JPS63261850A - 縦型ｘ−ｙステ−ジ - Google Patents
縦型ｘ−ｙステ−ジInfo
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- JPS63261850A JPS63261850A JP62097725A JP9772587A JPS63261850A JP S63261850 A JPS63261850 A JP S63261850A JP 62097725 A JP62097725 A JP 62097725A JP 9772587 A JP9772587 A JP 9772587A JP S63261850 A JPS63261850 A JP S63261850A
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- Japan
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- stage
- wafer
- wafers
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- vertical
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、ＳＯＲ光によって露光する露光装置のＸ−Ｙ
ステージであって、該Ｘ−Ｙステージの直交する２つの
自由度の内、一方の軸の案内機構、或いはアクチュエー
タを共用して、各々独立に移動可能な複数のステージ可
動部を有する構成により、ウェハのスルーブツトの向上
と、ＳＯＲ光の有効利用を図ったものである。
ステージであって、該Ｘ−Ｙステージの直交する２つの
自由度の内、一方の軸の案内機構、或いはアクチュエー
タを共用して、各々独立に移動可能な複数のステージ可
動部を有する構成により、ウェハのスルーブツトの向上
と、ＳＯＲ光の有効利用を図ったものである。
本発明は、ｘＦｒＭ露先におけろウェハを搭載する縦型
Ｘ−Ｙステージに関する。
Ｘ−Ｙステージに関する。
最近、ＬＳＩの高集積度化に伴ない、Ｘ線露光が注目さ
れている。特にシンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）によ
って、マスク上に描かれたＬＳＩ回路パターンを、ウェ
ハ上に露光転写する方法は、ディープサブミクロン領域
における最も有望なりゾグラフィ技術として期待されて
いる。
れている。特にシンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）によ
って、マスク上に描かれたＬＳＩ回路パターンを、ウェ
ハ上に露光転写する方法は、ディープサブミクロン領域
における最も有望なりゾグラフィ技術として期待されて
いる。
このＳＯＲ光によるＸ線露光は、ＳＯＲ光源自身が他の
光源に比べ２桁近（強い光を放射するので、露光に要す
る時間を短くすることができると云う特徴がある。 ・ このＳＯＲ光を用い、より微細なパターンをウェハ上に
より速く露光転写してウェハのスループットを向上させ
るためには、直接露光以外の処理時間を短縮する必要が
ある。その為には、ウエハの交換に要する時間を短縮す
る方法が要望されている。
光源に比べ２桁近（強い光を放射するので、露光に要す
る時間を短くすることができると云う特徴がある。 ・ このＳＯＲ光を用い、より微細なパターンをウェハ上に
より速く露光転写してウェハのスループットを向上させ
るためには、直接露光以外の処理時間を短縮する必要が
ある。その為には、ウエハの交換に要する時間を短縮す
る方法が要望されている。
Ｘ−Ｙステージは、ＳＯＲ光がその発生原理上水平に放
射されるので、鉛直平坦面内でステ・７プアンドリピ一
ト動作が可能な縦型ステージでなければならない。
射されるので、鉛直平坦面内でステ・７プアンドリピ一
ト動作が可能な縦型ステージでなければならない。
第３図は従来の縦型Ｘ−Ｙステージを説明する図である
。
。
第３図において、本体１に２個のＸ軸案内機構２が対向
して配置され、該ＸＬｌｉｌｈ案内機構２にガイドされ
て水平方向に運動するＸ軸ステージ４が設けられ、その
両端に該Ｘ軸ステージ４を駆動するＸ軸駆動用リニアＤ
Ｃモータ３が設けられている。
して配置され、該ＸＬｌｉｌｈ案内機構２にガイドされ
て水平方向に運動するＸ軸ステージ４が設けられ、その
両端に該Ｘ軸ステージ４を駆動するＸ軸駆動用リニアＤ
Ｃモータ３が設けられている。
