JPH09213626A - 原版保持装置およびこれを用いた露光装置 - Google Patents
原版保持装置およびこれを用いた露光装置Info
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- JPH09213626A JPH09213626A JP4424696A JP4424696A JPH09213626A JP H09213626 A JPH09213626 A JP H09213626A JP 4424696 A JP4424696 A JP 4424696A JP 4424696 A JP4424696 A JP 4424696A JP H09213626 A JPH09213626 A JP H09213626A
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置等のマスクステージやマスク搬送装
置を簡単化かつ小形化する。 【解決手段】 露光光に対してキネマティックマウント
方式のマスクＥを位置決めするマスクステージは、ステ
ージベース１０と保持枠２０を有し、両者の間の空間部
にマスクＥを水平に搬入し、保持枠２０と一体である３
個のボール２１ａ〜２１ｃとクランプユニット１１ａ〜
１１ｃによってマスクＥをクランプして固定する。マス
クをマスクホルダに保持させて搬入し、これを介してマ
スクステージに固定する場合に比べて搬送重量が大幅に
低減され、搬送装置やマスクステージの機構も簡略化か
つ小形化できる。
置を簡単化かつ小形化する。 【解決手段】 露光光に対してキネマティックマウント
方式のマスクＥを位置決めするマスクステージは、ステ
ージベース１０と保持枠２０を有し、両者の間の空間部
にマスクＥを水平に搬入し、保持枠２０と一体である３
個のボール２１ａ〜２１ｃとクランプユニット１１ａ〜
１１ｃによってマスクＥをクランプして固定する。マス
クをマスクホルダに保持させて搬入し、これを介してマ
スクステージに固定する場合に比べて搬送重量が大幅に
低減され、搬送装置やマスクステージの機構も簡略化か
つ小形化できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置や
ＥＢ描画装置あるいはパターン寸法測定機等において磁
石や真空チャック等を用いることなくマスク等原版を安
定保持できる原版保持装置およびこれを用いた露光装置
に関するものである。
ＥＢ描画装置あるいはパターン寸法測定機等において磁
石や真空チャック等を用いることなくマスク等原版を安
定保持できる原版保持装置およびこれを用いた露光装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線等を露光光とする微細化の進んだ半
導体露光装置のマスク等原版は、一般的に、図６の
（ａ）〜（ｆ）に示す工程によって製作される。すなわ
ち、図６の（ａ）に示すようにシリコン等からなる基板
Ｓの少なくとも片面にＳｉＣ膜Ｍを蒸着したうえで、図
６の（ｂ）に示すようにバックエッチによって基板Ｓの
中央部分を除去してＳｉＣ膜Ｍで覆われた開口部Ｒを形
成したのち、図６の（ｃ）に示すように基板Ｓの底面を
マスクフレームＨに接着し、図６の（ｄ）に示すように
開口部ＲのＳｉＣ膜（メンブレン）Ｍ上に公知のＥＢ描
画法やメッキ等によって重金属のパターンＰを形成し、
図６の（ｅ）に示すようにマスクフレームＨの底面に磁
性リングＧを装着する。このようにして製作されたマス
クを半導体露光装置のマスクステージＴに固定するとき
は、図６の（ｆ）に示すようにマスクステージＴの永久
磁石または電磁石ＷにマスクフレームＨの底面の磁性リ
ングＧを吸着させる。
導体露光装置のマスク等原版は、一般的に、図６の
（ａ）〜（ｆ）に示す工程によって製作される。すなわ
ち、図６の（ａ）に示すようにシリコン等からなる基板
Ｓの少なくとも片面にＳｉＣ膜Ｍを蒸着したうえで、図
６の（ｂ）に示すようにバックエッチによって基板Ｓの
中央部分を除去してＳｉＣ膜Ｍで覆われた開口部Ｒを形
成したのち、図６の（ｃ）に示すように基板Ｓの底面を
マスクフレームＨに接着し、図６の（ｄ）に示すように
開口部ＲのＳｉＣ膜（メンブレン）Ｍ上に公知のＥＢ描
画法やメッキ等によって重金属のパターンＰを形成し、
図６の（ｅ）に示すようにマスクフレームＨの底面に磁
性リングＧを装着する。このようにして製作されたマス
