JPH09217183A - エッチング装置およびエッチング方法 - Google Patents

エッチング装置およびエッチング方法

Info

Publication number
JPH09217183A
JPH09217183A JP2634396A JP2634396A JPH09217183A JP H09217183 A JPH09217183 A JP H09217183A JP 2634396 A JP2634396 A JP 2634396A JP 2634396 A JP2634396 A JP 2634396A JP H09217183 A JPH09217183 A JP H09217183A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
etching
liquid
cleaning liquid
supplied
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2634396A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomoyuki Sekino
智之 関野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2634396A priority Critical patent/JPH09217183A/ja
Publication of JPH09217183A publication Critical patent/JPH09217183A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エッチングレートの変動を抑制し、かつワー
ク表面へのゴミの付着を回避する。 【解決手段】 エッチング対象となる板状のワーク2を
略水平に保持するワークホルダ3と、このワークホルダ
3を回転させる回転駆動機構4と、ワーク2の表面にエ
ッチング液を供給するエッチング液供給ユニット5と、
ワーク2の表裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニッ
ト6とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エッチング液を用
いてワークのエッチングを行う、いわゆるウェット方式
のエッチング装置およびエッチング方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】一般に、エッチング技術には、溶液(エ
ッチング液)を用いるウェットエッチング法と、気体
(エッチングガス)を用いるドライエッチング法があ
る。このうち、前者のウェットエッチング法は、エッチ
ング速度の材料選択性が大きい、処理能力(スループッ
ト)が大きい、ダメージがない、装置が安価である、な
どの利点があり、主に〜3μm程度までの微細パターン
加工に用いられている。ところで、従来のウェットエッ
チング法は、エッチング対象となるワーク(被加工物)
表面にレジストパターンを形成したのち、ワークをエッ
チング液中に浸漬し、レジストの無い部分を化学的に溶
解して除く、いわゆるディップ方式が主流となってい
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ディッ
プ方式によるウェットエッチングでは、多数のワークを
繰り返しエッチングするうちに、エッチング槽内の溶液
(エッチング液)が汚れてエッチングレートが変動し、
所望の加工精度が得られなくなるという不都合があっ
た。。また、定期的に溶液を交換する必要があり、この
交換作業も手間のかかるものとなっていた。さらに、エ
ッチング槽からワークを引き上げる際に、溶液中または
液面に浮遊したゴミ等がワーク表面に付着し、エッチン
グ済のワークが汚れてしまうという問題もあった。
【0004】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、その目的は、エッチングレートの変動を抑
制し、かつワーク表面へのゴミの付着を回避できるエッ
チング装置およびエッチング方法を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、エッチング対象となる板
状のワークを略水平に保持するワークホルダと、このワ
ークホルダを回転させる回転駆動機構と、ワークの表面
にエッチング液を供給するエッチング液供給ユニット
と、ワークの表裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニ
ットとを備えた構成を採用している。
【0006】したがって本発明によれば、ワークホルダ