また、水平方向に運動するＸ軸ステージ４の上で、鉛直
方向に運動するＹ軸ステージ５が搭載され、該Ｙ軸ステ
ージ５はＹ軸案内機構６にガイドされ、両側にあるＹ軸
駆動用リニアＤＣモータ７により移動される。なお、Ｙ
軸ステージ５上には、ウェハを取付けるウェハチャック
８がある。さらに本体１下部には、ウェハ位置相合わせ
ステージ９と、該ウェハ位置相合わせステージ９へ未処
理ウェハを搬送するためのウェハ搬送用ア゛−ム１０を
備えている。下部にある未処理ウェハ入れ１２より未処
理ウェハ１３を、ウェハ搬送用アーム１０によりウェハ
位置相合わせステージ９に運んで、ウェハ位置を粗合わ
せした後、Ｙ軸ステージ５上のウェハチャック８が該ウ
ェハをチャックし、所定位置で露光される。なお、露光
されたウェハ１４は、ウェハ搬送用アーム１０によって
露光法ウェハ入れ１５に収容される構成である。
方向に運動するＹ軸ステージ５が搭載され、該Ｙ軸ステ
ージ５はＹ軸案内機構６にガイドされ、両側にあるＹ軸
駆動用リニアＤＣモータ７により移動される。なお、Ｙ
軸ステージ５上には、ウェハを取付けるウェハチャック
８がある。さらに本体１下部には、ウェハ位置相合わせ
ステージ９と、該ウェハ位置相合わせステージ９へ未処
理ウェハを搬送するためのウェハ搬送用ア゛−ム１０を
備えている。下部にある未処理ウェハ入れ１２より未処
理ウェハ１３を、ウェハ搬送用アーム１０によりウェハ
位置相合わせステージ９に運んで、ウェハ位置を粗合わ
せした後、Ｙ軸ステージ５上のウェハチャック８が該ウ
ェハをチャックし、所定位置で露光される。なお、露光
されたウェハ１４は、ウェハ搬送用アーム１０によって
露光法ウェハ入れ１５に収容される構成である。
（発明が解決しようとする問題点）
第３図の従来の縦型Ｘ−ＹステージはＳＯＲ光によるＸ
線露光で用いられ、ＳＯＲ光によるＸ線露光は、ＳＯＲ
光源自身が他の光源に比べ２桁近い強い光であり、露光
に要する時間が短くできる。
線露光で用いられ、ＳＯＲ光によるＸ線露光は、ＳＯＲ
光源自身が他の光源に比べ２桁近い強い光であり、露光
に要する時間が短くできる。
しかし、ウェハの処理時間、例えばウェハ搬送用アーム
１０により露光済みウェハを、露光法ウェハ入れ１５に
入れたり、或いは未処理ウェハを未処理ウェハ入れ１２
より取出して、ウェハ位置相合わせステージ９へ運ぶ等
の時間が短縮されない（これら露光以外の処理時間が露
光時間とほぼ同じである）。その為、さらにスループッ
トを向上させようとすると、ウェハの交換に要する時間
を短くしなければならないと云う問題点があった。
１０により露光済みウェハを、露光法ウェハ入れ１５に
入れたり、或いは未処理ウェハを未処理ウェハ入れ１２
より取出して、ウェハ位置相合わせステージ９へ運ぶ等
の時間が短縮されない（これら露光以外の処理時間が露
光時間とほぼ同じである）。その為、さらにスループッ
トを向上させようとすると、ウェハの交換に要する時間
を短くしなければならないと云う問題点があった。
ｎＪ記問題点は、第１図のｘ−ｙステージの模式図及び
第２図の実施例に示されるように、Ｘ−Ｙステージの直
交する二つの自由度の内、一方の自由度の直動案内機構
２、或いはそのアクチュエータ３、或いはその両方の全
部或いは一部を共用して、各々独立に移動可能な複数の
ステージ可動部（Ｘ軸）Ａ、Ｂを有する本発明の縦型Ｘ
−Ｙステージによって解決される。
第２図の実施例に示されるように、Ｘ−Ｙステージの直
交する二つの自由度の内、一方の自由度の直動案内機構
２、或いはそのアクチュエータ３、或いはその両方の全
部或いは一部を共用して、各々独立に移動可能な複数の
ステージ可動部（Ｘ軸）Ａ、Ｂを有する本発明の縦型Ｘ
−Ｙステージによって解決される。
即ち、本発明の縦型Ｘ−Ｙステージは、一方の軸の案内
機構２を共用して、独立に動く複数台のステージ可動部
Ａ、Ｂを有する。従って、ウェハを露光する場合、一方
のステージ可動部Ａが、保持しているウェハの交換のた
め露光位置より退避した時、もう一方のステージ可動部
Ｂが露光位置に入り、ＳＯＲ光でステージ可動部Ｂ上の
ウェハにマスクのＬＳＩ回路パターンを焼き付ける作業
を行なう。例えば、ステージＢのウェハの露光中には、
ステージＡはウェハの交換、ウェハの位置の粗合わせ等
を行なっている。
機構２を共用して、独立に動く複数台のステージ可動部
Ａ、Ｂを有する。従って、ウェハを露光する場合、一方
のステージ可動部Ａが、保持しているウェハの交換のた
め露光位置より退避した時、もう一方のステージ可動部
Ｂが露光位置に入り、ＳＯＲ光でステージ可動部Ｂ上の
