JPH09207237A - ポリカーボネートシートの製造方法 - Google Patents
ポリカーボネートシートの製造方法Info
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- JPH09207237A JPH09207237A JP4221296A JP4221296A JPH09207237A JP H09207237 A JPH09207237 A JP H09207237A JP 4221296 A JP4221296 A JP 4221296A JP 4221296 A JP4221296 A JP 4221296A JP H09207237 A JPH09207237 A JP H09207237A
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- Japan
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- sheet
- temperature
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- mirror surface
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- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学用途、特に光ディスク用基板に使用する
複屈折が４０ｎｍ以下で、機械強度、耐久性を同時に満
足するポリカーボネートシートを製造する方法を提供す
る。 【解決手段】ポリカーボネート樹脂を可塑化し、Ｔダイ
よりシート状に押出し、複数個の鏡面賦形ロールを用い
てポリカーボネート樹脂を圧延シーティングするにあた
り、最終の鏡面賦形ロールを剥離したシートが最終鏡面
賦形ロールの半径長さを走行した直後の該シートのロー
ル側の表面温度が該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋３
０℃であり、且つ最終賦形鏡面ロールと引取ロールの速
度比が１：０．９５〜１．０５の範囲で形成することか
らなるポリカーボネートシートの製造方法。
複屈折が４０ｎｍ以下で、機械強度、耐久性を同時に満
足するポリカーボネートシートを製造する方法を提供す
る。 【解決手段】ポリカーボネート樹脂を可塑化し、Ｔダイ
よりシート状に押出し、複数個の鏡面賦形ロールを用い
てポリカーボネート樹脂を圧延シーティングするにあた
り、最終の鏡面賦形ロールを剥離したシートが最終鏡面
賦形ロールの半径長さを走行した直後の該シートのロー
ル側の表面温度が該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋３
０℃であり、且つ最終賦形鏡面ロールと引取ロールの速
度比が１：０．９５〜１．０５の範囲で形成することか
らなるポリカーボネートシートの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学用途に使用す
るポリカーボネートシートの製造方法に関する。
るポリカーボネートシートの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝
撃性、耐熱性、寸法安定性、更に加工性に優れることか
ら、光学分野に広く使用されている。例えば、レーザー
光を使用するディスク、光カード等がある。これら、光
ディスク等に用いるポリカーボネート基板は、主に射出
成形法によって生産されているが、この射出成形法は量
産性に優れているが、一般の射出成形グレードの流動性
では流れ難くいため光学歪みが残りやすく、複屈折は１
５０ｎｍ以上と高く実用的でない。
撃性、耐熱性、寸法安定性、更に加工性に優れることか
ら、光学分野に広く使用されている。例えば、レーザー
光を使用するディスク、光カード等がある。これら、光
ディスク等に用いるポリカーボネート基板は、主に射出
成形法によって生産されているが、この射出成形法は量
産性に優れているが、一般の射出成形グレードの流動性
では流れ難くいため光学歪みが残りやすく、複屈折は１
５０ｎｍ以上と高く実用的でない。
【０００３】つまり、一般の射出成形グレードに比べて
低分子量の樹脂を高温成形する必要があるために、ポリ
カーボネート樹脂の特徴である耐衝撃性が大幅に低下
し、さらにアルミ蒸着膜その他記録部分の保護膜形成工
程での洗浄、塗装時に溶媒によるクラックが発生しやす
くなると云う欠点がある。また、光ディスク等に用いる
基板としては、複屈折は通常５０ｎｍ以下にする必要が
ある。
低分子量の樹脂を高温成形する必要があるために、ポリ
カーボネート樹脂の特徴である耐衝撃性が大幅に低下
し、さらにアルミ蒸着膜その他記録部分の保護膜形成工
程での洗浄、塗装時に溶媒によるクラックが発生しやす
くなると云う欠点がある。また、光ディスク等に用いる
基板としては、複屈折は通常５０ｎｍ以下にする必要が
ある。
【０００４】これら射出成形品の欠点を改良するために
押出シートに着目し過去にいくつかの研究がされている
が問題があった。例えば、特開昭６２−１４０８１７号
公報には鏡面ロールにてシートを成形した後、ステンレ
ンス板に挟み込み熱処理することが記載されているが、
この方法は装置の大幅な改良が必要とすることやステン
レス板に挟み込むことによる二次的歪みが残留しやす
い。又、特開平４−１６６３１９号公報に記載されてい
る方法は粘度平均分子量１４，０００〜１９，０００の
ポリカーボネート樹脂を使用するが、分子量が低く耐衝
撃性、耐溶剤性に劣る。
押出シートに着目し過去にいくつかの研究がされている
が問題があった。例えば、特開昭６２−１４０８１７号
公報には鏡面ロールにてシートを成形した後、ステンレ
ンス板に挟み込み熱処理することが記載されているが、
この方法は装置の大幅な改良が必要とすることやステン
レス板に挟み込むことによる二次的歪みが残留しやす
い。又、特開平４−１６６３１９号公報に記載されてい
る方法は粘度平均分子量１４，０００〜１９，０００の
ポリカーボネート樹脂を使用するが、分子量が低く耐衝
撃性、耐溶剤性に劣る。
