JPH09220723A - 成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法 - Google Patents
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法Info
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- JPH09220723A JPH09220723A JP8275347A JP27534796A JPH09220723A JP H09220723 A JPH09220723 A JP H09220723A JP 8275347 A JP8275347 A JP 8275347A JP 27534796 A JP27534796 A JP 27534796A JP H09220723 A JPH09220723 A JP H09220723A
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- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のコンタクトレンズに視認可能なマーク
をつける方法は、どれも、時間がかかり、制御が難し
く、典型的には、コンタクトレンズの製造のコストを増
大させるなどの課題があった。 【解決手段】 深さが最小でも１０ミクロン以上、
［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体
積］の比で表される体積指標が最低でも０．９以上とな
るように、金属製の鋳型インサートに凹状のマーク形状
を形成する工程と、前記金属製の鋳型インサートを用い
て熱可塑性の鋳型フレームを射出成形する工程と、熱可
塑性の鋳型フレーム中でソフトヒドロゲルコンタクトレ
ンズを鋳造する工程とを備えた方法であり、凹状のマー
ク形状のＲＭＳ／ＰＶ，Ｒａ／ＰＶ，ＲＭＳ／Ｈ，Ｒａ
／Ｈ等の表面粗さの比を所定値以上に調節する。また、
インサートへの凹状のマーク形状の形成に放電彫刻法
（ＥＤＭ）を用い、各パラメータ値の確認を非接触走査
白色光干渉計を用いて行う。
をつける方法は、どれも、時間がかかり、制御が難し
く、典型的には、コンタクトレンズの製造のコストを増
大させるなどの課題があった。 【解決手段】 深さが最小でも１０ミクロン以上、
［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下の体
積］の比で表される体積指標が最低でも０．９以上とな
るように、金属製の鋳型インサートに凹状のマーク形状
を形成する工程と、前記金属製の鋳型インサートを用い
て熱可塑性の鋳型フレームを射出成形する工程と、熱可
塑性の鋳型フレーム中でソフトヒドロゲルコンタクトレ
ンズを鋳造する工程とを備えた方法であり、凹状のマー
ク形状のＲＭＳ／ＰＶ，Ｒａ／ＰＶ，ＲＭＳ／Ｈ，Ｒａ
／Ｈ等の表面粗さの比を所定値以上に調節する。また、
インサートへの凹状のマーク形状の形成に放電彫刻法
（ＥＤＭ）を用い、各パラメータ値の確認を非接触走査
白色光干渉計を用いて行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、マークの付けら
れたコンタクトレンズを製造するための鋳型インサート
のマーキングに関するものであり、より詳細には、コン
タクトレンズ用の鋳型インサートの放電彫刻に関するも
のである。
れたコンタクトレンズを製造するための鋳型インサート
のマーキングに関するものであり、より詳細には、コン
タクトレンズ用の鋳型インサートの放電彫刻に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】コンタクトレンズには、以下に示す種々
の用途または機能のために視認可能なマークが付けられ
る。まず、視認可能なマークは、コンタクトレンズの反
転指示用に用いることができ、視認可能なマークは、特
定のデザインとしてレンズ上につけられ、レンズが適切
な形状となっているか裏返しとなっているかをユーザー
が判断することを可能とする。また他の視認可能なマー
クを、製造会社を示すための商標として付けることがで
きる。視認可能なマークはまた、挿入時の眼に対する特
定の方向性を必要とする種類のコンタクトレンズにおい
ても必要とされる。
の用途または機能のために視認可能なマークが付けられ
る。まず、視認可能なマークは、コンタクトレンズの反
転指示用に用いることができ、視認可能なマークは、特
定のデザインとしてレンズ上につけられ、レンズが適切
な形状となっているか裏返しとなっているかをユーザー
が判断することを可能とする。また他の視認可能なマー
クを、製造会社を示すための商標として付けることがで
きる。視認可能なマークはまた、挿入時の眼に対する特
定の方向性を必要とする種類のコンタクトレンズにおい
ても必要とされる。
【０００３】それから、視認可能なマークには、最初の
製品包装や保存容器中に用いられる生理食塩水の保存液
などの、溶液中にあるレンズをより容易に視認し探し出
すことを可能にすることが望まれている。
製品包装や保存容器中に用いられる生理食塩水の保存液
などの、溶液中にあるレンズをより容易に視認し探し出
すことを可能にすることが望まれている。
【０００４】従来技術は、コンタクトレンズに対して視
認可能なマークを付ける際の問題点を解決するための技
術的アプローチを多数開示している。レーザによるエッ
チングやバーニングによる方法がＥＰ２９１４５９号公
報やＪＰ６１２２３８２０号公報において教示されてお
り、また、ダイヤモンド点状彫刻法がＤＥ３３１６７３
０号公報に開示されている。
認可能なマークを付ける際の問題点を解決するための技
術的アプローチを多数開示している。レーザによるエッ
チングやバーニングによる方法がＥＰ２９１４５９号公
報やＪＰ６１２２３８２０号公報において教示されてお
り、また、ダイヤモンド点状彫刻法がＤＥ３３１６７３
０号公報に開示されている。
【０００５】また、紫外線のエネルギーに対する感光材
料を用いるなどの印刷技術による方法が、ＧＢ２００６
１４号公報、ＤＥ３２１９８９０号公報、ＪＰ６１２１
１３８２号公報等に示されている。そして、他の着色技
術や染色技術がＪＰ６２１８６２２１号公報、ＪＰ６２
１８６２２２号公報、ＪＰ６２２５０２８６号公報等に
開示されている。
料を用いるなどの印刷技術による方法が、ＧＢ２００６
１４号公報、ＤＥ３２１９８９０号公報、ＪＰ６１２１
１３８２号公報等に示されている。そして、他の着色技
術や染色技術がＪＰ６２１８６２２１号公報、ＪＰ６２
１８６２２２号公報、ＪＰ６２２５０２８６号公報等に
開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来技術のア
プローチは、どれも、時間がかかり、制御が難しく、典
型的には、コンタクトレンズの製造のコストを増大させ
るものであった。
プローチは、どれも、時間がかかり、制御が難しく、典
