JPH09216843A - 新規なポリフェノール化合物 - Google Patents
新規なポリフェノール化合物Info
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- JPH09216843A JPH09216843A JP2407596A JP2407596A JPH09216843A JP H09216843 A JPH09216843 A JP H09216843A JP 2407596 A JP2407596 A JP 2407596A JP 2407596 A JP2407596 A JP 2407596A JP H09216843 A JPH09216843 A JP H09216843A
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- Japan
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- trimethylphenol
- bis
- methylene
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- polyphenol compound
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Abstract
(57)【要約】
【課題】分子内の２個フェノール核がそれぞれ３個のメ
チル基を置換基として有するトリスフェニルメタン構造
を有し、2,3,５−トリメチルフェノールを原料として用
いて得られる新規なポリフェノール化合物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明による新規なポリフェノール化合物
は、一般式（Ｉ） 【化１】
チル基を置換基として有するトリスフェニルメタン構造
を有し、2,3,５−トリメチルフェノールを原料として用
いて得られる新規なポリフェノール化合物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明による新規なポリフェノール化合物
は、一般式（Ｉ） 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリフェノ
ール化合物、詳しくは、原料の一成分として、2,3,５−
トリメチルフェノールを用いて製造される新規なトリス
フェニルメタン型のポリフェノール化合物に関する。こ
のようなポリフェノール化合物は、集積回路の封止材
料、積層材料、電気絶縁材料等に用いられるエポキシ樹
脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤、感光性材料の基材、
感熱記録材料に用いられる顕色剤や退色防止剤、このほ
か、殺菌剤、殺菌防黴剤等の添加剤としても有用であ
る。
ール化合物、詳しくは、原料の一成分として、2,3,５−
トリメチルフェノールを用いて製造される新規なトリス
フェニルメタン型のポリフェノール化合物に関する。こ
のようなポリフェノール化合物は、集積回路の封止材
料、積層材料、電気絶縁材料等に用いられるエポキシ樹
脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤、感光性材料の基材、
感熱記録材料に用いられる顕色剤や退色防止剤、このほ
か、殺菌剤、殺菌防黴剤等の添加剤としても有用であ
る。
【０００２】
【従来の技術】ポリフェノール化合物は、従来より、集
積回路の封止材料、積層材料、電気絶縁材料等に用いら
れるエポキシ樹脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤、感熱
記録に用いられる顕色剤や退色防止剤、電子材料の原料
等として有用に用いられており、また、酸化防止剤、殺
菌剤、防菌防黴剤等の添加剤としても広く有用に用いら
れている。
積回路の封止材料、積層材料、電気絶縁材料等に用いら
れるエポキシ樹脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤、感熱
記録に用いられる顕色剤や退色防止剤、電子材料の原料
等として有用に用いられており、また、酸化防止剤、殺
菌剤、防菌防黴剤等の添加剤としても広く有用に用いら
れている。
【０００３】近年、特に、電気電子機器の部品の分野に
おいて、機器の小型化と高性能化の要請に伴って、それ
らに用いられる有機材料についても、従来の機械的特性
や熱的特性の向上に止まらず、長期安定性、電気絶縁
性、感光材料における高感度、高解像度、易現像性等、
ますます諸性能の向上が求められるに至っている。
おいて、機器の小型化と高性能化の要請に伴って、それ
らに用いられる有機材料についても、従来の機械的特性
や熱的特性の向上に止まらず、長期安定性、電気絶縁
性、感光材料における高感度、高解像度、易現像性等、
ますます諸性能の向上が求められるに至っている。
【０００４】従来、ポリフェノール化合物は、例えば、
Eugen Mueller 編、METHODEN DERORGANISCHEN CHEMIE
(HOUBEN-WEYL), Band VI/1c, "Phenol", Teil 2, pp. 1
021-1061, Georg Thieme Verlag Stuttgart (1976) に
多数のものが記載されており、その後も、上述したよう
な樹脂の高性能化、高機能化の要請に応えるために、新
たなポリフェノール化合物が多数、提案されている。
Eugen Mueller 編、METHODEN DERORGANISCHEN CHEMIE
(HOUBEN-WEYL), Band VI/1c, "Phenol", Teil 2, pp. 1
021-1061, Georg Thieme Verlag Stuttgart (1976) に
多数のものが記載されており、その後も、上述したよう
な樹脂の高性能化、高機能化の要請に応えるために、新
