JPH09206910A - 密閉式給湯装置 - Google Patents
密閉式給湯装置Info
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- JPH09206910A JPH09206910A JP1404196A JP1404196A JPH09206910A JP H09206910 A JPH09206910 A JP H09206910A JP 1404196 A JP1404196 A JP 1404196A JP 1404196 A JP1404196 A JP 1404196A JP H09206910 A JPH09206910 A JP H09206910A
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- ladle
- molten metal
- injection sleeve
- hot water
- water supply
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- Casting Support Devices, Ladles, And Melt Control Thereby (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラドル移送中の溶湯の滴下がほとんど無く、
かつ、給湯精度が高く、酸化物の混入がほとんどない高
品質の鋳造品を連続安定的に供給できる密閉式給湯装置
を提供することを課題とする。 【解決手段】 アルミニウム合金またはマグネシウム合
金の溶湯をダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給
湯する密閉式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に
浸漬されて懸架され底部側方に突出して設けた連通遮断
自在な溶湯の吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮
断する弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉
装置をラドル本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸
垂支持昇降手段と、一端が該ラドル内に収納され他端が
該ラドルより突出して前記射出スリーブ内へ挿入され該
ラドル内の溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、
該ラドル内の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段と
を備えるとともに、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向
かって傾斜させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手
段の昇降方向を傾斜した前記射出スリーブと平行に傾斜
させた構成とした。
かつ、給湯精度が高く、酸化物の混入がほとんどない高
品質の鋳造品を連続安定的に供給できる密閉式給湯装置
を提供することを課題とする。 【解決手段】 アルミニウム合金またはマグネシウム合
金の溶湯をダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給
湯する密閉式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に
浸漬されて懸架され底部側方に突出して設けた連通遮断
自在な溶湯の吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮
断する弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉
装置をラドル本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸
垂支持昇降手段と、一端が該ラドル内に収納され他端が
該ラドルより突出して前記射出スリーブ内へ挿入され該
ラドル内の溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、
該ラドル内の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段と
を備えるとともに、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向
かって傾斜させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手
段の昇降方向を傾斜した前記射出スリーブと平行に傾斜
させた構成とした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム合金
またはマグネシウム合金などの溶湯をダイカストマシン
などの成形装置の射出スリーブへ給湯する密閉式給湯装
置に係り、特に給湯精度の向上とラドル移送中の溶湯滴
下対策に配慮した密閉式給湯装置に関するものである。
またはマグネシウム合金などの溶湯をダイカストマシン
などの成形装置の射出スリーブへ給湯する密閉式給湯装
置に係り、特に給湯精度の向上とラドル移送中の溶湯滴