で保持したワークを回転駆動機構により回転させ、この
状態でエッチング液供給ユニットによりワークの表面に
エッチング液を供給することにより、常に新しいエッチ
ング液でワークのエッチングが行われるため、エッチン
グレートが安定したものとなる。また、ワークを回転さ
せながらエッチング液を供給するため、ワーク表面への
ゴミの付着も回避される。さらに、エッチング処理を終
えた時点で、洗浄液供給ユニットによりワークの表裏面
に洗浄液を供給することにより、ワーク表裏面に未だエ
ッチング液が残っている状態で流水洗浄が行われるた
め、洗浄時においてもワーク表面へのゴミの付着が回避
される。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しつつ詳細に説明する。図1は本発明に係
わるエッチング装置の一実施形態を示す概略側面図であ
る。図1に示すエッチング装置1は、大きくは、エッチ
ング対象となる板状のワーク(金属プレート等)2を略
水平に保持するワークホルダ3と、このワークホルダ3
を回転させる回転駆動機構4と、エッチング液供給ユニ
ット5と、洗浄液供給ユニット6と、ワーク2を乾燥さ
せる乾燥ユニット7とによって構成されている。
【0008】ワークホルダ3は、ベースプレート8の周
縁部に複数の支持アーム9を取り付け、そのアーム上端
部にワーク押え10を回動自在に取り付けたものであ
る。さらに詳述すると、各々の支持アーム9の上端部
は、図2(a),(b)に示すような段付構造をなして
おり、その下段側のワーク支持面11でワーク2を受け
るようになっている。また、ワーク支持面11には水切
り用の溝12が所定のパターンで形成されている。一
方、ワーク押え10は、支持アーム9の上端に設けられ
た支軸13に回動自在に支持され、その支軸13を中心
に図中二点鎖線で示すように揺動し得る構成になってい
る。また、ワーク押え10の先端には爪部14が形成さ
れ、同後端には錘15が取り付けられている。これによ
り、装置停止時には、錘15の重みによってワーク押え
10が図中二点鎖線で示す位置に保持されるため、爪部
14がワーク支持面11から離間した状態となる。
【0009】これに対して、ベースプレート8の周縁部
にはアーム取付用の孔(例えば、貫通孔)16が所定の
ピッチで設けられており、これらの孔16に下側から取
付ネジ(不図示)を差し込んで、支持アーム9下端面の
孔(例えば、ネジ孔)に螺合することで、支持アーム9
がベースプレート8上に固定されている。また、ベース
プレート8上における各々の孔16の位置は、種々のワ
ーク形状および寸法に対応し得るように設定されてお
り、どのような形態のワークを取り扱うかによって、支
持アーム9のタイプ(形状等)やその取付位置が適宜選
択されるようになっている。こうした構成を採用するこ
とにより、取り扱うワーク形態が変更になる場合でも、
支持アーム9を交換するだけで対応できるため、一台の
エッチング装置で多種類のワークを処理することが可能
になるとともに、ワーク変更に伴う段取り替えの所要時
間も短時間で済むようになる。
【0010】回転駆動機構4は、筒状の回転体17の下
端部に駆動モータ18を連結したもので、上述したベー
スプレート8は回転体17の上端部に同軸状態で固定さ
れている。このうち、回転体17の下端部にはベルト車
19が同軸状態で取り付けられている。これに対して、
駆動モータ18の出力軸にもベルト車20が取り付けら
れており、双方のベルト車19,20の間に歯付きベル
ト(タイミングベルト等)21が架け渡されている。こ
れにより、駆動モータ18を駆動すると、その回転駆動
力が歯付きベルト21を介して回転体17に伝達される
ため、回転体17と一体にワークホルダ3(ベースプレ
ート8)を回転させることができる。
【0011】さらに、回転駆動機構4の構成において
は、回転駆動源となる駆動モータ18にACサーボモー
タが採用されており、このACサーボモータに与える駆
動電流に応じて、ワークホルダ3の回転速度を低速域か
ら高速域までの広範囲にわたり可変としている。なお、
速度可変手段の他の形態としては、例えばACサーボモ
ータの代わりにステッピングモータを採用し、このステ
ッピングモータに与える駆動パルスの数に応じて、ワー
クホルダ3の回転速度を可変としてもよい。
【0012】エッチング液供給ユニット5は、ワークホ
ルダ3にセットされたワーク2の表面(図中上面)にエ
ッチング液を供給するもので、これはスイング式のシリ
ンダ(スイングシリンダ:KOGANEI製)22に配
管23を装着し、その先端側のノズル部分24を下方
(ワークホルダ3側)に向けて配置している。また、配
管23の基端部にはエッチング液供給源(不図示)が接
続されており、そこから供給されたエッチング液が配管
23を通してノズル部分24から吐出する構成になって