たなポリフェノール化合物が多数、提案されている。
【０００５】このようなポリフェノール化合物のなか
で、トリスフェニルメタン型のポリフェノール化合物と
しては、例えば、特開平６−１１５２５５号公報、特開
平６−１００６３０号公報、特開平６−５９４４６号公
報、特開平６−１９９７１７号公報、T. Miuraら、J. P
hys., IV, 3 (C4, 4th International Workshop onPosi
tron and Positronium Chemistry), 249 (1993) 等に
4,4',4"−メチリデントリスフェノールが、特開平６−
１９９７１７号公報、特開平６−１１５２５５号公報、
特開平５−１７３３２６号公報、特開平５−２４９６８
１号公報、特開平４−１１２６０号公報、特開平３−２
００２５４号公報、佐藤ら、油化学、37(3), 166 (198
8)等に4,4'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔２−メチルフェノール〕が、特開平４−２１１２
５７号公報には4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニル）メ
チレン〕ビス〔2,５−ジメチルフェノール〕、2,2'−
〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔4,５−
ジメチルフェノール〕及び4,4'−〔（２−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス〔2,6 −ジメチルフェノール〕
が、それぞれ開示されている。
で、トリスフェニルメタン型のポリフェノール化合物と
しては、例えば、特開平６−１１５２５５号公報、特開
平６−１００６３０号公報、特開平６−５９４４６号公
報、特開平６−１９９７１７号公報、T. Miuraら、J. P
hys., IV, 3 (C4, 4th International Workshop onPosi
tron and Positronium Chemistry), 249 (1993) 等に
4,4',4"−メチリデントリスフェノールが、特開平６−
１９９７１７号公報、特開平６−１１５２５５号公報、
特開平５−１７３３２６号公報、特開平５−２４９６８
１号公報、特開平４−１１２６０号公報、特開平３−２
００２５４号公報、佐藤ら、油化学、37(3), 166 (198
8)等に4,4'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔２−メチルフェノール〕が、特開平４−２１１２
５７号公報には4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニル）メ
チレン〕ビス〔2,５−ジメチルフェノール〕、2,2'−
〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔4,５−
ジメチルフェノール〕及び4,4'−〔（２−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス〔2,6 −ジメチルフェノール〕
が、それぞれ開示されている。
【０００６】また、特開平４−３０１８５０号公報に
は、いずれも実施例は記載されていないが、4,4'−
〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔2,5 −
ジメチルフェノール〕や、4,4'−〔（４−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス〔2,5 −ジメチルフェノール〕
を含む構造式が記載されている。
は、いずれも実施例は記載されていないが、4,4'−
〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔2,5 −
ジメチルフェノール〕や、4,4'−〔（４−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス〔2,5 −ジメチルフェノール〕
を含む構造式が記載されている。
【０００７】このようなトリスフェニルメタン型のポリ
フェノール化合物において、フェノール核がアルキル置
換基を有するとき、トリスフェノール化合物の親油性が
増大し、種々の有機溶剤に溶解しやすくなるので、種々
の溶剤を用いる用途に好適に用いることができるのみな
らず、それらを原料として用いることによって、得られ
る材料の低吸水性や低吸湿性等の耐水特性が向上するほ
か、絶縁性や低誘電性等の電気特性も向上することが期
待される。
フェノール化合物において、フェノール核がアルキル置
換基を有するとき、トリスフェノール化合物の親油性が
増大し、種々の有機溶剤に溶解しやすくなるので、種々
の溶剤を用いる用途に好適に用いることができるのみな
らず、それらを原料として用いることによって、得られ
る材料の低吸水性や低吸湿性等の耐水特性が向上するほ
か、絶縁性や低誘電性等の電気特性も向上することが期
待される。
【０００８】そこで、このようなアルキル置換フェノー
ル核を有するトリスフェニルメタン型のトリスフェノー
ル化合物において、アルキル基のサイズが大きくなるほ
ど、親油性が増して、上記のような性能の向上が期待さ
れるが、しかし、実際には、アルキル基のサイズが大き
くなると、フェノール核の廻りの自由体積も大きくな
り、そのような空隙に水分子が侵入しやすくなるので、
サイズの増大によって期待できるほどの上記性能の向上
は難しい。言い換えると、フェノール核の廻りに均等に
サイズの小さなアルキル基が数多く置換されているほ
ど、上記性能が向上することが期待できる。
ル核を有するトリスフェニルメタン型のトリスフェノー
ル化合物において、アルキル基のサイズが大きくなるほ
ど、親油性が増して、上記のような性能の向上が期待さ