下対策に配慮した密閉式給湯装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ダイカストマシンの射出スリーブ
へアルミニウム合金やマグネシウム合金などの溶湯を給
湯するには、従来、図6に示すように、溶解保持炉10
内の溶湯を酌み取ったラドル20を機械的機構を使用し
て上昇、または円弧状軌跡を描きながら横移動して傾斜
した射出スリーブ200の位置まで移動し、しかる後、
ラドル20内の溶湯を射出スリーブ内へ注湯するラドル
反転方式が採用されていた。また、図7に示すような上
部に蓋20aを有し底部に開口部(吸入口20c)を備
え、蓋20aに空気抜き20dを有する密閉式でないラ
ドル20を溶解保持炉10内へ浸漬し、底部の開口部2
0cよりラドル20内へ溶湯を侵入させた後に開口部2
0cを閉塞した後、傾斜した射出スリーブ200の位置
までラドル20を移動し、射出スリーブ200の軸線に
合わせてラドル20を傾斜しつつラドル底部を射出スリ
ーブ200内へ装入してから、底部の開口部20cを閉
塞状態から開放状態にしてラドル内部の溶湯を自然落下
させて射出スリーブ200内へ供給する(給湯する)方
法も採用されていた。この方式は底抜きラドル方式と呼
ばれている。
へアルミニウム合金やマグネシウム合金などの溶湯を給
湯するには、従来、図6に示すように、溶解保持炉10
内の溶湯を酌み取ったラドル20を機械的機構を使用し
て上昇、または円弧状軌跡を描きながら横移動して傾斜
した射出スリーブ200の位置まで移動し、しかる後、
ラドル20内の溶湯を射出スリーブ内へ注湯するラドル
反転方式が採用されていた。また、図7に示すような上
部に蓋20aを有し底部に開口部(吸入口20c)を備
え、蓋20aに空気抜き20dを有する密閉式でないラ
ドル20を溶解保持炉10内へ浸漬し、底部の開口部2
0cよりラドル20内へ溶湯を侵入させた後に開口部2
0cを閉塞した後、傾斜した射出スリーブ200の位置
までラドル20を移動し、射出スリーブ200の軸線に
合わせてラドル20を傾斜しつつラドル底部を射出スリ
ーブ200内へ装入してから、底部の開口部20cを閉
塞状態から開放状態にしてラドル内部の溶湯を自然落下
させて射出スリーブ200内へ供給する(給湯する)方
法も採用されていた。この方式は底抜きラドル方式と呼
ばれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ラドル反転方式や底抜きラドル方式のいずれにおいて
も、射出スリーブへの注湯口(ラドルの吐出口)は、溶
湯をラドル内へ入れる場合にラドル本体を溶解保持炉内
へ浸漬するため、ラドル内部に溶湯が入るだけでなくラ
ドルの外周に溶湯が付着し、ラドルを射出スリーブの位
置まで移動し、その後の注湯動作中にラドル外周に付着
した溶湯と空気中の酸素とが反応して酸化物を生成し、
かつ、これが注湯中に滴下してラドル内部の溶湯ととも
に射出スリーブ内へ落下することとなる。したがって、
ダイカスト成形後の鋳造品にこの酸化物が混入して、品
質の低下を招くという問題があった。また、上述の底抜
きラドル方式では、開口部(吸入口20c)が底部中央
に下側に向かって開口しており、ラドル内への溶湯の取
り込み後の開閉装置のシールが不完全であるとき、射出
スリーブまでのラドルの移送時に溶湯の滴下が起こり、
危険であるばかりでなく作業環境を著しく汚染するとい
う問題があった。また溶解保持炉の溶湯液面が毎回の給
湯時に異なるとラドル20内へ取り込まれる溶湯量が微
妙に異なり、毎回の注湯量にばらつきが生じることとな
り、その結果、射出スリーブへの給湯量にもばらつきが
生じるので給湯精度が低く、鋳造品品質を均一に保つこ
とができないという難点があった。さらに、上述のラド
ル(図6のラドル20や図7のラドル20)では、給湯
の初期に射出スリーブ内に落下する溶湯の落下高さが大
きく、大きな落下高さの際に周囲の空気の巻き込みを誘
発して鋳造品にブローホールなどの鋳造欠陥を生じる惧
れがあった。
ラドル反転方式や底抜きラドル方式のいずれにおいて
も、射出スリーブへの注湯口(ラドルの吐出口)は、溶
湯をラドル内へ入れる場合にラドル本体を溶解保持炉内
へ浸漬するため、ラドル内部に溶湯が入るだけでなくラ
ドルの外周に溶湯が付着し、ラドルを射出スリーブの位
置まで移動し、その後の注湯動作中にラドル外周に付着
した溶湯と空気中の酸素とが反応して酸化物を生成し、
かつ、これが注湯中に滴下してラドル内部の溶湯ととも
に射出スリーブ内へ落下することとなる。したがって、
ダイカスト成形後の鋳造品にこの酸化物が混入して、品
質の低下を招くという問題があった。また、上述の底抜
きラドル方式では、開口部(吸入口20c)が底部中央
に下側に向かって開口しており、ラドル内への溶湯の取
り込み後の開閉装置のシールが不完全であるとき、射出
スリーブまでのラドルの移送時に溶湯の滴下が起こり、
危険であるばかりでなく作業環境を著しく汚染するとい
う問題があった。また溶解保持炉の溶湯液面が毎回の給
湯時に異なるとラドル20内へ取り込まれる溶湯量が微
妙に異なり、毎回の注湯量にばらつきが生じることとな
り、その結果、射出スリーブへの給湯量にもばらつきが
生じるので給湯精度が低く、鋳造品品質を均一に保つこ
とができないという難点があった。さらに、上述のラド
ル(図6のラドル20や図7のラドル20)では、給湯
の初期に射出スリーブ内に落下する溶湯の落下高さが大