いる。
【0013】洗浄液供給ユニット6は、ワークホルダ3
にセットされたワーク2の表裏面に純水等の洗浄液を供
給するもので、これは上記エッチング液供給ユニット5
と同様にスイング式のシリンダ25に配管26を装着
し、その先端側のノズル部分27を下方に向けて配置し
ている。また、配管26の基端部には洗浄液供給源(不
図示)が接続されており、そこから供給された洗浄液が
配管26を通してノズル部分27から吐出する構成にな
っている。さらに、ワーク2の裏面側に廻り込んだエッ
チング液等を洗い流すために、上記回転駆動機構4の回
転体17にも洗浄液供給用の配管28が組み込まれてい
る。この配管28のノズル部分29は上方に向けて配置
されており、上記洗浄液供給源から供給された洗浄液が
配管28を通してノズル部分29からも吐出する構成に
なっている。
【0014】ここで、ワークホルダ3の外側には、これ
を取り囲む状態で飛散防止用のカップ30が設けられて
いる。このカップ30は、ワーク2の周縁部から飛散し
たミスト(液状)が装置内の不要な部分に付着しないよ
う防壁の役目を担うと同時に、カップ内壁面からワーク
2へのミストの跳ね返りを防止するものである。そのた
め、カップ30の内壁面の角度は、そこに飛散したミス
トが必ずワーク2を避けて下方に跳ね返るよう、ワーク
2との相対的な位置関係に応じて適宜設定されている。
【0015】また、各々のシリンダ22,25に装着さ
れた配管23,26のノズル部分24,27は、シリン
ダ22,25のスイング動作により、図4に示すよう
に、ワーク2の中心エリア(図中実線で示す)と、その
ワーク2から外れたエリア、この場合はカップ30の開
口径φよりも外側のエリア(図中二点鎖線で示す)の双
方に配置できるようになっている。
【0016】乾燥ユニット7は、上記回転駆動機構4に
よるスピン乾燥手段に加えて、装置本体31の上蓋32
に吹出ノズル33を備えた構成となっている。吹出ノズ
ル33は、回転体17に組み込まれた純水供給用のノズ
ル部分29の真上に対向配置され、図示せぬガス供給源
から供給された不活性ガス(例えば窒素ガス、あるいは
ヘリウムやアルゴン等の希ガス)をワーク2に吹き付け
るものである。
【0017】ちなみに、エッチング液および洗浄液を吐
出するノズル部分24,27と不活性ガスの吹出ノズル
33との位置関係は、図4に示すように、吹出ノズル3
3がワーク2のちょうど中心に位置し、これを挟むよう
に各ノズル部分24,27がワーク2の中心エリアに位
置する関係となっている。また、カップ30の底部には
排水管34と排気管35とが組み込まれており、さらに
安全上の理由から装置本体31の側壁部分にも排気管3
6が組み込まれている。
【0018】なお、ワーク2の中心エリアとそこから外
れたカップ30の外側エリアに各ノズル部分24,27
を移動させる手段については、上記スイング式のシリン
ダ22,25を使用すること以外にも、例えば図5に示
すように同一直線上で移動するノズルアーム34,35
の先端にノズル部分24,27を設け、ワーク2の中心
エリア(図中実線で示す)とカップ30の外側エリア
(図中二点鎖線で示す)の双方に配置可能としたもの
や、図示はしないが上下にスイングするシリンダにノズ
ル部分24,27を設けたものなど、種々の形態が考え
られる。ただし、上述のごとく水平にスイングするシリ
ンダ22,25や同一線上で移動するノズルアーム3
7,38にノズル部分24,27を設けるようにする
と、ワーク2上でノズル部分24,27を走査させるこ
とができるため、より好適なものとなる。また、ノズル
相互の位置関係についても、洗浄液用のノズル部分27
をワーク2中心に対向させて上蓋32に固定し、その近
傍に他のノズルを配置したものなど、種々の変形が可能
である。
【0019】続いて、上記構成からなるエッチング装置
1の動作手順につき、図6のフローチャートに従って説
明する。先ず、エッチング対象となるワーク2をワーク
ホルダ3にセットする(ステップ:S1)。この場合
は、装置本体31から上蓋32を取り外した状態で装置
本体31内にワーク2を投入するとともに、カップ30
の外側エリアに各ノズル部分24,27を待機させた状
態で支持アーム9のワーク支持面11にワーク2を載せ
る。また、こうしてワーク2をセットしたら、装置本体
31に上蓋32を取り付けて、ワーク2表面に吹出ノズ
ル33を対向させる。
【0020】次に、駆動モータ18の駆動により、回転
体17と一体にワークホルダ3およびベースプレート8
を低速(例えば10〜200rpm)で回転させ、これ
に共働してワーク2を低速で回転させる。(S2)。こ
のとき、支持アーム9の上端に支持されたワーク押え1
0は、その後端側の錘15がベースプレート8の回転に