れるが、しかし、実際には、アルキル基のサイズが大き
くなると、フェノール核の廻りの自由体積も大きくな
り、そのような空隙に水分子が侵入しやすくなるので、
サイズの増大によって期待できるほどの上記性能の向上
は難しい。言い換えると、フェノール核の廻りに均等に
サイズの小さなアルキル基が数多く置換されているほ
ど、上記性能が向上することが期待できる。
【０００９】また、感光性材料の分野でも、感度、解像
度、現象性等の要求性能は、感光基を有する化合物との
反応性や現像液との親和性等によって決まるため、アル
キル置換基のサイズが小さく、且つ、フェノール核の廻
りに均質に数多くアルキル置換基にて置換されたポリフ
ェノール化合物が求められている。
度、現象性等の要求性能は、感光基を有する化合物との
反応性や現像液との親和性等によって決まるため、アル
キル置換基のサイズが小さく、且つ、フェノール核の廻
りに均質に数多くアルキル置換基にて置換されたポリフ
ェノール化合物が求められている。
【００１０】このようなトリスフェニルメタン型のポリ
フェノール化合物のうち、サイズが最も小さいアルキル
基であるメチル基を分子内に３個有するトリメチルフェ
ノールを原料の一成分として用いるものとしては、従
来、特開平４−２８４４５４号公報、特開平４−３２８
５５５号公報及びヨーロツパ特許出願公報第５１０６７
２号に4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔2,3,５−トリメチルフェノール〕が言及されてお
り、また、特開平４−３２８５５５号公報及びヨーロツ
パ特許出願公報第５１０６７２号に4,4'−ビス〔（3,４
−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−ト
リメチルフェノール）や4,4'−ビス〔（2,3,４−トリヒ
ドロキシフェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチ
ルフェノール）が言及されている。
フェノール化合物のうち、サイズが最も小さいアルキル
基であるメチル基を分子内に３個有するトリメチルフェ
ノールを原料の一成分として用いるものとしては、従
来、特開平４−２８４４５４号公報、特開平４−３２８
５５５号公報及びヨーロツパ特許出願公報第５１０６７
２号に4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔2,3,５−トリメチルフェノール〕が言及されてお
り、また、特開平４−３２８５５５号公報及びヨーロツ
パ特許出願公報第５１０６７２号に4,4'−ビス〔（3,４
−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−ト
リメチルフェノール）や4,4'−ビス〔（2,3,４−トリヒ
ドロキシフェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチ
ルフェノール）が言及されている。
【００１１】本発明者らは、2,3,５−トリメチルフェノ
ールを用いたトリスフェニルメタン型のポリフェノール
の合成について、上記特許文献の記載を含めて詳細に検
討した結果、2,3,５−トリメチルフェノールとヒドロキ
シル基置換ベンズアルデヒドとの反応生成物は、検討し
たすべての場合において、2,2'−〔（ヒドロキシル基置
換基フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフ
ェノール）であり、副生する4,4'−〔（ヒドロキシル基
置換フェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチルフ
ェノール）及び2,4'−〔（ヒドロキシル基置換フェニ
ル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチルフェノール）
（3,5,６−トリメチルフェノール）は、いずれも少量で
あることを確認した。更に、このような反応生成物を晶
析することによって、高純度の2,2'−〔（ヒドロキシル
基置換フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）を得ることができることを見出して、本発
明に至ったものである。
ールを用いたトリスフェニルメタン型のポリフェノール
の合成について、上記特許文献の記載を含めて詳細に検
討した結果、2,3,５−トリメチルフェノールとヒドロキ
シル基置換ベンズアルデヒドとの反応生成物は、検討し
たすべての場合において、2,2'−〔（ヒドロキシル基置
換基フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフ
ェノール）であり、副生する4,4'−〔（ヒドロキシル基
置換フェニル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチルフ
ェノール）及び2,4'−〔（ヒドロキシル基置換フェニ
ル）メチレン〕ビス（2,3,５−トリメチルフェノール）
（3,5,６−トリメチルフェノール）は、いずれも少量で
あることを確認した。更に、このような反応生成物を晶
析することによって、高純度の2,2'−〔（ヒドロキシル
基置換フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）を得ることができることを見出して、本発
明に至ったものである。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリフェノ
ール化合物の上述した事情に鑑みて、種々の有機溶剤へ
の溶解性にすぐれ、種々の用途への展開が可能であるほ
か、これを原料として用いることによって、低吸水性、
低吸湿性等の耐水性や、絶縁性、低誘電性等の電気特性
にもすぐれる樹脂を与えることが期待されるほか、感光
性材料としても有用に用いられることが期待される新規
なポリフェノール化合物、特に、分子内の２個フェノー