ウェハにマスクのＬＳＩ回路パターンを焼き付ける作業
を行なう。例えば、ステージＢのウェハの露光中には、
ステージＡはウェハの交換、ウェハの位置の粗合わせ等
を行なっている。
即ち、２台のステージＡ、Ｂを用いることにより、連続
出力しているＳＯＲ光を無駄なく使用できるとともに、
ウェハの交換に要する時間をなくすことができるので、
ウェハのスループットを向上させることができる。
出力しているＳＯＲ光を無駄なく使用できるとともに、
ウェハの交換に要する時間をなくすことができるので、
ウェハのスループットを向上させることができる。
第２図は本発明の一実施例を説明する図で、図はＳＯＲ
用Ｘ線露光装置の縦型ステージの斜視図である。
用Ｘ線露光装置の縦型ステージの斜視図である。
第２図において、１は本体、２はＸ軸案内機構、３はＸ
軸駆動用リニアＤＣモータ、５はＹ軸ステージ、６はＹ
ｔ！ｌｈ案内機構、７はＹ軸駆動用リニアＤＣモータ、
８はウェハチャック、９はウェハ位置組合わせステージ
、１０はウェハ搬送用アーム、１１は軸、１２は未処理
ウェハ入れ、１３は未処理ウェハ、１４は露光済ウェハ
、１５は露光済つェハ入れを示す。第３図のＸ−Ｙステ
ージには、水平方向くＸ軸方向）の案内機構２を共用す
る２つのステージ（ステージＡとステージＢ）が取付け
られている。各々のステージＡ、Ｂは、両側に取付けた
コイル可動型リニアＤＣモータ３により駆動される。
軸駆動用リニアＤＣモータ、５はＹ軸ステージ、６はＹ
ｔ！ｌｈ案内機構、７はＹ軸駆動用リニアＤＣモータ、
８はウェハチャック、９はウェハ位置組合わせステージ
、１０はウェハ搬送用アーム、１１は軸、１２は未処理
ウェハ入れ、１３は未処理ウェハ、１４は露光済ウェハ
、１５は露光済つェハ入れを示す。第３図のＸ−Ｙステ
ージには、水平方向くＸ軸方向）の案内機構２を共用す
る２つのステージ（ステージＡとステージＢ）が取付け
られている。各々のステージＡ、Ｂは、両側に取付けた
コイル可動型リニアＤＣモータ３により駆動される。
リニアＤＣモータ３の磁石（図示しない）は、双方のス
テージＡ、Ｂによって共用できるため、各々のステージ
案内機構に磁石を設ける必要がない。
テージＡ、Ｂによって共用できるため、各々のステージ
案内機構に磁石を設ける必要がない。
また、各ステージＡＢの上には、鉛直方向（Ｙ軸方向）
の自由度を有するウェハステージ（Ｙ軸ステージ５）が
搭載され、Ｘ軸と同様リニアＤＣが駆動することにより
、水平方向の自由度と合わせて、鉛直面内の運動を可能
にしている。
の自由度を有するウェハステージ（Ｙ軸ステージ５）が
搭載され、Ｘ軸と同様リニアＤＣが駆動することにより
、水平方向の自由度と合わせて、鉛直面内の運動を可能
にしている。
又、各ステージＡ、Ｂのウェハチャック８にセットされ
たウェハは、ＳＯＲ光による露光後、退避位置において
、ウェハ搬送用アーム１０で未処理のウェハと交換され
る。未処理の°ウェハーはウェハチャック８にセットさ
れる前に、位置の粗合わせが行なわれる。
たウェハは、ＳＯＲ光による露光後、退避位置において
、ウェハ搬送用アーム１０で未処理のウェハと交換され
る。未処理の°ウェハーはウェハチャック８にセットさ
れる前に、位置の粗合わせが行なわれる。
上記のように、ステージＡが上記一連のウェハー交換作
業並びに、ウェハ位置の粗合わせを行っている間、ステ
ージＢではＳＯＲ光によってマスクパターンの露光転写
が行なわれているので、常に放射されているＳＯＲ光を
有効に利用することができる。さらに、一方のステージ
のウェハの交換時にも、他方のステージで露光が行なわ
れる為、スループットを上げることができる。
業並びに、ウェハ位置の粗合わせを行っている間、ステ
ージＢではＳＯＲ光によってマスクパターンの露光転写
が行なわれているので、常に放射されているＳＯＲ光を
有効に利用することができる。さらに、一方のステージ
のウェハの交換時にも、他方のステージで露光が行なわ
れる為、スループットを上げることができる。
なお、図では水平方向軸のステージ案内機構を共用して
いるが、鉛直方向軸のステージ案内機構を共用しても、
同機能の縦型ステージを構成することができる。
いるが、鉛直方向軸のステージ案内機構を共用しても、
同機能の縦型ステージを構成することができる。
以上説明したように本発明によれば、複数（図では２つ
）のステージが水平方向（Ｘ軸方向）の案内機構及びＸ
軸駆動用モータを共用することにより、ウェハのスルー
プットの向上が可能となり、ＳＯＲ光を有効に利用する