クを半導体露光装置のマスクステージＴに固定するとき
は、図６の（ｆ）に示すようにマスクステージＴの永久
磁石または電磁石ＷにマスクフレームＨの底面の磁性リ
ングＧを吸着させる。
【０００３】なお、マスクのパターンＰを形成する工程
あるいはマスクの製作を完了した後にパターン寸法を測
定する工程等においては、電子ビームを使用するために
永久磁石や電磁石を用いたマスクチャックを使用するこ
とができず、公知の真空吸着装置やバネクランプ等を用
いてマスクを固定する。
あるいはマスクの製作を完了した後にパターン寸法を測
定する工程等においては、電子ビームを使用するために
永久磁石や電磁石を用いたマスクチャックを使用するこ
とができず、公知の真空吸着装置やバネクランプ等を用
いてマスクを固定する。
【０００４】ところが、このように真空吸着装置やバネ
クランプを用いてマスクを固定すると、磁石または電磁
石によって露光装置のマスクステージに固定した場合と
異なる歪が発生してマスクのパターンが大きく変形す
る。
クランプを用いてマスクを固定すると、磁石または電磁
石によって露光装置のマスクステージに固定した場合と
異なる歪が発生してマスクのパターンが大きく変形す
る。
【０００５】そこで、この問題を解決するために、図５
に示すように、マスクをこれに垂直に作用する３個のク
ランプ力Ｆａ〜Ｆｃによってクランプするいわゆるキネ
マティックマスクが開発された。
に示すように、マスクをこれに垂直に作用する３個のク
ランプ力Ｆａ〜Ｆｃによってクランプするいわゆるキネ
マティックマスクが開発された。
【０００６】これは、マスク１００のマスクフレーム１
０２の裏面（または表面）に３個のボールＢａ〜Ｂｃを
当てがい、ボールＢａ〜Ｂｃに向かってそれぞれ図示し
ないクランプ部材を接近させて、各ボールＢａ〜Ｂｃと
クランプ部材の間にマスク１００のマスクフレーム１０
２をクランプするもので、クランプ力Ｆａ〜Ｆｃによっ
てそれぞれマスク１００の垂直方向（Ｚ軸方向）の位置
を固定するとともに、第１のボールＢｂをマスクフレー
ム１０２の裏面に設けられた円錐溝１０２ａに係合させ
ることでこの部分のみをＺ軸に垂直なＸＹ平面内で固定
し、第２のボールＢａを円錐溝１０２ａに対して放射状
にのびるＶ形溝１０２ｂに摺動自在に係合させることで
その回転位置を固定する。なお、第３のボールＢｃはマ
スクフレーム１０２の裏面の平坦部に当接されて任意の
方向に転動自在であり、マスク１００を不必要に拘束す
ることのないように構成される。
０２の裏面（または表面）に３個のボールＢａ〜Ｂｃを
当てがい、ボールＢａ〜Ｂｃに向かってそれぞれ図示し
ないクランプ部材を接近させて、各ボールＢａ〜Ｂｃと
クランプ部材の間にマスク１００のマスクフレーム１０
２をクランプするもので、クランプ力Ｆａ〜Ｆｃによっ
てそれぞれマスク１００の垂直方向（Ｚ軸方向）の位置
を固定するとともに、第１のボールＢｂをマスクフレー
ム１０２の裏面に設けられた円錐溝１０２ａに係合させ
ることでこの部分のみをＺ軸に垂直なＸＹ平面内で固定
し、第２のボールＢａを円錐溝１０２ａに対して放射状
にのびるＶ形溝１０２ｂに摺動自在に係合させることで
その回転位置を固定する。なお、第３のボールＢｃはマ
スクフレーム１０２の裏面の平坦部に当接されて任意の
方向に転動自在であり、マスク１００を不必要に拘束す
ることのないように構成される。
【０００７】すなわち、３個のボールＢａ〜Ｂｃによっ
てそれぞれ作用するクランプ力Ｆａ〜Ｆｃのみを利用し
て、マスク１００のＸ，Ｙ，Ｚ軸と、ωＸ，ωＹ，ωＺ
軸の合計６軸方向の位置決めを行なうように構成されて
おり、このようなキネマティックマスクは、マスクに不
必要な拘束力を与えることなく安定保持できるうえに、
磁力や真空吸着力を必要としないために露光装置、ＥＢ
描画装置およびパータン検査機等のマスク保持装置をす
べて同一構成にして、マスクの移し変えによる転写パタ
ーンの変形を防ぐことができる。従って、高精度のＸ線
露光装置等に好適である。
てそれぞれ作用するクランプ力Ｆａ〜Ｆｃのみを利用し
て、マスク１００のＸ，Ｙ，Ｚ軸と、ωＸ，ωＹ，ωＺ
軸の合計６軸方向の位置決めを行なうように構成されて
おり、このようなキネマティックマスクは、マスクに不
必要な拘束力を与えることなく安定保持できるうえに、
磁力や真空吸着力を必要としないために露光装置、ＥＢ
描画装置およびパータン検査機等のマスク保持装置をす