【０００５】又、特公平５−７１０２６号公報には最終
鏡面ロールを剥離後３００ｍｍ走行した点のシートの表
面温度を熱変形温度±６℃と規定し、引取速度を特定の
範囲にすることを提案しているが、最終鏡面ロール剥離
後３００ｍｍ走行した時点のシートの表面温度は、該公
報の実施例記載の速度から考えて最終鏡面ロールを剥離
した直後の表面温度と大差なく、鏡面ロール表面に接触
し円周方向の曲げ応力が加わっている間に、該公報記載
の表面温度の測定面である最終鏡面ロール接触面は冷却
固化しており応力のため残留歪みが残り複屈折は大きく
なる、又該公報記載の特定の引取速度の範囲に含まれる
条件として引取ロール速度に比べ最終鏡面ロール速度が
極端に早い場合も含まれるためこの方法で成形した場合
最終鏡面ロールを出た後シートにたるみが発生し連続的
にシートが成形できない。
鏡面ロールを剥離後３００ｍｍ走行した点のシートの表
面温度を熱変形温度±６℃と規定し、引取速度を特定の
範囲にすることを提案しているが、最終鏡面ロール剥離
後３００ｍｍ走行した時点のシートの表面温度は、該公
報の実施例記載の速度から考えて最終鏡面ロールを剥離
した直後の表面温度と大差なく、鏡面ロール表面に接触
し円周方向の曲げ応力が加わっている間に、該公報記載
の表面温度の測定面である最終鏡面ロール接触面は冷却
固化しており応力のため残留歪みが残り複屈折は大きく
なる、又該公報記載の特定の引取速度の範囲に含まれる
条件として引取ロール速度に比べ最終鏡面ロール速度が
極端に早い場合も含まれるためこの方法で成形した場合
最終鏡面ロールを出た後シートにたるみが発生し連続的
にシートが成形できない。
【０００６】又、特開平７−２７６４７１号公報には最
終の鏡面ロールと最初の移送ロール間で、溶融シートを
たるませ、たるませる間に溶融シート温度をガラス転移
温度以上からガラス転移温度以下にし、溶融シートに外
力を加えない様にして残留応力が残らない方法が記載さ
れているが、この方法では最後の鏡面ロールからシート
が剥離する際の剥離マークがつき易く優れた外観にする
のが難しい。
終の鏡面ロールと最初の移送ロール間で、溶融シートを
たるませ、たるませる間に溶融シート温度をガラス転移
温度以上からガラス転移温度以下にし、溶融シートに外
力を加えない様にして残留応力が残らない方法が記載さ
れているが、この方法では最後の鏡面ロールからシート
が剥離する際の剥離マークがつき易く優れた外観にする
のが難しい。
【０００７】
【本発明が解決しようとしている課題】本発明は耐衝撃
性、耐溶剤性、低複屈折率、剥離マークが発生しないと
いった技術的問題を同時に解決するものであり、即ち光
ディスク用基板に使用する複屈折が４０ｎｍ以下で、機
械強度、耐久性に優れたポリカーボネートシートを製造
する方法を提供するものである。
性、耐溶剤性、低複屈折率、剥離マークが発生しないと
いった技術的問題を同時に解決するものであり、即ち光
ディスク用基板に使用する複屈折が４０ｎｍ以下で、機
械強度、耐久性に優れたポリカーボネートシートを製造
する方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ポリカー
ボネートシート成形時のシートの表面温度を特定にし、
更に、最終鏡面賦形ロール（以下鏡面ロールと省略）と
引取速度を特定の条件にすることにより、上記技術的課
題を解決しうることを見い出し本発明を完成するに至っ
た。
ボネートシート成形時のシートの表面温度を特定にし、
更に、最終鏡面賦形ロール（以下鏡面ロールと省略）と
引取速度を特定の条件にすることにより、上記技術的課
題を解決しうることを見い出し本発明を完成するに至っ
た。
【０００９】即ち本発明は、複数個の鏡面ロールを用い
てポリカーボネート樹脂を圧延シーティングするにあた
り、最終の鏡面ロールを剥離したシートが最終鏡面ロー
ルの半径長さを走行した直後の該シートのロール側の表
面温度が該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋３０℃であ
り、且つ最終鏡面ロールと引取ロールの速度比が１：
０．９５〜１．０５の範囲で成形することを特徴とする
ポリカーボネートシートの製造方法である。
てポリカーボネート樹脂を圧延シーティングするにあた
り、最終の鏡面ロールを剥離したシートが最終鏡面ロー
ルの半径長さを走行した直後の該シートのロール側の表
面温度が該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋３０℃であ
り、且つ最終鏡面ロールと引取ロールの速度比が１：
０．９５〜１．０５の範囲で成形することを特徴とする
ポリカーボネートシートの製造方法である。
【００１０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いられるポリカーボネート樹脂はビスフェノールＡに
代表される二価のフェノール系化合物から誘導される重
合体で、ホスゲン法、エステル交換法、あるいは固相重
合法のいずれかにより製造されたものでよい。これら従
来からあるポリカーボネート樹脂の他に、芳香族ジヒド
ロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換法で重
合した特殊なポリカーボネート樹脂も使用することもで
きる。なお、芳香族ジヒドロキシ化合物とは、ＨＯ−Ａ
ｒ−ＯＨで示される化合物であり、式中、Ａｒは２価の
芳香族基を表し、例えば下記一般式で示される有機基で
ある。
用いられるポリカーボネート樹脂はビスフェノールＡに
代表される二価のフェノール系化合物から誘導される重
合体で、ホスゲン法、エステル交換法、あるいは固相重
合法のいずれかにより製造されたものでよい。これら従
来からあるポリカーボネート樹脂の他に、芳香族ジヒド
ロキシ化合物と炭酸ジエステルとのエステル交換法で重
合した特殊なポリカーボネート樹脂も使用することもで
きる。なお、芳香族ジヒドロキシ化合物とは、ＨＯ−Ａ
ｒ−ＯＨで示される化合物であり、式中、Ａｒは２価の
芳香族基を表し、例えば下記一般式で示される有機基で
ある。
【００１１】
【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０の