ル核がそれぞれ３個のメチル基を置換基として有するト
リスフェニルメタン構造を有し、2,3,５−トリメチルフ
ェノールを原料として用いて得られる新規なポリフェノ
ール化合物を提供することを目的とする。
ール化合物の上述した事情に鑑みて、種々の有機溶剤へ
の溶解性にすぐれ、種々の用途への展開が可能であるほ
か、これを原料として用いることによって、低吸水性、
低吸湿性等の耐水性や、絶縁性、低誘電性等の電気特性
にもすぐれる樹脂を与えることが期待されるほか、感光
性材料としても有用に用いられることが期待される新規
なポリフェノール化合物、特に、分子内の２個フェノー
ル核がそれぞれ３個のメチル基を置換基として有するト
リスフェニルメタン構造を有し、2,3,５−トリメチルフ
ェノールを原料として用いて得られる新規なポリフェノ
ール化合物を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明による新規なポリ
フェノール化合物は、一般式（Ｉ）
フェノール化合物は、一般式（Ｉ）
【００１４】
【化２】
【００１５】（式中、ｎは１又は２を示す。）で表わさ
れる。
れる。
【００１６】
【発明の実施の形態】従って、本発明によるポリフェノ
ール化合物の具体例としては、例えば、（１）2,2'−
〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６
−トリメチルフェノール）、（２）2,2'−〔（３−ヒド
ロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）、（３）2,2'−〔（４−ヒドロキシフェニ
ル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノー
ル）、（４）2,2'−〔（3,４−ジヒドロキシフェニル）
メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、
（５）2,2'−〔（2,３−ジヒドロキシフェニル）メチレ
ン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、（６）2,
2'−〔（2,４−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス
（3,5,６−トリメチルフェノール）等を挙げることがで
きる。
ール化合物の具体例としては、例えば、（１）2,2'−
〔（２−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６
−トリメチルフェノール）、（２）2,2'−〔（３−ヒド
ロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）、（３）2,2'−〔（４−ヒドロキシフェニ
ル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノー
ル）、（４）2,2'−〔（3,４−ジヒドロキシフェニル）
メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、
（５）2,2'−〔（2,３−ジヒドロキシフェニル）メチレ
ン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、（６）2,
2'−〔（2,４−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス
（3,5,６−トリメチルフェノール）等を挙げることがで
きる。
【００１７】これらのなかでは、原料の一成分であるヒ
ドロキシル基置換ベンズアルデヒドが比較的容易に、且
つ、経済的に得られるようなポリフェノール化合物が好
ましく、従って、具体的には、サリチルアルデヒドを原
料として得られる2,2'−〔（２−ヒドロキシフェニル）
メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、ｍ
−ヒドロキシベンズアルデヒドを原料として得られる2,
2'−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）、ｐ−ヒドロキシベンズ
アルデヒドを原料として得られる2,2'−〔（４−ヒドロ
キシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフ
ェノール）、プロトカテキュアルデヒド（3,４−ジヒド
ロキシベンズアルデヒド）を原料として得られる2,2'−
〔（3,4−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）が好ましい。
ドロキシル基置換ベンズアルデヒドが比較的容易に、且
つ、経済的に得られるようなポリフェノール化合物が好
ましく、従って、具体的には、サリチルアルデヒドを原
料として得られる2,2'−〔（２−ヒドロキシフェニル）
メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）、ｍ
−ヒドロキシベンズアルデヒドを原料として得られる2,
2'−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）、ｐ−ヒドロキシベンズ
アルデヒドを原料として得られる2,2'−〔（４−ヒドロ
キシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフ
ェノール）、プロトカテキュアルデヒド（3,４−ジヒド
ロキシベンズアルデヒド）を原料として得られる2,2'−
〔（3,4−ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）が好ましい。
【００１８】かかる本発明による新規なトリスフェニル
メタン型のポリフェノール化合物は、酸触媒の存在下、
アルコール溶剤中にて、2,3,５−トリメチルフェノール
と一般式（II）
