JPH0922111A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
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- JPH0922111A JPH0922111A JP16954595A JP16954595A JPH0922111A JP H0922111 A JPH0922111 A JP H0922111A JP 16954595 A JP16954595 A JP 16954595A JP 16954595 A JP16954595 A JP 16954595A JP H0922111 A JPH0922111 A JP H0922111A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- reticle
- adhesive layer
- frame
- pressure
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P76/00—Manufacture or treatment of masks on semiconductor bodies, e.g. by lithography or photolithography
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
- Y10T428/249982—With component specified as adhesive or bonding agent
- Y10T428/249985—Composition of adhesive or bonding component specified
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 レチクルとフレームとの間のエアパス、エア
ー溜りの発生を防止し、ペリクルのガラス基盤への貼り
付けを小さい荷重で行なうことができるペリクルを提供
する。 【解決手段】 本発明のペリクルは、ペリクルをガラス
基盤に貼り付けるためのペリクルの粘着層をその全表面
が凸曲面を形成する、例えば図１に示したように蒲鉾型
のものとしてなることを特徴とするものである。
ー溜りの発生を防止し、ペリクルのガラス基盤への貼り
付けを小さい荷重で行なうことができるペリクルを提供
する。 【解決手段】 本発明のペリクルは、ペリクルをガラス
基盤に貼り付けるためのペリクルの粘着層をその全表面
が凸曲面を形成する、例えば図１に示したように蒲鉾型
のものとしてなることを特徴とするものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はペリクル、特にはＬ
ＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を
製造する際のゴミよけとして使用される、実質的に 500
nm以下の光を用いる露光方式における帯電防止されたペ
リクルに関するものである。
ＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは液晶表示板を
製造する際のゴミよけとして使用される、実質的に 500
nm以下の光を用いる露光方式における帯電防止されたペ
リクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。このため、これらの作業は通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の
表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方式が行なわれている。
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や製造歩留りの低下を来たすという
問題があった。このため、これらの作業は通常クリーン
ルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露
光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の
表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペ
リクルを貼着する方式が行なわれている。
【０００３】この場合、ゴミは露光原版の表面上には直
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は通常光を良く通過させるニトロセルロー
ス、酢酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜をア
ルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペ
リクル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾し
て接着する（特開昭 58-219023号公報参照）か、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許