アルコキシ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキル
基またはフェニル基であって、ｍ及びｎは１〜４の整数
で、ｍが２〜４の場合には各Ｒ1 はそれぞれ同一でも異
なるものであっても良いし、ｎが２〜４の場合には各Ｒ
2 はそれぞれ同一でも異なるものであっても良い）。
原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０の
アルコキシ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキル
基またはフェニル基であって、ｍ及びｎは１〜４の整数
で、ｍが２〜４の場合には各Ｒ1 はそれぞれ同一でも異
なるものであっても良いし、ｎが２〜４の場合には各Ｒ
2 はそれぞれ同一でも異なるものであっても良い）。
【００１２】また芳香族基Ａｒは、例えば、−Ａｒ1 −
Ｙ−Ａｒ2 −で示される２価の芳香族基である（式中、
Ａｒ1 及びＡｒ2 は、各々単独にそれぞれ炭素数５〜７
０を有する２価の炭素環式又は複素環式芳香族を表し、
Ｙは炭素数１〜３０を有する２価のアルカン基を表
す）。２価の芳香族基Ａｒ1 、Ａｒ2 において、１つ以
上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の置換
基、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド
基、ニトロ基などによって置換されたものであっても良
い。
Ｙ−Ａｒ2 −で示される２価の芳香族基である（式中、
Ａｒ1 及びＡｒ2 は、各々単独にそれぞれ炭素数５〜７
０を有する２価の炭素環式又は複素環式芳香族を表し、
Ｙは炭素数１〜３０を有する２価のアルカン基を表
す）。２価の芳香族基Ａｒ1 、Ａｒ2 において、１つ以
上の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の置換
基、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェ
ノキシ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド
基、ニトロ基などによって置換されたものであっても良
い。
【００１３】複素環式芳香族基の好ましい具体例として
は、１ないし複数の環形成窒素原子、酸素原子又は、硫
黄原子を有する芳香族基を挙げることができる。２価の
芳香族基Ａｒ1 、Ａｒ2 は、例えば、置換又は非置換の
フェニレン、置換又は非置換のビフェニレン、置換又は
非置換のピリジレンなどの基を表す。ここでの置換基は
前述のとおりである。２価のアルカン基Ｙは、例えば、
下記一般式で示される有機基である。
は、１ないし複数の環形成窒素原子、酸素原子又は、硫
黄原子を有する芳香族基を挙げることができる。２価の
芳香族基Ａｒ1 、Ａｒ2 は、例えば、置換又は非置換の
フェニレン、置換又は非置換のビフェニレン、置換又は
非置換のピリジレンなどの基を表す。ここでの置換基は
前述のとおりである。２価のアルカン基Ｙは、例えば、
下記一般式で示される有機基である。
【００１４】
【化２】 （式中、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 は、各々独立に水素、
炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコ
シキ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキル基、環
構成炭素数５〜１０の炭素環式芳香族基、炭素数６〜１
０の炭素環式アラルキル基を表す。ｋは３〜１１の整数
を表し、Ｒ7 及びＲ8 は、各Ｘについて個々に選択さ
れ、お互いに独立に、水素又は炭素数１〜６のアルキル
基を表し、Ｘは炭素数を表す。また、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 において、１つ以上の水素原子
が反応に悪影響を及ぼさない範囲で他の置換基、例えば
ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビ
ニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基な
どによって置換されたものであって良い。） このような２価の芳香族基Ａｒとしては、例えば、下記
一般式で示されるものが挙げられる。
炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコ
シキ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキル基、環
構成炭素数５〜１０の炭素環式芳香族基、炭素数６〜１
０の炭素環式アラルキル基を表す。ｋは３〜１１の整数
を表し、Ｒ7 及びＲ8 は、各Ｘについて個々に選択さ
れ、お互いに独立に、水素又は炭素数１〜６のアルキル
基を表し、Ｘは炭素数を表す。また、Ｒ3 、Ｒ4 、
Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 において、１つ以上の水素原子
が反応に悪影響を及ぼさない範囲で他の置換基、例えば
ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ビ
ニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニトロ基な
どによって置換されたものであって良い。） このような２価の芳香族基Ａｒとしては、例えば、下記
一般式で示されるものが挙げられる。
【００１５】
【化３】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、ｍ及びｎは前述のとおりであ
る。） さらに、２価の芳香族基Ａｒは、−Ａｒ1 −Ｚ−Ａｒ2
−で示されるものであっても良い。（式中、Ａｒ1 、Ａ
ｒ2 、は前述の通りで、Ｚは単結合又は−Ｏ−、−ＣＯ
