JPH09227577A - 錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法 - Google Patents
錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法Info
- Publication number
- JPH09227577A JPH09227577A JP8041096A JP4109696A JPH09227577A JP H09227577 A JPH09227577 A JP H09227577A JP 8041096 A JP8041096 A JP 8041096A JP 4109696 A JP4109696 A JP 4109696A JP H09227577 A JPH09227577 A JP H09227577A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optically active
- group
- reaction
- formula
- glycol oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】エポキシド類とチオール類との反応において、
短時間でかつ満足のいく光学収率で、光学活性ヒドロキ
シスルフィド類を得ることができなかった。 【解決手段】三塩化ガリウムと（Ｒ）−１，１´−ビ−
２−ナフトール−ジリチウム塩とから調製した錯体の存
在下、シクロヘキセンオキシドとベンジルチオールを反
応させて、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シク
ロヘキサノールを製造する。
短時間でかつ満足のいく光学収率で、光学活性ヒドロキ
シスルフィド類を得ることができなかった。 【解決手段】三塩化ガリウムと（Ｒ）−１，１´−ビ−
２−ナフトール−ジリチウム塩とから調製した錯体の存
在下、シクロヘキセンオキシドとベンジルチオールを反
応させて、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シク
ロヘキサノールを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性グリコー
ルオキシドと三塩化ガリウムとから調製した光学活性ガ
リウムグリコールオキシド錯体に関するものである。ま
た本発明は、その錯体存在下、エポキシド類とチオール
類を反応させることを特徴とする、光学活性ヒドロキシ
スルフィド類の製造方法に関する。
ルオキシドと三塩化ガリウムとから調製した光学活性ガ
リウムグリコールオキシド錯体に関するものである。ま
た本発明は、その錯体存在下、エポキシド類とチオール
類を反応させることを特徴とする、光学活性ヒドロキシ
スルフィド類の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】これまでにヒドロキシスルフィド類の製
造方法としては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化サ
マリウム等の存在下、エポキシド類とチオール類とを反
応させる方法が報告されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．，２８，６０６５（１９８７））。ま
た、光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法として
は、光学活性酒石酸塩と塩化亜鉛あるいは塩化マンガン
の存在下、エポキシド類とチオール類とを反応させる方
法が報告されている（Ｂｕｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏ
ｃ． Ｊｐｎ．，６１，１２１３（１９８８））。
造方法としては、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩化サ
マリウム等の存在下、エポキシド類とチオール類とを反
応させる方法が報告されている（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．，２８，６０６５（１９８７））。ま
た、光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法として
は、光学活性酒石酸塩と塩化亜鉛あるいは塩化マンガン
の存在下、エポキシド類とチオール類とを反応させる方
法が報告されている（Ｂｕｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏ
ｃ． Ｊｐｎ．，６１，１２１３（１９８８））。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前者の方法によれば、
光学活性ヒドロキシスルフィド類を得ることはできな
い。また後者の方法によれば、光学活性ヒドロキシスル
フィド類を得ることはできるものの、反応時間が５〜１
４日間と非常に長く、さらに光学収率も満足のいくもの
ではない。
光学活性ヒドロキシスルフィド類を得ることはできな
い。また後者の方法によれば、光学活性ヒドロキシスル
フィド類を得ることはできるものの、反応時間が５〜１
４日間と非常に長く、さらに光学収率も満足のいくもの
ではない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
に関し鋭意検討を重ねた結果、エポキシド類とチオール
類との反応において、光学活性グリコールオキシドと三
塩化ガリウムとから調製した光学活性ガリウムグリコー
ルオキシド錯体を存在させることにより、短い反応時間
で、かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシスル
フィド類が得られることを見い出し、本発明を完成する
に至った。
に関し鋭意検討を重ねた結果、エポキシド類とチオール
類との反応において、光学活性グリコールオキシドと三
塩化ガリウムとから調製した光学活性ガリウムグリコー
ルオキシド錯体を存在させることにより、短い反応時間
で、かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシスル
フィド類が得られることを見い出し、本発明を完成する
に至った。
【０００５】すなわち、本発明の特徴は一般式（Ｉ）
【０００６】
【化４】
【０００７】［式中、Ｒ1は（炭素数１〜６のアルキル
基またはフェニル基が置換してもよい）ナフチル基また
は（炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基が置換
してもよい）フェナントリル基、Ｍはアルカリ金属また
はアルカリ土類金属を示す。］で表される光学活性グリ
コールオキシドと三塩化ガリウムとから調製されること
を特徴とする光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体
にある。
基またはフェニル基が置換してもよい）ナフチル基また
は（炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基が置換