きく、大きな落下高さの際に周囲の空気の巻き込みを誘
発して鋳造品にブローホールなどの鋳造欠陥を生じる惧
れがあった。
【0004】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明(第1の発明)においては、アルミニウム
合金またはマグネシウム合金の溶湯をダイカストマシン
などの射出スリーブ内へ給湯する密閉式給湯装置であっ
て、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され底部側方
に突出して設けた連通遮断自在な溶湯の吸入口を備える
とともに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒昇降用の弁
棒シリンダとからなる開閉装置をラドル本体の外部に備
えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段と、一端が該
ラドル内に収納され他端が該ラドルより突出して前記射
出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の溶湯を前記射出ス
リーブへ注湯する導管と、該ラドル内の溶湯液面を加圧
する加圧ガスの注入手段とを備えるとともに、前記導管
の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させるとともに、
前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した前記
射出スリーブと平行に傾斜させた構成とした。また、第
2の発明では、第1の発明の密閉式給湯装置において、
ラドルの溶湯の吸入口が上方に開口した構成とした。
めに、本発明(第1の発明)においては、アルミニウム
合金またはマグネシウム合金の溶湯をダイカストマシン
などの射出スリーブ内へ給湯する密閉式給湯装置であっ
て、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され底部側方
に突出して設けた連通遮断自在な溶湯の吸入口を備える
とともに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒昇降用の弁
棒シリンダとからなる開閉装置をラドル本体の外部に備
えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段と、一端が該
ラドル内に収納され他端が該ラドルより突出して前記射
出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の溶湯を前記射出ス
リーブへ注湯する導管と、該ラドル内の溶湯液面を加圧
する加圧ガスの注入手段とを備えるとともに、前記導管
の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜させるとともに、
前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した前記
射出スリーブと平行に傾斜させた構成とした。また、第
2の発明では、第1の発明の密閉式給湯装置において、
ラドルの溶湯の吸入口が上方に開口した構成とした。
【0005】
【発明の実施の態様】本発明の密閉式給湯装置において
は、アルミニウム合金またはマグネシウム合金の溶湯を
ダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給湯する密閉
式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて
懸架され底部側方に突出して設けた連通遮断自在な溶湯
の吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮断する弁棒
と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置をラド
ル本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降
手段と、一端が該ラドル内に収納され他端が該ラドルよ
り突出して前記射出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の
溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該ラドル内
の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを備えると
ともに、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜
させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方
向を傾斜した前記射出スリーブと平行に傾斜させた構成
としてある。したがって、ラドルを溶湯の入った溶解保
持炉内に浸漬して、ラドル底部側方に突出して設けた溶
湯吸入口より溶湯をラドル内に吸入して取り込んだあと
ラドル本体を通過することなく、ラドル本体の側方を上
下方向に昇降自在な弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダと
からなる開閉装置で吸入口を閉塞するので、従来の底抜
きラドル方式であってラドル内を密閉する密閉蓋を備え