べて同一構成にして、マスクの移し変えによる転写パタ
ーンの変形を防ぐことができる。従って、高精度のＸ線
露光装置等に好適である。
【０００８】図４は、露光装置等においてキネマティッ
クマスクを保持するマスクステージ２１０を示すもの
で、前記マスク１００と同様のマスク２００はクランプ
部材２２１ａ〜２２１ｃとボール２２２を有するマスク
ホルダ２２０に保持されてマスクステージ２１０に搬送
され、マスクホルダ２２０をマスクステージ２１０上の
保持部材２１１に固定することでマスク２００の位置決
めが行なわれる。マスク２００はマスクフレーム２００
の表面側に円錐溝２０２ａとＶ形溝２０２ｂを有し、マ
スクホルダ２２０は、マスクフレーム２２０の円錐溝２
０２ａとＶ形溝２０２ｂと所定の平坦面をそれぞれ、マ
スクホルダ２２０から下向きに突出する３個のボール２
２２とクランプ部材２２１ａ〜２２１ｃの間に挟持す
る。
クマスクを保持するマスクステージ２１０を示すもの
で、前記マスク１００と同様のマスク２００はクランプ
部材２２１ａ〜２２１ｃとボール２２２を有するマスク
ホルダ２２０に保持されてマスクステージ２１０に搬送
され、マスクホルダ２２０をマスクステージ２１０上の
保持部材２１１に固定することでマスク２００の位置決
めが行なわれる。マスク２００はマスクフレーム２００
の表面側に円錐溝２０２ａとＶ形溝２０２ｂを有し、マ
スクホルダ２２０は、マスクフレーム２２０の円錐溝２
０２ａとＶ形溝２０２ｂと所定の平坦面をそれぞれ、マ
スクホルダ２２０から下向きに突出する３個のボール２
２２とクランプ部材２２１ａ〜２２１ｃの間に挟持す
る。
【０００９】このように、キネマティックマウント方式
によってマスク２００を保持するマスクホルダ２２０を
搬送ハンド等によって把持してマスクステージ２１０に
搬送し、マスクホルダ２２０をマスクステージ２１０に
固定することで、露光光学系等に対するマスク２００の
位置決めが行なわれる。
によってマスク２００を保持するマスクホルダ２２０を
搬送ハンド等によって把持してマスクステージ２１０に
搬送し、マスクホルダ２２０をマスクステージ２１０に
固定することで、露光光学系等に対するマスク２００の
位置決めが行なわれる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、マスクをキネマティッ
クマウント方式によってマスクホルダに保持させて搬送
し、マスクホルダを介してマスクステージ上にマスクを
固定するものであるため、露光装置等にマスクを供給す
る工程が頻雑である。加えて、マスクホルダにはマスク
を安定保持するための高い剛性が要求され、従って一般
的にマスクホルダが高重量となり、その結果、マスクを
搬送するときの搬送重量が増大し、搬送装置も大掛かり
になるという未解決の課題があった。
の技術によれば、前述のように、マスクをキネマティッ
クマウント方式によってマスクホルダに保持させて搬送
し、マスクホルダを介してマスクステージ上にマスクを
固定するものであるため、露光装置等にマスクを供給す
る工程が頻雑である。加えて、マスクホルダにはマスク
を安定保持するための高い剛性が要求され、従って一般
的にマスクホルダが高重量となり、その結果、マスクを
搬送するときの搬送重量が増大し、搬送装置も大掛かり
になるという未解決の課題があった。
【００１１】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、高重量のマスクホ
ルダ等を必要とすることなく、キネマティックマウント
方式等によって直接マスク等原版を安定保持できる原版
保持装置およびこれを用いた露光装置を提供することを
目的とするものである。
の課題に鑑みてなされたものであり、高重量のマスクホ
ルダ等を必要とすることなく、キネマティックマウント
方式等によって直接マスク等原版を安定保持できる原版
保持装置およびこれを用いた露光装置を提供することを
目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の原版保持装置は、ステージベースと、該ス
テージベースとの間に原版収容空間を形成する筐体と、
該筐体の前記原版収容空間に搬入された原版をこれに垂
直なクランプ力によってクランプするクランプ手段を有
し、前記筐体が、前記原版を前記原版収容空間の側傍か
らこれに搬入するための開口部を有することを特徴とす
る。
め、本発明の原版保持装置は、ステージベースと、該ス