メタン型のポリフェノール化合物は、酸触媒の存在下、
アルコール溶剤中にて、2,3,５−トリメチルフェノール
と一般式（II）
【００１９】
【化３】
【００２０】（式中、ｎは１又は２を示す。）で表わさ
れるヒドロキシル基置換ベンズアルデヒドとを反応させ
ることによって得ることができる。
れるヒドロキシル基置換ベンズアルデヒドとを反応させ
ることによって得ることができる。
【００２１】本発明によるポリフェノール化合物の製造
において、上記一般式（II）で表わされるヒドロキシル
基置換ベンズアルデヒドとしては、具体的には、サリチ
ルアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、プロトカテキュアルデヒ
ド（3,４−ジヒドロキシベンズアルデヒド）、2,３−ジ
ヒドロキシベンズアルデヒド、2,４−ジヒドロキシベン
ズアルデヒド等を挙げることができる。前述したよう
に、これらのなかでは、比較的容易に、また、経済的に
入手することができるサリチルアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド又はプロトカテキュアルデヒドが好ましく用いられ
る。
において、上記一般式（II）で表わされるヒドロキシル
基置換ベンズアルデヒドとしては、具体的には、サリチ
ルアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｐ−
ヒドロキシベンズアルデヒド、プロトカテキュアルデヒ
ド（3,４−ジヒドロキシベンズアルデヒド）、2,３−ジ
ヒドロキシベンズアルデヒド、2,４−ジヒドロキシベン
ズアルデヒド等を挙げることができる。前述したよう
に、これらのなかでは、比較的容易に、また、経済的に
入手することができるサリチルアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド又はプロトカテキュアルデヒドが好ましく用いられ
る。
【００２２】2,3,５−トリメチルフェノールとこれらヒ
ドロキシル基置換ベンズアルデヒドとの反応において、
2,3,５−トリメチルフェノールは、ヒドロキシル基置換
ベンズアルデヒドに対して、２倍モル以上、通常、２〜
１０倍モルの範囲で用いられるが、好ましくは、３〜５
倍モル量の範囲で用いられる。
ドロキシル基置換ベンズアルデヒドとの反応において、
2,3,５−トリメチルフェノールは、ヒドロキシル基置換
ベンズアルデヒドに対して、２倍モル以上、通常、２〜
１０倍モルの範囲で用いられるが、好ましくは、３〜５
倍モル量の範囲で用いられる。
【００２３】また、上記アルコール溶剤としては、用い
る反応原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応
の経済性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｔ−ブ
チルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルア
ルコール等のような低級脂肪族アルコールが好ましく用
いられる。特に、メタノールが好ましく用いられる。
る反応原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応
の経済性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｔ−ブ
チルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルア
ルコール等のような低級脂肪族アルコールが好ましく用
いられる。特に、メタノールが好ましく用いられる。
【００２４】本発明において、このようなアルコール溶
剤は、通常、用いるヒドロキシル基置換ベンズアルデヒ
ド１００重量部に対して、１０〜１０００重量部、好ま
しくは、２００〜５００重量部の範囲で用いられるが、
これに限定されるものではない。
剤は、通常、用いるヒドロキシル基置換ベンズアルデヒ
ド１００重量部に対して、１０〜１０００重量部、好ま
しくは、２００〜５００重量部の範囲で用いられるが、
これに限定されるものではない。
【００２５】本発明において、上記酸触媒としては、反
応溶剤であるアルコール溶剤に溶解する酸が好ましく、
従って、例えば、塩酸、硫酸、無水硫酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸等を好ましい具体例として挙げること
ができる。このような酸触媒は、例えば、３５％塩酸の
場合は、ヒドロキシル基置換ベンズアルデヒド類１００
重量部に対して、１〜５００重量部、好ましくは、２０
〜１００重量部の範囲で用いられる。
応溶剤であるアルコール溶剤に溶解する酸が好ましく、
従って、例えば、塩酸、硫酸、無水硫酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンス
ルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン酸、トリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸等を好ましい具体例として挙げること
ができる。このような酸触媒は、例えば、３５％塩酸の
場合は、ヒドロキシル基置換ベンズアルデヒド類１００
重量部に対して、１〜５００重量部、好ましくは、２０
〜１００重量部の範囲で用いられる。
【００２６】反応は、通常、室温から８０℃、好ましく
は、４０〜６０℃にて、窒素気流下に攪拌しながら、２
〜７２時間程度、通常、５〜４８時間程度行なえばよ
い。本発明においては、通常、反応によって生成するポ
リフェノール化合物は、反応溶剤に溶解し難いために、
上記反応温度条件下では、反応液中に析出する。
は、４０〜６０℃にて、窒素気流下に攪拌しながら、２
〜７２時間程度、通常、５〜４８時間程度行なえばよ
い。本発明においては、通常、反応によって生成するポ