た底抜きラドル方式では密閉蓋と弁棒とのガスシールが
必要であるが、本発明においては弁棒が密閉蓋を貫通す
る構造になっていないので、弁棒とラドル密閉蓋とのガ
スシールを考慮する必要がない。ラドル内への溶湯の取
り込みが完了した後、ラドル懸垂支持昇降手段を操作し
てラドルを移送しラドルに連結された導管吐出側先端を
射出スリーブ底部のプランジャチップ上面近くまで挿入
し、たとえば不活性ガスのような加圧ガスをラドル内に
吹き込んでこの押圧力によりラドル内の溶湯を導管を経
由して射出スリーブ内へ給湯する。このとき、ラドル内
の溶湯液面が、該ラドルの天蓋下面に接するようにラド
ル懸垂支持昇降手段を操作して、該ラドル内に注入する
加圧ガスのラドル内残存量が皆無か、または、殆ど無い
状態に保持して給湯することにより、加圧ガスのラドル
内の温度変化を極力少なくして、加圧ガスの押圧力を毎
回ほぼ一定の値に保持し、給湯量のばらつきを出来るだ
け少なくして給湯精度を高めることが望ましい。さら
に、第2の発明では、ラドルの溶湯吸入口を上方に開口
した構成としたので、たとえ経年変化による開閉装置の
閉塞時のシールが少々不完全であっても、開口部が上向
きであるから溶湯が漏れにくくラドルの射出スリーブへ
の移動中におけるラドル内溶湯の滴下を最小限に食い止
めることが出来る。また、ラドルから射出スリーブへの
溶湯の給湯に際しては、導管の吐出側先端を射出スリー
ブ内底面まで挿入して静止した後、給湯を開始し、給湯
の進行に伴なう該射出スリーブ内の溶湯液面上昇により
該導管吐出側先端部の溶湯浸漬深さが所定の値に達した
とき該所定の溶湯浸漬深さを一定に維持するように溶湯
液面の上昇と同一速度で該導管と一体的にラドルを上昇
させつつ給湯するようにすれば、溶湯の落下に伴なう飛
び撥ねや飛沫の発生が防止できるので空気の溶湯内巻き
込みを防止し、かつ、射出スリーブ内の導管溶湯浸漬深
さが浅い一定の状態で給湯が進行するため、導管外側に
付着する溶湯量が毎回一定した微小な量となっており、
かつ毎回その外側を清掃して酸化物を除去することも可
能である。したがって、本発明の密閉式給湯装置では、
従来技術に比べて、毎回の給湯条件が均一化されるので
給湯精度が高く、ラドル移送中の溶湯の滴下が少なく、
かつ溶湯酸化物の混入も少ないので鋳造品品質が良好に
維持できる。
は、アルミニウム合金またはマグネシウム合金の溶湯を
ダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給湯する密閉
式給湯装置であって、溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて
懸架され底部側方に突出して設けた連通遮断自在な溶湯
の吸入口を備えるとともに該吸入口を連通遮断する弁棒
と弁棒昇降用の弁棒シリンダとからなる開閉装置をラド
ル本体の外部に備えたラドルと、該ラドル懸垂支持昇降
手段と、一端が該ラドル内に収納され他端が該ラドルよ
り突出して前記射出スリーブ内へ挿入され該ラドル内の
溶湯を前記射出スリーブへ注湯する導管と、該ラドル内
の溶湯液面を加圧する加圧ガスの注入手段とを備えると
ともに、前記導管の溶湯吐出側は、下方に向かって傾斜
させるとともに、前記ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方
向を傾斜した前記射出スリーブと平行に傾斜させた構成
としてある。したがって、ラドルを溶湯の入った溶解保
持炉内に浸漬して、ラドル底部側方に突出して設けた溶
湯吸入口より溶湯をラドル内に吸入して取り込んだあと
ラドル本体を通過することなく、ラドル本体の側方を上
下方向に昇降自在な弁棒と弁棒昇降用の弁棒シリンダと
からなる開閉装置で吸入口を閉塞するので、従来の底抜
きラドル方式であってラドル内を密閉する密閉蓋を備え
た底抜きラドル方式では密閉蓋と弁棒とのガスシールが
必要であるが、本発明においては弁棒が密閉蓋を貫通す
る構造になっていないので、弁棒とラドル密閉蓋とのガ
スシールを考慮する必要がない。ラドル内への溶湯の取
り込みが完了した後、ラドル懸垂支持昇降手段を操作し
てラドルを移送しラドルに連結された導管吐出側先端を
射出スリーブ底部のプランジャチップ上面近くまで挿入
し、たとえば不活性ガスのような加圧ガスをラドル内に
吹き込んでこの押圧力によりラドル内の溶湯を導管を経
由して射出スリーブ内へ給湯する。このとき、ラドル内
の溶湯液面が、該ラドルの天蓋下面に接するようにラド
ル懸垂支持昇降手段を操作して、該ラドル内に注入する
加圧ガスのラドル内残存量が皆無か、または、殆ど無い
状態に保持して給湯することにより、加圧ガスのラドル
内の温度変化を極力少なくして、加圧ガスの押圧力を毎
回ほぼ一定の値に保持し、給湯量のばらつきを出来るだ
け少なくして給湯精度を高めることが望ましい。さら
に、第2の発明では、ラドルの溶湯吸入口を上方に開口
した構成としたので、たとえ経年変化による開閉装置の
閉塞時のシールが少々不完全であっても、開口部が上向
きであるから溶湯が漏れにくくラドルの射出スリーブへ
の移動中におけるラドル内溶湯の滴下を最小限に食い止
めることが出来る。また、ラドルから射出スリーブへの
溶湯の給湯に際しては、導管の吐出側先端を射出スリー
ブ内底面まで挿入して静止した後、給湯を開始し、給湯
の進行に伴なう該射出スリーブ内の溶湯液面上昇により
該導管吐出側先端部の溶湯浸漬深さが所定の値に達した
とき該所定の溶湯浸漬深さを一定に維持するように溶湯