ことができる。
）のステージが水平方向（Ｘ軸方向）の案内機構及びＸ
軸駆動用モータを共用することにより、ウェハのスルー
プットの向上が可能となり、ＳＯＲ光を有効に利用する
ことができる。
第１図は本発明のＸ−Ｙステージの模式図、第２図は本
発明の一実施例を説明する図、第３図は従来の縦型Ｘ−
Ｙステージを説明する図である。 図において、 ■は本体、 ２はＸ軸案内機構（直動案内）、 ３はＸ軸駆動、用リニアＤＣモータ、 ５はＹ軸ステージ、 ６はＹ軸案内機構（直動案内）、 ７はＹ軸駆動用リニアＤＣモータ、 ８はウェハチャック、 ９はウェハ位置組合わせステージ、 １０はウェハ搬送用アーム、 １１は軸、 １２は未処理ウェハ入れ、 １３は未処理ウェハ、 １４は露光済ウェハ、 Ｂ、ステージ呼物部（Ｘ細り 取鋼ＦＩのＸ−γスナーレ゛久朶伐口 弗 １２ 省ｂｋの刈モヤＸ−Ｙスナージン擬ヨ月する２茅 ３
ｚ
発明の一実施例を説明する図、第３図は従来の縦型Ｘ−
Ｙステージを説明する図である。 図において、 ■は本体、 ２はＸ軸案内機構（直動案内）、 ３はＸ軸駆動、用リニアＤＣモータ、 ５はＹ軸ステージ、 ６はＹ軸案内機構（直動案内）、 ７はＹ軸駆動用リニアＤＣモータ、 ８はウェハチャック、 ９はウェハ位置組合わせステージ、 １０はウェハ搬送用アーム、 １１は軸、 １２は未処理ウェハ入れ、 １３は未処理ウェハ、 １４は露光済ウェハ、 Ｂ、ステージ呼物部（Ｘ細り 取鋼ＦＩのＸ−γスナーレ゛久朶伐口 弗 １２ 省ｂｋの刈モヤＸ−Ｙスナージン擬ヨ月する２茅 ３
ｚ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｘ−Ｙステージであって、 該Ｘ−Ｙステージの直交する二つの自由度の内、一方の
自由度の直動案内機構（２）、或いはそのアクチュエー
タ（３）、或いはその両方の全部或いは一部を共用して
、各々独立に移動可能な複数のステージ可動部（Ａ、Ｂ
）を有することを特徴とする縦型Ｘ−Ｙステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097725A JPS63261850A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 縦型ｘ−ｙステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097725A JPS63261850A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 縦型ｘ−ｙステ−ジ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63261850A true JPS63261850A (ja) | 1988-10-28 |
Family
ID=14199863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097725A Pending JPS63261850A (ja) | 1987-04-20 | 1987-04-20 | 縦型ｘ−ｙステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63261850A (ja) |
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1987
- 1987-04-20 JP JP62097725A patent/JPS63261850A/ja active Pending
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| US7940392B2 (en) | 2000-08-24 | 2011-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| US7289212B2 (en) | 2000-08-24 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby |
| US6819425B2 (en) | 2000-08-24 | 2004-11-16 | Asml Netherland B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
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