リフェノール化合物は、反応溶剤に溶解し難いために、
上記反応温度条件下では、反応液中に析出する。
【００２７】そこで、本発明によれば、反応終了後、得
られた反応液にアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液
等のアルカリを加えて、酸触媒を中和し、この後、反応
液に芳香族炭化水素、脂肪族ケトン又はこれらの混合溶
剤を加え、ポリフェノール化合物を溶解させた後、冷却
することによって、目的とするトリスフェニルメタン型
のポリフェノール化合物を晶析させ、かくして、その高
純度品を容易に得ることができる。
られた反応液にアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液
等のアルカリを加えて、酸触媒を中和し、この後、反応
液に芳香族炭化水素、脂肪族ケトン又はこれらの混合溶
剤を加え、ポリフェノール化合物を溶解させた後、冷却
することによって、目的とするトリスフェニルメタン型
のポリフェノール化合物を晶析させ、かくして、その高
純度品を容易に得ることができる。
【００２８】上記晶析溶剤は、晶析条件、精製効果、経
済性等を考慮して、適宜に選択される。芳香族炭化水素
としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を挙
げることができ、また、ケトンとしては、例えば、イソ
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることができ
る。また、混合溶剤の具体例として、例えば、トルエン
−メチルエチルケトン、トルエン−ジイソプロピルケト
ン、トルエン−メチルイソブチルケトン、キシレン−メ
チルエチルケトン、キシレン−ジイソプロピルケトン、
キシレン−メチルイソブチルケトン、クメン−メチルエ
チルケトン、クメン−ジイソプロピルケトン、クメン−
メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。
済性等を考慮して、適宜に選択される。芳香族炭化水素
としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を挙
げることができ、また、ケトンとしては、例えば、イソ
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることができ
る。また、混合溶剤の具体例として、例えば、トルエン
−メチルエチルケトン、トルエン−ジイソプロピルケト
ン、トルエン−メチルイソブチルケトン、キシレン−メ
チルエチルケトン、キシレン−ジイソプロピルケトン、
キシレン−メチルイソブチルケトン、クメン−メチルエ
チルケトン、クメン−ジイソプロピルケトン、クメン−
メチルイソブチルケトン等を挙げることができる。
【００２９】このような晶析溶剤は、通常、反応混合物
１００重量部に対して、２０〜１０００重量部、好まし
くは、５０〜５００重量部の範囲で加えることによっ
て、反応液から、目的とするトリスフェニルメタン型の
ポリフェノール化合物を高純度にて晶析させることがで
きる。
１００重量部に対して、２０〜１０００重量部、好まし
くは、５０〜５００重量部の範囲で加えることによっ
て、反応液から、目的とするトリスフェニルメタン型の
ポリフェノール化合物を高純度にて晶析させることがで
きる。
【００３０】前述したように、2,3,５−トリメチルフェ
ノールとこれらヒドロキシル基置換ベンズアルデヒドと
の反応によって、目的とする2,2'−〔（ヒドロキシル基
置換基フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）が主成分として生成するが、このほかに、
4,4'−〔（ヒドロキシル基置換フェニル）メチレン〕ビ
ス（2,3,５−トリメチルフェノール）と2,4'−〔（ヒド
ロキシル基置換フェニル）メチレン〕（2,3,５−トリメ
チルフェノール) （3,5,６−トリメチルフェノール）と
が少量副生する。
ノールとこれらヒドロキシル基置換ベンズアルデヒドと
の反応によって、目的とする2,2'−〔（ヒドロキシル基
置換基フェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチル
フェノール）が主成分として生成するが、このほかに、
4,4'−〔（ヒドロキシル基置換フェニル）メチレン〕ビ
ス（2,3,５−トリメチルフェノール）と2,4'−〔（ヒド
ロキシル基置換フェニル）メチレン〕（2,3,５−トリメ
チルフェノール) （3,5,６−トリメチルフェノール）と
が少量副生する。
【００３１】しかし、上述したように、2,3,５−トリメ
チルフェノールとヒドロキシル基置換ベンズアルデヒド
とを反応させた後、析出したポリフェノール化合物の混
合物を含む反応液中の酸触媒を中和し、次いで、反応液
から晶析を行なうことによって、目的とする2,2'−
〔（ヒドロキシル基置換フェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）を高純度精製品として得
ることができる。
チルフェノールとヒドロキシル基置換ベンズアルデヒド
とを反応させた後、析出したポリフェノール化合物の混
合物を含む反応液中の酸触媒を中和し、次いで、反応液
から晶析を行なうことによって、目的とする2,2'−
〔（ヒドロキシル基置換フェニル）メチレン〕ビス（3,
5,６−トリメチルフェノール）を高純度精製品として得
ることができる。
【００３２】このように、反応終了後、反応液からの晶
析によって、本発明によるトリスフェニルメタン型のポ
リフェノール化合物の高純度品を得ることができるが、
用途等によっては、反応終了後、反応液を中和し、更
に、必要に応じて、水を加え、攪拌した後、静置して、
水層を分離する方法によって、洗浄した後、蒸留による
濃縮や乾燥によって、反応物の全量を回収してもよい。
析によって、本発明によるトリスフェニルメタン型のポ