−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＳＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ
ＯＮ（Ｒ1 ）−などの２価の基を表す。ただし、Ｒ1 は
前述の通りである。） このような２価の芳香族基Ａｒとしては、例えば、下記
一般式で示されるものが挙げられる。
る。） さらに、２価の芳香族基Ａｒは、−Ａｒ1 −Ｚ−Ａｒ2
−で示されるものであっても良い。（式中、Ａｒ1 、Ａ
ｒ2 、は前述の通りで、Ｚは単結合又は−Ｏ−、−ＣＯ
−、−Ｓ−、−ＳＯ2 −、−ＳＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ
ＯＮ（Ｒ1 ）−などの２価の基を表す。ただし、Ｒ1 は
前述の通りである。） このような２価の芳香族基Ａｒとしては、例えば、下記
一般式で示されるものが挙げられる。
【００１６】
【化４】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、ｍ及びｎは前述のとおりであ
る。） 本発明で用いられる芳香族ジヒドロキシ化合物は、単１
種類でも２種類以上でもかまわない。芳香族ジヒドロキ
シ化合物の代表的な例としてはビスフェノールＡが挙げ
られる。また、これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、
塩素原子とアルカリ又はアルカリ土類金属の含有量が少
ない方が好ましく、できれば実質的に含有していないこ
とが好ましい。
る。） 本発明で用いられる芳香族ジヒドロキシ化合物は、単１
種類でも２種類以上でもかまわない。芳香族ジヒドロキ
シ化合物の代表的な例としてはビスフェノールＡが挙げ
られる。また、これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は、
塩素原子とアルカリ又はアルカリ土類金属の含有量が少
ない方が好ましく、できれば実質的に含有していないこ
とが好ましい。
【００１７】本発明で用いられるジアリールカーボネー
トは、下記一般式で表される。
トは、下記一般式で表される。
【００１８】
【化５】 （式中、Ａｒ3 、Ａｒ4 はそれぞれ１価の芳香族基を表
す。） Ａｒ3 及びＡｒ4 は、１価の炭素環式又は複素環式芳香
族基を表すが、このＡｒ3 、Ａｒ4 において、１つ以上
の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の置換基、
例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、
炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキ
シ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニ
トロ基などによって置換されたものであっても良い。Ａ
ｒ3 、Ａｒ4 は同じものであっても良いし、異なるもの
であっても良い。１価の芳香族基Ａｒ3 及びＡｒ4 の代
表例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、ピリジン基を挙げることができる。これらは、上述
の１種以上の置換基で置換されたものでも良い。好まし
いＡｒ3 及びＡｒ4 としては、それぞれ例えば、下記一
般式などが挙げられる。
す。） Ａｒ3 及びＡｒ4 は、１価の炭素環式又は複素環式芳香
族基を表すが、このＡｒ3 、Ａｒ4 において、１つ以上
の水素原子が、反応に悪影響を及ぼさない他の置換基、
例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルキル基、
炭素数１〜１０のアルコキシ基、フェニル基、フェノキ
シ基、ビニル基、シアノ基、エステル基、アミド基、ニ
トロ基などによって置換されたものであっても良い。Ａ
ｒ3 、Ａｒ4 は同じものであっても良いし、異なるもの
であっても良い。１価の芳香族基Ａｒ3 及びＡｒ4 の代
表例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル
基、ピリジン基を挙げることができる。これらは、上述
の１種以上の置換基で置換されたものでも良い。好まし
いＡｒ3 及びＡｒ4 としては、それぞれ例えば、下記一
般式などが挙げられる。
【００１９】
【化６】 ジアリールカーボネートの代表例としては、下記一般式
で示される置換又は非置換基のジフェニルカーボネート
類を挙げることができる。
で示される置換又は非置換基のジフェニルカーボネート
類を挙げることができる。
【００２０】
【化７】 （式中、Ｒ9 及びＲ10は、各々独立に水素原子、炭素原
子１〜１０を有するアルキル基、炭素数１〜１０を有す
るアルコキシ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｐ及びｑは１〜５の整数
で、ｐが２以上の場合には各Ｒ9 はそれぞれ異なるもの
であっても良いし、ｑが２以上の場合には各Ｒ10はそれ
ぞれ異なるものであっても良い。）
子１〜１０を有するアルキル基、炭素数１〜１０を有す
るアルコキシ基、環構成炭素数５〜１０のシクロアルキ
ル基又はフェニル基を示し、ｐ及びｑは１〜５の整数
で、ｐが２以上の場合には各Ｒ9 はそれぞれ異なるもの
であっても良いし、ｑが２以上の場合には各Ｒ10はそれ
ぞれ異なるものであっても良い。）
【００２１】このジフェニルカーボネート類の中でも、
非置換のジフェニルカーボーネートや、ジトリルカーボ
ネート、ジ−ｔ−ブチルフェニルカーボネートのような
低級アルキル置換ジフェニルカーボネートなどの対称型
ジアリールカーボネートが好ましいが、特に最も簡単な
構造のジアリールカーボネートであるジフェニルカーボ
ネートが好適である。これらジアリールカーボネート類
は単独で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用
いても良い。また、これらジアリールカーボネートは、
塩素原子とアルカリ又はアルカリ土類金属の含有量が少
ない方が好ましく、できれば実質的に含有していないこ