第 4,861,402号明細書、特公昭 63-27,707号公報参
照）、さらにはペリクル枠の下部には露光原版に装着さ
れるために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ア
クリル樹脂などからなる粘着層、および粘着層の保護を
目的とした離型層（セパレーター）で構成されている。
接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィ
ー時に焦点を露光原版のパターン上に合わせておけば、
ペリクル上のゴミは転写に無関係となるのであるが、こ
のペリクル膜は通常光を良く通過させるニトロセルロー
ス、酢酸セルロースなどからなる透明なペリクル膜をア
ルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペ
リクル枠の上部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、風乾し
て接着する（特開昭 58-219023号公報参照）か、アクリ
ル樹脂やエポキシ樹脂などの接着剤で接着し（米国特許
第 4,861,402号明細書、特公昭 63-27,707号公報参
照）、さらにはペリクル枠の下部には露光原版に装着さ
れるために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ア
クリル樹脂などからなる粘着層、および粘着層の保護を
目的とした離型層（セパレーター）で構成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このペリクル構成物の
中では、ペリクルを使用する前にペリクルをガラス基盤
としてのレチクルに貼り付けることが必要とされるため
に、この粘着層は重要なものとされる。しかし、レチク
ルにペリクルを貼り付けるときに、レチクルと粘着剤と
の間に隙目（以下エアパスと称する）やエアー溜りが生
じる場合があり、ここにエアパスがあるとそこから外界
のパーティクルがマスクパターン上に付着する恐れがあ
るし、またここにエアー溜りがあると経時的にエアー溜
りが大きくなり、最終的にこれがエアパスになる恐れが
ある。
中では、ペリクルを使用する前にペリクルをガラス基盤
としてのレチクルに貼り付けることが必要とされるため
に、この粘着層は重要なものとされる。しかし、レチク
ルにペリクルを貼り付けるときに、レチクルと粘着剤と
の間に隙目（以下エアパスと称する）やエアー溜りが生
じる場合があり、ここにエアパスがあるとそこから外界
のパーティクルがマスクパターン上に付着する恐れがあ
るし、またここにエアー溜りがあると経時的にエアー溜
りが大きくなり、最終的にこれがエアパスになる恐れが
ある。
【０００５】そのため、現状ではペリクルをレチクルに
圧着する際に、ペリクル面全体に30kg以上の荷重をかけ
る必要があるため、これによって高価なレチクルが割れ
るというトラブルが発生することがある。したがって、
これについてはペリクル圧着力の低減のために、粘着剤
を柔らかく仕上げるという試みも行なわれているが、こ
れを貼り付け条件を十分に満たすだけの柔らかさにする
と、今度は貼り付けたペリクルの経時における形状安定
性が不十分になるということから、これに対する検討が
問題点とされている。
圧着する際に、ペリクル面全体に30kg以上の荷重をかけ
る必要があるため、これによって高価なレチクルが割れ
るというトラブルが発生することがある。したがって、
これについてはペリクル圧着力の低減のために、粘着剤
を柔らかく仕上げるという試みも行なわれているが、こ
れを貼り付け条件を十分に満たすだけの柔らかさにする
と、今度は貼り付けたペリクルの経時における形状安定
性が不十分になるということから、これに対する検討が
問題点とされている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したペリクルに関するもので、これは
ペリクルをガラス基盤に貼り付けるためのペリクルの粘
着層を、その全表面が凸曲面を形成するものとしてなる
ことを特徴とするものである。
利、問題点を解決したペリクルに関するもので、これは
ペリクルをガラス基盤に貼り付けるためのペリクルの粘
着層を、その全表面が凸曲面を形成するものとしてなる
ことを特徴とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】通常、ペリクルの粘着層はペリク
ルをレチクルに均一な高さで貼り付けるために、図３に
示したように粘着層表面の凹凸をなくし、できるだけ平
坦になるように仕上げられているが、しかしこの場合に
はそれが平坦であるためにレチクルに貼り付けるときに
エアー溜りが発生し易いという不利がある。事実、これ
を図３に示したようにこのペリクルの粘着層を平坦のも
のとすると、レチクルとの接触面積が大きいためにレチ
クルに貼り付けるときにここにエアー溜りが発生し、図
４に示したようにこれに圧力を加えてもこれが10kgの荷
重では全体に貼り付かず、この場合にはこの荷重をレチ
クルを破損しかねない30kgにまで高める必要があった。
ルをレチクルに均一な高さで貼り付けるために、図３に