型的には、コンタクトレンズの製造のコストを増大させ
るものであった。
【０００７】これらの従来技術の欠点を考慮すれば、効
率的で、制御容易で、大量生産施設において繰り返し容
易で、レンズ製品の製造コストを特に増加させることな
く、コンタクトレンズの最終製品に充分に視認可能なマ
ークを付けることができるようなソフトコンタクトレン
ズへのマーキング方法を開発することは有益であろう。
率的で、制御容易で、大量生産施設において繰り返し容
易で、レンズ製品の製造コストを特に増加させることな
く、コンタクトレンズの最終製品に充分に視認可能なマ
ークを付けることができるようなソフトコンタクトレン
ズへのマーキング方法を開発することは有益であろう。
【０００８】従って、この発明の第１の目的は、マーク
の付けられたコンタクトレンズの製造に用いられる鋳型
インサートのマーキング方法を提供することである。
の付けられたコンタクトレンズの製造に用いられる鋳型
インサートのマーキング方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】ここに示される各教示に
従ってこの発明は成型されるコンタクトレンズに視認可
能なマークを付ける方法を提供する。その方法は、その
後コンタクトレンズの最終生産物の成型に用いられる射
出成型フレーム（injection molded frames ）の製造に
おいて用いられる金属のインサートに、凹状のマーク形
状を付ける工程を有する。
従ってこの発明は成型されるコンタクトレンズに視認可
能なマークを付ける方法を提供する。その方法は、その
後コンタクトレンズの最終生産物の成型に用いられる射
出成型フレーム（injection molded frames ）の製造に
おいて用いられる金属のインサートに、凹状のマーク形
状を付ける工程を有する。
【００１０】凹状のマーク形状は、深さが少なくとも約
１０ミクロンあり、［（基準面下の体積−基準面上の体
積）／基準面下の体積］で表される体積指標（ＶＩ）が
少なくとも約０．９ある。
１０ミクロンあり、［（基準面下の体積−基準面上の体
積）／基準面下の体積］で表される体積指標（ＶＩ）が
少なくとも約０．９ある。
【００１１】金属製インサートの凹状のマーク形状は、
続いて、射出成型フレームにおける凸部として転写され
る。そして、その後、インサートを用いて準備されたフ
レーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可
能な凹状のマークとして転写される。
続いて、射出成型フレームにおける凸部として転写され
る。そして、その後、インサートを用いて準備されたフ
レーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可
能な凹状のマークとして転写される。
【００１２】より詳細にいえば、この発明は、金属製の
鋳型インサートに、深さが少なくとも約１０ミクロンあ
り、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下
の体積］で表される体積指標が少なくとも約０．９ある
凹状のマーク形状を付け、金属製の鋳型インサートを用
いて熱可塑性の鋳型フレームを射出成型し、熱可塑性の
鋳型フレーム中でヒドロゲル製のソフトコンタクトレン
ズを成型する工程を備えた、成型コンタクトレンズに視
認可能なマークを付ける方法に関するものであり、ここ
で、金属製インサートの凹状のマーク形状は、射出成型
熱可塑性フレームにおける凸部として転写され、その
後、インサートを用いて準備された熱可塑性の鋳型フレ
ーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可能
な凹状のマークとして転写されるものである。
鋳型インサートに、深さが少なくとも約１０ミクロンあ
り、［（基準面下の体積−基準面上の体積）／基準面下
の体積］で表される体積指標が少なくとも約０．９ある
凹状のマーク形状を付け、金属製の鋳型インサートを用
いて熱可塑性の鋳型フレームを射出成型し、熱可塑性の
鋳型フレーム中でヒドロゲル製のソフトコンタクトレン
ズを成型する工程を備えた、成型コンタクトレンズに視
認可能なマークを付ける方法に関するものであり、ここ
で、金属製インサートの凹状のマーク形状は、射出成型
熱可塑性フレームにおける凸部として転写され、その
後、インサートを用いて準備された熱可塑性の鋳型フレ
ーム中で成型されるコンタクトレンズにおける視認可能
な凹状のマークとして転写されるものである。
【００１３】更に詳しくは、凹状のマーク形状は、Ｒａ
を中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの
偏差の算術平均とし、ＰＶを頂部から谷部までの測定値
として、表面粗さの比（Ｒａ／ＰＶ）は約０．１５以上
であり、また、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィット
された表面位置からの偏差の２乗平均として、表面粗さ
の比（ＲＭＳ／ＰＶ）は約０．１５以上である。この発
明の方法は、特に、安定化ソフト成型（stabilizad sof
t molded（ＳＳＭ））されるヒドロゲルコンタクトレン
ズに適用可能である。
を中心線もしくはベストフィットされた表面位置からの
偏差の算術平均とし、ＰＶを頂部から谷部までの測定値
として、表面粗さの比（Ｒａ／ＰＶ）は約０．１５以上
であり、また、ＲＭＳを中心線もしくはベストフィット
された表面位置からの偏差の２乗平均として、表面粗さ
の比（ＲＭＳ／ＰＶ）は約０．１５以上である。この発
明の方法は、特に、安定化ソフト成型（stabilizad sof
t molded（ＳＳＭ））されるヒドロゲルコンタクトレン
ズに適用可能である。
【００１４】更に、Ｈをマークの縦断面における２本の
基準線間の距離として、表面粗さの比（Ｒａ／Ｈ）また
は（ＲＭＳ／Ｈ）は少なくとも１．５程度である。
基準線間の距離として、表面粗さの比（Ｒａ／Ｈ）また
は（ＲＭＳ／Ｈ）は少なくとも１．５程度である。
【００１５】インサートに対して凹状のマーク形状を付
けるのに好ましい方法としては、放電彫刻法（Electric
Discharge Machining（ＥＤＭ））がある。また、上記
のいくつかのパラメータ：ＲＭＳ，Ｒａ，ＰＶ，および
ＶＩの大きさは、非接触の白色光干渉計の走査により確
認することができる。
けるのに好ましい方法としては、放電彫刻法（Electric
Discharge Machining（ＥＤＭ））がある。また、上記
のいくつかのパラメータ：ＲＭＳ，Ｒａ，ＰＶ，および
ＶＩの大きさは、非接触の白色光干渉計の走査により確
認することができる。
【００１６】従来技術とは対照的に、この発明の方法
は、効率的で、制御容易で、繰り返し容易で、レンズ製
品の製造コストを特に増加させることなく、コンタクト
レンズの最終製品に充分に視認可能なマークを付けるこ
とができる。
は、効率的で、制御容易で、繰り返し容易で、レンズ製