とが好ましい。
非置換のジフェニルカーボーネートや、ジトリルカーボ
ネート、ジ−ｔ−ブチルフェニルカーボネートのような
低級アルキル置換ジフェニルカーボネートなどの対称型
ジアリールカーボネートが好ましいが、特に最も簡単な
構造のジアリールカーボネートであるジフェニルカーボ
ネートが好適である。これらジアリールカーボネート類
は単独で用いても良いし、２種類以上を組み合わせて用
いても良い。また、これらジアリールカーボネートは、
塩素原子とアルカリ又はアルカリ土類金属の含有量が少
ない方が好ましく、できれば実質的に含有していないこ
とが好ましい。
【００２２】芳香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカ
ーボネートとの使用割合（仕込比率）は、用いられる芳
香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカーボネートの種
類や、重合温度その他の重合条件及び得ようとするポリ
カーボネートの分子量や末端比率によって異なるが、ジ
アリールカーボネートは芳香族ジヒドロキシ化合物１モ
ルに対して、通常０．９〜２．５モル、好ましくは０．
９５から２．０モル、より好ましくは０．９８から１．
５モルの割合で用いられる。これらのポリカーボネート
樹脂は一種、又は二種以上用いてもよく共重合体あるい
は混合体であっても良い。
ーボネートとの使用割合（仕込比率）は、用いられる芳
香族ジヒドロキシ化合物とジアリールカーボネートの種
類や、重合温度その他の重合条件及び得ようとするポリ
カーボネートの分子量や末端比率によって異なるが、ジ
アリールカーボネートは芳香族ジヒドロキシ化合物１モ
ルに対して、通常０．９〜２．５モル、好ましくは０．
９５から２．０モル、より好ましくは０．９８から１．
５モルの割合で用いられる。これらのポリカーボネート
樹脂は一種、又は二種以上用いてもよく共重合体あるい
は混合体であっても良い。
【００２３】又、これらポリカーボネート樹脂には必要
に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤帯電防止剤、熱安定
剤、光安定剤、難燃剤、離型剤、界面活性剤、分散剤、
滑剤、アンチブロッキング剤、光拡散剤、着色剤、無機
フィーラ、ガラス繊維、架橋剤、発泡剤、可塑剤、有機
架橋剤等の添加剤等を含有させることもできる。
に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤帯電防止剤、熱安定
剤、光安定剤、難燃剤、離型剤、界面活性剤、分散剤、
滑剤、アンチブロッキング剤、光拡散剤、着色剤、無機
フィーラ、ガラス繊維、架橋剤、発泡剤、可塑剤、有機
架橋剤等の添加剤等を含有させることもできる。
【００２４】本発明で使用する装置は、ポリカーボネー
ト樹脂を可塑化し、Ｔダイよりシート状に押出す装置
と、複数個の平滑度の高い表面を備えた鏡面ロールと、
鏡面ロールにより賦形されたシートを引取る引取ロール
からなりったており、図１にその一例を示す。図１にお
いて１は押出機、２はＴダイ、３（下ロール）、４（中
ロール）、５（上ロール）は鏡面ロール（５は最終鏡面
ロール）、６は加熱ヒーター、７は移送ロール、８は引
取ロールである。
ト樹脂を可塑化し、Ｔダイよりシート状に押出す装置
と、複数個の平滑度の高い表面を備えた鏡面ロールと、
鏡面ロールにより賦形されたシートを引取る引取ロール
からなりったており、図１にその一例を示す。図１にお
いて１は押出機、２はＴダイ、３（下ロール）、４（中
ロール）、５（上ロール）は鏡面ロール（５は最終鏡面
ロール）、６は加熱ヒーター、７は移送ロール、８は引
取ロールである。
【００２５】鏡面ロール３、４、５の表面は、シートの
外観を決める上で重要である。一般的に表面粗度０．１
〜０．００５μｍの平滑性が求められる。ロール内部に
水、油等の熱媒体を循環できるようになっており、ロー
ルの温度を調整できる構造になっている。６は加熱ヒー
ターで成形中のシートの過冷却を防ぐためのもので、７
はシートを走行ガイドする金属ロールである。８はゴム
で出来ておりシートを引取るロールである。
外観を決める上で重要である。一般的に表面粗度０．１
〜０．００５μｍの平滑性が求められる。ロール内部に
水、油等の熱媒体を循環できるようになっており、ロー
ルの温度を調整できる構造になっている。６は加熱ヒー
ターで成形中のシートの過冷却を防ぐためのもので、７
はシートを走行ガイドする金属ロールである。８はゴム
で出来ておりシートを引取るロールである。
【００２６】可塑化溶融したポリカーボネート樹脂は２
のＴダイよりシート状に押出され鏡面ロール３、４、５
により圧延、賦形されロールに密着した状態で走行す
る。最終の鏡面ロール５を剥離したシートは、７の移送
ロールにガイドされ８の引取ロールにて引取られる。引
取りされたシートは、目的とする大きさに裁断される
か、またはそのまま巻取られる。シート厚みは該光学用
途の場合０．１〜３．０ｍｍである。
のＴダイよりシート状に押出され鏡面ロール３、４、５
により圧延、賦形されロールに密着した状態で走行す
る。最終の鏡面ロール５を剥離したシートは、７の移送
ロールにガイドされ８の引取ロールにて引取られる。引
取りされたシートは、目的とする大きさに裁断される
か、またはそのまま巻取られる。シート厚みは該光学用
途の場合０．１〜３．０ｍｍである。
【００２７】本発明は、複数個の鏡面ロールの最終の鏡
面ロールをシートが剥離した後に、走行シートがロール
の半径長さを走行した直後のロール剥離面のシートの表
面温度をポリカーボネート樹脂のガラス転移温度−１０
〜＋３０℃に調整し、更に、シートにかかる配向を極力
抑えるために最終の鏡面ロールと引取ロール速度比を
１：０．９５〜１．０５の範囲にすることにより、複屈
折が優れた実用上問題のない光学用シートが得られる事
を見いだしたものである。
面ロールをシートが剥離した後に、走行シートがロール
の半径長さを走行した直後のロール剥離面のシートの表
面温度をポリカーボネート樹脂のガラス転移温度−１０
〜＋３０℃に調整し、更に、シートにかかる配向を極力
抑えるために最終の鏡面ロールと引取ロール速度比を