してもよい）フェナントリル基、Ｍはアルカリ金属また
はアルカリ土類金属を示す。］で表される光学活性グリ
コールオキシドと三塩化ガリウムとから調製されること
を特徴とする光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体
にある。
【０００８】また本発明は、一般式（ＩＩ）
【０００９】
【化５】
【００１０】［式中、Ｒ2、Ｒ3は水素原子、炭素数１〜
６のアルキル基または互いに連結して（カルボニル基を
含んでもよい）５〜８員環を示す。］で表されるエポキ
シド類とＲ4−ＳＨ（Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、
ベンジル基、フェネチル基またはフェニルプロピル基を
示す。）で表されるチオール類とを、上述の光学活性ガ
リウムグリコールオキシド錯体の存在下、反応させるこ
とを特徴とする一般式（ＩＩＩ）
６のアルキル基または互いに連結して（カルボニル基を
含んでもよい）５〜８員環を示す。］で表されるエポキ
シド類とＲ4−ＳＨ（Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、
ベンジル基、フェネチル基またはフェニルプロピル基を
示す。）で表されるチオール類とを、上述の光学活性ガ
リウムグリコールオキシド錯体の存在下、反応させるこ
とを特徴とする一般式（ＩＩＩ）
【００１１】
【化６】
【００１２】［式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は前記と同じであ
る。］で表される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製
造方法にある。以下、本発明を更に詳細に説明する。
る。］で表される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製
造方法にある。以下、本発明を更に詳細に説明する。
【００１３】本明細書中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4の置換基
として挙げられている炭素数１〜６のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６の直
鎖、分枝あるいは環状アルキル基を挙げることができ
る。
として挙げられている炭素数１〜６のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜６の直
鎖、分枝あるいは環状アルキル基を挙げることができ
る。
【００１４】Ｒ2、Ｒ3が互いに連結した（カルボニル基
を含んでもよい）５〜８員環としては、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロペンテノ
ン等を挙げることができる。
を含んでもよい）５〜８員環としては、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロペンテノ
ン等を挙げることができる。
【００１５】アルカリ金属としては、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等を挙げることができる。アルカリ土類
金属としては、マグネシウム、カルシウム等を挙げるこ
とができる。
ウム、カリウム等を挙げることができる。アルカリ土類
金属としては、マグネシウム、カルシウム等を挙げるこ
とができる。
【００１６】一般式（Ｉ）で表される光学活性グリコー
ルオキシドは、光学活性グリコールに溶媒中で、反応に
不活性な雰囲気下、塩基を作用させることにより得るこ
とができる。塩基の使用量としては、光学活性グリコー
ル１モルに対し１〜３モル、好ましくは１．９〜２．１
モルである。溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、水等の
反応に不活性な溶媒の単一または混合物を挙げることが
できる。反応に不活性な雰囲気としては、アルゴン、窒
素、ヘリウム等を挙げることができる。反応温度として
は、−５０〜１２０℃、好ましくは−２０〜１００℃で
ある。反応時間としては、０．１〜５時間、好ましくは
０．２〜２時間である。
ルオキシドは、光学活性グリコールに溶媒中で、反応に
不活性な雰囲気下、塩基を作用させることにより得るこ
とができる。塩基の使用量としては、光学活性グリコー
ル１モルに対し１〜３モル、好ましくは１．９〜２．１
モルである。溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、水等の
反応に不活性な溶媒の単一または混合物を挙げることが
できる。反応に不活性な雰囲気としては、アルゴン、窒
素、ヘリウム等を挙げることができる。反応温度として
は、−５０〜１２０℃、好ましくは−２０〜１００℃で
ある。反応時間としては、０．１〜５時間、好ましくは
０．２〜２時間である。
【００１７】光学活性グリコールとしては、１，１´−
ビ−２−ナフトール、６，６´−ジフェニル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジメチル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジエチル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−１，１
´−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−２，
２´−ビ−１−ナフトール、２，２´−ジフェニル−
３，３´−ビ−４，４´−フェナントロール、９，９´
−ビ−１０，１０´−フェナントロール等の光学活性体
を挙げることができる。光学活性体の光学純度としては
必ずしも１００％でなくてもよい。
ビ−２−ナフトール、６，６´−ジフェニル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジメチル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、６，６´−ジエチル−１，１´
−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−１，１
´−ビ−２−ナフトール、３，３´−ジフェニル−２，
２´−ビ−１−ナフトール、２，２´−ジフェニル−
３，３´−ビ−４，４´−フェナントロール、９，９´
−ビ−１０，１０´−フェナントロール等の光学活性体
を挙げることができる。光学活性体の光学純度としては
必ずしも１００％でなくてもよい。
【００１８】塩基としては、メチルリチウム、ｎ−ブチ
ルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウ
ム、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウム
ブロミド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム等を挙げることができる。
ルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウ
ム、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウム
ブロミド、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム等を挙げることができる。
【００１９】本発明の光学活性ガリウムグリコールオキ
シド錯体は、一般式（Ｉ）で表される光学活性グリコー
ルオキシドに溶媒中、反応に不活性な雰囲気下、三塩化
ガリウムを作用させることにより得ることができる。溶
媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類等の反応に不活性な溶媒
の単一または混合物を挙げることができる。反応に不活
性な雰囲気としては、アルゴン、窒素、ヘリウム等を挙
げることができる。反応に供される反応剤の量として
は、三塩化ガリウム１モルに対し、光学活性グリコール
オキシド０．５〜６モル、好ましくは１〜３モルであ
る。反応温度としては、−５０〜１２０℃、好ましくは
−２０〜１００℃である。反応時間としては、０．１〜
４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
シド錯体は、一般式（Ｉ）で表される光学活性グリコー
ルオキシドに溶媒中、反応に不活性な雰囲気下、三塩化
ガリウムを作用させることにより得ることができる。溶
媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類等の反応に不活性な溶媒
の単一または混合物を挙げることができる。反応に不活
性な雰囲気としては、アルゴン、窒素、ヘリウム等を挙
げることができる。反応に供される反応剤の量として
は、三塩化ガリウム１モルに対し、光学活性グリコール
オキシド０．５〜６モル、好ましくは１〜３モルであ
る。反応温度としては、−５０〜１２０℃、好ましくは
−２０〜１００℃である。反応時間としては、０．１〜
４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００２０】調製した光学活性ガリウムグリコールオキ
シド錯体は、単離せずにそのまま一般式（ＩＩＩ）で表
される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造に用いて
もよい。
シド錯体は、単離せずにそのまま一般式（ＩＩＩ）で表
される光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造に用いて
もよい。
【００２１】本発明の光学活性ヒドロキシスルフィド類
の製造方法は、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯
体の存在下、一般式（ＩＩ）で表されるエポキシド類と
Ｒ4−ＳＨで表されるチオール類とを反応溶媒中、反応
に不活性な雰囲気下で反応させる。溶媒としては、ペン
タン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸
ヘキサメチルトリアミド等の極性溶媒等の反応に不活性
な溶媒の単一または混合物を挙げることができる。
の製造方法は、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯
体の存在下、一般式（ＩＩ）で表されるエポキシド類と
Ｒ4−ＳＨで表されるチオール類とを反応溶媒中、反応
に不活性な雰囲気下で反応させる。溶媒としては、ペン
タン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、リン酸
ヘキサメチルトリアミド等の極性溶媒等の反応に不活性
な溶媒の単一または混合物を挙げることができる。
【００２２】反応に不活性な雰囲気としては、アルゴ
ン、窒素、ヘリウム等を挙げることができる。反応に供
される反応剤の量としては、エポキシド類１モルに対
し、チオール類０．５〜３モル、好ましくは０．９〜
１．５モル、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体
（調製時の三塩化ガリウムの量として）０．００１〜３
モル、好ましくは０．０１〜１．５モルである。反応温
度としては、−５０〜１４０℃、好ましくは０〜１００
℃である。反応時間としては、０．１〜１６８時間、好
ましくは０．２〜７２時間である。本製造方法では、反
応剤の添加順序には特に制限はないが、好ましくは最後
にチオール類を添加するのがよく、さらに好ましくはチ
オール類を１〜７時間かけてゆっくり添加するのがよ
い。
ン、窒素、ヘリウム等を挙げることができる。反応に供
される反応剤の量としては、エポキシド類１モルに対
し、チオール類０．５〜３モル、好ましくは０．９〜
１．５モル、光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体
（調製時の三塩化ガリウムの量として）０．００１〜３
モル、好ましくは０．０１〜１．５モルである。反応温
度としては、−５０〜１４０℃、好ましくは０〜１００
℃である。反応時間としては、０．１〜１６８時間、好
ましくは０．２〜７２時間である。本製造方法では、反
応剤の添加順序には特に制限はないが、好ましくは最後
にチオール類を添加するのがよく、さらに好ましくはチ
オール類を１〜７時間かけてゆっくり添加するのがよ
い。
【００２３】
【発明の効果】本発明によって、光学活性ガリウムグリ
コールオキシド錯体を得ることができる。またエポキシ
ド類とチオール類との反応において、光学活性ガリウム
グリコールオキシド錯体を存在させることにより、短い
反応時間かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシ
スルフィド類を得ることができる。本発明によって得ら
れる光学活性ヒドロキシスルフィド類は、例えば光学活
性アリルアルコール類へ容易に導くこともでき、有機中
間体及び医農薬中間体として有用な化合物である。
コールオキシド錯体を得ることができる。またエポキシ
ド類とチオール類との反応において、光学活性ガリウム
グリコールオキシド錯体を存在させることにより、短い
反応時間かつ満足のいく光学収率で光学活性ヒドロキシ
スルフィド類を得ることができる。本発明によって得ら
れる光学活性ヒドロキシスルフィド類は、例えば光学活
性アリルアルコール類へ容易に導くこともでき、有機中
間体及び医農薬中間体として有用な化合物である。
【００２４】
【実施例】以下本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】実施例１ （Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナ
フトール−ジリチウム塩溶液の調製。
フトール−ジリチウム塩溶液の調製。
【００２６】（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール
（５７３ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロ
フラン溶液（７．５ｍｌ）に、氷冷下、ｎ−ブチルリチ