液面の上昇と同一速度で該導管と一体的にラドルを上昇
させつつ給湯するようにすれば、溶湯の落下に伴なう飛
び撥ねや飛沫の発生が防止できるので空気の溶湯内巻き
込みを防止し、かつ、射出スリーブ内の導管溶湯浸漬深
さが浅い一定の状態で給湯が進行するため、導管外側に
付着する溶湯量が毎回一定した微小な量となっており、
かつ毎回その外側を清掃して酸化物を除去することも可
能である。したがって、本発明の密閉式給湯装置では、
従来技術に比べて、毎回の給湯条件が均一化されるので
給湯精度が高く、ラドル移送中の溶湯の滴下が少なく、
かつ溶湯酸化物の混入も少ないので鋳造品品質が良好に
維持できる。
【0006】
【実施例】以下図面に基づいて本発明の実施例の詳細に
ついて説明する。図1〜図5はいずれも本発明の実施例
に係り、図1は密閉式給湯装置の全体構成図、図2は密
閉式給湯装置(給湯中)の要部拡大縦断面図、図3は密
閉式給湯装置(酸化物除去清掃中)の要部拡大縦断面
図、図4は図2のA−A視を示す非作業中の酸化物除去
装置の正面図、図5は図3のB−B視の作業中の酸化物
除去装置の位置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦
断面図である。
ついて説明する。図1〜図5はいずれも本発明の実施例
に係り、図1は密閉式給湯装置の全体構成図、図2は密
閉式給湯装置(給湯中)の要部拡大縦断面図、図3は密
閉式給湯装置(酸化物除去清掃中)の要部拡大縦断面
図、図4は図2のA−A視を示す非作業中の酸化物除去
装置の正面図、図5は図3のB−B視の作業中の酸化物
除去装置の位置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦
断面図である。
【0007】図1に示すように、第1の発明である密閉
式給湯装置1は、直立円筒状のラドル20を建屋(また
は構造物)50に傾斜して固設されたラドル懸垂支持昇
降シリンダ60のピストンロッド60aの先端に接続さ
れて懸架され、溶解保持炉10内にその大部分が浸漬さ
れるように保持したもので、ラドル20は上端部を天蓋
20aと密閉蓋20bとでそれぞれボルトナットを介し
て接合されて密閉されるとともに、底部側方に突出して
設けられ、溶解保持炉10のるつぼ10a内の溶湯Mが
ラドル20内へ吸入するための上方に開口した開口部
(吸入口20c)を備えるとともに、吸入口20cと溶
解保持炉10とを連通遮断するための弁棒22と、天蓋
20aに取り付けられたサポート24aに載置固設され
た弁棒22の昇降手段である弁棒シリンダ24とからな
る開閉装置40を備えている。
式給湯装置1は、直立円筒状のラドル20を建屋(また
は構造物)50に傾斜して固設されたラドル懸垂支持昇
降シリンダ60のピストンロッド60aの先端に接続さ
れて懸架され、溶解保持炉10内にその大部分が浸漬さ
れるように保持したもので、ラドル20は上端部を天蓋
20aと密閉蓋20bとでそれぞれボルトナットを介し
て接合されて密閉されるとともに、底部側方に突出して
設けられ、溶解保持炉10のるつぼ10a内の溶湯Mが
ラドル20内へ吸入するための上方に開口した開口部
(吸入口20c)を備えるとともに、吸入口20cと溶
解保持炉10とを連通遮断するための弁棒22と、天蓋
20aに取り付けられたサポート24aに載置固設され
た弁棒22の昇降手段である弁棒シリンダ24とからな
る開閉装置40を備えている。
【0008】一方、天蓋20aと密閉蓋20bには、一
端がラドル20内へ下向きに貫通し、他端が湾曲してダ
イカストマシンの射出スリーブ200の傾斜した軸線X
−Xに沿って傾斜して下降する導管28が取り付けられ
るとともに、N2 ガスやArガス、CO2 ガスなどの不
活性ガス供給装置70から供給される不活性ガスをラド
ル20内へ注入する不活性ガス配管30が設けられる。
密閉蓋20aの上部に取り付けられたラドルサポート2
6は前記したようにラドル懸垂支持昇降シリンダ60の
ピストンロッド60aの先端に連結され、ラドル懸垂支
持昇降シリンダ60の操作によりラドル20や導管28
は一体的に傾斜した軸線X−Xに沿って昇降自在になっ
ている。
端がラドル20内へ下向きに貫通し、他端が湾曲してダ
イカストマシンの射出スリーブ200の傾斜した軸線X
−Xに沿って傾斜して下降する導管28が取り付けられ
るとともに、N2 ガスやArガス、CO2 ガスなどの不
活性ガス供給装置70から供給される不活性ガスをラド
ル20内へ注入する不活性ガス配管30が設けられる。
密閉蓋20aの上部に取り付けられたラドルサポート2
6は前記したようにラドル懸垂支持昇降シリンダ60の
ピストンロッド60aの先端に連結され、ラドル懸垂支
持昇降シリンダ60の操作によりラドル20や導管28
は一体的に傾斜した軸線X−Xに沿って昇降自在になっ
ている。
【0009】加圧ガスとしては、不活性ガスのほか、工
場内の廃棄ガスや燃焼ガスや通常の空気を使用すること
も出来るが、溶湯の酸化を防止するためには、酸素を含
まない不活性ガス(N2 ガス、Arガス、CO2 ガスな
ど)が望ましい。不活性ガス配管30は、不活性ガス供
給装置70を出た後、温度調節装置90を通過して所望
の温度に昇温されるよう構成され、不活性ガス供給装置
70と温度調節装置90との間にある不活性ガス供給制
御装置80により昇温温度や供給時間を任意に制御でき
るよう構成される。また、3つの液圧シリンダである、