１：０．９５〜１．０５の範囲にすることにより、複屈
折が優れた実用上問題のない光学用シートが得られる事
を見いだしたものである。
【００２８】本発明は、シートが最終鏡面ロールを剥離
した後、シートの剥離面がロールの半径長さを通過した
直後の温度、つまり、実質的に測定可能な最も剥離点に
近いシート面の温度を測定するものである。具体的に示
すとロール径が２００ｍｍφの場合は、シートがロール
から離れ１００ｍｍ走行し更に測定機をセットし測定で
きる長さである４０ｍｍを加えた長さ、つまりシートが
ロールから剥離し１４０ｍｍ走行した点がシートの表面
温度測定点である。ロール径が３００ｍｍφの場合は１
９０ｍｍが測定点にあたる。
した後、シートの剥離面がロールの半径長さを通過した
直後の温度、つまり、実質的に測定可能な最も剥離点に
近いシート面の温度を測定するものである。具体的に示
すとロール径が２００ｍｍφの場合は、シートがロール
から離れ１００ｍｍ走行し更に測定機をセットし測定で
きる長さである４０ｍｍを加えた長さ、つまりシートが
ロールから剥離し１４０ｍｍ走行した点がシートの表面
温度測定点である。ロール径が３００ｍｍφの場合は１
９０ｍｍが測定点にあたる。
【００２９】特公平５−７１０２６号公報に記載のシー
ト表面測定点は、最終鏡面ロール剥離後３００ｍｍ走行
した点であるが、一般的な大きさのロール径２５０ｍｍ
φ〜４００程度の範囲で計算すれば本発明のシート表面
測定点は特公平５−７１０２６号公報に記載の方法に比
べシートのロール剥離点に近くなり、走行速度が遅い場
合は、厳密に走行シートの高い温度を測定できる測定点
である。
ト表面測定点は、最終鏡面ロール剥離後３００ｍｍ走行
した点であるが、一般的な大きさのロール径２５０ｍｍ
φ〜４００程度の範囲で計算すれば本発明のシート表面
測定点は特公平５−７１０２６号公報に記載の方法に比
べシートのロール剥離点に近くなり、走行速度が遅い場
合は、厳密に走行シートの高い温度を測定できる測定点
である。
【００３０】前記測定点を走行するポリカーボネート樹
脂シート表面温度を該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋
３０℃に調整する必要がある。好ましくは、ポリカーボ
ネート樹脂のガラス転移温度−５〜＋２０℃である。特
公平５−７１０２６号公報に記載の方法では最終鏡面ロ
ールをでた後のシートの表面温度を熱変形温度±６℃に
定めているが、特公平５−７１０２６号公報に記載して
いる熱変形温度はガラス転移温度より約２０℃低くポリ
カーボネート樹脂が固化した状態の温度を示したもので
ある。複屈折は成形品に残留する歪みに関係するもので
歪みが大きければ複屈折も大きくなる。成形品に歪みが
残留する温度温度条件は該ポリカーボネートが溶融した
状態から固化する段階でなんらかの応力が加わっている
かにより決まってくる。シート成形のシートの温度につ
いて考えると最終鏡面ロールを出てシートが変形から開
放されたときに溶融状態を維持すること、つまりガラス
転移温度以上に維持することが重要である。
脂シート表面温度を該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋
３０℃に調整する必要がある。好ましくは、ポリカーボ
ネート樹脂のガラス転移温度−５〜＋２０℃である。特
公平５−７１０２６号公報に記載の方法では最終鏡面ロ
ールをでた後のシートの表面温度を熱変形温度±６℃に
定めているが、特公平５−７１０２６号公報に記載して
いる熱変形温度はガラス転移温度より約２０℃低くポリ
カーボネート樹脂が固化した状態の温度を示したもので
ある。複屈折は成形品に残留する歪みに関係するもので
歪みが大きければ複屈折も大きくなる。成形品に歪みが
残留する温度温度条件は該ポリカーボネートが溶融した
状態から固化する段階でなんらかの応力が加わっている
かにより決まってくる。シート成形のシートの温度につ
いて考えると最終鏡面ロールを出てシートが変形から開
放されたときに溶融状態を維持すること、つまりガラス
転移温度以上に維持することが重要である。
【００３１】本発明におけるシート表面温度の好適な範
囲はガラス転移温度−１０℃〜＋３０℃であり、ガラス
転移温度未満をその範囲に含むものであるが、これは最
終鏡面ロールを出たシートの温度測定面は最終鏡面ロー
ルに接触して走行してきており、シートの厚み方向を考
えた場合最も低い温度を示しているのあるが、シートが
測定点を過ぎて走行中に最も低い温度を示しているシー
ト温度測定面は、該樹脂が保有している熱容量の影響を
受けてガラス転移温度以上に上昇するので、実質的に優
れた複屈折を維持する範囲である。ガラス転移温度−１
０℃未満では、シートの巾方向の複屈折のバラツキが大
きくなり、又、ガラス転移温度＋３０℃を越える場合
は、最終鏡面ロールとシートの剥離にムラが生じ適正な
外観が得られない。
囲はガラス転移温度−１０℃〜＋３０℃であり、ガラス
転移温度未満をその範囲に含むものであるが、これは最
終鏡面ロールを出たシートの温度測定面は最終鏡面ロー
ルに接触して走行してきており、シートの厚み方向を考
えた場合最も低い温度を示しているのあるが、シートが
測定点を過ぎて走行中に最も低い温度を示しているシー
ト温度測定面は、該樹脂が保有している熱容量の影響を
受けてガラス転移温度以上に上昇するので、実質的に優
れた複屈折を維持する範囲である。ガラス転移温度−１
０℃未満では、シートの巾方向の複屈折のバラツキが大
きくなり、又、ガラス転移温度＋３０℃を越える場合
は、最終鏡面ロールとシートの剥離にムラが生じ適正な
外観が得られない。
【００３２】更に、本発明を構成するもう一つの要因と
して引取速度がある。最終の鏡面ロールと引取ロール速
度比は、１：０．９５〜１．０５に調整する必要があ
る、好ましくは、１：０．９４〜１．０４である。シー
トが最終鏡面ロール出て常温近くになる引取ロールまで
走行する間にシートの樹脂温度は大幅に降下するシート
走行方向を考えた場合該樹脂は熱収縮が生じ、最終鏡面
ロール速度より引取速度が遅い場合であってもシートの
たるみ現象は発生しない。
して引取速度がある。最終の鏡面ロールと引取ロール速
