510 ℃近辺の温度であるため繰返し焼成
に際して熱変形を生じ易く、製作歩留りを著しく悪化さ
せるという問題がある。
ソーダ石灰シリカ系ガラスが用いられるケースが多い。
一例としてＰＤＰ用ガラス基板においては、ガラス基板
にニッケルやアルミニウム等の電極や絶縁塗膜等をスク
リーン印刷などにより施し、600 ℃に近い温度での焼成
を繰返してパネルを製作する。基板ガラスは電極や塗膜
との熱膨張率が異なるとそれらの亀裂や剥離を生じ易い
ので、熱膨張率を整合させる必要があり、前記ソーダ石
灰シリカ系ガラスにおいては熱膨張率がほぼ90×10-7／
℃と、電極や塗膜との熱膨張率に近い点において有用で
あるが、歪点が510 ℃近辺の温度であるため繰返し焼成
に際して熱変形を生じ易く、製作歩留りを著しく悪化さ
せるという問題がある。
【０００３】特開平３−40933 号にはSiO2成分、Al2O3
成分、CaO 成分をはじめとするアルカリ土類金属酸化
物、Na2O成分をはじめとするアルカリ金属酸化物等より
なる基板用ガラス組成物であって、600 ℃付近の熱処理
においても殆ど変形せず、また熱膨張率もソーダ石灰シ
リカ系ガラスと殆ど変わらないガラスが開示されてい
る。
成分、CaO 成分をはじめとするアルカリ土類金属酸化
物、Na2O成分をはじめとするアルカリ金属酸化物等より
なる基板用ガラス組成物であって、600 ℃付近の熱処理
においても殆ど変形せず、また熱膨張率もソーダ石灰シ
リカ系ガラスと殆ど変わらないガラスが開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記開示例において
は、SiO2が過多であり、またアルカリ成分(Li2O 、Na
2O、およびK2O ) が過少であるのでガラスの高温粘度が
高く、溶融およびフロート法成形が容易とはいえない。
さらに開示例においては媒溶・清澄剤としてSO3 、Sb 2O
3 、またはAs2O3 を採用したことを例示しているが、例
えば直接通電溶融する場合においてはそれらが電極と反
応して電極を変質劣化させたり、ガラスに着色を与えた
りするという問題がある。
は、SiO2が過多であり、またアルカリ成分(Li2O 、Na
2O、およびK2O ) が過少であるのでガラスの高温粘度が
高く、溶融およびフロート法成形が容易とはいえない。
さらに開示例においては媒溶・清澄剤としてSO3 、Sb 2O
3 、またはAs2O3 を採用したことを例示しているが、例
えば直接通電溶融する場合においてはそれらが電極と反
応して電極を変質劣化させたり、ガラスに着色を与えた
りするという問題がある。
【０００５】本発明はそれら解決すべき課題に鑑みて種
々検討の末、完成に達したものであり、直接通電溶融を
含めた溶融、フロート法成形に適し、適度な熱特性、電
気特性を有し、特にＰＤＰ用として好適な表示装置用基
板ガラスを提供するものである。
々検討の末、完成に達したものであり、直接通電溶融を
含めた溶融、フロート法成形に適し、適度な熱特性、電
気特性を有し、特にＰＤＰ用として好適な表示装置用基
板ガラスを提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、重量％表示
で、SiO2 52 〜54、Al2O3 7 〜11、ZrO2 0〜5 、MgO 1
〜5 、CaO 5 〜 9、SrO O 〜5 、BaO 8 〜14、MgO ＋Ca
O ＋SrO ＋BaO 20〜25、TiO2 0〜1 、Li2O 0〜5 、Na2O
2〜6 、K2O 7 〜11、およびLi2O＋Na2O＋K2O が13〜15
の範囲で含有する表示装置用基板ガラス、さらに、ガラ
スの歪点が 590℃以上、室温から 300℃における熱膨張
率が84〜88 (×10-7／℃) 、 250℃における体積抵抗率
が109 Ω.cm 以上である上記表示装置用基板ガラス、上
記表示装置用基板ガラスを製造するための好適な製法で
あって、ガラス溶融に際する媒溶、清澄剤として原料バ
ッチ中に硝酸塩、塩化物、またはフッ化物を導入した表
示装置用基板ガラスの製法、加えて直接通電による電気
溶融およびフロート法成形において、As2O3 、Sb2O 3 ま
たはZnO を含有しない表示装置用基板ガラスの製法、か
らなる。
で、SiO2 52 〜54、Al2O3 7 〜11、ZrO2 0〜5 、MgO 1
〜5 、CaO 5 〜 9、SrO O 〜5 、BaO 8 〜14、MgO ＋Ca
O ＋SrO ＋BaO 20〜25、TiO2 0〜1 、Li2O 0〜5 、Na2O