伴う遠心力によって持ち上げられる。そうすると、支軸
13を中心としたワーク押え10の揺動によって爪部1
4が倒れ込み、ワーク2を上から押える。これにより、
回転中のワーク2はワーク押え10により確実に押え込
まれるため、ワーク支持面11でのワーク2の位置ずれ
が阻止される。
【0021】続いて、エッチング液供給ユニット5側の
シリンダ22をスイングさせて、エッチング液供給用の
ノズル部分24を上述の待機位置からワーク2の中心エ
リアに進出させる(S3)。これにより、上記ノズル部
分24はワーク2に対向した状態となる。
【0022】次いで、上述のごとくワーク2を低速回転
させた状態で、図示せぬエッチング液供給源から供給さ
れたエッチング液をノズル部分24から吐出させること
により、ワーク2の表面にエッチング液を供給する。こ
れにより、回転中のワーク2表面には、その全域にわた
ってエッチング液が行き渡るようになるため、化学的な
溶解作用によってワーク2の所定部分、すなわちレジス
トの無い部分が除かれる。このとき、ワーク2の周縁部
から飛散したエッチング液はカップ30の内壁面に付着
して下方に流れ落ち、そのままカップ30底部の排水管
34から装置外部に排出される。このことから、エッチ
ング液に対する装置構成部品の防食処理(例えば、テフ
ロンコーティング等)については、主としてカップ30
内を対象に行うだけで済むようになるため、設備コスト
の点でメリットが得られる。
【0023】ちなみに、ノズル部分24からのエッチン
グ液の吐出動作は、連続的に行ってもよいし、間欠的に
行ってもよい。また、エッチング処理中におけるノズル
部分24の位置は、ワーク2の中心エリアに固定したま
までもよいが、例えばシリンダ22のスイング動作によ
りワーク2上でノズル部分24を走査させるようにすれ
ば、ワーク2の表面に対して、より均一にしかも効率良
くエッチング液を供給できることから、一層好適なもの
となる。
【0024】ここで、エッチング処理中におけるワーク
2の回転速度については、使用するエッチング液の表面
張力に応じて適宜設定するとよい。すなわち、表面張力
が比較的小さいエッチング液を使用する場合は、ワーク
2の回転速度をより低速に設定し、表面張力が大きいエ
ッチング液を使用する場合は、それに応じてワーク2の
回転速度を高めに設定する。これにより、表面張力の異
なるエッチング液を使用する場合であっても、ワーク2
の表面にスムーズなエッチング液の流れを形成すること
ができる。
【0025】その後、エッチング液の供給を開始してか
ら規定の時間が経過すると、ノズル部分24からのエッ
チング液の供給が停止し(S5)、これに続いてシリン
ダ22のスイング動作により、エッチング液供給用のノ
ズル部分24がワーク2の中心エリアからカップ30の
外側エリア、つまり待機位置に移動する(S6)。次
に、洗浄液供給ユニット6側のシリンダ25をスイング
させて、洗浄液供給用のノズル部分27を上述の待機位
置からワーク2の中心エリアに進出させる(S7)。こ
れにより、上記ノズル部分27はワーク2に対向した状
態となる。なお、エッチング液供給用のノズル部分24
の後退動作と、洗浄液供給用のノズル部分27の進出動
作とは、同時進行で行うようにしてもよい。
【0026】続いて、ワーク2を所定の回転速度、例え
ば洗浄液に表面張力の小さい純水を使用する場合は50
〜80rpmで回転させながら、洗浄液供給源(不図
示)から供給された純水を、互いに対向する上下のノズ
ル部分27,29からそれぞれワーク2に向けて吐出さ
せる(S8)。このとき、ワーク2の回転速度がエッチ
ング処理の設定条件と異なる場合は、洗浄処理に先立っ
て駆動モータ18への駆動電流を変化(レベルダウンま
たはレベルアップ)させ、上記規定の回転速度に設定す
る。これにより、回転中のワーク2の表裏面には各ノズ
ル部分27,29から洗浄液が供給されるため、ワーク
表面に残っているエッチング液やワーク裏面側に廻り込
んだエッチング液が洗浄液により洗い流される。また、
こうしてワーク2の表裏面に供給された洗浄液は、カッ
プ30底部の排水管34から装置外部に排出される。ち
なみに、この洗浄処理中においても、上記エッチング処
理と同様に、シリンダ25のスイング動作によって上方
のノズル部分27をワーク2上で走査させると好適であ
る。
【0027】その後、洗浄液の供給を開始してから規定
の時間が経過すると、ノズル部分27,29からの洗浄
液の供給が停止し(S9)、これに続いてシリンダ25
のスイング動作により、洗浄液供給用のノズル部分27
がワーク2の中心エリアからカップ30の外側エリア
(待機位置)に移動する(S10)。
【0028】こうしてワーク2の洗浄処理を終えたら、
駆動モータ18に供給する駆動電流を変化(レベルアッ
プ)させて、ワークホルダ3とともにワーク2を高速、
例えば1000〜4000rpmで回転させ、ワーク2
のスピン乾燥を行うとともに(S11)、図示せぬガス
供給源から供給された不活性ガス(窒素ガス等)を吹出
ノズル33からワーク2に吹き付けて、ワーク2のブロ
ー乾燥を行う(S12)。このとき、ワーク2がセット
されているカップ30内の空間には、吹出ノズル33か
ら排気管35に向かう不活性ガスの流れ、すなわちダウ
ンフローが形成されるため、スピン乾燥との相乗効果に
よってワーク2の乾燥がきわめて効率良く行われる。ま
た、ワークホルダ3のワーク支持面11(図2参照)に
は、水切り用の溝12が形成されているため、スピン乾
燥によるワーク2周縁部での水切り効果もきわめて高い
ものとなる。
【0029】その後、規定の時間が経過したら、吹出ノ
ズル33からの不活性ガスの供給を停止するとともに
(S13)、駆動モータ18への駆動電流の供給を断っ
てワーク2の回転を停止させる(S14)。このとき、
ワーク2の回転停止に伴って、ワーク押え10が錘15
の重みで揺動するため、その先端側の爪部14がワーク
2から離間してワーク2の保持状態が自動的に解除され
る。最後は、装置本体31から上蓋32を取り外して、
ワークホルダ3からエッチング処理済のワーク2を取り
出す(S15)。これにより、エッチング装置1におけ
る一連の処理が終了する。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、エ
ッチング対象となる板状のワークをワークホルダにて略
水平に保持するとともに、回転駆動機構によってワーク
ホルダとともにワークを回転させた状態で、エッチング
液供給ユニットによりワークの表面にエッチング液を供
給することにより、常に新しいエッチング液でワークの
エッチング処理が行われるため、安定したエッチングレ
ートでワークを加工することができる。また、ワークを
回転させながらエッチング液を供給するため、エッチン
グ処理中におけるワーク表面へのゴミの付着も回避する
ことができる。さらに、エッチング処理を終えた時点
で、洗浄液供給ユニットによりワークの表裏面に洗浄液
を供給することにより、ワーク表裏面にエッチング液が
残っている状態でワークの洗浄処理が行われるため、洗
浄時においてもワーク表面へのゴミの付着を回避するこ
とができる。その結果、ウェットエッチングによるワー
クの加工精度が向上するとともに、エッチング済ワーク
でのゴミの付着量が低減するなどの顕著な効果が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるエッチング装置の一実施形態を
示す概略側面図である。
【図2】ワークホルダの詳細図(その1)である。
【図3】ワークホルダの詳細図(その2)である。
【図4】ノズル相互の配置関係を示す平面図である。
【図5】ノズルの他の配置例を示す平面図である。
【図6】装置の動作手順を説明するフローチャートであ
る。
【符号の説明】
1 エッチング装置 2 ワーク 3 ワークホル
ダ 4 回転駆動機構 5 エッチング液供給ユニット 6 洗浄液供給ユニット 7 乾燥ユニット 30
カップ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エッチング対象となる板状のワークを略
    水平に保持するワークホルダと、 前記ワークホルダを回転させる回転駆動機構と、 前記ワークの表面にエッチング液を供給するエッチング
    液供給ユニットと、 前記ワークの表裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニ
    ットとを備えたことを特徴とするエッチング装置。
  2. 【請求項2】 前記ワークを乾燥させる乾燥ユニットを
    有していることを特徴とする請求項1記載のエッチング
    装置。
  3. 【請求項3】 前記ワークホルダを取り囲む状態で飛散
    防止用のカップが設けられていることを特徴とする請求
    項1記載のエッチング装置。
  4. 【請求項4】 前記回転駆動機構は、前記ワークホルダ
    の回転速度を可変する手段を有していることを特徴とす
    る請求項1記載のエッチング装置。
  5. 【請求項5】 エッチング液を用いて板状のワークをエ
    ッチングする方法において、 前記ワークを回転させた状態で、前記ワークの表面に前
    記エッチング液を供給してエッチング処理を行うととも
    に、 前記エッチング処理の直後に、回転中のワーク表裏面に
    洗浄液を供給して洗浄処理を行うことを特徴とするエッ
    チング方法。