ウム（１．５６Ｍヘキサン溶液）（２．５７ｍｌ，４．
０１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌し、更に室温にて
２０分間攪拌することにより（Ｒ）−１，１´−ビ−２
−ナフトール−ジリチウム塩溶液を調製した。
（５７３ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）の無水テトラヒドロ
フラン溶液（７．５ｍｌ）に、氷冷下、ｎ−ブチルリチ
ウム（１．５６Ｍヘキサン溶液）（２．５７ｍｌ，４．
０１ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌し、更に室温にて
２０分間攪拌することにより（Ｒ）−１，１´−ビ−２
−ナフトール−ジリチウム塩溶液を調製した。
【００２７】実施例２ 三塩化ガリウムと（Ｒ）−１，
１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩とからの錯体
（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液の調製。
１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウム塩とからの錯体
（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液の調製。
【００２８】三塩化ガリウム（１．８２３ｇ，１０．４
ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）溶液を調製し、その
内の２．８９ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロ
フラン（５ｍｌ）に加え、室温下、更に実施例１で調製
した（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウ
ム塩溶液を加えた。更にテトラヒドロフラン（１．５ｍ
ｌ）を加え、この溶液を２時間攪拌した後、一晩放置す
ることにより錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）
溶液（０．０５Ｍ）を調製した。
ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）溶液を調製し、その
内の２．８９ｍｌ（１．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロ
フラン（５ｍｌ）に加え、室温下、更に実施例１で調製
した（Ｒ）−１，１´−ビ−２−ナフトール−ジリチウ
ム塩溶液を加えた。更にテトラヒドロフラン（１．５ｍ
ｌ）を加え、この溶液を２時間攪拌した後、一晩放置す
ることにより錯体（Ｇａ−Ｌｉ−（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）
溶液（０．０５Ｍ）を調製した。
【００２９】13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＴＨＦ、ロック溶媒
として重水使用、単位：δｐｐｍ）：１２１．０，１２
１．３，１２４．０，１２５．２，１２６．３，１２
７．０，１２７．３，１２８．４，１３４．６，１５
７．４。
として重水使用、単位：δｐｐｍ）：１２１．０，１２
１．３，１２４．０，１２５．２，１２６．３，１２
７．０，１２７．３，１２８．４，１３４．６，１５
７．４。
【００３０】実施例３ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１）。
【００３１】実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ
（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分
間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒と
してトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド
（０．５ｍｍｏｌ）、ベンジルチオール（０．６ｍｍｏ
ｌ）を順次加え、室温下にて１５時間攪拌した。反応混
合物はジエチルエーテル（２０ｍｌ）で希釈し、５％く
えん酸水溶液（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液；ヘキサン：アセトン＝１０：１）にて精
製することにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチ
オ）シクロヘキサノールを得た。
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ
（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分
間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒と
してトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド
（０．５ｍｍｏｌ）、ベンジルチオール（０．６ｍｍｏ
ｌ）を順次加え、室温下にて１５時間攪拌した。反応混
合物はジエチルエーテル（２０ｍｌ）で希釈し、５％く
えん酸水溶液（１０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液；ヘキサン：アセトン＝１０：１）にて精
製することにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチ
オ）シクロヘキサノールを得た。
【００３２】化学収率＝８７％、光学収率＝４０％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００３３】光学収率はＨＰＬＣ分析により決定した
（ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ；ヘキサン：イソ
プロパノール＝９５：５、フロー速度；０．５ｍｌ／
分）。また、（Ｒ）−ＢＩＮＯＬはカラム精製において
溶出液をアセトンにすることによりほぼ定量的に回収し
た。
（ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ；ヘキサン：イソ
プロパノール＝９５：５、フロー速度；０．５ｍｌ／
分）。また、（Ｒ）−ＢＩＮＯＬはカラム精製において
溶出液をアセトンにすることによりほぼ定量的に回収し
た。
【００３４】1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δ
ｐｐｍ）：１．１７−１．５１ （４Ｈ，ｍ），１．６
３−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．９７−２．１２（２
Ｈ，ｍ），２．４０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．３，７．
９，１０．２Ｈｚ），２．７９（１Ｈ，ｓ），３．３１