リフェノール化合物の高純度品を得ることができるが、
用途等によっては、反応終了後、反応液を中和し、更
に、必要に応じて、水を加え、攪拌した後、静置して、
水層を分離する方法によって、洗浄した後、蒸留による
濃縮や乾燥によって、反応物の全量を回収してもよい。
【００３３】
【発明の効果】本発明によるポリフェノール化合物は、
トリスフェニルメタン型の骨格を有すると共に、２個の
フェノール核にそれぞれ３個のメチル基を置換基として
有し、種々の有機溶剤への溶解性にすぐれるので、広範
な用途に有利に用いることができる。
トリスフェニルメタン型の骨格を有すると共に、２個の
フェノール核にそれぞれ３個のメチル基を置換基として
有し、種々の有機溶剤への溶解性にすぐれるので、広範
な用途に有利に用いることができる。
【００３４】更に、本発明によるポリフェノール化合物
は、これを原料として用いることによって、低吸水性、
低吸湿性のような耐水性、絶縁性や低誘電性等の電気特
性にもすぐれる樹脂、例えば、エポキシ樹脂を与える。
また、エポキシ樹脂の硬化剤や感光性材料の基材として
有用に用いることができる。
は、これを原料として用いることによって、低吸水性、
低吸湿性のような耐水性、絶縁性や低誘電性等の電気特
性にもすぐれる樹脂、例えば、エポキシ樹脂を与える。
また、エポキシ樹脂の硬化剤や感光性材料の基材として
有用に用いることができる。
【００３５】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
【００３６】実施例１ 2,3,５−トリメチルフェノール１6.７ｇ（0.１２モル）
とサリチルアルデヒド5.０ｇ（0.０４モル）をフラスコ
に仕込み、これにメタノール１5.０ｇを加えて溶解させ
た。この溶液に濃塩酸1.７ｇを加え、攪拌下に４０℃で
２４時間反応させた。
とサリチルアルデヒド5.０ｇ（0.０４モル）をフラスコ
に仕込み、これにメタノール１5.０ｇを加えて溶解させ
た。この溶液に濃塩酸1.７ｇを加え、攪拌下に４０℃で
２４時間反応させた。
【００３７】反応終了後、得られた反応混合物に水酸化
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、３０℃まで冷却
し、濾過して、目的とする2,2'−〔（２−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノー
ル）の粗結晶１2.７ｇを得た。この粗結晶１2.７ｇにト
ルエン１３ｇとメチルイソブチルケトン１３ｇとの混合
溶媒を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水
洗し、晶析することによって、純度９9.６％の白色結晶
6.６ｇを得た。
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、３０℃まで冷却
し、濾過して、目的とする2,2'−〔（２−ヒドロキシフ
ェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノー
ル）の粗結晶１2.７ｇを得た。この粗結晶１2.７ｇにト
ルエン１３ｇとメチルイソブチルケトン１３ｇとの混合
溶媒を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水
洗し、晶析することによって、純度９9.６％の白色結晶
6.６ｇを得た。
【００３８】融点：２３7.６℃ 赤外線吸収スペクトル（cm-1) ： ＯＨ ３５４０，３４７０ ＣＨ3 ２９４０，２９２０，２８６０ 芳香族水素 １６０５，１５８０ マススペクトル： 親ピーク ３７６ フラグメントピーク ２２３, ２２５, ２４１，２２２ プロトン核磁気共鳴スペクトル：
【００３９】
【表１】
【００４０】実施例２ 2,3,５−トリメチルフェノール１6.７ｇ（0.１２モル）
とｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド5.０ｇ（0.０４モ
ル）をフラスコに仕込み、これにメタノール１5.０ｇを
加えて溶解させた。この溶液に濃塩酸1.７ｇを加え、攪
拌下に４０℃で２４時間反応させた。
とｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド5.０ｇ（0.０４モ
ル）をフラスコに仕込み、これにメタノール１5.０ｇを
加えて溶解させた。この溶液に濃塩酸1.７ｇを加え、攪
拌下に４０℃で２４時間反応させた。
【００４１】反応終了後、得られた反応混合物に水酸化
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、蒸留によりメタ
ノールを留去した。得られた蒸留残渣にトルエン２５ｇ
を加え、晶析、濾過して、目的とする2,2'−〔（３−ヒ
ドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチ
ルフェノール）の粗結晶を取得した。この粗結晶にトル
エン１０ｇとメチルイソブチルケトン１ｇとの混合溶媒
を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水洗
し、晶析することによって、純度９9.３％の白色結晶2.
２ｇを得た。
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、蒸留によりメタ
ノールを留去した。得られた蒸留残渣にトルエン２５ｇ
を加え、晶析、濾過して、目的とする2,2'−〔（３−ヒ
ドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチ
ルフェノール）の粗結晶を取得した。この粗結晶にトル
エン１０ｇとメチルイソブチルケトン１ｇとの混合溶媒
を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水洗
し、晶析することによって、純度９9.３％の白色結晶2.