ラドル懸垂支持昇降シリンダ60と弁棒シリンダ24と
後述する酸化物除去装置100の掃除具昇降シリンダ1
10の油圧配管は、各々独立して図示しない油圧ユニッ
トに接続されるとともに、該油圧ユニットは、図示しな
いプログラマブルコントローラと接続され、動作指令を
プログラマブルコントローラから受信して作動する。
場内の廃棄ガスや燃焼ガスや通常の空気を使用すること
も出来るが、溶湯の酸化を防止するためには、酸素を含
まない不活性ガス(N2 ガス、Arガス、CO2 ガスな
ど)が望ましい。不活性ガス配管30は、不活性ガス供
給装置70を出た後、温度調節装置90を通過して所望
の温度に昇温されるよう構成され、不活性ガス供給装置
70と温度調節装置90との間にある不活性ガス供給制
御装置80により昇温温度や供給時間を任意に制御でき
るよう構成される。また、3つの液圧シリンダである、
ラドル懸垂支持昇降シリンダ60と弁棒シリンダ24と
後述する酸化物除去装置100の掃除具昇降シリンダ1
10の油圧配管は、各々独立して図示しない油圧ユニッ
トに接続されるとともに、該油圧ユニットは、図示しな
いプログラマブルコントローラと接続され、動作指令を
プログラマブルコントローラから受信して作動する。
【0010】また、図2〜図5に示すように、導管28
の吐出部先端外周に付着した溶湯や溶湯酸化物を除去清
掃する酸化物除去装置100が、サポート26の導管吐
出側に配設される。酸化物除去装置100は、図4〜図
5に示すような、導管28の外周を把持して導管軸方向
に摺動する左右一対の掃除具122を備えた掃除具開閉
シリンダ120と掃除具開閉シリンダ120を導管軸方
向に昇降させる掃除具昇降シリンダ110とより構成さ
れ、溶湯の給湯中は掃除具開閉シリンダ120は図2に
示すように上方に後退させて置き、射出スリーブへの給
湯作業の終了後に毎回、図3に示すように導管28の吐
出下端部に掃除具122を上下に摺動させて、導管外周
に付着した溶湯や溶湯酸化物を剥離除去する。なお、掃
除具昇降シリンダ110と掃除具開閉シリンダ120は
油圧シリンダでなく、エアシリンダとしてもよい。ま
た、ラドル20内には、ラドル内に取り込まれる溶湯量
を把握するため、図2に示すように湯面検知棒150a
や図3に示すようにレーザ光センサ160または超音波
センサ170などの溶湯液面レベル検出センサが配設さ
れる。
の吐出部先端外周に付着した溶湯や溶湯酸化物を除去清
掃する酸化物除去装置100が、サポート26の導管吐
出側に配設される。酸化物除去装置100は、図4〜図
5に示すような、導管28の外周を把持して導管軸方向
に摺動する左右一対の掃除具122を備えた掃除具開閉
シリンダ120と掃除具開閉シリンダ120を導管軸方
向に昇降させる掃除具昇降シリンダ110とより構成さ
れ、溶湯の給湯中は掃除具開閉シリンダ120は図2に
示すように上方に後退させて置き、射出スリーブへの給
湯作業の終了後に毎回、図3に示すように導管28の吐
出下端部に掃除具122を上下に摺動させて、導管外周
に付着した溶湯や溶湯酸化物を剥離除去する。なお、掃
除具昇降シリンダ110と掃除具開閉シリンダ120は
油圧シリンダでなく、エアシリンダとしてもよい。ま
た、ラドル20内には、ラドル内に取り込まれる溶湯量
を把握するため、図2に示すように湯面検知棒150a
や図3に示すようにレーザ光センサ160または超音波
センサ170などの溶湯液面レベル検出センサが配設さ
れる。
【0011】以上のように構成された本発明の密閉式給
湯装置1の作動について説明する。まず、図2のような
状態に保持されたラドル20において、弁棒シリンダ2
4を操作して弁棒22を上昇して吸入口20cを開状態
にしてラドル20内の気体を排出しつつ溶解保持炉10
の溶湯Mをラドル20内に自然吸入させる。ラドル20
内に吸入する溶湯量は溶解保持炉10内に埋没させるラ
ドル20の高さで調節するか、または、ラドル20の外
側に配設した図示しない湯面検知棒で調整するが、この
場合、ラドル20内の溶湯液面は、図2に示すように、
密閉蓋20bの下面と接するか、もしくは、下面とすれ
すれの状態に保持し、ラドル20内に封入される不活性
ガス量を出来るだけ少なくするのが望ましい。この後、
不活性供給制御装置80を介して不活性ガス供給装置7
0により不活性ガスを不活性ガス配管30を通じてラド
ル内に供給する。また、不活性ガスは、温度調節装置9
0により溶湯温度に近接した、たとえば、250〜70
0℃の範囲の中の一定の温度状態に加熱して供給するこ
とが望ましい。
湯装置1の作動について説明する。まず、図2のような
状態に保持されたラドル20において、弁棒シリンダ2
4を操作して弁棒22を上昇して吸入口20cを開状態
にしてラドル20内の気体を排出しつつ溶解保持炉10
の溶湯Mをラドル20内に自然吸入させる。ラドル20
内に吸入する溶湯量は溶解保持炉10内に埋没させるラ
ドル20の高さで調節するか、または、ラドル20の外
側に配設した図示しない湯面検知棒で調整するが、この
場合、ラドル20内の溶湯液面は、図2に示すように、
密閉蓋20bの下面と接するか、もしくは、下面とすれ
すれの状態に保持し、ラドル20内に封入される不活性
ガス量を出来るだけ少なくするのが望ましい。この後、
不活性供給制御装置80を介して不活性ガス供給装置7
0により不活性ガスを不活性ガス配管30を通じてラド
ル内に供給する。また、不活性ガスは、温度調節装置9