テージベースとの間に原版収容空間を形成する筐体と、
該筐体の前記原版収容空間に搬入された原版をこれに垂
直なクランプ力によってクランプするクランプ手段を有
し、前記筐体が、前記原版を前記原版収容空間の側傍か
らこれに搬入するための開口部を有することを特徴とす
る。
【００１３】筐体が、原版を原版収容空間から搬出する
ための第２の開口部を有するとよい。
ための第２の開口部を有するとよい。
【００１４】原版がキネマティックマウント方式のマス
クであり、クランプ手段が、ステージベースと筐体にそ
れぞれ配設された３個のクランプユニットと３個のボー
ルを有するとよい。
クであり、クランプ手段が、ステージベースと筐体にそ
れぞれ配設された３個のクランプユニットと３個のボー
ルを有するとよい。
【００１５】
【作用】ステージベースと筐体の間に形成された原版収
容空間にマスク等の原版を直接搬入してクランプするも
のであるため、高重量のマスクホルダ等に原版を収容し
た状態でステージベース等に搬送する場合に比べて搬送
重量が低減され、その結果、搬送装置等を大幅に簡単化
および小形化できる。
容空間にマスク等の原版を直接搬入してクランプするも
のであるため、高重量のマスクホルダ等に原版を収容し
た状態でステージベース等に搬送する場合に比べて搬送
重量が低減され、その結果、搬送装置等を大幅に簡単化
および小形化できる。
【００１６】また、マスクホルダ等に原版を収容しこれ
をクランプする動作が不要となるため、原版の交換作業
等が簡略化され、露光装置等のスループットを大きく向
上できる。
をクランプする動作が不要となるため、原版の交換作業
等が簡略化され、露光装置等のスループットを大きく向
上できる。
【００１７】さらに、マスクホルダ等を介在させる場合
に比べて、原版を保持した状態の原版保持装置の機構が
大幅に簡略化され、その高さ方向の寸法も縮小できる。
これによって、露光装置全体の機構の簡単化と小形化に
大きく貢献できる。
に比べて、原版を保持した状態の原版保持装置の機構が
大幅に簡略化され、その高さ方向の寸法も縮小できる。
これによって、露光装置全体の機構の簡単化と小形化に
大きく貢献できる。
【００１８】筐体が、原版を原版収容空間から搬出する
ための第２の開口部を有すれば、第２の開口部から使用
済みの原版を搬出するとほぼ同時に第１の開口部から新
たな原版を搬入できるため、原版の交換時間を大幅に短
縮できる。これによって、露光装置等のスループットを
大幅に向上できる。
ための第２の開口部を有すれば、第２の開口部から使用
済みの原版を搬出するとほぼ同時に第１の開口部から新
たな原版を搬入できるため、原版の交換時間を大幅に短
縮できる。これによって、露光装置等のスループットを
大幅に向上できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２０】図１は第１実施例による原版保持装置を示
すもので、これは、露光手段である光源０から発生され
るＸ線等の露光光によって基板であるウエハを露光する
露光装置のマスクステージであり、クランプ手段である
３個のクランプユニット１１ａ〜１１ｃ（クランプユニ
ット１１ｂは図２に示す）を備えたステージベース１０
と、各クランプユニット１１ａ〜１１ｃの図示真上に位
置するボール（球状突起）２１ａ〜２１ｃを備えた筐体
である保持枠２０を有する。
すもので、これは、露光手段である光源０から発生され
るＸ線等の露光光によって基板であるウエハを露光する
露光装置のマスクステージであり、クランプ手段である
３個のクランプユニット１１ａ〜１１ｃ（クランプユニ
ット１１ｂは図２に示す）を備えたステージベース１０
と、各クランプユニット１１ａ〜１１ｃの図示真上に位
置するボール（球状突起）２１ａ〜２１ｃを備えた筐体
である保持枠２０を有する。
【００２１】ステージベース１０と保持枠２０の間には
キネマティックマウント方式の原版であるマスクＥを収
容するのに充分な原版収容空間である空間部が形成さ
れ、また、保持枠２０の一側面には前記空間部に対して
マスクＥを矢印Ａで示す方向に搬入し、これと逆の方向
に搬出するための開口部である開口２２が形成されてい
る。
キネマティックマウント方式の原版であるマスクＥを収
容するのに充分な原版収容空間である空間部が形成さ
れ、また、保持枠２０の一側面には前記空間部に対して
マスクＥを矢印Ａで示す方向に搬入し、これと逆の方向