２ｇを得た。
【００４２】融点：２１9.４℃ 赤外線吸収スペクトル（cm-1) ： ＯＨ ３６１０，３５１０，３４７０ ＣＨ3 ２９４０，２９３０，２８７０ 芳香族炭素−メチル １６００，１５９０ マススペクトル： 親ピーク ３７６ フラグメントピーク ２２３, ２４１, ２３９，２４０ プロトン核磁気共鳴スペクトル：
【００４３】
【表２】
【００４４】実施例３ 実施例２において、ｍ−ヒドロキシベンジルアルデヒド
に代えて、ｐ−ヒドロキシベンジルアルデヒドを用いた
以外は、実施例２と同様に反応を行なって、目的とする
2,2'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス
（3,5,６−トリメチルフェノール）を純度９8.９％の淡
黄色結晶1.８ｇとして得た。
に代えて、ｐ−ヒドロキシベンジルアルデヒドを用いた
以外は、実施例２と同様に反応を行なって、目的とする
2,2'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス
（3,5,６−トリメチルフェノール）を純度９8.９％の淡
黄色結晶1.８ｇとして得た。
【００４５】融点：２１3.３℃ 赤外線吸収スペクトル（cm-1) ： ＯＨ ３４３０ ＣＨ3 ２９７０，２９４０，２９２０，２８７０ 芳香族水素 １６１０，１５９０ マススペクトル： 親ピーク ３７６ フラグメントピーク ２３９, ２４０, ２２３，２４１ プロトン核磁気共鳴スペクトル：
【００４６】
【表３】
【００４７】実施例４ 2,3,５−トリメチルフェノール１9.７ｇ（0.１５モル）
とプロカテキュアルデヒド5.０ｇ（0.０３６モル）をフ
ラスコに仕込み、これにメタノール１３ｇを加えて溶解
させた。この溶液に濃塩酸2.０ｇを加え、攪拌下に４０
℃で３６時間反応させた。
とプロカテキュアルデヒド5.０ｇ（0.０３６モル）をフ
ラスコに仕込み、これにメタノール１３ｇを加えて溶解
させた。この溶液に濃塩酸2.０ｇを加え、攪拌下に４０
℃で３６時間反応させた。
【００４８】反応終了後、得られた反応混合物に水酸化
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、蒸留によりメタ
ノールを留去した。得られた蒸留残渣にトルエン２５ｇ
を加え、晶析、濾過して、目的とする2,2'−〔（3,４−
ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリ
メチルフェノール）の粗結晶を取得した。この粗結晶に
トルエン１０ｇとメチルイソブチルケトン１ｇとの混合
溶媒を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水
洗し、晶析することによって、純度９8.８％の白色結晶
2.５ｇを得た。
ナトリウム水溶液を加え、中和した後、蒸留によりメタ
ノールを留去した。得られた蒸留残渣にトルエン２５ｇ
を加え、晶析、濾過して、目的とする2,2'−〔（3,４−
ジヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス（3,5,６−トリ
メチルフェノール）の粗結晶を取得した。この粗結晶に
トルエン１０ｇとメチルイソブチルケトン１ｇとの混合
溶媒を加え、８０℃まで昇温して溶解させ、その後、水
洗し、晶析することによって、純度９8.８％の白色結晶
2.５ｇを得た。
【００４９】融点：２０9.２℃ 赤外線吸収スペクトル（cm-1) ： ＯＨ ３５３０，３４６０ ＣＨ3 ２９６０，２９２０，２８６０ 芳香族炭素 １６１０，１５６０ マススペクトル： 親ピーク ３９２ フラグメントピーク ２３９, ２５５, ２５６，２５７ プロトン核磁気共鳴スペクトル：
【００５０】
【表４】
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、ｎは１又は２を示す。）で表わされるポリフェ
ノール化合物。 - 【請求項２】2,2'−〔（２−ヒドロキシフェニル）メチ
レン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）。 - 【請求項３】2,2'−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチ
レン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）。 - 【請求項４】2,2'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチ
レン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）。 - 【請求項５】2,2'−〔（3,４−ジヒドロキシフェニル）
メチレン〕ビス（3,5,６−トリメチルフェノール）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2407596A JPH09216843A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 新規なポリフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2407596A JPH09216843A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 新規なポリフェノール化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09216843A true JPH09216843A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12128312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2407596A Pending JPH09216843A (ja) | 1996-02-09 | 1996-02-09 | 新規なポリフェノール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09216843A (ja) |
-
1996
- 1996-02-09 JP JP2407596A patent/JPH09216843A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040615 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041005 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050216 |