品の製造コストを特に増加させることなく、コンタクト
レンズの最終製品に充分に視認可能なマークを付けるこ
とができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】この発明において用いられている
全体の成型工程は、従来技術において周知のものであ
り、金属製のインサート鋳型を用いる。インサート鋳型
は、多数の熱可塑性射出成型フレームの製造に用いら
れ、熱可塑性射出成型フレームは、後に一個のコンタク
トレンズを成型するために一度だけ用いられる。この工
程においては、熱可塑性フレームは、金属製のインサー
ト鋳型中で射出成型され、成型キャビティーを形成する
工程において接続される２個の半形成体が造られる。射
出成型フレームを用いて形成された成型キャビティーに
は、次に単量体が充填され、これがレンズ形成のために
重合され、鋳型から取り外され、ソフトヒドロゲルレン
ズの最終製品とするために更に加工される。
全体の成型工程は、従来技術において周知のものであ
り、金属製のインサート鋳型を用いる。インサート鋳型
は、多数の熱可塑性射出成型フレームの製造に用いら
れ、熱可塑性射出成型フレームは、後に一個のコンタク
トレンズを成型するために一度だけ用いられる。この工
程においては、熱可塑性フレームは、金属製のインサー
ト鋳型中で射出成型され、成型キャビティーを形成する
工程において接続される２個の半形成体が造られる。射
出成型フレームを用いて形成された成型キャビティーに
は、次に単量体が充填され、これがレンズ形成のために
重合され、鋳型から取り外され、ソフトヒドロゲルレン
ズの最終製品とするために更に加工される。
【００１８】フレームは、射出成型により成型可能であ
り、要求される光学的特性を持つ最終成型レンズを与え
るものであれば、どのような熱可塑性の物質から造られ
てもよく、フレームとして好ましい材質はポリスチレン
やポリプロピレンである。フレームの射出成型のために
は、従来技術において周知のように、要求される形状の
金属製の工具インサートが加工され、射出成型機械に取
り付けられる。射出成型されたフレームは金属製の鋳型
インサートの厳密な反転複製品となる。
り、要求される光学的特性を持つ最終成型レンズを与え
るものであれば、どのような熱可塑性の物質から造られ
てもよく、フレームとして好ましい材質はポリスチレン
やポリプロピレンである。フレームの射出成型のために
は、従来技術において周知のように、要求される形状の
金属製の工具インサートが加工され、射出成型機械に取
り付けられる。射出成型されたフレームは金属製の鋳型
インサートの厳密な反転複製品となる。
【００１９】この発明においては、凹状の視認可能マー
ク形状が金属製インサートの表面に加工される。続く射
出成型工程において、熱可塑性重合体材料は金属インサ
ートの形状と寸法に整合する。従って、射出成型された
フレームはその表面に、金属製の鋳型インサートにある
凹状の形状に厳密に合致する凸部を有することとなる。
ク形状が金属製インサートの表面に加工される。続く射
出成型工程において、熱可塑性重合体材料は金属インサ
ートの形状と寸法に整合する。従って、射出成型された
フレームはその表面に、金属製の鋳型インサートにある
凹状の形状に厳密に合致する凸部を有することとなる。
【００２０】続くコンタクトレンズの成型の操作におい
て、成型キャビティー中に導入された反応性のポリマー
は正確に鋳型の表面に形状が合い、これにより重合化終
了後にはレンズは、鋳型の凸状の部分に正確に一致する
凹状の形状を有することとなり、金属製の鋳型インサー
トに設けられた凹状の部分を正確に複製することとな
る。
て、成型キャビティー中に導入された反応性のポリマー
は正確に鋳型の表面に形状が合い、これにより重合化終
了後にはレンズは、鋳型の凸状の部分に正確に一致する
凹状の形状を有することとなり、金属製の鋳型インサー
トに設けられた凹状の部分を正確に複製することとな
る。
【００２１】金属製の鋳型インサートの凹状の形状は、
全てを以下に説明する要求深さ、表面粗さ、および体積
指標が達成するものであれば、レーザーエッチング、化
学エッチング、彫刻法、放電彫刻法等の従来技術におい
て周知のどのような加工方法によっても形成することが
できる。適切なパラメータを有する凹状の形状を与える
ために好ましい方法は、放電彫刻法（ＥＤＭ）によるも
のである。
全てを以下に説明する要求深さ、表面粗さ、および体積
指標が達成するものであれば、レーザーエッチング、化
学エッチング、彫刻法、放電彫刻法等の従来技術におい
て周知のどのような加工方法によっても形成することが
できる。適切なパラメータを有する凹状の形状を与える
ために好ましい方法は、放電彫刻法（ＥＤＭ）によるも
のである。
【００２２】放電彫刻法（ＥＤＭ）は従来技術において
よく知られており、Poco Graphite,1601 S.State,Decat
ur,Texas 76234による本「A PRACTICAL GUIDE TO ELECT
RODEMATERIAL SELECTION 」の特に８〜１６頁に記載さ
れている。この発明の一つのデザインされた実施態様に
おいては、Wood Dale,Illinois 60191のMitsubishi Int
ernational Corp.製のＭ２５Ｊ ＥＤＭユニットを使用
した。
よく知られており、Poco Graphite,1601 S.State,Decat
ur,Texas 76234による本「A PRACTICAL GUIDE TO ELECT
RODEMATERIAL SELECTION 」の特に８〜１６頁に記載さ
れている。この発明の一つのデザインされた実施態様に
おいては、Wood Dale,Illinois 60191のMitsubishi Int
ernational Corp.製のＭ２５Ｊ ＥＤＭユニットを使用
した。
【００２３】マークのバーニングにおいては、電極は下
向きにと同様に側壁に対しても発火する。これにより、
マークの側面と底面の両方に粗さが形成される。使用さ
れる移動速度、電極サイズ、および通過回数は、最終的
に形成される表面粗さに影響する。この粗さは、以下に
記すように、マークに視認性を与えるために要求される
ものである。
向きにと同様に側壁に対しても発火する。これにより、
マークの側面と底面の両方に粗さが形成される。使用さ
れる移動速度、電極サイズ、および通過回数は、最終的
に形成される表面粗さに影響する。この粗さは、以下に
記すように、マークに視認性を与えるために要求される
ものである。
【００２４】付けられたマークのパラメータの確認およ
び決定は、共にMiddle Field,ConnecticutのZYGO Corp.
製の、ＮｅｗＶｉｅｗ１００干渉計とＭｅｔｒｏｐｒｏ
ソフトウェアを使用して行うことができる。ＮｅｗＶｉ
ｅｗ１００は表面形状の決定のための高分解能ｘ，ｙ，
ｚ軸像の形成に、非接触走査白色光干渉計を用いる。
び決定は、共にMiddle Field,ConnecticutのZYGO Corp.
