JPH09213251A - 真空チャンバ - Google Patents
真空チャンバInfo
- Publication number
- JPH09213251A JPH09213251A JP8016378A JP1637896A JPH09213251A JP H09213251 A JPH09213251 A JP H09213251A JP 8016378 A JP8016378 A JP 8016378A JP 1637896 A JP1637896 A JP 1637896A JP H09213251 A JPH09213251 A JP H09213251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- main body
- stage
- upper lid
- bottom plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】機械加工が容易で、かつチャンバ内部に収納さ
せるXYステージの組み立てが簡単にできる真空チャン
バを提供する。 【解決手段】真空チャンバは上蓋1,本体2および底板
3より構成される。上蓋1には中央部分に電子線が通過
する孔4があけられている。また、上蓋1の周囲には本
体2に固定するためのねじ孔5が複数個あけられてい
る。
せるXYステージの組み立てが簡単にできる真空チャン
バを提供する。 【解決手段】真空チャンバは上蓋1,本体2および底板
3より構成される。上蓋1には中央部分に電子線が通過
する孔4があけられている。また、上蓋1の周囲には本
体2に固定するためのねじ孔5が複数個あけられてい
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウエハ等の測
定試料を、電子線を用いて分析、或いは測定を行う走査
型電子顕微鏡等の分析器において、測定試料を収納させ
る真空チャンバに関する。
定試料を、電子線を用いて分析、或いは測定を行う走査
型電子顕微鏡等の分析器において、測定試料を収納させ
る真空チャンバに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術を、図5と図6により説明す
る。
る。
【0003】図5は走査電子顕微鏡の側面図を示す。5
0は電子線を放射する電子銃、51は電子線を偏向させ
る電子レンズ鏡体、52は真空チャンバを示す。真空チ
ャンバ内には半導体ウエハ53をX,Y方向に移動させ
るXYステージ54が収納されている。56は真空チャ
ンバ52を真空状態にする真空ポンプ、55は装置を支
える架台を示す。
0は電子線を放射する電子銃、51は電子線を偏向させ
る電子レンズ鏡体、52は真空チャンバを示す。真空チ
ャンバ内には半導体ウエハ53をX,Y方向に移動させ
るXYステージ54が収納されている。56は真空チャ
ンバ52を真空状態にする真空ポンプ、55は装置を支
える架台を示す。
【0004】真空チャンバの詳細を図6に示す。61は
真空チャンバの本体で、底板62を有する箱状の容器で
その上部には蓋60が複数個のねじ63で締め付けられ
ている。64は真空をシールするためにOリングを示
す。54は測定試料を移動させるXYステージである。
真空チャンバの本体で、底板62を有する箱状の容器で
その上部には蓋60が複数個のねじ63で締め付けられ
ている。64は真空をシールするためにOリングを示
す。54は測定試料を移動させるXYステージである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術は、真
空チャンバ61は箱状容器で深みがあり、その底面の機
械加工には大型の工作機械を必要とする。また研削作業
により精密に仕上げることが難しい。さらにXYステー
ジ54を組み立てたり、調整する場合には側面から作業
ができず作業能率を低下させていた。
空チャンバ61は箱状容器で深みがあり、その底面の機
械加工には大型の工作機械を必要とする。また研削作業
により精密に仕上げることが難しい。さらにXYステー
ジ54を組み立てたり、調整する場合には側面から作業
ができず作業能率を低下させていた。
【0006】本発明の目的は、機械加工が容易で、かつ
チャンバ内部に収納させるXYステージの組み立てが簡
単にできる真空チャンバを提供することにある。
チャンバ内部に収納させるXYステージの組み立てが簡
単にできる真空チャンバを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、従来技術の箱状部材の底を取り外して
筒状の部材とし、底の部分には別の平板を用意する。
に、本発明では、従来技術の箱状部材の底を取り外して
筒状の部材とし、底の部分には別の平板を用意する。
【0008】平板は機械加工が容易で、かつXYステー
ジの組み立てもこの平板の上で行うことができるので作
業能率が向上する。
ジの組み立てもこの平板の上で行うことができるので作
業能率が向上する。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図1,
図2,図3と図4により説明する。
図2,図3と図4により説明する。
【0010】図1は真空チャンバの斜視図である。真空
チャンバは上蓋1,本体2および底板3より構成され
る。上蓋1には中央部分に電子線が通過する孔4があけ
られている。また、上蓋1の周囲には本体2に固定する
ためのねじ孔5が複数個あけられている。
チャンバは上蓋1,本体2および底板3より構成され
る。上蓋1には中央部分に電子線が通過する孔4があけ
られている。また、上蓋1の周囲には本体2に固定する
ためのねじ孔5が複数個あけられている。
【0011】図2は真空チャンバの本体を示し、図3は
本体2の断面図である。図3に示すように、本体2は角
型の断面を有し底のない筒状をした部材で、材質は純鉄
で製作される。7は本体2を底板3にねじで固定するた
めのフランジである。また、本体2の上部端面には上蓋
1との真空をシールするためのOリング溝8が設けられ
ている。
本体2の断面図である。図3に示すように、本体2は角
型の断面を有し底のない筒状をした部材で、材質は純鉄
で製作される。7は本体2を底板3にねじで固定するた
めのフランジである。また、本体2の上部端面には上蓋
1との真空をシールするためのOリング溝8が設けられ
ている。
【0012】次に、底板3の詳細を図4に示す。底板3
は純鉄で製作され、平坦部10は研削により精密に仕上
げられて、半導体ウエハを移動させるXYステージ11
が取り付けられる。12は真空シールのためのOリング
をはめ込む溝である。
は純鉄で製作され、平坦部10は研削により精密に仕上
げられて、半導体ウエハを移動させるXYステージ11
が取り付けられる。12は真空シールのためのOリング
をはめ込む溝である。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば真空チャンバの本体を構
成する部材には従来のような底板がなく、機械加工が容
易である。底板に相当する部材は平板であるので機械加
工が容易で、またXYステージを乗せる面は研削により
精密に加工することができる。かつ、XYステージは平
板上で組み立てをすることができるので、作業能率が向
上する。
成する部材には従来のような底板がなく、機械加工が容
易である。底板に相当する部材は平板であるので機械加
工が容易で、またXYステージを乗せる面は研削により
精密に加工することができる。かつ、XYステージは平
板上で組み立てをすることができるので、作業能率が向
上する。
【図1】本発明の一実施例を示す斜視図。
【図2】本発明の本体の説明図。
【図3】本発明の本体の断面図。
【図4】本発明の底板とXYステージを組み込んだ説明
図。
図。
【図5】装置の概略図と従来技術を示す説明図。
【図6】従来技術を示す断面図。
1…上蓋、2…本体、3…底板、11…XYステージ。
Claims (1)
- 【請求項1】真空中において分析試料をX,Y方向に移
動させるステージ上に乗せて分析を行う分析器におい
て、断面が角形で筒状をした部材の上下面を平板でふさ
いで密閉容器とすることを特徴とする真空チャンバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8016378A JPH09213251A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 真空チャンバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8016378A JPH09213251A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 真空チャンバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09213251A true JPH09213251A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=11914633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8016378A Pending JPH09213251A (ja) | 1996-02-01 | 1996-02-01 | 真空チャンバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09213251A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
| CN110918138A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-03-27 | 沈阳航天新光压力容器有限公司 | 一种具有稳定平台的真空舱及其加工工艺 |
-
1996
- 1996-02-01 JP JP8016378A patent/JPH09213251A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
| CN110918138A (zh) * | 2019-12-20 | 2020-03-27 | 沈阳航天新光压力容器有限公司 | 一种具有稳定平台的真空舱及其加工工艺 |
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