JP2634396A 1996-02-14 1996-02-14 エッチング装置およびエッチング方法 Pending JPH09217183A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2634396A JPH09217183A (ja) 1996-02-14 1996-02-14 エッチング装置およびエッチング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2634396A JPH09217183A (ja) 1996-02-14 1996-02-14 エッチング装置およびエッチング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09217183A true JPH09217183A (ja) 1997-08-19

Family

ID=12190807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2634396A Pending JPH09217183A (ja) 1996-02-14 1996-02-14 エッチング装置およびエッチング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09217183A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100869472B1 (ko) * 2008-04-07 2008-11-21 프리시스 주식회사 평판의 비접촉식 이면식각장치
KR20200004043A (ko) * 2018-07-03 2020-01-13 주식회사 피닉스아이앤씨 초 박막 유리의 회전 방식 에칭 장치
JP2021057503A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2023046818A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100869472B1 (ko) * 2008-04-07 2008-11-21 프리시스 주식회사 평판의 비접촉식 이면식각장치
KR20200004043A (ko) * 2018-07-03 2020-01-13 주식회사 피닉스아이앤씨 초 박막 유리의 회전 방식 에칭 장치
JP2021057503A (ja) * 2019-09-30 2021-04-08 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2023046818A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
US12538753B2 (en) 2021-09-24 2026-01-27 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate processing apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0568092B2 (ja)
JPH0929189A (ja) 洗浄装置
JP3341727B2 (ja) ウエット装置
JP2002151455A (ja) 半導体ウエハ用洗浄装置
JPH07106233A (ja) 回転式基板処理装置
JP3177728B2 (ja) 処理装置及び処理方法
JPH10242110A (ja) 回転処理方法および回転処理装置
JP2000147787A (ja) 現像方法及び現像装置
JP2002143749A (ja) 回転塗布装置
JPH09217183A (ja) エッチング装置およびエッチング方法
JP2008308709A (ja) 半導体装置の製造方法及び製造装置
JPH11111673A (ja) エッチング方法および処理装置
KR100408114B1 (ko) 기판처리장치
JP2886157B1 (ja) カップ式めっき方法及びそれに用いる清浄装置
JP4364659B2 (ja) スピン処理装置及びスピン処理方法
KR100191848B1 (ko) 기판이면 세정방법 및 장치
JP3451158B2 (ja) 基板の回転式現像処理方法及び装置
JPH0362925A (ja) 水洗装置
JP3453022B2 (ja) 現像装置
JP2635476B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
JP2922754B2 (ja) 回転式基板乾燥装置及び回転式基板乾燥方法
JP4011040B2 (ja) 現像装置および現像方法
JPH06120133A (ja) 現像装置
JPH118192A (ja) 処理装置および処理方法
JPH08279484A (ja) 半導体ウェハのエッチング方法及び装置