に搬出するための開口部である開口２２が形成されてい
る。
【００２２】マスクＥは、中央の開口部に図示しないパ
ターンを有するメンブレン１ａを支持するＳｉ基板１
と、その外周部を保持するマスクフレーム２を有し、マ
スクフレーム２の図示上面には、前記マスクホルダ２１
ａ〜２１ｃをそれぞれ当接自在である円錐溝２ａとＶ形
溝２ｂと平坦面２ｃが設けられている。
ターンを有するメンブレン１ａを支持するＳｉ基板１
と、その外周部を保持するマスクフレーム２を有し、マ
スクフレーム２の図示上面には、前記マスクホルダ２１
ａ〜２１ｃをそれぞれ当接自在である円錐溝２ａとＶ形
溝２ｂと平坦面２ｃが設けられている。
【００２３】各クランプユニット１１ａ〜１１ｃは、前
述のようにステージベース１０に支持され、ステージベ
ース１０と保持枠２０の間の空間部に突出するクランプ
部材１２と、これを上下動させるための駆動部（エアー
シリンダ）１３を備えており、クランプ部材１２を保持
枠２０の各ボール２１ａ〜２１ｃに向かって進退させる
ことで、マスクＥのクランプ動作およびクランプ解除を
行なうように構成されている。
述のようにステージベース１０に支持され、ステージベ
ース１０と保持枠２０の間の空間部に突出するクランプ
部材１２と、これを上下動させるための駆動部（エアー
シリンダ）１３を備えており、クランプ部材１２を保持
枠２０の各ボール２１ａ〜２１ｃに向かって進退させる
ことで、マスクＥのクランプ動作およびクランプ解除を
行なうように構成されている。
【００２４】マスクステージに対するマスクＥの搬入お
よび装着（位置決め）は以下のように行なわれる。図２
に示すように、マスクＥのマスクフレーム２を搬送ハン
ドＮによって把持し、保持枠２０の開口２２を経てステ
ージベース１０と保持枠２０の間の空間部へ挿入し、マ
スクＥのマスクフレーム２の円錐溝２ａとＶ形溝２ｂと
平坦面２ｃをそれぞれボール２１ａ〜２１ｃの直下に位
置させる。続いて、各クランプユニット１１ａ〜１１ｃ
の駆動部１３を駆動してクランプ部材１２を上昇させ、
各ボール２１ａ〜２１ｃとの間に垂直に作用するクラン
プ力によってマスクフレーム２をクランプする。このよ
うにして、マスクＥのマスクフレーム２を直接マスクス
テージに固定する。 また、マスクＥをマスクステージ
から取り出す作業は、各クランプユニット１１ａ〜１１
ｃの駆動部１３を逆駆動してクランプユニット１２を下
降させたうえで、矢印Ａと逆向きにマスクＥを搬出する
ことによって行なわれる。
よび装着（位置決め）は以下のように行なわれる。図２
に示すように、マスクＥのマスクフレーム２を搬送ハン
ドＮによって把持し、保持枠２０の開口２２を経てステ
ージベース１０と保持枠２０の間の空間部へ挿入し、マ
スクＥのマスクフレーム２の円錐溝２ａとＶ形溝２ｂと
平坦面２ｃをそれぞれボール２１ａ〜２１ｃの直下に位
置させる。続いて、各クランプユニット１１ａ〜１１ｃ
の駆動部１３を駆動してクランプ部材１２を上昇させ、
各ボール２１ａ〜２１ｃとの間に垂直に作用するクラン
プ力によってマスクフレーム２をクランプする。このよ
うにして、マスクＥのマスクフレーム２を直接マスクス
テージに固定する。 また、マスクＥをマスクステージ
から取り出す作業は、各クランプユニット１１ａ〜１１
ｃの駆動部１３を逆駆動してクランプユニット１２を下
降させたうえで、矢印Ａと逆向きにマスクＥを搬出する
ことによって行なわれる。
【００２５】本実施例によれば、マスクのマスクフレー
ムを直接搬送ハンド等によって把持してマスクステージ
に搬送し、そのままマスクステージの保持枠の開口から
ステージベースと保持枠の間にスライドさせたうえで各
クランプユニットを駆動し、これらによってクランプす
るものであり、従来例のようなマスクホルダを必要とし
ない。従って、マスクをマスクホルダに保持させる作業
を省略することでマスクステージに供給する作業が簡単
化されるうえに、マスクを高重量のマスクホルダととも
に搬送する場合に比べて搬送重量を低減し、搬送装置を
大幅に簡単化かつ小形化できる。
ムを直接搬送ハンド等によって把持してマスクステージ
に搬送し、そのままマスクステージの保持枠の開口から
ステージベースと保持枠の間にスライドさせたうえで各
クランプユニットを駆動し、これらによってクランプす
るものであり、従来例のようなマスクホルダを必要とし
ない。従って、マスクをマスクホルダに保持させる作業