2〜6 、K2O 7 〜11、およびLi2O＋Na2O＋K2O が13〜15
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スの歪点が 590℃以上、室温から 300℃における熱膨張
率が84〜88 (×10-7／℃) 、 250℃における体積抵抗率
が109 Ω.cm 以上である上記表示装置用基板ガラス、上
記表示装置用基板ガラスを製造するための好適な製法で
あって、ガラス溶融に際する媒溶、清澄剤として原料バ
ッチ中に硝酸塩、塩化物、またはフッ化物を導入した表
示装置用基板ガラスの製法、加えて直接通電による電気
溶融およびフロート法成形において、As2O3 、Sb2O 3 ま
たはZnO を含有しない表示装置用基板ガラスの製法、か
らなる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の成分系において、SiO2は
ガラスの主成分であり、重量％において52％未満ではガ
ラスの歪点が低下し、化学的耐久性を悪化させる。他方
54％を越えるとガラス融液の高温粘度が高くなり、フロ
ート法成形が困難になる。従って52〜54％、好ましくは
53〜54％の範囲とする。
ガラスの主成分であり、重量％において52％未満ではガ
ラスの歪点が低下し、化学的耐久性を悪化させる。他方
54％を越えるとガラス融液の高温粘度が高くなり、フロ
ート法成形が困難になる。従って52〜54％、好ましくは
53〜54％の範囲とする。
【０００８】Al2O3 は 7％未満であるとガラスの歪点が
低下し、他方11％を超えるとガラス融液の高温粘度が高
くなり、失透傾向が増大し、フロート法成形が困難にな
る。従って 7〜11％、好適には 8〜11％の範囲がよい。
低下し、他方11％を超えるとガラス融液の高温粘度が高
くなり、失透傾向が増大し、フロート法成形が困難にな
る。従って 7〜11％、好適には 8〜11％の範囲がよい。
【０００９】ZrO2は必須成分ではないが、ガラスの歪点
を上昇させ、失透の発生を抑える作用を有するので 5％
以下の範囲で含有させることが好ましく、 5％を超える
と逆に失透傾向が増大し、ガラスの溶融およびフロート
法成形を困難とする。
を上昇させ、失透の発生を抑える作用を有するので 5％
以下の範囲で含有させることが好ましく、 5％を超える
と逆に失透傾向が増大し、ガラスの溶融およびフロート
法成形を困難とする。
【００１０】MgO は他の二価成分酸化物に比べ歪点を上
昇させる作用を有するが 1％未満ではその作用が不充分
であり、他方 5％を超えると失透傾向が大きくなる。従
って1〜5 ％、好ましくは 2〜4 ％の範囲とする。
昇させる作用を有するが 1％未満ではその作用が不充分
であり、他方 5％を超えると失透傾向が大きくなる。従
って1〜5 ％、好ましくは 2〜4 ％の範囲とする。
【００１１】CaO はBaO との共存下でガラス融液の高温
粘度を下げる作用を有するが、 5％未満ではその作用が
不充分であり、他方 9％を超えると失透傾向が大きくな
る。従って 5〜 9％、好ましくは 6〜8 ％の範囲とす
る。
粘度を下げる作用を有するが、 5％未満ではその作用が
不充分であり、他方 9％を超えると失透傾向が大きくな
る。従って 5〜 9％、好ましくは 6〜8 ％の範囲とす
る。
【００１２】BaO は前記のごとくCaO との共存下でガラ
ス融液の高温粘度を下げ失透の発生を抑制する作用を有
するが、 8％未満では失透を抑制する作用が不充分であ
り、他方14％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎる。
従って 8〜14％、好ましくは9〜13％の範囲とする。
ス融液の高温粘度を下げ失透の発生を抑制する作用を有
するが、 8％未満では失透を抑制する作用が不充分であ
り、他方14％を超えるとガラスの歪点が低下し過ぎる。
従って 8〜14％、好ましくは9〜13％の範囲とする。
【００１３】SrO は必須成分ではないが、CaO およびBa
O との共存下でガラス融液の高温粘度を下げる作用を有
する。なおSrO の含有量は 5％以下の範囲とするもの
で、 5％を超えると歪点が低下し過ぎ、また熱膨張率を
過大とする。
O との共存下でガラス融液の高温粘度を下げる作用を有
する。なおSrO の含有量は 5％以下の範囲とするもの
で、 5％を超えると歪点が低下し過ぎ、また熱膨張率を
過大とする。
【００１４】さらに、上記組成範囲内において、アルカ