0により溶湯温度に近接した、たとえば、250〜70
0℃の範囲の中の一定の温度状態に加熱して供給するこ
とが望ましい。
【0012】次に、弁棒22を下降して吸入口20cを
閉じてラドル20内への溶湯の規定量の吸入が終了した
後、ラドル懸垂支持昇降シリンダ60を操作して導管2
8の吐出部先端をを下降させ、射出スリーブ200内の
プランジャチップ200aの上面に導管28の吐出部先
端28aを近接するよう調節したうえ、あらかじめ、た
とえば1.2kg/cm2 程度の低圧に加圧された不活
性ガスをラドル20内へ注入すると、ラドル20内の溶
湯液面は加圧され導管28を流れ導管28の吐出部先端
28aより落下して射出スリーブ200内へ注湯され始
める。注湯作業が開始されるとともに射出スリーブ20
0内に入った溶湯液面が次第に上昇し始めるので導管2
8の吐出部先端28aがこの溶湯液面に約20mm程浸
漬された後、溶湯液面の上昇速度と同一速度で導管28
が上昇するようにラドル20を上昇させる。こうするこ
とにより、吐出部先端28aの溶湯浸漬深さを前述の約
20mmの一定値に保持しながら射出スリーブ200内
へ給湯することになる。射出スリーブ200へ供給する
給湯量は、たとえばラドル内の溶湯液面が下降してラド
ル内に一定の深さで浸漬している湯面検知棒150aの
下端以下になり、湯面検知棒150aに流れていた電流
が非通電状態になった時点で不活性ガスの供給をストッ
プし、所定の溶湯量になるようにしている。このように
して、規定時間、不活性ガスを供給することにより規定
量の溶湯をラドル20内から射出スリーブ200内へ給
湯する。以上述べた一連の作業手順(溶解保持炉へのラ
ドル20の浸漬、弁棒22の上昇による吸入作業、弁棒
下降による吸入口20c閉止、導管吐出部先端の射出ス
リーブ内挿入、不活性ガスのラドル内注入、給湯中の導
管上昇など)の順序起動停止プログラムをあらかじめプ
ログラマブルコントローラに入力して、このプログラム
に則り作業を自動的に継続させることもできる。
閉じてラドル20内への溶湯の規定量の吸入が終了した
後、ラドル懸垂支持昇降シリンダ60を操作して導管2
8の吐出部先端をを下降させ、射出スリーブ200内の
プランジャチップ200aの上面に導管28の吐出部先
端28aを近接するよう調節したうえ、あらかじめ、た
とえば1.2kg/cm2 程度の低圧に加圧された不活
性ガスをラドル20内へ注入すると、ラドル20内の溶
湯液面は加圧され導管28を流れ導管28の吐出部先端
28aより落下して射出スリーブ200内へ注湯され始
める。注湯作業が開始されるとともに射出スリーブ20
0内に入った溶湯液面が次第に上昇し始めるので導管2
8の吐出部先端28aがこの溶湯液面に約20mm程浸
漬された後、溶湯液面の上昇速度と同一速度で導管28
が上昇するようにラドル20を上昇させる。こうするこ
とにより、吐出部先端28aの溶湯浸漬深さを前述の約
20mmの一定値に保持しながら射出スリーブ200内
へ給湯することになる。射出スリーブ200へ供給する
給湯量は、たとえばラドル内の溶湯液面が下降してラド
ル内に一定の深さで浸漬している湯面検知棒150aの
下端以下になり、湯面検知棒150aに流れていた電流
が非通電状態になった時点で不活性ガスの供給をストッ
プし、所定の溶湯量になるようにしている。このように
して、規定時間、不活性ガスを供給することにより規定
量の溶湯をラドル20内から射出スリーブ200内へ給
湯する。以上述べた一連の作業手順(溶解保持炉へのラ
ドル20の浸漬、弁棒22の上昇による吸入作業、弁棒
下降による吸入口20c閉止、導管吐出部先端の射出ス
リーブ内挿入、不活性ガスのラドル内注入、給湯中の導
管上昇など)の順序起動停止プログラムをあらかじめプ
ログラマブルコントローラに入力して、このプログラム
に則り作業を自動的に継続させることもできる。
【0013】さらに、射出スリーブ200内への給湯時
に、導管28の吐出部先端28aの浸漬深さをほぼ一定
に保って注湯するので、溶湯の射出スリーブ200内へ
の落下による撥ね飛びや飛沫がなく、空気巻き込みが少
ない。また、吐出部先端28aの外側に付着する溶湯の
状況が毎回一定するとともに、給湯が終了したのち酸化
物除去装置100を使用して付着した溶湯酸化物を除去
するので、溶湯酸化物の成形品への混入がほとんど無
い。
に、導管28の吐出部先端28aの浸漬深さをほぼ一定
に保って注湯するので、溶湯の射出スリーブ200内へ
の落下による撥ね飛びや飛沫がなく、空気巻き込みが少
ない。また、吐出部先端28aの外側に付着する溶湯の
状況が毎回一定するとともに、給湯が終了したのち酸化
物除去装置100を使用して付着した溶湯酸化物を除去
するので、溶湯酸化物の成形品への混入がほとんど無
い。
【0014】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の密閉式給湯
装置においては、ラドル移送中の滴下がほとんど無く、
かつ、給湯精度が向上するとともに、加圧ガスの吹き込
みによる押圧力で給湯するので酸化物の混入がほとんど
なく、かつ、注湯時の空気巻き込みも極力防止されるの
で、鋳造欠陥のない高品質の鋳造品を連続安定的に供給
できる。
装置においては、ラドル移送中の滴下がほとんど無く、
かつ、給湯精度が向上するとともに、加圧ガスの吹き込
みによる押圧力で給湯するので酸化物の混入がほとんど
なく、かつ、注湯時の空気巻き込みも極力防止されるの