を省略することでマスクステージに供給する作業が簡単
化されるうえに、マスクを高重量のマスクホルダととも
に搬送する場合に比べて搬送重量を低減し、搬送装置を
大幅に簡単化かつ小形化できる。
【００２６】さらに、マスクホルダを介してマスクステ
ージにマスクを装着する場合に比べて、マスクステージ
に装着したときのマスクの高さを低減できるとともにマ
スクの落下による破損を防止するという利点を有し、ま
た、マスクの裏面側にＶ形溝や円錐溝を設けて各クラン
プユニットを保持枠側に配置すれば、より一層マスクの
高さを低減できる。
ージにマスクを装着する場合に比べて、マスクステージ
に装着したときのマスクの高さを低減できるとともにマ
スクの落下による破損を防止するという利点を有し、ま
た、マスクの裏面側にＶ形溝や円錐溝を設けて各クラン
プユニットを保持枠側に配置すれば、より一層マスクの
高さを低減できる。
【００２７】このような原版保持装置をマスクステージ
に用いることで、Ｘ線を露光光とする露光装置等の簡単
化および小形化に大きく貢献できる。
に用いることで、Ｘ線を露光光とする露光装置等の簡単
化および小形化に大きく貢献できる。
【００２８】なお、各クランプユニットの駆動部にはエ
アーシリンダに限らず、他の復動型のアクチュエータを
用いることもできる。
アーシリンダに限らず、他の復動型のアクチュエータを
用いることもできる。
【００２９】図３は第２実施例による原版保持装置であ
るマスクステージを示すもので、これは、第１実施例の
保持枠２０と同様の保持枠３０の第１の開口３２ａの反
対側にマスクＥを保持枠３０の内部から搬出するための
第２の開口部である開口３２ｂを設けたものである。マ
スクＥ、ステージベース１０、クランプユニット１１ａ
〜１１ｃ、ボール２１ａ〜２１ｃ等については第１実施
例と同様であるから同一符号で表わし、説明は省略す
る。矢印Ａ1 で示すように第１の開口３２ａからステー
ジベース１０と保持枠３０の間の空間部にマスクＥを搬
入し、矢印Ａ2 で示すように第２の開口３２ｂから搬出
する。
るマスクステージを示すもので、これは、第１実施例の
保持枠２０と同様の保持枠３０の第１の開口３２ａの反
対側にマスクＥを保持枠３０の内部から搬出するための
第２の開口部である開口３２ｂを設けたものである。マ
スクＥ、ステージベース１０、クランプユニット１１ａ
〜１１ｃ、ボール２１ａ〜２１ｃ等については第１実施
例と同様であるから同一符号で表わし、説明は省略す
る。矢印Ａ1 で示すように第１の開口３２ａからステー
ジベース１０と保持枠３０の間の空間部にマスクＥを搬
入し、矢印Ａ2 で示すように第２の開口３２ｂから搬出
する。
【００３０】マスクの搬入と搬出を同方向にほぼ同時に
行なうことができるため、マスクの交換作業を高速化で
きるという利点が付加される。その他の点は第１実施例
と同様である。
行なうことができるため、マスクの交換作業を高速化で
きるという利点が付加される。その他の点は第１実施例
と同様である。
【００３１】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００３２】高重量のマスクホルダ等を介在させること
なく、キネマティックマウント方式等によって直接マス
ク等原版を露光装置のマスクステージ等に安定して固定
できる。
なく、キネマティックマウント方式等によって直接マス
ク等原版を露光装置のマスクステージ等に安定して固定
できる。
【００３３】これによって、露光装置のマスク搬送装置
等を大幅に簡単化かつ小形化し、また、マスク交換作業
等を簡略化してスループットを向上できる。加えて、マ
スク等の搬入、搬出作業をほぼ同時に行なうことで交換
時間を短縮することも容易である。さらに、マスク等を
保持した状態のマスクステージ等の機構が簡略化され、
その高さ方向の寸法も大幅に縮小してマスクの落下によ
る破損を防ぐことができる。その結果、露光装置全体の
機構の簡単化と小形化に大きく貢献できる。
等を大幅に簡単化かつ小形化し、また、マスク交換作業
等を簡略化してスループットを向上できる。加えて、マ
スク等の搬入、搬出作業をほぼ同時に行なうことで交換
時間を短縮することも容易である。さらに、マスク等を
保持した状態のマスクステージ等の機構が簡略化され、
その高さ方向の寸法も大幅に縮小してマスクの落下によ
る破損を防ぐことができる。その結果、露光装置全体の
機構の簡単化と小形化に大きく貢献できる。