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．３，９．６Ｈｚ），［３．７６
（ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８２（ｄ，Ｊ＝１３．
２Ｈｚ），ｅａｃｈ１Ｈ］，７．２２−７．３３（５
Ｈ，ｍ）。
ｐｐｍ）：１．１７−１．５１ （４Ｈ，ｍ），１．６
３−１．７４（２Ｈ，ｍ），１．９７−２．１２（２
Ｈ，ｍ），２．４０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．３，７．
９，１０．２Ｈｚ），２．７９（１Ｈ，ｓ），３．３１
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．３，９．６Ｈｚ），［３．７６
（ｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．８２（ｄ，Ｊ＝１３．
２Ｈｚ），ｅａｃｈ１Ｈ］，７．２２−７．３３（５
Ｈ，ｍ）。
【００３５】実施例４ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（２）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（２）。
【００３６】溶媒としてトルエンの代わりにジエチルエ
ーテルを用い、さらに反応時間を２４時間にした以外は
実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２
−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
ーテルを用い、さらに反応時間を２４時間にした以外は
実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２
−（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００３７】化学収率＝８６％、光学収率＝３％ｅｅ。
【００３８】実施例５ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（３）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（３）。
【００３９】溶媒としてトルエンの代わりにジクロロメ
タンを用い、さらに反応時間を８時間にした以外は実施
例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−
（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
タンを用い、さらに反応時間を８時間にした以外は実施
例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−
（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４０】化学収率＝７５％、光学収率＝１９％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００４１】実施例６ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（４）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（４）。
【００４２】溶媒としてトルエンの代わりにペンタンを
用い、さらに反応時間を２０時間にした以外は実施例３
と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
用い、さらに反応時間を２０時間にした以外は実施例３
と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４３】化学収率＝６６％、光学収率＝１１％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００４４】実施例７ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（５）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（５）。
【００４５】溶媒としてトルエンの代わりにアセトニト
リルを用い、さらに反応時間を７２時間にした以外は実
施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−
（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
リルを用い、さらに反応時間を７２時間にした以外は実
施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−
（ベンジルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００４６】化学収率＝１０％、光学収率＝７％ｅｅ。
【００４７】実施例８ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（６）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（６）。
【００４８】実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）を１０ｍｌ
（０．５ｍｍｏｌ）用いる以外は実施例３と同様に行う
ことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シ
クロヘキサノールを得た。
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）を１０ｍｌ
（０．５ｍｍｏｌ）用いる以外は実施例３と同様に行う
ことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シ
クロヘキサノールを得た。
【００４９】化学収率＝８７％、光学収率＝８８％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００５０】実施例９ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジ
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（７）。
ルチオ）シクロヘキサノールの製造法（７）。
【００５１】実施例２で調製した錯体（Ｇａ−Ｌｉ−
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ
（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分
間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒と
してトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド
（０．５ｍｍｏｌ）を加え、室温にてベンジルチオール