で、鋳造欠陥のない高品質の鋳造品を連続安定的に供給
できる。
【図1】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置の全体構
成図である。
成図である。
【図2】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置(給湯
中)の要部拡大縦断面図である。
中)の要部拡大縦断面図である。
【図3】本発明の実施例に係る密閉式給湯装置(酸化物
除去清掃中)の要部拡大縦断面図である。
除去清掃中)の要部拡大縦断面図である。
【図4】図2のA−A視を示す非作業中の酸化物除去装
置の正面図である。
置の正面図である。
【図5】図3のB−B視の作業中の酸化物除去装置の位
置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦断面図であ
る。
置状態を示す密閉式給湯装置の要部拡大縦断面図であ
る。
【図6】従来の給湯装置の説明図である。
【図7】従来の給湯装置の説明図である。
1 密閉式給湯装置 10 溶解保持炉 10a るつぼ 20 ラドル 20a 天蓋 20b 密閉蓋 20c 吸入口 22 弁棒 24 弁棒シリンダ 24a サポート 26 ラドルサポート 28 導管 28a 吐出部先端 30 不活性ガス配管 40 開閉装置 50 建屋(または構造物) 60 ラドル懸垂支持昇降シリンダ 60a ピストンロッド 70 不活性ガス供給装置 80 不活性ガス供給制御装置 90 温度調節装置 100 酸化物除去装置 102 サポート 110 掃除具昇降シリンダ 120 掃除具開閉シリンダ 122 掃除具 150a 湯面検知棒 160 レーザ光センサ 170 超音波センサ 200 射出スリーブ 200a プランジャチップ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 壇浦 貞行 山口県宇部市大字小串字沖の山1980番地 宇部興産株式会社機械・エンジニアリング 事業本部
Claims (2)
- 【請求項1】 アルミニウム合金またはマグネシウム合
金の溶湯をダイカストマシンなどの射出スリーブ内へ給
湯する密閉式給湯装置であって、 溶湯の溶解保持炉内に浸漬されて懸架され底部側方に突
出して設けた連通遮断自在な溶湯の吸入口を備えるとと
もに該吸入口を連通遮断する弁棒と弁棒昇降用の弁棒シ
リンダとからなる開閉装置をラドル本体の外部に備えた
ラドルと、該ラドル懸垂支持昇降手段と、一端が該ラド
ル内に収納され他端が該ラドルより突出して前記射出ス
リーブ内へ挿入され該ラドル内の溶湯を前記射出スリー
ブへ注湯する導管と、該ラドル内の溶湯液面を加圧する
加圧ガスの注入手段とを備えるとともに、前記導管の溶
湯吐出側は、下方に向かって傾斜させるとともに、前記
ラドル懸垂支持昇降手段の昇降方向を傾斜した前記射出
スリーブと平行に傾斜させたことを特徴とする密閉式給
湯装置。 - 【請求項2】 ラドルの溶湯の吸入口が上方に開口した
ことを特徴とする請求項1記載の密閉式給湯装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1404196A JPH09206910A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 密閉式給湯装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1404196A JPH09206910A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 密閉式給湯装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09206910A true JPH09206910A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=11850039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1404196A Pending JPH09206910A (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 密閉式給湯装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09206910A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103302276A (zh) * | 2013-06-18 | 2013-09-18 | 邵宏 | 铝合金液吸注机 |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP1404196A patent/JPH09206910A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103302276A (zh) * | 2013-06-18 | 2013-09-18 | 邵宏 | 铝合金液吸注机 |
| CN103302276B (zh) * | 2013-06-18 | 2015-04-22 | 无锡夕阳康科技有限公司 | 铝合金液吸注机 |
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