【図１】第１実施例によるマスクステージを一部分破断
した状態でマスクとともに示す一部破断斜視図である。
した状態でマスクとともに示す一部破断斜視図である。
【図２】図１の装置にマスクを装着した状態を示す一部
破断斜視図である。
破断斜視図である。
【図３】第２実施例によるマスクステージとマスクを示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図４】従来例を説明する説明図である。
【図５】キネマティックマウント方式のマスクを説明す
る図である。
る図である。
【図６】マスクの製造工程を説明する図である。
１ Ｓｉ基板 ２ マスクフレーム １０ ステージベース １１ａ〜１１ｃ クランプユニット ２０，３０ 保持枠 ２１ａ〜２１ｃ ボール ２２，３２ａ，３２ｂ 開口
Claims (5)
- 【請求項１】 ステージベースと、該ステージベースと
の間に原版収容空間を形成する筐体と、該筐体の前記原
版収容空間に搬入された原版をこれに垂直なクランプ力
によってクランプするクランプ手段を有し、前記筐体
が、前記原版を前記原版収容空間の側傍からこれに搬入
するための開口部を有することを特徴とする原版保持装
置。 - 【請求項２】 筐体が、原版を原版収容空間から搬出す
るための第２の開口部を有することを特徴とする請求項
１記載の原版保持装置。 - 【請求項３】 原版がキネマティックマウント方式のマ
スクであり、クランプ手段が、ステージベースと筐体に
それぞれ配設された３個のクランプユニットと３個のボ
ールを有することを特徴とする請求項１または２記載の
原版保持装置。 - 【請求項４】 請求項１ないし３いずれか１項記載の原
版保持装置と、これに保持された原版を通して照射され
る露光光によって基板を露光する露光手段を有する露光
装置。 - 【請求項５】 露光光がＸ線であることを特徴とする請
求項４記載の露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4424696A JP3243168B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 原版保持装置およびこれを用いた露光装置 |
| US08/792,526 US6005910A (en) | 1996-02-06 | 1997-01-31 | Holding mechanism, and exposure apparatus using the mechanism |
| DE69705975T DE69705975T2 (de) | 1996-02-06 | 1997-02-05 | Haltemechanismus und Belichtungsapparat unter Verwendung des Mechanismus |
| EP97300731A EP0789280B1 (en) | 1996-02-06 | 1997-02-05 | Holding mechanism, and exposure apparatus using the mechanism |
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|---|---|---|---|
| JP4424696A JP3243168B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 原版保持装置およびこれを用いた露光装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09213626A true JPH09213626A (ja) | 1997-08-15 |
| JP3243168B2 JP3243168B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=12686187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4424696A Expired - Fee Related JP3243168B2 (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 原版保持装置およびこれを用いた露光装置 |
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| EP (1) | EP0789280B1 (ja) |