（０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリン
ジポンプを用いて４時間かけて添加した。添加後、室温
下にて１時間攪拌した。反応混合物はジエチルエーテル
（２０ｍｌ）で希釈し、５％くえん酸水溶液（１０ｍ
ｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽
和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサ
ン：アセトン＝１０：１）にて精製することにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ）溶液（０．０５Ｍ）１．０ｍｌ
（０．０５ｍｍｏｌ）を反応容器に入れ、室温下３０分
間、真空ポンプを用いて溶媒を留去した。残渣に溶媒と
してトルエン（１．０ｍｌ）、シクロヘキセンオキシド
（０．５ｍｍｏｌ）を加え、室温にてベンジルチオール
（０．６ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリン
ジポンプを用いて４時間かけて添加した。添加後、室温
下にて１時間攪拌した。反応混合物はジエチルエーテル
（２０ｍｌ）で希釈し、５％くえん酸水溶液（１０ｍ
ｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ）、飽
和食塩水（１０ｍｌ）にて順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルフ
ラッシュカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサ
ン：アセトン＝１０：１）にて精製することにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
【００５２】化学収率＝５４％、光学収率＝６２％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００５３】実施例１０ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（８）。
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（８）。
【００５４】室温にてベンジルチオール（０．６ｍｍｏ
ｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用い
て４．７時間かけて添加し、添加後、室温下にて４８時
間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
ｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを用い
て４．７時間かけて添加し、添加後、室温下にて４８時
間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
【００５５】化学収率＝７２％、光学収率＝５６％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００５６】実施例１１ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（９）。
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（９）。
【００５７】０℃においてベンジルチオール（０．６ｍ
ｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを
用いて５時間かけて添加し、添加後、０℃にて３５時間
攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、（１
Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノール
を得た。
ｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプを
用いて５時間かけて添加し、添加後、０℃にて３５時間
攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、（１
Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノール
を得た。
【００５８】化学収率＝６３％、光学収率＝３５％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００５９】実施例１２ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１０）。
ジルチオ）シクロヘキサノールの製造法（１０）。
【００６０】５０℃においてベンジルチオール（０．６
ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプ
を用いて３時間かけて添加し、添加後、５０℃にて１時
間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍｌ）溶液をシリンジポンプ
を用いて３時間かけて添加し、添加後、５０℃にて１時
間攪拌した以外は実施例９と同様に行うことにより、
（１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロヘキサノ
ールを得た。
【００６１】化学収率＝６１％、光学収率＝７７％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００６２】実施例１３ 光学活性２−（フェネチルチ
オ）シクロヘキサノールの製造法。
オ）シクロヘキサノールの製造法。
【００６３】ベンジルチオールの代わりに、フェネチル
チオールを用い、さらに反応時間を４８時間にした以外
は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−
２−（フェネチルチオ）シクロヘキサノールを得た。
チオールを用い、さらに反応時間を４８時間にした以外
は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２Ｒ）−
２−（フェネチルチオ）シクロヘキサノールを得た。
【００６４】化学収率＝７６％、光学収率＝６３％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００６５】［α］D 24：−３６°（ｃ＝０．６７、Ｃ
ＨＣｌ3）。
ＨＣｌ3）。
【００６６】1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δ
ｐｐｍ）：１．２５−１．５３ （４Ｈ，ｍ），１．６
４−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．０１−２．２０（２
Ｈ，ｍ），２．３９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．９，８．
２，９．９Ｈｚ），２．７７−２．９５（５Ｈ，ｍ），