リ土類金属酸化物 (CaO 、MgO 、BaO 、SrO ) の合計を
20〜25％の範囲とすることによって、ガラスの溶融性を
良好な範囲に維持しつつ、粘度−温度勾配を適度として
成形性を良好とし、耐熱性、化学的耐久性等に優れ、適
切な範囲の熱膨張率を有するガラスを得ることができ
る。アルカリ土類金属酸化物の合計が25％を越えると特
に熱膨張率が上昇するとともに失透傾向が増大し、化学
的耐久性が低下する。20％未満では、高温粘度が上昇し
て溶融および成形を困難とし、熱膨張率が低下する。
リ土類金属酸化物 (CaO 、MgO 、BaO 、SrO ) の合計を
20〜25％の範囲とすることによって、ガラスの溶融性を
良好な範囲に維持しつつ、粘度−温度勾配を適度として
成形性を良好とし、耐熱性、化学的耐久性等に優れ、適
切な範囲の熱膨張率を有するガラスを得ることができ
る。アルカリ土類金属酸化物の合計が25％を越えると特
に熱膨張率が上昇するとともに失透傾向が増大し、化学
的耐久性が低下する。20％未満では、高温粘度が上昇し
て溶融および成形を困難とし、熱膨張率が低下する。
【００１５】TiO2は必須成分ではないが、ガラスの化学
的耐久性を向上し、またガラス溶融に際して失透傾向を
低減するうえで１％以下導入するものである。ただし１
％を越えて導入するとガラスに着色を与えるので好まし
くない。
的耐久性を向上し、またガラス溶融に際して失透傾向を
低減するうえで１％以下導入するものである。ただし１
％を越えて導入するとガラスに着色を与えるので好まし
くない。
【００１６】Na2OはK2O とともにガラス溶融剤として作
用し、またガラスの熱膨張率を適度な大きさに維持する
うえで不可欠である。Na2Oが 2％未満であると熱膨張率
が低くなり過ぎ、 6％を超えると歪点が低下し過ぎる。
従って 2〜6 ％、好ましくは3〜5 ％の範囲とする。
用し、またガラスの熱膨張率を適度な大きさに維持する
うえで不可欠である。Na2Oが 2％未満であると熱膨張率
が低くなり過ぎ、 6％を超えると歪点が低下し過ぎる。
従って 2〜6 ％、好ましくは3〜5 ％の範囲とする。
【００１７】K2O は上記理由およびNa2Oとの混合アルカ
リ効果によりアルカリイオンの移動を抑制し、ガラスの
体積抵抗率を高める。 7％未満であるとそれら作用が不
充分であり、11％を超えると熱膨張率が過大となり、ま
た歪点も低下し過ぎるため、7〜11％、好適には 8〜10
％の範囲とする。
リ効果によりアルカリイオンの移動を抑制し、ガラスの
体積抵抗率を高める。 7％未満であるとそれら作用が不
充分であり、11％を超えると熱膨張率が過大となり、ま
た歪点も低下し過ぎるため、7〜11％、好適には 8〜10
％の範囲とする。
【００１８】Li2Oは必須成分ではないがガラスの高温粘
度を下げ、ガラス原料の溶融を促進する。ただし 5％を
越えて含有させるとガラスの歪点が低下し過ぎるので 5
％以下の範囲で導入するのが望ましい。
度を下げ、ガラス原料の溶融を促進する。ただし 5％を
越えて含有させるとガラスの歪点が低下し過ぎるので 5
％以下の範囲で導入するのが望ましい。
【００１９】前記アルカリ成分 (Na2O、K2O 、Li2O) の
量に関し、その合計量を13〜15％にすることにより、歪
点、熱膨張率、高温粘度および失透温度を適切な範囲に
維持することができる。アルカリ成分の合計量が13％未
満では熱膨張率が低下し、失透傾向が増大する。15％を
越えると歪点が低下し過ぎるうえに、体積抵抗率が低下
する。従って13〜15％の範囲とするものである。
量に関し、その合計量を13〜15％にすることにより、歪
点、熱膨張率、高温粘度および失透温度を適切な範囲に
維持することができる。アルカリ成分の合計量が13％未
満では熱膨張率が低下し、失透傾向が増大する。15％を
越えると歪点が低下し過ぎるうえに、体積抵抗率が低下
する。従って13〜15％の範囲とするものである。
【００２０】さらに、前記アルカリ成分において、K2O
／Na2O重量比を2.0 以上とすることにより、ガラス中で
のアルカリイオンの移動が抑制され、体積抵抗率を上昇
させる作用を有する。K2O ／Na2O重量比が2.0 未満では
その作用が不充分である。
／Na2O重量比を2.0 以上とすることにより、ガラス中で
のアルカリイオンの移動が抑制され、体積抵抗率を上昇
させる作用を有する。K2O ／Na2O重量比が2.0 未満では
その作用が不充分である。
【００２１】本発明において、原料バッチ中に塩化物、
フッ化物を導入するのが望ましく、例えばCaF2、MgF2、
NaCl、CaCl2 等の金属フッ化物、塩化物を導入すること
により、ガラス融液の粘度、表面張力を降下させ溶融、
清澄性を向上し、かつ電気溶融法を採用した場合におい
ては電極を変質劣化させないうえで有効であるが、フッ
素、または塩素分として原料バッチのガラス換算量 (酸
化物)100重量％に対して0.5 重量％以下外挿添加するの
が肝要であり、0.5 重量％を超えると炉材の浸食等が激
しくなる傾向があるうえに、ガラスの歪点を低下させ
る。
フッ化物を導入するのが望ましく、例えばCaF2、MgF2、
NaCl、CaCl2 等の金属フッ化物、塩化物を導入すること
により、ガラス融液の粘度、表面張力を降下させ溶融、
清澄性を向上し、かつ電気溶融法を採用した場合におい
ては電極を変質劣化させないうえで有効であるが、フッ
素、または塩素分として原料バッチのガラス換算量 (酸
化物)100重量％に対して0.5 重量％以下外挿添加するの
が肝要であり、0.5 重量％を超えると炉材の浸食等が激
しくなる傾向があるうえに、ガラスの歪点を低下させ
る。
【００２２】さらにガラスの溶融、清澄性を向上させる
原料としては硝酸塩の導入が好ましい。すなわち例えば
硝酸バリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の原料
形態で原料バッチ中に導入するが、硝酸塩の殆どはガラ
スの初期溶融の過程で酸素を発生し、S 、FeおよびTiの
ようなガラス中の微量還元成分を酸化状態に維持するた
め、これら還元成分がモリブデン等の電極と反応して電
極が損耗するような弊害を抑制する。
原料としては硝酸塩の導入が好ましい。すなわち例えば
硝酸バリウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の原料
形態で原料バッチ中に導入するが、硝酸塩の殆どはガラ
スの初期溶融の過程で酸素を発生し、S 、FeおよびTiの
ようなガラス中の微量還元成分を酸化状態に維持するた
め、これら還元成分がモリブデン等の電極と反応して電
極が損耗するような弊害を抑制する。
【００２３】硝酸塩はNO3 として原料バッチのガラス換
算量 (酸化物)100重量％に対して 4重量％以下、さらに
望ましくは 1〜 4重量％の範囲で外挿添加するのが好ま
しい。 4重量％を超えると原料バッチの溶解速度が過大
となり、安定した溶融状態を得るのが困難となる。前記
塩化物、フッ化物または硝酸塩は必要に応じ適宜導入す
るもので、両者を併存させてもよい。
算量 (酸化物)100重量％に対して 4重量％以下、さらに
望ましくは 1〜 4重量％の範囲で外挿添加するのが好ま
しい。 4重量％を超えると原料バッチの溶解速度が過大
となり、安定した溶融状態を得るのが困難となる。前記
塩化物、フッ化物または硝酸塩は必要に応じ適宜導入す
るもので、両者を併存させてもよい。
【００２４】本発明において、直接通電による電気溶融
法を採用する場合は、汎用されるモリブデン等の電極と
反応して合金を形成したりするようなことは避けねばな
らず、従って原料バッチ中に清澄剤としてのAs2O3 、Sb
2O3 およびＳ分、硫酸塩 (ガラス中に一部SO3 として残
留する) や反応性を有するZnO 原料の混入は避けた方が
よい。
法を採用する場合は、汎用されるモリブデン等の電極と
反応して合金を形成したりするようなことは避けねばな
らず、従って原料バッチ中に清澄剤としてのAs2O3 、Sb
2O3 およびＳ分、硫酸塩 (ガラス中に一部SO3 として残
留する) や反応性を有するZnO 原料の混入は避けた方が
よい。
【００２５】さらにフロート法成形による量産を容易と
し、成形時の窒素および水素等の還元雰囲気下で揮発し
たり、ガラスに着色を与えないようにするために、PbO
、ZnO 等の揮発成分や、As2O3 、Sb2O3 等の反応着色
性成分の混入も避けるべきである。特に前記した電気溶
融およびフロ−ト法成形に悪影響を及ぼすAs2O3 、Sb2O
3、およびZnO は実質的に含有してはならない。
し、成形時の窒素および水素等の還元雰囲気下で揮発し
たり、ガラスに着色を与えないようにするために、PbO
、ZnO 等の揮発成分や、As2O3 、Sb2O3 等の反応着色
性成分の混入も避けるべきである。特に前記した電気溶
融およびフロ−ト法成形に悪影響を及ぼすAs2O3 、Sb2O
3、およびZnO は実質的に含有してはならない。
【００２６】なお、前記電極との反応性成分、還元雰囲
気との反応性成分、揮発性成分およびFe2O3 、MnO2、そ
の他不純物としての極微量の混入は本発明を妨げるもの
ではない。また、Ｓ分、硫酸塩はガラス中でSO3 として
0.1重量％以下の混入であればさしたる影響はなく、許
容できる。
気との反応性成分、揮発性成分およびFe2O3 、MnO2、そ
の他不純物としての極微量の混入は本発明を妨げるもの
ではない。また、Ｓ分、硫酸塩はガラス中でSO3 として
0.1重量％以下の混入であればさしたる影響はなく、許
容できる。
【００２７】本発明においてはガラスの歪点を 590℃以
上としたことにより、600 ℃程度の各種繰返し熱処理に
対しても基板ガラスが歪んだりすることがなく、また熱
膨張率 (室温〜300 ℃) を84〜88 (×10-7／℃) とした
ことにより、厚膜等との熱膨張率差をなくし、あるいは
僅少として厚膜等との密着性を良好とし、さらに体積抵
抗率(250℃) を109 Ω.cm 以上としたことにより、優れ
た電気絶縁性を有するガラスが得られる。
上としたことにより、600 ℃程度の各種繰返し熱処理に
対しても基板ガラスが歪んだりすることがなく、また熱
膨張率 (室温〜300 ℃) を84〜88 (×10-7／℃) とした
ことにより、厚膜等との熱膨張率差をなくし、あるいは
僅少として厚膜等との密着性を良好とし、さらに体積抵
抗率(250℃) を109 Ω.cm 以上としたことにより、優れ
た電気絶縁性を有するガラスが得られる。
【００２８】
【実施例】珪砂、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ジルコン砂、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、フッ化カルシウムおよび硝
酸バリウムよりなる調合原料を白金製耐火坩堝に充填し
電気炉内で1500℃、約 4時間加熱溶融した。次に溶融ガ
ラスを鋳型に流し込み、約 200mm□×35mm厚の大きさの
ガラスブロックとし、 630℃に保持した電気炉に移入し
て該炉内で徐冷した。
ム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ジルコン砂、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、フッ化カルシウムおよび硝
酸バリウムよりなる調合原料を白金製耐火坩堝に充填し
電気炉内で1500℃、約 4時間加熱溶融した。次に溶融ガ
ラスを鋳型に流し込み、約 200mm□×35mm厚の大きさの
ガラスブロックとし、 630℃に保持した電気炉に移入し
て該炉内で徐冷した。
【００２９】原料調合に基づくガラス (酸化物) 組成を
表１に示す。なおCaF2のかたちで導入されるF 分、Ba(N
O3)2のかたちで導入されるNO3 分についてはガラス酸化
物組成計100 重量％に対する外挿添加・導入量 (重量
％) で示した。
表１に示す。なおCaF2のかたちで導入されるF 分、Ba(N
O3)2のかたちで導入されるNO3 分についてはガラス酸化
物組成計100 重量％に対する外挿添加・導入量 (重量
％) で示した。
【００３０】これらのガラス試料について、室温〜 300
℃における平均熱膨張率 X10-7／℃) 、歪点 (ガラスが
粘度1014.5ポイズを示す温度) 、作業温度(104ポイズの
温度) 、および失透温度を測定し、また 250℃における
体積抵抗率 (Ω.cm)を測定した。それらの結果を表１に
示す。
℃における平均熱膨張率 X10-7／℃) 、歪点 (ガラスが
粘度1014.5ポイズを示す温度) 、作業温度(104ポイズの
温度) 、および失透温度を測定し、また 250℃における
体積抵抗率 (Ω.cm)を測定した。それらの結果を表１に
示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】表1 中実施例NO.1〜NO.5は本発明における
ガラスであり、製作過程における溶融、清澄性とも良好
であり、ガラスの歪点は590 ℃以上で耐熱性が良好であ
る。熱膨張率も84〜88×10-7／℃の範囲で電極や厚膜と
の熱膨張率に近似しており、体積抵抗率も109 Ω.cm 以
上で電気絶縁性に優れ、表示装置用基板ガラス、殊にＰ
ＤＰ用の基板ガラスとして好適である。
ガラスであり、製作過程における溶融、清澄性とも良好
であり、ガラスの歪点は590 ℃以上で耐熱性が良好であ
る。熱膨張率も84〜88×10-7／℃の範囲で電極や厚膜と
の熱膨張率に近似しており、体積抵抗率も109 Ω.cm 以
上で電気絶縁性に優れ、表示装置用基板ガラス、殊にＰ
ＤＰ用の基板ガラスとして好適である。
【００３３】前記実施例NO.4のフッ化カルシウムに換
え、塩化カルシウム (外挿添加量はCl分において0.2
％) を導入し、実施例４同様に溶融し、徐冷して得たガ
ラスブロック (実施例NO.6試料) について調査測定した
ところ、熱物性において実施例NO.4と近似した値を示
し、溶融、清澄性も実施例NO.4に遜色なかった。
え、塩化カルシウム (外挿添加量はCl分において0.2
％) を導入し、実施例４同様に溶融し、徐冷して得たガ
ラスブロック (実施例NO.6試料) について調査測定した
ところ、熱物性において実施例NO.4と近似した値を示
し、溶融、清澄性も実施例NO.4に遜色なかった。
【００３４】
【発明の効果】本発明のガラスは、熱膨張率、歪点、体
積抵抗率等の点で表示装置用基板ガラス、特にＰＤＰ用
の基板ガラスとして好適であり、またガラスの溶融性も
良好で、直接通電法による溶融性およびフロート法によ
る成形性に適し、均質なガラスを連続的に低いコストで
製造することができ、量産に適するという効果を奏す
る。
積抵抗率等の点で表示装置用基板ガラス、特にＰＤＰ用
の基板ガラスとして好適であり、またガラスの溶融性も
良好で、直接通電法による溶融性およびフロート法によ
る成形性に適し、均質なガラスを連続的に低いコストで
製造することができ、量産に適するという効果を奏す
る。
Claims (4)
- 【請求項１】重量％表示で、SiO2 52 〜54、Al2O3 7 〜
11、ZrO2 0〜5 、MgO 1 〜5 、CaO5 〜 9、SrO O 〜5
、BaO 8 〜14、MgO ＋CaO ＋SrO ＋BaO 20〜25、TiO2
0〜1、Li2O 0〜5 、Na2O 2〜6 、K2O 7 〜11、およびLi
2O＋Na2O＋K2O を13〜15の範囲で含有することを特徴と
する表示装置用基板ガラス。 - 【請求項２】ガラスの歪点が 590℃以上、室温から 300
℃における熱膨張率が84〜88 (×10 -7／℃) 、 250℃に
おける体積抵抗率が109 Ω.cm 以上であることを特徴と
する請求項１記載の表示装置用基板ガラス。 - 【請求項３】ガラス溶融に際する媒溶、清澄剤として原
料バッチ中に硝酸塩、塩化物、またはフッ化物を導入し
たことを特徴とする表示装置用基板ガラスの製法。 - 【請求項４】直接通電による電気溶融およびフロ−ト法
成形において、As2O3 、Sb2O3 またはZnO を含有しない
ことを特徴とする請求項３記載の表示装置用基板ガラス
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30171396A JP3770670B2 (ja) | 1995-11-20 | 1996-11-13 | 表示装置用基板ガラス |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30150195 | 1995-11-20 | ||
| JP7-301501 | 1995-11-20 | ||
| JP30171396A JP3770670B2 (ja) | 1995-11-20 | 1996-11-13 | 表示装置用基板ガラス |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005179809A Division JP4183697B2 (ja) | 1995-11-20 | 2005-06-20 | 表示装置用基板ガラスの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09202641A true JPH09202641A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3770670B2 JP3770670B2 (ja) | 2006-04-26 |
Family
ID=26562707
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30171396A Expired - Fee Related JP3770670B2 (ja) | 1995-11-20 | 1996-11-13 | 表示装置用基板ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3770670B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5854153A (en) * | 1997-01-09 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
| WO1998058883A1 (en) * | 1997-06-20 | 1998-12-30 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass substrate for magnetic recording media |
| US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
| US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
| KR100431727B1 (ko) * | 1997-09-29 | 2004-09-04 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
| KR100431728B1 (ko) * | 1997-11-03 | 2004-09-08 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
| JP2008308394A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-12-25 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| WO2009081906A1 (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Central Glass Company, Limited | ガラス組成物 |
-
1996
- 1996-11-13 JP JP30171396A patent/JP3770670B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5854153A (en) * | 1997-01-09 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
| WO1998058883A1 (en) * | 1997-06-20 | 1998-12-30 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Glass substrate for magnetic recording media |
| US6413892B1 (en) | 1997-06-20 | 2002-07-02 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic recording media |
| KR100431727B1 (ko) * | 1997-09-29 | 2004-09-04 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
| KR100431728B1 (ko) * | 1997-11-03 | 2004-09-08 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
| US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
| US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
| JP2008308394A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-12-25 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| WO2009081906A1 (ja) | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Central Glass Company, Limited | ガラス組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3770670B2 (ja) | 2006-04-26 |
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