示したように粘着層表面の凹凸をなくし、できるだけ平
坦になるように仕上げられているが、しかしこの場合に
はそれが平坦であるためにレチクルに貼り付けるときに
エアー溜りが発生し易いという不利がある。事実、これ
を図３に示したようにこのペリクルの粘着層を平坦のも
のとすると、レチクルとの接触面積が大きいためにレチ
クルに貼り付けるときにここにエアー溜りが発生し、図
４に示したようにこれに圧力を加えてもこれが10kgの荷
重では全体に貼り付かず、この場合にはこの荷重をレチ
クルを破損しかねない30kgにまで高める必要があった。
【０００８】本発明はこのような不利を解決したもの
で、これは前記したようにペリクルの粘着層を、その全
表面が凸曲面を形成したもので、これには例えば図１に
示したような蒲鉾型や俵型（図示せず）のものとしてな
るものである。このものは一例として図１に示したよう
にレチクル上に蒲鉾型の粘着層が置かれているが、これ
はそれが蒲鉾型であるために図３の従来のものに比べて
エアー溜りが発生しにくいものとなり、このものは小さ
な圧力で粘着層とレチクルを粘着させることができるこ
とを見出し、これを圧着すると図２に示したようにこれ
が平板状になって高い面圧でレチクルに密着し、粘着さ
れ、この場合レチクルと粘着層との粘着面を大きくした
いときには圧着力を大きくすれば、これを任意にコント
ロールすることができることを確認した。
で、これは前記したようにペリクルの粘着層を、その全
表面が凸曲面を形成したもので、これには例えば図１に
示したような蒲鉾型や俵型（図示せず）のものとしてな
るものである。このものは一例として図１に示したよう
にレチクル上に蒲鉾型の粘着層が置かれているが、これ
はそれが蒲鉾型であるために図３の従来のものに比べて
エアー溜りが発生しにくいものとなり、このものは小さ
な圧力で粘着層とレチクルを粘着させることができるこ
とを見出し、これを圧着すると図２に示したようにこれ
が平板状になって高い面圧でレチクルに密着し、粘着さ
れ、この場合レチクルと粘着層との粘着面を大きくした
いときには圧着力を大きくすれば、これを任意にコント
ロールすることができることを確認した。
【０００９】なお、この蒲鉾型の粘着層は圧力を加えて
レチクルに貼り付けると、蒲鉾型の原形が圧力により平
板状になるが、この場合にはエアー溜りが発生せず、エ
アパスもできないので、この加圧は荷重が10kg程度でも
よい。このものはその厚みが貼り付ける前の90％以下に
なるけれども、これが平板状となり粘着力が大きくなる
ので、これで実用上充分な粘着力を有するものになる。
レチクルに貼り付けると、蒲鉾型の原形が圧力により平
板状になるが、この場合にはエアー溜りが発生せず、エ
アパスもできないので、この加圧は荷重が10kg程度でも
よい。このものはその厚みが貼り付ける前の90％以下に
なるけれども、これが平板状となり粘着力が大きくなる
ので、これで実用上充分な粘着力を有するものになる。
【００１０】しかし、この圧着時にはペリクルとガラス
基盤によって遮られているエリアの圧力が高くなり、こ
の圧力を逃がさないとペリクル膜が膨れ易くなるので、
このペリクル膜の膨れを防止するためには、ペリクルフ
レームに気圧調整用の通気孔を設けることがよく、さら
にこの通気孔にはここに外界からパーティクルが混入し
ないようにするために、ここにフィルターを設けること
がよい。
基盤によって遮られているエリアの圧力が高くなり、こ
の圧力を逃がさないとペリクル膜が膨れ易くなるので、
このペリクル膜の膨れを防止するためには、ペリクルフ
レームに気圧調整用の通気孔を設けることがよく、さら
にこの通気孔にはここに外界からパーティクルが混入し
ないようにするために、ここにフィルターを設けること
がよい。
【００１１】
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例 表面をアルマイト処理した、高さが 6.3mmで端面の外周
が 120mm角、内周が 110mm角、一辺の中央部に 0.5mmφ
の貫通穴のあるアルミニウムフレームを用意した。つい
で、この下端面にシリコーン粘着剤・ＫＲ−１２０［信
越化学工業（株）製商品名］を厚みが 0.6mmの蒲鉾型に
なるように塗布して 120℃で30分間キュアし、さらにこ
のフレームの上端面に非晶性フッ素系重合体・サイトッ
プＣＴＸ−Ａタイプ［旭硝子（株）製商品名］を厚みが
0.1mmになるように塗布した。
が 120mm角、内周が 110mm角、一辺の中央部に 0.5mmφ
の貫通穴のあるアルミニウムフレームを用意した。つい
で、この下端面にシリコーン粘着剤・ＫＲ−１２０［信
越化学工業（株）製商品名］を厚みが 0.6mmの蒲鉾型に
なるように塗布して 120℃で30分間キュアし、さらにこ
のフレームの上端面に非晶性フッ素系重合体・サイトッ
プＣＴＸ−Ａタイプ［旭硝子（株）製商品名］を厚みが
0.1mmになるように塗布した。
【００１２】また、このフレームの内側面にはシリコー
ン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとなる
ようにコーティングし（ただし、 0.5mmφの貫通穴を除
く）、さらに 0.5mmφの貫通穴を塞ぐように、孔径 0.5
μｍで大きさが10×５mmのポリテトラフルオロエチレン
（ＰＴＦＥ）製のフィルターを設け、他方ここに非晶性
フッ素系重合体・サイトップＣＴＸ−Ｓタイプ［旭硝子
（株）製商品名］で1.62μｍの薄膜を形成し、これをこ
のフレームに 108℃で熱融着した。
ン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとなる
ようにコーティングし（ただし、 0.5mmφの貫通穴を除
く）、さらに 0.5mmφの貫通穴を塞ぐように、孔径 0.5
μｍで大きさが10×５mmのポリテトラフルオロエチレン
（ＰＴＦＥ）製のフィルターを設け、他方ここに非晶性
フッ素系重合体・サイトップＣＴＸ−Ｓタイプ［旭硝子
（株）製商品名］で1.62μｍの薄膜を形成し、これをこ
のフレームに 108℃で熱融着した。
【００１３】つぎに、このようにして仕上げたペリクル
をレチクル上に置き、ペリクルフレーム上端面に10kgの
荷重をかけてペリクルをレチクルに貼り付けたところ、
この場合にはシリコーン粘着剤ＫＲ１２０（前出）の厚
みは 0.5mmであり、レチクルとフレームの間にエアパ
ス、エアー溜りなどの隙間は見られなかったので10kgの
荷重をかけた直後にペリクルは貼り付き、このペリクル
の膨らみは10分後に元に戻った。
をレチクル上に置き、ペリクルフレーム上端面に10kgの
荷重をかけてペリクルをレチクルに貼り付けたところ、
この場合にはシリコーン粘着剤ＫＲ１２０（前出）の厚
みは 0.5mmであり、レチクルとフレームの間にエアパ
ス、エアー溜りなどの隙間は見られなかったので10kgの
荷重をかけた直後にペリクルは貼り付き、このペリクル
の膨らみは10分後に元に戻った。
【００１４】比較例１ 実施例と同様なフレームを用意し、この下端面にシリコ
ーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが 0.3mmのプ
レート状となるように塗布し、 120℃で30分間キュア
し、さらにフレームの上端面に前記したサイトップＣＴ
Ｘ−Ａタイプ（前出）を厚みが 0.1mmになるように塗布
した。また、このフレームの内側面にはシリコーン粘着
剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとなるように
コーティングし（ただし、 0.5mmφの貫通穴を除く）、
さらに 0.5mmφの貫通穴を塞ぐように、孔径 0.5μｍ、
フィルター大きさが10mm×５mmのＰＴＦＥ製のフィルタ
ーを設け、他方ここに前記したサイトップＣＴＸ−Ｓタ
イプ（前出）で1.62μｍの薄膜を形成し、これをこのフ
レームに 108℃で熱融着した。
ーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが 0.3mmのプ
レート状となるように塗布し、 120℃で30分間キュア
し、さらにフレームの上端面に前記したサイトップＣＴ
Ｘ−Ａタイプ（前出）を厚みが 0.1mmになるように塗布
した。また、このフレームの内側面にはシリコーン粘着
剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとなるように
コーティングし（ただし、 0.5mmφの貫通穴を除く）、
さらに 0.5mmφの貫通穴を塞ぐように、孔径 0.5μｍ、
フィルター大きさが10mm×５mmのＰＴＦＥ製のフィルタ
ーを設け、他方ここに前記したサイトップＣＴＸ−Ｓタ
イプ（前出）で1.62μｍの薄膜を形成し、これをこのフ
レームに 108℃で熱融着した。
【００１５】ついで、このようにして仕上げたペリクル
をレチクル上に置き、ペリクルフレームの上端面に10kg
の荷重をかけてペリクルをレチクルに貼り付けたとこ
ろ、この場合にはレチクルとフレームの間にエアパスな
どの隙間が見られたので、ペリクルとレチクルは貼り付
かず、そこでエアパスのなくなるまで荷重を増したとこ
ろ、このものは荷重がレチクルを破損しかねない30kgで
ようやく全体が貼り付いた。
をレチクル上に置き、ペリクルフレームの上端面に10kg
の荷重をかけてペリクルをレチクルに貼り付けたとこ
ろ、この場合にはレチクルとフレームの間にエアパスな
どの隙間が見られたので、ペリクルとレチクルは貼り付
かず、そこでエアパスのなくなるまで荷重を増したとこ
ろ、このものは荷重がレチクルを破損しかねない30kgで
ようやく全体が貼り付いた。
【００１６】比較例２ 表面をアルマイト処理した、高さが 6.3mmで端面の外周
が 120mm角、内周が 110mm角のアルミニウムフレーム
（0.5mm の貫通穴はない）を用意した。ついで、この下
端面にシリコーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚み
が 0.6mmの俵状となるように塗布し、 120℃で30分間キ
ュアし、さらにこのフレームの上端面に前記したサイト
ップＣＴＸ−Ａタイプ（前出）を厚みが 0.1mmになるよ
うに塗布した。また、このフレームの内側面にはシリコ
ーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとな
るようにコーティングし、他方ここに前記したサイトッ