３．２２−３．３５（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．３４
（５Ｈ，ｍ）。
ｐｐｍ）：１．２５−１．５３ （４Ｈ，ｍ），１．６
４−１．８２（２Ｈ，ｍ），２．０１−２．２０（２
Ｈ，ｍ），２．３９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．９，８．
２，９．９Ｈｚ），２．７７−２．９５（５Ｈ，ｍ），
３．２２−３．３５（１Ｈ，ｍ），７．１９−７．３４
（５Ｈ，ｍ）。
【００６７】13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：
δｐｐｍ）：２４．５，２６．３，３１．４，３２．
９，３３．８，３６．７，５３．７，７２．２，１２
６．５，１２８．５，１２８．５，１４０．３。
δｐｐｍ）：２４．５，２６．３，３１．４，３２．
９，３３．８，３６．７，５３．７，７２．２，１２
６．５，１２８．５，１２８．５，１４０．３。
【００６８】実施例１４ （１Ｒ，２Ｒ）−２−（ベン
ジルチオ）シクロペンテノールの製造法。
ジルチオ）シクロペンテノールの製造法。
【００６９】シクロヘキセンオキシドの代わりに、シク
ロペンテンオキシドを用い、さらに反応時間を７２時間
にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１
Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロペンテノール
を得た。
ロペンテンオキシドを用い、さらに反応時間を７２時間
にした以外は実施例３と同様に行うことにより、（１
Ｒ，２Ｒ）−２−（ベンジルチオ）シクロペンテノール
を得た。
【００７０】化学収率＝７６％、光学収率＝５０％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００７１】1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δ
ｐｐｍ）：１．４４−１．７７ （５Ｈ，ｍ），１．９
５−２．１８（２Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝５．０，７．６Ｈｚ），［３．７４（Ｊ＝１３．２Ｈ
ｚ），３．８５（Ｊ＝１３．２Ｈｚ），ｅａｃｈ１
Ｈ］，４．０３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．０，６．５，
９．９Ｈｚ），７．２１−７．３７（５Ｈ，ｍ）。
ｐｐｍ）：１．４４−１．７７ （５Ｈ，ｍ），１．９
５−２．１８（２Ｈ，ｍ），２．８１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
＝５．０，７．６Ｈｚ），［３．７４（Ｊ＝１３．２Ｈ
ｚ），３．８５（Ｊ＝１３．２Ｈｚ），ｅａｃｈ１
Ｈ］，４．０３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．０，６．５，
９．９Ｈｚ），７．２１−７．３７（５Ｈ，ｍ）。
【００７２】実施例１５ 光学活性２−（フェネチルチ
オ）シクロペンテノールの製造法。
オ）シクロペンテノールの製造法。
【００７３】ベンジルチオールの代わりにフェネチルチ
オールを、シクロヘキセンオキシドの代わりにシクロペ
ンテンオキシドを用い、さらに反応時間を５０時間にし
た以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２
Ｒ）−２−（フェネチルチオ）シクロペンテノールを得
た。
オールを、シクロヘキセンオキシドの代わりにシクロペ
ンテンオキシドを用い、さらに反応時間を５０時間にし
た以外は実施例３と同様に行うことにより、（１Ｒ，２
Ｒ）−２−（フェネチルチオ）シクロペンテノールを得
た。
【００７４】化学収率＝６８％、光学収率＝６４％ｅ
ｅ。
ｅ。
【００７５】［α］D 24：−７．６０°（ｃ＝１．５
４、ＣＨＣｌ3）。
４、ＣＨＣｌ3）。
【００７６】1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：δ
ｐｐｍ）：１．４６−１．７９ （４Ｈ，ｍ），１．９
６−２．２２（３Ｈ，ｍ），２．８０−２．９４（５
Ｈ，ｍ），４．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１．
２Ｈｚ），７．１８−７．３３（５Ｈ，ｍ）。
ｐｐｍ）：１．４６−１．７９ （４Ｈ，ｍ），１．９
６−２．２２（３Ｈ，ｍ），２．８０−２．９４（５
Ｈ，ｍ），４．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１．
２Ｈｚ），７．１８−７．３３（５Ｈ，ｍ）。
【００７７】13Ｃ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、単位：
δｐｐｍ）：２１．６，３１．４，３３．１，３３．
３，３６．５，５２．２，７８．９，１２６．３，１２
８．４，１４０．５。
δｐｐｍ）：２１．６，３１．４，３３．１，３３．
３，３６．５，５２．２，７８．９，１２６．３，１２
８．４，１４０．５。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 323/12 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 323/12 323/13 7419−4Ｈ 323/13 323/15 7419−4Ｈ 323/15 323/16 7419−4Ｈ 323/16 323/17 7419−4Ｈ 323/17 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1は（炭素数１〜６のアルキル基またはフェ
ニル基が置換してもよい）ナフチル基または（炭素数１
〜６のアルキル基またはフェニル基が置換してもよい）
フェナントリル基、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土
類金属を示す。］で表される光学活性グリコールオキシ
ドと三塩化ガリウムとから調製されることを特徴とする
光学活性ガリウムグリコールオキシド錯体。 - 【請求項２】一般式（ＩＩ） 【化２】 ［式中、Ｒ2、Ｒ3は水素原子、炭素数１〜６のアルキル
基または互いに連結して（カルボニル基を含んでもよ
い）５〜８員環を示す。］で表されるエポキシド類とＲ
4−ＳＨ（Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、ベンジル
基、フェネチル基またはフェニルプロピル基を示す。）
で表されるチオール類とを、請求項１に記載の光学活性
ガリウムグリコールオキシド錯体の存在下、反応させる
ことを特徴とする一般式（ＩＩＩ） 【化３】 ［式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は前記と同じである。］で表さ