度比は、１：０．９５〜１．０５に調整する必要があ
る、好ましくは、１：０．９４〜１．０４である。シー
トが最終鏡面ロール出て常温近くになる引取ロールまで
走行する間にシートの樹脂温度は大幅に降下するシート
走行方向を考えた場合該樹脂は熱収縮が生じ、最終鏡面
ロール速度より引取速度が遅い場合であってもシートの
たるみ現象は発生しない。
【００３３】引取速度が最終鏡面ロールより速い場合は
一般に引取方向に張力が加わりシートに内部歪みが残る
が、本発明の場合最終鏡面ロールを出て走行するシート
温度をガラス転移温度以上に保つことにより残留歪みを
抑制するものである。速度比が１．０５を越えるとシー
トに残留歪みが残り易くなり複屈折は大きくなる。又、
０．９５未満では、鏡面ロールと引取機の引取バランス
が取れず、最終鏡面ロールからシートが剥離する際にム
ラが生じ外観が悪くなる。
一般に引取方向に張力が加わりシートに内部歪みが残る
が、本発明の場合最終鏡面ロールを出て走行するシート
温度をガラス転移温度以上に保つことにより残留歪みを
抑制するものである。速度比が１．０５を越えるとシー
トに残留歪みが残り易くなり複屈折は大きくなる。又、
０．９５未満では、鏡面ロールと引取機の引取バランス
が取れず、最終鏡面ロールからシートが剥離する際にム
ラが生じ外観が悪くなる。
【００３４】
【発明の実施の形態】以下に実施例、比較例で本発明の
実施の形態を具体的に説明する。尚、各実施例、比較例
で用いた評価、試験方法は以下の通りである。 （１）シート表面温度 走行シートが最終鏡面ロールを剥離しシートの剥離面が
ロールの半径長さを走行した直後をミノルタ（株）の非
接触式放射温度計５０５を用いて巾方向に５点測定し平
均値を求めた。 （２）ガラス転移温度 パーキンエルマー社の示差走査熱量計ＤＳＣ−７を用
い、サンプル重量５ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎの条
件で測定した。
実施の形態を具体的に説明する。尚、各実施例、比較例
で用いた評価、試験方法は以下の通りである。 （１）シート表面温度 走行シートが最終鏡面ロールを剥離しシートの剥離面が
ロールの半径長さを走行した直後をミノルタ（株）の非
接触式放射温度計５０５を用いて巾方向に５点測定し平
均値を求めた。 （２）ガラス転移温度 パーキンエルマー社の示差走査熱量計ＤＳＣ−７を用
い、サンプル重量５ｍｇ、昇温速度１０℃／ｍｉｎの条
件で測定した。
【００３５】（３）複屈折 シートの巾方向に均等に５点サンプリングしオリンパス
光学（株）の複屈折測定装置ＢＨＳ−３２３（波長７８
０nm）を用いて測定し平均値で表した。 （４）衝撃強度 デュポン式衝撃試験器を用いて先端Ｒ＝１／４インチの
撃ち型に１Ｋｇの加重をセットし１ｍの高さより落下さ
せ割れの有無をみた。 （５）耐溶剤性 耐久性の一つの指標として割れ安さを見るために、割れ
促進液としてシリコーンハードコート液を塗布し表面状
態の変化を観察した。
光学（株）の複屈折測定装置ＢＨＳ−３２３（波長７８
０nm）を用いて測定し平均値で表した。 （４）衝撃強度 デュポン式衝撃試験器を用いて先端Ｒ＝１／４インチの
撃ち型に１Ｋｇの加重をセットし１ｍの高さより落下さ
せ割れの有無をみた。 （５）耐溶剤性 耐久性の一つの指標として割れ安さを見るために、割れ
促進液としてシリコーンハードコート液を塗布し表面状
態の変化を観察した。
【００３６】
実施例１〜３、比較例１〜４ 図１に示すような鏡面ロール３本のシート成形装置を用
いて実施した、押出機は東芝ＳＥ−９０ＤＶＢとリップ
巾１，２００mmのＴダイを用いた、ダイ温度分布はほぼ
均一であった、押出量は２４０Ｋｇ／ｈに設定し、シー
ト厚み、ダイ温度、鏡面ロール温度、速度は表１に記載
した。又、ポリカーボネート樹脂はビスフェノールＡを
重合した粘度平均分子量２４，５００、ガラス転移温度
１５３℃の樹脂を用いた。上記条件でシートを形成し、
複屈折、衝撃強度、耐溶剤性を測定した。結果を表１に
示す。
いて実施した、押出機は東芝ＳＥ−９０ＤＶＢとリップ
巾１，２００mmのＴダイを用いた、ダイ温度分布はほぼ
均一であった、押出量は２４０Ｋｇ／ｈに設定し、シー
ト厚み、ダイ温度、鏡面ロール温度、速度は表１に記載
した。又、ポリカーボネート樹脂はビスフェノールＡを
重合した粘度平均分子量２４，５００、ガラス転移温度
１５３℃の樹脂を用いた。上記条件でシートを形成し、
複屈折、衝撃強度、耐溶剤性を測定した。結果を表１に
示す。
【００３７】参考例１ ビスフェノールＡを重合した粘度平均分子量１５，００
０のポリカーボネート樹脂を用い射出成形法にて直径１
２０ｍｍφの円盤を３００℃で成形した物性表を表１に
併記した。
０のポリカーボネート樹脂を用い射出成形法にて直径１
２０ｍｍφの円盤を３００℃で成形した物性表を表１に
併記した。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【発明の効果】本発明によって光学用途として複屈折が
４０ｎｍ以下で、機械強度、耐久性に優れたポリカーボ
ネートシートを成形することを可能にした。
４０ｎｍ以下で、機械強度、耐久性に優れたポリカーボ
ネートシートを成形することを可能にした。
【図１】本発明を実施するために適したシートの一例を
示す概略図である。
示す概略図である。
【符号の説明】 １ 押出機 ２ Ｔダイ ３ 鏡面ロール（下ロール） ４ 鏡面ロール（中ロール） ５ 鏡面ロール（上ロール） ６ 加熱ヒーター ７ 移送ロール ８ 引取ロール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 69:00
Claims (1)
- 【請求項１】 複数個の鏡面賦形ロールを用いてポリカ
ーボネート樹脂を圧延シーティングするにあたり、最終
の鏡面賦形ロールを剥離したシートが最終鏡面賦形ロー
ルの半径長さを走行した直後の該シートのロール側の表
面温度が該樹脂のガラス転移温度−１０〜＋３０℃であ
り、且つ最終賦形鏡面ロールと引取ロールの速度比が
１：０．９５〜１．０５の範囲で成形することを特徴と
するポリカーボネートシートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221296A JP3816137B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | ポリカーボネートシートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221296A JP3816137B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | ポリカーボネートシートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09207237A true JPH09207237A (ja) | 1997-08-12 |
| JP3816137B2 JP3816137B2 (ja) | 2006-08-30 |
Family
ID=12629732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4221296A Expired - Lifetime JP3816137B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | ポリカーボネートシートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3816137B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005062117A1 (en) * | 2003-12-11 | 2005-07-07 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured screen and method of manufacturing using coextrusion |
| US7050227B2 (en) | 2003-12-11 | 2006-05-23 | 3M Innovative Properties Company | Composition for microstructured screens |
| US7057810B2 (en) | 2003-12-11 | 2006-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured screen with light absorbing material and method of manufacturing |
| JP2007090859A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-04-12 | Sony Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| KR100843555B1 (ko) * | 2006-11-28 | 2008-07-03 | (주)서진라이트 | 폴리카본네이트 시트의 성형장치 |
| JP2009154442A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学部材用押出樹脂板の製造方法 |
-
1996
- 1996-02-06 JP JP4221296A patent/JP3816137B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005062117A1 (en) * | 2003-12-11 | 2005-07-07 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured screen and method of manufacturing using coextrusion |
| US7050227B2 (en) | 2003-12-11 | 2006-05-23 | 3M Innovative Properties Company | Composition for microstructured screens |
| US7057810B2 (en) | 2003-12-11 | 2006-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured screen with light absorbing material and method of manufacturing |
| US7142361B2 (en) | 2003-12-11 | 2006-11-28 | 3M Innovative Properties Company | Optical material adhesive, film including optical material and projection screen including film |
| US7184210B2 (en) | 2003-12-11 | 2007-02-27 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured screen with light absorbing material and method of manufacturing |
| JP2007090859A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-04-12 | Sony Corp | 光学フィルムの製造方法 |
| KR100843555B1 (ko) * | 2006-11-28 | 2008-07-03 | (주)서진라이트 | 폴리카본네이트 시트의 성형장치 |
| JP2009154442A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学部材用押出樹脂板の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3816137B2 (ja) | 2006-08-30 |
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