製の、ＮｅｗＶｉｅｗ１００干渉計とＭｅｔｒｏｐｒｏ
ソフトウェアを使用して行うことができる。ＮｅｗＶｉ
ｅｗ１００は表面形状の決定のための高分解能ｘ，ｙ，
ｚ軸像の形成に、非接触走査白色光干渉計を用いる。
【００２５】ＮｅｗＶｉｅｗ１００は自身の光源からの
光を分配し、一方の光線を精密な内部表面に送り、もう
一方の光線をサンプル表面に送る。反射された各光線は
干渉計中で再結合する。結果として生じる光路差によ
り、各光線に強め合いまたは打ち消し合う干渉が生じ、
ビデオモニター上で視認可能な明暗縞パターンが生じ
る。
光を分配し、一方の光線を精密な内部表面に送り、もう
一方の光線をサンプル表面に送る。反射された各光線は
干渉計中で再結合する。結果として生じる光路差によ
り、各光線に強め合いまたは打ち消し合う干渉が生じ、
ビデオモニター上で視認可能な明暗縞パターンが生じ
る。
【００２６】適切なＥＤＭ処理（バーニング）条件を選
択することは、マークの視認性および性能に対して決定
的に重要である。ある特有のバーニング条件は、いくつ
かの変数値からなっている。許容しうるバーニングを行
うことが可能なこれらの変数の値とその適切な組合せ
は、予め製造者により決定され、提供されるソフトウェ
ア中にプログラムされている。
択することは、マークの視認性および性能に対して決定
的に重要である。ある特有のバーニング条件は、いくつ
かの変数値からなっている。許容しうるバーニングを行
うことが可能なこれらの変数の値とその適切な組合せ
は、予め製造者により決定され、提供されるソフトウェ
ア中にプログラムされている。
【００２７】これらの変数の組合せは「Ｅ」パッケージ
（Ｅ−ｐａｃｋｓ）として知られているもので、文字
「Ｅ」と４桁の数により示される。図１には、使用され
るバーニング条件のいくつかの値の例を、Ｅ−ｐａｃｋ
表示とともに示しており、左側の枠には、製造者から入
手可能なユーザーズマニュアルに詳細に定義されている
各変数がリストされている。
（Ｅ−ｐａｃｋｓ）として知られているもので、文字
「Ｅ」と４桁の数により示される。図１には、使用され
るバーニング条件のいくつかの値の例を、Ｅ−ｐａｃｋ
表示とともに示しており、左側の枠には、製造者から入
手可能なユーザーズマニュアルに詳細に定義されている
各変数がリストされている。
【００２８】左側の枠にリストされている各変数には、
以下に示すような簡単な説明がある。 ＥＰ−ＳＥＬではパワーサプライの種類を選択する。 ＴＰ：標準的なトランジスタパワーサプライ ＳＦ：精密仕上げ回路 ＳＣ：傾斜制御回路 ＧＭ：光沢鏡面用精密仕上げ回路
以下に示すような簡単な説明がある。 ＥＰ−ＳＥＬではパワーサプライの種類を選択する。 ＴＰ：標準的なトランジスタパワーサプライ ＳＦ：精密仕上げ回路 ＳＣ：傾斜制御回路 ＧＭ：光沢鏡面用精密仕上げ回路
【００２９】ＰＯＬは極性の選択である。選択枝は正
（＋）か負（−）であり、正極性はスパークが電極から
加工部分へ飛ぶことを意味し、負極性はスパークが加工
部分から電極へ飛ぶことを意味する。
（＋）か負（−）であり、正極性はスパークが電極から
加工部分へ飛ぶことを意味し、負極性はスパークが加工
部分から電極へ飛ぶことを意味する。
【００３０】ＡＵＸは外部設定の選択である。外部設定
は、ＳＦ，ＳＣ回路へのパワー設定を０から９に設定す
るのに用いられる。ＩＰはピーク電流の設定である。実
際のピーク電流アンペアを０から１０に設定する。ＤＥ
Ｌ Ｉｐではピーク電流アンペアの微調整値を０から１
０に設定する。
は、ＳＦ，ＳＣ回路へのパワー設定を０から９に設定す
るのに用いられる。ＩＰはピーク電流の設定である。実
際のピーク電流アンペアを０から１０に設定する。ＤＥ
Ｌ Ｉｐではピーク電流アンペアの微調整値を０から１
０に設定する。
【００３１】ＧＡＰ（Ｆ）はギャップ電圧である。ギャ
ップの設定には２つの目的がある。第１にサーボ応答の
型をＥＰにするかＭＶにするかの選択であり、第２にギ
ャップ電圧の選択である（ギャップが開いており彫刻が
行われている間は電圧のポテンシャルが存在する。）。
ＥＰなら０〜５にＭＶなら１０〜１５に設定する。ＯＮ
はＯｎ時間の選択である。放電パルスのＯｎ時間を選択
する。１から１２に設定する。ＤＥＬ ＯＮはＯｎ時間
の微調整である。０から９に設定する。
ップの設定には２つの目的がある。第１にサーボ応答の
型をＥＰにするかＭＶにするかの選択であり、第２にギ
ャップ電圧の選択である（ギャップが開いており彫刻が
行われている間は電圧のポテンシャルが存在する。）。
ＥＰなら０〜５にＭＶなら１０〜１５に設定する。ＯＮ
はＯｎ時間の選択である。放電パルスのＯｎ時間を選択
する。１から１２に設定する。ＤＥＬ ＯＮはＯｎ時間
の微調整である。０から９に設定する。
【００３２】ＯＦＦはｏｆｆ時間の選択である。放電パ
ルスのｏｆｆ時間を１から１２に設定する。ＤＥＬ Ｏ
ＦＦはｏｆｆ時間の微調整である。０から９に設定す
る。ＪＵＭＰＵは実際の加工部分と電極との距離を選択
するジャンプアップである。０から９に設定する。
ルスのｏｆｆ時間を１から１２に設定する。ＤＥＬ Ｏ
ＦＦはｏｆｆ時間の微調整である。０から９に設定す
る。ＪＵＭＰＵは実際の加工部分と電極との距離を選択
するジャンプアップである。０から９に設定する。
【００３３】ＪＵＭＰＤは実際のジャンプダウン時間を
選択するジャンプダウンである。１から９に設定する。
ＰＣＯＮは並列コンデンサである。ＰＣＯＮ設定では、
放電回路に付加することができる並列コンデンサ（キャ
パシター）の数を選択する。０から５に設定する。ＪＵ
ＭＰはジャンプのオン／オフ選択である。選択範囲は、
０から９であり、０はオフ、１から９がオンである。
選択するジャンプダウンである。１から９に設定する。
ＰＣＯＮは並列コンデンサである。ＰＣＯＮ設定では、
放電回路に付加することができる並列コンデンサ（キャ
パシター）の数を選択する。０から５に設定する。ＪＵ
ＭＰはジャンプのオン／オフ選択である。選択範囲は、
０から９であり、０はオフ、１から９がオンである。
【００３４】ＧＡＩＮはゲインの選択である。ユニット
のサーボゲインを１（最小）から９９（最大）に設定す
る。ＯＰＡＪはオプティマイザーの感度の選択である。
オプティマイザーの感度の範囲は０（感度最高）から１
０（感度最低）までである。
のサーボゲインを１（最小）から９９（最大）に設定す
る。ＯＰＡＪはオプティマイザーの感度の選択である。
オプティマイザーの感度の範囲は０（感度最高）から１
０（感度最低）までである。
【００３５】Ｅ−ｐａｃｋの各変数は、炎の質を変化さ
せるために各々独立に変化させることができる。マーク
の性能（視認可能性）に最大に影響する主な変数の２つ
は、電流値のＩｐとＤＥＬ Ｉｐである。理論的には、
電流値を大きくするにつれ、炎はより強く、より深く入
るようになり、より深く明確なマークを付けることがで
きることとなり、レンズにおける視認可能性増大と識別
可能性増進へと転換される。
せるために各々独立に変化させることができる。マーク
の性能（視認可能性）に最大に影響する主な変数の２つ
は、電流値のＩｐとＤＥＬ Ｉｐである。理論的には、
電流値を大きくするにつれ、炎はより強く、より深く入
るようになり、より深く明確なマークを付けることがで
きることとなり、レンズにおける視認可能性増大と識別
可能性増進へと転換される。
【００３６】マークの視認可能性に影響を与える他の独
立変数としては、電極の直径がある。適切な電極の直径
は、０．００５インチから０．０１０インチの間であ
る。いくつかの試験において、直径の大きい電極の先端
部の三角形の大きさを「Ａ」字型に小さくしたものにお
いては、読みにくい文字となることが判明している。電
極直径はレンズに付けられたマークの形状に基づいて最
適に決定される。
立変数としては、電極の直径がある。適切な電極の直径
は、０．００５インチから０．０１０インチの間であ
る。いくつかの試験において、直径の大きい電極の先端
部の三角形の大きさを「Ａ」字型に小さくしたものにお
いては、読みにくい文字となることが判明している。電
極直径はレンズに付けられたマークの形状に基づいて最
適に決定される。
【００３７】各文字はＥＤＭマシンにより加工部分に書
き加えられる。キャラクターの始点から終点までに描か
れるパターンとその距離は一筆書きで考えられる。キャ
ラクター上の通過回数が多くなるほど、炎は深くなり、
これによりキャラクターはより見えやすくなることが理
論化されている。
き加えられる。キャラクターの始点から終点までに描か
れるパターンとその距離は一筆書きで考えられる。キャ
ラクター上の通過回数が多くなるほど、炎は深くなり、
これによりキャラクターはより見えやすくなることが理
論化されている。
【００３８】図２には、特定のキャラクターに対して試
行された通過回数の例を、総経過時間、Ｅ−ｐａｃｋ表
示、およびプログラムされた文字高さとともに示してい
る。通過回数の制限は、生産効率、製造の際の考慮事
項、およびマークの配置を考慮したレンズ形状に依存す
る。また、連続するフレームの鋳造の処理において、深
いマークの方がインサート表面の磨滅寿命が長いことに
着目する必要がある。
行された通過回数の例を、総経過時間、Ｅ−ｐａｃｋ表
示、およびプログラムされた文字高さとともに示してい
る。通過回数の制限は、生産効率、製造の際の考慮事
項、およびマークの配置を考慮したレンズ形状に依存す
る。また、連続するフレームの鋳造の処理において、深
いマークの方がインサート表面の磨滅寿命が長いことに
着目する必要がある。
【００３９】金属製のインサートは図１と図２で規定さ
れる炎の条件でマーキングされた。各レンズは、図１中
に指定され、Ａ，Ｂ，およびＣとラベル付けされた炎の
条件でマーキングされた金属製のインサートにより製造
された熱可塑性のフレームを用いて鋳造された。
れる炎の条件でマーキングされた。各レンズは、図１中
に指定され、Ａ，Ｂ，およびＣとラベル付けされた炎の
条件でマーキングされた金属製のインサートにより製造
された熱可塑性のフレームを用いて鋳造された。
【００４０】図２に示されているように、レンズＡはＥ
−ｐａｃｋ Ｅ９５２１の条件と指示された通過回数に
よりマーキングされた金属製のインサートから製造され
た鋳型フレームより鋳造された。レンズＢはＥ−ｐａｃ
ｋ Ｅ９５２０の条件と指示された通過回数によりマー
キングされた金属製のインサートから製造された鋳型フ
レームより鋳造された。レンズＣはＥ−ｐａｃｋ Ｅ９
５０７の条件と指示された通過回数によりマーキングさ
れた金属製のインサートから製造された鋳型フレームよ
り鋳造された。
−ｐａｃｋ Ｅ９５２１の条件と指示された通過回数に
よりマーキングされた金属製のインサートから製造され
た鋳型フレームより鋳造された。レンズＢはＥ−ｐａｃ
ｋ Ｅ９５２０の条件と指示された通過回数によりマー
キングされた金属製のインサートから製造された鋳型フ
レームより鋳造された。レンズＣはＥ−ｐａｃｋ Ｅ９
５０７の条件と指示された通過回数によりマーキングさ
れた金属製のインサートから製造された鋳型フレームよ
り鋳造された。
【００４１】それから、マーク評価班が、各マークを１
から５までの等級で評価した。ここで、１はかろうじて
視認可能なもの、５は極めて良好に視認可能なものを示
す。炎の条件Ｂ，条件＃４と炎の条件Ｃ，条件＃１を用
いたマークが最上位に評価されており、バーニングの電
流の増加がマークの品質に大きく影響することを示して
いる。なお、表面の特徴に関する部分において報告する
視認可能性の等級の２．８，４．１，および４．４は、
図２の☆を付けた炎の条件と直接対応するものである。
から５までの等級で評価した。ここで、１はかろうじて
視認可能なもの、５は極めて良好に視認可能なものを示
す。炎の条件Ｂ，条件＃４と炎の条件Ｃ，条件＃１を用
いたマークが最上位に評価されており、バーニングの電
流の増加がマークの品質に大きく影響することを示して
いる。なお、表面の特徴に関する部分において報告する
視認可能性の等級の２．８，４．１，および４．４は、
図２の☆を付けた炎の条件と直接対応するものである。
【００４２】以下に、マークが有効に視認可能となるた
めのキーポイントとなる各特徴を示す。 ［マーク深さ］視認可能であるためには、マークは１０
ミクロン以上深くなければならない。図３は（マークの
深さ）対（視認性の等級）のグラフであり、マークが有
効に視認されるためには１０ミクロン以上深くなければ
ならないことを図式的に示している。図３のマークの深
さのグラフに示されているように、０ミクロンから５ミ
クロンまでの範囲内のマークは、従属する等級軸におい
て良好に視認可能とは評価されていない。なお、最大深
さは、製造条件とレンズ形状により決定される。
めのキーポイントとなる各特徴を示す。 ［マーク深さ］視認可能であるためには、マークは１０
ミクロン以上深くなければならない。図３は（マークの
深さ）対（視認性の等級）のグラフであり、マークが有
効に視認されるためには１０ミクロン以上深くなければ
ならないことを図式的に示している。図３のマークの深
さのグラフに示されているように、０ミクロンから５ミ
クロンまでの範囲内のマークは、従属する等級軸におい
て良好に視認可能とは評価されていない。なお、最大深
さは、製造条件とレンズ形状により決定される。
【００４３】［体積指標］体積指標は、［（基準面下の
体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］の比により
定義されるものである。図４は、（体積指標）対（視認
性の等級）を示すグラフであり、体積指標が１に近づく
につれてマークの有効視認性が増加し、マークが有効に
視認されるためには体積指標が０．９以上でなければな
らないことを図式的に示している。
体積−基準面上の体積）／基準面下の体積］の比により
定義されるものである。図４は、（体積指標）対（視認
性の等級）を示すグラフであり、体積指標が１に近づく
につれてマークの有効視認性が増加し、マークが有効に
視認されるためには体積指標が０．９以上でなければな
らないことを図式的に示している。
【００４４】［表面粗さ］表面粗さは、ＲＭＳ，Ｒａ，
ＰＶ，およびＨにより表すことができ、これらは以下に
示すようにいくらか関連を持っている。ＰＶは、サンプ
ルまたはマークにおける最高点と最低点の間隔として定
義される。Ｈは、縦断面内の２本の基準線の間隔であ
る。上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置
し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置
する。正味の結果では、Ｈの方がＰＶと比較してデータ
の突出部に対する敏感さが少ない。表面粗さの計測値
（ＲＭＳとＲａ）／ＰＶの比をプロットすると、マーク
が有効に視認可能であるためには、比が０．１５以上で
なければならないことが判る。このことは図５の表面粗
さのグラフに示されている。
ＰＶ，およびＨにより表すことができ、これらは以下に
示すようにいくらか関連を持っている。ＰＶは、サンプ
ルまたはマークにおける最高点と最低点の間隔として定
義される。Ｈは、縦断面内の２本の基準線の間隔であ
る。上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置
し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置
する。正味の結果では、Ｈの方がＰＶと比較してデータ
の突出部に対する敏感さが少ない。表面粗さの計測値
（ＲＭＳとＲａ）／ＰＶの比をプロットすると、マーク
が有効に視認可能であるためには、比が０．１５以上で
なければならないことが判る。このことは図５の表面粗
さのグラフに示されている。
【００４５】同様に、表面粗さの計測値（ＲＭＳとＲ
ａ）／スウェーデン高さ（Ｓｗｅｄｉｓｈ Ｈｅｉｇｈ
ｔ）（Ｈ）の比を視認性等級に対してプロットすると、
マークが有効に視認可能であるためには、比が１．５以
上でなければならないことが判る。このことは図６の表
面粗さのグラフに示されている。なお、これらの値の最
大値は、金属製のインサート鋳型へのマーク付けの処理
方法により決まる。
ａ）／スウェーデン高さ（Ｓｗｅｄｉｓｈ Ｈｅｉｇｈ
ｔ）（Ｈ）の比を視認性等級に対してプロットすると、
マークが有効に視認可能であるためには、比が１．５以
上でなければならないことが判る。このことは図６の表
面粗さのグラフに示されている。なお、これらの値の最
大値は、金属製のインサート鋳型へのマーク付けの処理
方法により決まる。
【００４６】図７は、装置のｚ−軸における基準データ
領域に対するテストデータ領域の平均高さとして定義さ
れる［平均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）を図式的に示してい
る。これは、テストマスクにより定義される領域を基準
マスクにより定義される領域と比較して、それらの間の
垂直方向の偏差を決定するものである。高さは、装置の
ｚ−軸方向に関するものであり、Ａｖｇ Ｈｔとしても
知られている。なお、分析工程においてもしマスクが用
いられなければ、ＡｖｇＨｇｔはデータ集合の算術的平
均と等しくなる。
領域に対するテストデータ領域の平均高さとして定義さ
れる［平均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）を図式的に示してい
る。これは、テストマスクにより定義される領域を基準
マスクにより定義される領域と比較して、それらの間の
垂直方向の偏差を決定するものである。高さは、装置の
ｚ−軸方向に関するものであり、Ａｖｇ Ｈｔとしても
知られている。なお、分析工程においてもしマスクが用
いられなければ、ＡｖｇＨｇｔはデータ集合の算術的平
均と等しくなる。
【００４７】図８は、縦断面内の２本の基準線の間隔と
して定義される［スウェーデン高さ（Ｈ）］を図式的に
示している。上部基準線はデータの５％が表に出る深さ
に位置し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さ
に位置する。正味の結果では、スウェーデン高さはＰＶ
と比較してデータの突出部に対する敏感さが少ない。
して定義される［スウェーデン高さ（Ｈ）］を図式的に
示している。上部基準線はデータの５％が表に出る深さ
に位置し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さ
に位置する。正味の結果では、スウェーデン高さはＰＶ
と比較してデータの突出部に対する敏感さが少ない。
【００４８】図９は、サンプルのテスト領域中の最高点
と最低点の間隔として定義される頂部−谷部間隔（Ｐ
Ｖ）を図式的に示している。Ｒｔ、Ｒｙ、またはＲｍａ
ｘとしても知られているものである。粗さを数量化する
ために用いられた場合、ＰＶは最大の粗さ高さとなる。
また、ＰＶはデータ集合中の点−点誤差が最も出やすい
ものである。ＰＶは表面における最も極端な２点を比較
する。そのため、２個の全く異なる表面においてＰＶが
同じとなる可能性もある。ＰＶ（Ａｌｌ）はテスト領域
および基準領域の両方における最高点と最低点との間隔
である。
と最低点の間隔として定義される頂部−谷部間隔（Ｐ
Ｖ）を図式的に示している。Ｒｔ、Ｒｙ、またはＲｍａ
ｘとしても知られているものである。粗さを数量化する
ために用いられた場合、ＰＶは最大の粗さ高さとなる。
また、ＰＶはデータ集合中の点−点誤差が最も出やすい
ものである。ＰＶは表面における最も極端な２点を比較
する。そのため、２個の全く異なる表面においてＰＶが
同じとなる可能性もある。ＰＶ（Ａｌｌ）はテスト領域
および基準領域の両方における最高点と最低点との間隔
である。
【００４９】図１０は中心線またはベストフィットされ
た表面からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］
を図式的に示している。 Ｒａ＝（ｙ1 ＋ｙ2 ＋ｙ3 ・・・＋ｙN ）／Ｎ ここで、分子の各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎは
データ点の数である。
た表面からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］
を図式的に示している。 Ｒａ＝（ｙ1 ＋ｙ2 ＋ｙ3 ・・・＋ｙN ）／Ｎ ここで、分子の各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎは
データ点の数である。
【００５０】図１１は中心線またはベストフィットされ
た表面からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭ
Ｓ）］を図式的に示しており、偏差の各値を２乗したも
のの平均値をとり、その平均値の平方根をとったもので
ある。Ｒｑ、ｒｍｓとしても知られているものであり、
面積で重み付けされた統計量であり、ＰＶより多数のデ
ータを計算に用いるため、計測される表面の光学的性能
をＰＶよりもより正確に描き出すものである。 ＲＭＳ＝［（ｙ1 2＋ｙ2 2＋ｙ3 2・・・＋ｙN 2）／Ｎ］
1/2 ここで、各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎはサンプ
ル中のデータ点の数である。
た表面からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭ
Ｓ）］を図式的に示しており、偏差の各値を２乗したも
のの平均値をとり、その平均値の平方根をとったもので
ある。Ｒｑ、ｒｍｓとしても知られているものであり、
面積で重み付けされた統計量であり、ＰＶより多数のデ
ータを計算に用いるため、計測される表面の光学的性能
をＰＶよりもより正確に描き出すものである。 ＲＭＳ＝［（ｙ1 2＋ｙ2 2＋ｙ3 2・・・＋ｙN 2）／Ｎ］
1/2 ここで、各ｙは各データ点の絶対値であり、Ｎはサンプ
ル中のデータ点の数である。
【００５１】図１２はテストマスクにより決定された３
次元テスト領域中のデータにより占められた空間の量と
して定義される［体積］を図式的に示している。体積
は、各データ点の高さに画素の面積を掛けることにより
計算される。
次元テスト領域中のデータにより占められた空間の量と
して定義される［体積］を図式的に示している。体積
は、各データ点の高さに画素の面積を掛けることにより
計算される。
【００５２】下部体積（Ｖｏｌ Ｄｎ）は、基準領域よ
り下にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶ
ｏｌ Ｄｎはテスト領域上の窪みにより占められた空間
として考えることができ、負のＶｏｌ Ｄｎの結果は基
準領域上への突出を示す。
り下にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶ
ｏｌ Ｄｎはテスト領域上の窪みにより占められた空間
として考えることができ、負のＶｏｌ Ｄｎの結果は基
準領域上への突出を示す。
【００５３】上部体積（Ｖｏｌ Ｕｐ）は、基準領域よ
り上にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶ
ｏｌ Ｕｐはテスト領域上の隆起部により占められた空
間として考えることができ、負のＶｏｌ Ｄｎの結果は
基準領域下への広がりを示す。
り上にあるテスト領域の体積として定義される。正のＶ
ｏｌ Ｕｐはテスト領域上の隆起部により占められた空
間として考えることができ、負のＶｏｌ Ｄｎの結果は
基準領域下への広がりを示す。
【００５４】正味体積（Ｖｏｌ Ｎｅｔ）はテスト領域
の全体積として定義される。またこれは、Ｖｏｌ Ｕｐ
からＶｏｌ Ｄｎを差し引いたものと等しい量である。
の全体積として定義される。またこれは、Ｖｏｌ Ｕｐ
からＶｏｌ Ｄｎを差し引いたものと等しい量である。
【００５５】本発明の好適な実施態様として、以下のも
のがある。 （１）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベス
トフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、
ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ
／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上で
あることを特徴とする請求項１記載の成型コンタクトレ
ンズに視認可能なマークを付ける方法。 （２）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベ
ストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均と
し、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、
ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５
以上であることを特徴とする請求項１記載の成型コンタ
クトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （３）鋳造工程において、安定化ソフト成型ヒドロゲル
コンタクトレンズを製造することを特徴とする請求項１
記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付け
る方法。 （４）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫
刻法により行うことを特徴とする請求項１記載の成型コ
ンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （５）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面
位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面に
おける２本の基準線間の距離として、インサートにおけ
るＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上
であることを特徴とする請求項１記載の成型コンタクト
レンズに視認可能なマークを付ける方法。
のがある。 （１）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベス
トフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、
ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ
／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上で
あることを特徴とする請求項１記載の成型コンタクトレ
ンズに視認可能なマークを付ける方法。 （２）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベ
ストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均と
し、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、
ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５
以上であることを特徴とする請求項１記載の成型コンタ
クトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （３）鋳造工程において、安定化ソフト成型ヒドロゲル
コンタクトレンズを製造することを特徴とする請求項１
記載の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付け
る方法。 （４）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫
刻法により行うことを特徴とする請求項１記載の成型コ
ンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （５）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表面
位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面に
おける２本の基準線間の距離として、インサートにおけ
るＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以上
であることを特徴とする請求項１記載の成型コンタクト
レンズに視認可能なマークを付ける方法。
【００５６】（６）ＲＭＳを中心線もしくはベストフィ
ットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマ
ークの縦断面における２本の基準線間の距離として、イ
ンサートにおけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さ
の比が１．５以上であることを特徴とする請求項１記載
の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。 （７）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫
刻法により行うことを特徴とする上記実施態様３記載の
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。 （８）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベス
トフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、
ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ
／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上で
あることを特徴とする上記実施態様７記載の成型コンタ
クトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （９）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベ
ストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均と
し、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、
ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５
以上であることを特徴とする上記実施態様８記載の成型
コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （１０）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表
面位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面
における２本の基準線間の距離として、インサートにお
けるＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以
上であることを特徴とする上記実施態様９記載の成型コ
ンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （１１）ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた
表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマークの縦断
面における２本の基準線間の距離として、インサートに
おけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．
５以上であることを特徴とする上記実施態様１０記載の
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。
ットされた表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマ
ークの縦断面における２本の基準線間の距離として、イ
ンサートにおけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さ
の比が１．５以上であることを特徴とする請求項１記載
の成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。 （７）前記凹状のマーク形状を形成する工程を、放電彫
刻法により行うことを特徴とする上記実施態様３記載の
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。 （８）凹状のマーク形状は、Ｒａを中心線もしくはベス
トフィットされた表面位置からの偏差の算術平均とし、
ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、Ｒａ
／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５以上で
あることを特徴とする上記実施態様７記載の成型コンタ
クトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （９）凹状のマーク形状は、ＲＭＳを中心線もしくはベ
ストフィットされた表面位置からの偏差の２乗平均と
し、ＰＶをマーク中の最高点と最低点との間隔として、
ＲＭＳ／ＰＶとして計測される表面粗さの比が０．１５
以上であることを特徴とする上記実施態様８記載の成型
コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （１０）Ｒａを中心線もしくはベストフィットされた表
面位置からの偏差の算術平均とし、Ｈをマークの縦断面
における２本の基準線間の距離として、インサートにお
けるＲａ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．５以
上であることを特徴とする上記実施態様９記載の成型コ
ンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。 （１１）ＲＭＳを中心線もしくはベストフィットされた
表面位置からの偏差の２乗平均とし、Ｈをマークの縦断
面における２本の基準線間の距離として、インサートに
おけるＲＭＳ／Ｈとして計測される表面粗さの比が１．
５以上であることを特徴とする上記実施態様１０記載の
成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方
法。
【００５７】なお、マークの付けられたコンタクトレン
ズを製造するための鋳型インサートの作成のためのいく
つかの実施態様とこの発明の変形例をここに詳細に記載
したが、この発明の開示と教示がこの分野における当業
者に多数の代替設計を示唆することは明らかである。
ズを製造するための鋳型インサートの作成のためのいく
つかの実施態様とこの発明の変形例をここに詳細に記載
したが、この発明の開示と教示がこの分野における当業
者に多数の代替設計を示唆することは明らかである。
【００５８】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、効率
的に、高い制御性により、繰り返し容易に、製造コスト
を特に増加させる必要なく、レンズの最終製品に充分に
視認可能なマークを付けることが可能となる効果があ
る。
的に、高い制御性により、繰り返し容易に、製造コスト
を特に増加させる必要なく、レンズの最終製品に充分に
視認可能なマークを付けることが可能となる効果があ
る。
【図１】最適なマーク形状の決定に使用された各ＥＤＭ
炎条件を示す図である。
炎条件を示す図である。
【図２】図１のレンズＡからレンズＣまでに対するバー
ニングの経過時間と通過回数の例を示す図である。
ニングの経過時間と通過回数の例を示す図である。
【図３】（マークの深さ）対（視認性の等級）を示すグ
ラフ図であり、マークが有効に視認されるためには１０
ミクロン以上深くなければならないことを図式的に示し
ている。
ラフ図であり、マークが有効に視認されるためには１０
ミクロン以上深くなければならないことを図式的に示し
ている。
【図４】（体積指標）対（視認性の等級）を示すグラフ
図であり、体積指標が１に近づくにつれてマークの有効
視認性が増加し、マークが有効に視認されるためには体
積指標が０．９以上でなければならないことを図式的に
示している。
図であり、体積指標が１に近づくにつれてマークの有効
視認性が増加し、マークが有効に視認されるためには体
積指標が０．９以上でなければならないことを図式的に
示している。
【図５】（表面粗さの測定値（ＲＭＳおよびＲａ）を頂
部から谷部までの測定値（ＰＶ）で割った値）対（視認
性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有効に視認
されるためにはこの値が０．１５以上でなければならな
いことを図式的に示している。
部から谷部までの測定値（ＰＶ）で割った値）対（視認
性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有効に視認
されるためにはこの値が０．１５以上でなければならな
いことを図式的に示している。
【図６】（表面粗さの測定値（ＲＭＳおよびＲａ）をマ
ークの縦断面内の２本の基準線間の距離Ｈで割った値）
対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有
効に視認されるためにはこの値が１．５以上でなければ
ならないことを図式的に示している。
ークの縦断面内の２本の基準線間の距離Ｈで割った値）
対（視認性の等級）を示すグラフ図であり、マークが有
効に視認されるためにはこの値が１．５以上でなければ
ならないことを図式的に示している。
【図７】マークの縦断面における基準データ領域と比較
したテストデータ領域の平均高さとして定義される［平
均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）（テストマスクにより定義さ
れる領域を基準マスクにより定義される領域または基準
データ領域と比較する）を示す図であり、それらの垂直
方向の偏差を計測する。
したテストデータ領域の平均高さとして定義される［平
均高さ］（ＡｖｇＨｇｔ）（テストマスクにより定義さ
れる領域を基準マスクにより定義される領域または基準
データ領域と比較する）を示す図であり、それらの垂直
方向の偏差を計測する。
【図８】縦断面内の２本の基準線の間隔として定義され
る［スウェーデン高さ（Ｈ）］を示す図である。ここ
で、上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置
し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置
するものである。
る［スウェーデン高さ（Ｈ）］を示す図である。ここ
で、上部基準線はデータの５％が表に出る深さに位置
し、下部基準線はデータの９０％が表に出る深さに位置
するものである。
【図９】マーク中のサンプルテスト領域中の最高点と最
低点の間隔である頂部−谷部間隔（ＰＶ）（または最大
粗さ高さ）を示す図であり、粗さの数量化に用いられ
る。
低点の間隔である頂部−谷部間隔（ＰＶ）（または最大
粗さ高さ）を示す図であり、粗さの数量化に用いられ
る。
【図１０】ベストフィットされた曲線または表面の中心
線からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］を示
す図である。
線からの偏差の算術平均として定義される［Ｒａ］を示
す図である。
【図１１】ベストフィットされた曲線または表面の中心
線からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭＳ）］
を示す図であり、各値を２乗したものの平均値をとり、
その平均値の平方根をとる方法を表現している。
線からの偏差の２乗平均である［２乗平均（ＲＭＳ）］
を示す図であり、各値を２乗したものの平均値をとり、
その平均値の平方根をとる方法を表現している。
【図１２】テストマスクにより決定された３次元テスト
領域中のデータにより占められた空間の量として定義さ
れる［体積］を示す図であり、ここで体積は、各データ
点または画素の高さに各画素の面積を掛けることにより
計算される。
領域中のデータにより占められた空間の量として定義さ
れる［体積］を示す図であり、ここで体積は、各データ
点または画素の高さに各画素の面積を掛けることにより
計算される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウェイナー・イー・ウィリアムズ アメリカ合衆国、32073 フロリダ州、オ レンジ・パーク、プレザーブ・ポイント・ テラス 1754 (72)発明者 マーク・エイ・デュアート アメリカ合衆国、32257 フロリダ州、ジ ャクソンビル、コーネリア・ドライブ 3128
Claims (1)
- 【請求項１】 ａ：凹状のマーク形状において、深さが
最小でも１０ミクロン以上、［（基準面下の体積−基準
面上の体積）／基準面下の体積］の比で表される体積指
標が最低でも０．９以上となるように、金属製の鋳型イ
ンサートに凹状のマーク形状を形成する工程と、 ｂ：前記金属製の鋳型インサートを用いて熱可塑性の鋳
型フレームを射出成形する工程と、 ｃ：熱可塑性の鋳型フレーム中でソフトヒドロゲルコン
タクトレンズを鋳造する工程とを備え、金属製の鋳型イ
ンサートにおける凹状のマーク形状は、射出成型熱可塑
性鋳型フレームにおける凸部として転写され、続いて、
インサートを用いて準備された熱可塑性鋳型フレーム中
で鋳造されるコンタクトレンズにおける視認可能な凹状
のマークとして転写されることを特徴とする、成型コン
タクトレンズに視認可能なマークを付ける方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/536,159 US5641437A (en) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | Marking of mold inserts to produce marked contact lenses |
| US536159 | 1995-09-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09220723A true JPH09220723A (ja) | 1997-08-26 |
| JP4443639B2 JP4443639B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=24137398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27534796A Expired - Lifetime JP4443639B2 (ja) | 1995-09-29 | 1996-09-27 | 成型コンタクトレンズに視認可能なマークを付ける方法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5641437A (ja) |
| EP (1) | EP0765732B1 (ja) |
| JP (1) | JP4443639B2 (ja) |
| KR (1) | KR100441182B1 (ja) |
| CN (1) | CN1067942C (ja) |
| AT (1) | ATE217254T1 (ja) |
| AU (1) | AU697272B2 (ja) |
| BR (1) | BR9603926A (ja) |
| CA (1) | CA2186570C (ja) |
| DE (1) | DE69621089T2 (ja) |
| IL (1) | IL119148A0 (ja) |
| NO (1) | NO964097L (ja) |
| NZ (1) | NZ299286A (ja) |
| SG (1) | SG93802A1 (ja) |
| TW (1) | TW355753B (ja) |
| ZA (1) | ZA968177B (ja) |
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- 1996-09-03 NZ NZ299286A patent/NZ299286A/en unknown
- 1996-09-11 SG SG9610597A patent/SG93802A1/en unknown
- 1996-09-11 AU AU65558/96A patent/AU697272B2/en not_active Expired
- 1996-09-25 KR KR1019960042607A patent/KR100441182B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-26 CA CA002186570A patent/CA2186570C/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 CN CN96120155A patent/CN1067942C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 BR BR9603926A patent/BR9603926A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 DE DE69621089T patent/DE69621089T2/de not_active Expired - Lifetime
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- 1996-09-27 ZA ZA9608177A patent/ZA968177B/xx unknown
- 1996-09-27 JP JP27534796A patent/JP4443639B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 EP EP96307057A patent/EP0765732B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 AT AT96307057T patent/ATE217254T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-12-06 TW TW085115051A patent/TW355753B/zh not_active IP Right Cessation
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