れる光学活性ヒドロキシスルフィド類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04109696A JP3852122B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04109696A JP3852122B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09227577A true JPH09227577A (ja) | 1997-09-02 |
| JP3852122B2 JP3852122B2 (ja) | 2006-11-29 |
Family
ID=12598958
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04109696A Expired - Lifetime JP3852122B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3852122B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010098193A1 (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-02 | 国立大学法人名古屋大学 | β－アミノカルボニル化合物の製法及びリチウムビナフトラート錯体 |
| KR101255850B1 (ko) * | 2010-09-29 | 2013-04-17 | 한국화학연구원 | 신규의 갈륨 글리콜레이트 화합물 및 그 제조 방법 |
-
1996
- 1996-02-28 JP JP04109696A patent/JP3852122B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010098193A1 (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-02 | 国立大学法人名古屋大学 | β－アミノカルボニル化合物の製法及びリチウムビナフトラート錯体 |
| KR101255850B1 (ko) * | 2010-09-29 | 2013-04-17 | 한국화학연구원 | 신규의 갈륨 글리콜레이트 화합물 및 그 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3852122B2 (ja) | 2006-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6333415B1 (en) | Intermediates and processes for the preparation of optically active octanoic acid derivatives | |
| KR20040026626A (ko) | 5-[비스(카르복시메틸)아미노]-3-카르복시메틸-4-시아노-2-티오펜카르복실산의 테트라에스테르의 산업적 합성 방법및 라넬산의 이가염 또는 그 수화물의 합성에의 적용 | |
| JP2005536558A (ja) | ナプロキセンのニトロオキシ誘導体の製造法 | |
| CN113896674A (zh) | 一种阿普斯特的合成方法 | |
| JPH09227577A (ja) | 錯体及びそれを用いたヒドロキシスルフィド類の製造方法 | |
| AU2001266208B2 (en) | Cyclic ketones, their preparation and their use in the synthesis of amino acids | |
| AU2001266208A1 (en) | Cyclic ketones, their preparation and their use in the synthesis of amino acids | |
| KR20010041488A (ko) | 1,2,4-부탄트리올의 제조 방법 | |
| EP3606907B1 (en) | Racemic beta-aminosulfone compounds | |
| CN101932545A (zh) | 取代的环己烯酮 | |
| JP3896774B2 (ja) | ビスイソオキサゾリン誘導体、その製造法およびその金属錯体からなる触媒 | |
| CN1382123A (zh) | 吲哚衍生物或其盐的制造方法 | |
| JPH0637449B2 (ja) | 光学活性アテノロール及びその中間体の製法 | |
| US20030083520A1 (en) | Process for preparing bicyclic amino acid | |
| JPH0115511B2 (ja) | ||
| JP2737304B2 (ja) | キラルなフェロセン誘導体 | |
| JP2558301B2 (ja) | テルペンジオール誘導体の製造方法 | |
| KR20010052544A (ko) | 비타민 ａ의 제조방법, 중간체 및 그 제조방법 | |
| JP2662162B2 (ja) | ３−アルキルピロールの製造法 | |
| KR0179320B1 (ko) | (±)-2-(톨릴술피닐)-시클로펜타데칸-1-온 및 그의 제법 | |
| EP0378707A1 (en) | AMINOACETONITRILE DERIVATIVES. | |
| JP5072030B2 (ja) | 環状α−ヒドロキシ−α，β−不飽和ケトン化合物及びシクロペンテノン化合物の製造方法 | |
| JPH07107041B2 (ja) | オキシム誘導体およびその製造方法 | |
| JPS582238B2 (ja) | ２−オルガノチオ−２−シクロペンテノン類及びこれらの製造方法 | |
| JPH06321831A (ja) | １―置換１，４―ジヒドロキシ―２―シクロペンテノン誘導体の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060516 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060509 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060718 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060815 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060828 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090915 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100915 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110915 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110915 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120915 Year of fee payment: 6 |