プＣＴＸ−Ｓタイプ（前出）で1.62μｍの薄膜を形成
し、これをフレームに 108℃で熱融着した。
が 120mm角、内周が 110mm角のアルミニウムフレーム
（0.5mm の貫通穴はない）を用意した。ついで、この下
端面にシリコーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚み
が 0.6mmの俵状となるように塗布し、 120℃で30分間キ
ュアし、さらにこのフレームの上端面に前記したサイト
ップＣＴＸ−Ａタイプ（前出）を厚みが 0.1mmになるよ
うに塗布した。また、このフレームの内側面にはシリコ
ーン粘着剤・ＫＲ−１２０（前出）を厚みが0.05mmとな
るようにコーティングし、他方ここに前記したサイトッ
プＣＴＸ−Ｓタイプ（前出）で1.62μｍの薄膜を形成
し、これをフレームに 108℃で熱融着した。
【００１７】つぎに、このようにして仕上げたペリクル
をレチクル上に置き、ペリクルフレームの上端面に10kg
の荷重をかけてペリクルとレチクルを貼り付けたとこ
ろ、この場合には粘着剤が俵状であったことからレチク
ルとフレームとの間にエアパスなどの隙間は見られず、
これは10kgの荷重で貼り付いたけれども、10kgの荷重を
かけた直後に発生したペリクル膜の膨らみは元に戻らな
かった。
をレチクル上に置き、ペリクルフレームの上端面に10kg
の荷重をかけてペリクルとレチクルを貼り付けたとこ
ろ、この場合には粘着剤が俵状であったことからレチク
ルとフレームとの間にエアパスなどの隙間は見られず、
これは10kgの荷重で貼り付いたけれども、10kgの荷重を
かけた直後に発生したペリクル膜の膨らみは元に戻らな
かった。
【００１８】
【発明の効果】本発明はペリクルに関するものであり、
これはレチクル貼り付け用の粘着層を、その全表面が凸
曲面を形成するものとしてなるものであるが、これによ
ればレチクルとフレームとの間にエアパス、エアー溜り
などの発生を防止することができるので、ペリクルのガ
ラス基盤への貼り付けを小さい荷重で行なうことがで
き、したがってペリクル貼り付け時の基盤の破損をなく
すことができるという有利性が与えられる。
これはレチクル貼り付け用の粘着層を、その全表面が凸
曲面を形成するものとしてなるものであるが、これによ
ればレチクルとフレームとの間にエアパス、エアー溜り
などの発生を防止することができるので、ペリクルのガ
ラス基盤への貼り付けを小さい荷重で行なうことがで
き、したがってペリクル貼り付け時の基盤の破損をなく
すことができるという有利性が与えられる。
【図１】粘着層を蒲鉾型とした本発明の１例のペリクル
の縦断面図を示したものである。
の縦断面図を示したものである。
【図２】図１のペリクルに圧力荷重を加えたときのペリ
クルの縦断面図を示したものである。
クルの縦断面図を示したものである。
【図３】粘着層をプレート状とした公知のペリクルの縦
断面図を示したものである。
断面図を示したものである。
【図４】図３のペリクルに圧力荷重を加えたときのペリ
クルの縦断面図を示したものである。
クルの縦断面図を示したものである。
Claims (5)
- 【請求項１】 ペリクルをガラス基盤に貼り付けるため
のペリクルの粘着層を、その全表面が凸曲面を形成する
のものとしてなることを特徴とするペリクル。 - 【請求項２】 粘着層を蒲鉾型のものとしてなる請求項
１に記載したペリクル。 - 【請求項３】 ガラス基盤に貼り付けた時の粘着層の厚
みが、貼り付け前の90％以下になる請求項１又は２のい
ずれかに記載したペリクル。 - 【請求項４】 ペリクルのフレームに気圧調整用の通気
孔を設けてなる請求項１又は２のいずれかに記載したペ
リクル。 - 【請求項５】 通気孔にパーティクル混入防止用のフィ
ルターを設けてなる請求項４に記載したペリクル。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16954595A JPH0922111A (ja) | 1995-07-05 | 1995-07-05 | ペリクル |
| DE69607686T DE69607686T2 (de) | 1995-07-05 | 1996-06-28 | Rahmengestützte Membranabdeckung zum Schutz einer Photomaske |
| US08/673,257 US5723860A (en) | 1995-07-05 | 1996-06-28 | Frame-supported pellicle for photomask protection |
| EP96401439A EP0752621B1 (en) | 1995-07-05 | 1996-06-28 | Frame-supported pellicle for photomask protection |
| TW085107995A TW454104B (en) | 1995-07-05 | 1996-07-02 | Frame-supported pellicle for photomask protection |
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