| JP (1) | JP3243168B2 (ja) |
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| JP2006237480A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JPWO2008007521A1 (ja) * | 2006-07-11 | 2009-12-10 | 株式会社ニコン | レチクル保持部材、レチクル・ステージ、露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法 |
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| JP5337028B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2013-11-06 | ノルディコ テクニカル サーヴィシズ リミテッド | 装置 |
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| GB0703044D0 (en) * | 2007-02-16 | 2007-03-28 | Nordiko Technical Services Ltd | Apparatus |
| DE102014109046A1 (de) * | 2014-06-27 | 2015-12-31 | Von Ardenne Gmbh | Transferlithographiemaske und Transferlithographieanlage |
| US10256132B2 (en) | 2016-04-28 | 2019-04-09 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Reticle processing system |
| TW202134774A (zh) | 2019-12-05 | 2021-09-16 | 美商應用材料股份有限公司 | 光標處理系統 |
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| US4979195A (en) * | 1988-09-22 | 1990-12-18 | Fujitsu Limited | Vertical stepper |
| JP2770960B2 (ja) * | 1988-10-06 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ−ｘ線露光装置 |
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1996
- 1996-02-06 JP JP4424696A patent/JP3243168B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-31 US US08/792,526 patent/US6005910A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-02-05 DE DE69705975T patent/DE69705975T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-02-05 EP EP97300731A patent/EP0789280B1/en not_active Expired - Lifetime
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| DE69705975T2 (de) | 2002-04-04 |
| JP3243168B2 (ja) | 2002-01-07 |
| EP0789280A2 (en) | 1997-08-13 |
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| EP0789280A3 (en) | 1998-03-25 |
| EP0789280B1 (en) | 2001-08-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |