JPH09228038A - 中空のターゲットを備えた、陰極スパッタによりサブストレートを被覆するための装置 - Google Patents

中空のターゲットを備えた、陰極スパッタによりサブストレートを被覆するための装置

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JPH09228038A
JPH09228038A JP9032499A JP3249997A JPH09228038A JP H09228038 A JPH09228038 A JP H09228038A JP 9032499 A JP9032499 A JP 9032499A JP 3249997 A JP3249997 A JP 3249997A JP H09228038 A JPH09228038 A JP H09228038A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 低エネルギーによる蒸着を許し、しかも個々
の膜およびそれらの光沢面において支障箇所および放射
欠陥ができる限り少なく、かつ不活性ガスの混入のな
い、構成が比較的簡単で、したがってリーゾナブルに製
作可能であるスパッタ源を提供する。 【解決手段】 サブストレート３側で開いた中空のター
ゲット４と、ターゲットの側壁５に平行に延びた暗室シ
ールド６と、ターゲットの底部７と不動に結合され、絶
縁材８を介して真空室２の壁９に支持され、しかも電源
１０と電気的に結合されたカソード基体１１と、暗室シ
ールドに平行に延びた、複数の磁石から形成された磁石
帯１２と、暗室シールドによって保持された、少なくと
も１つの中央の開口１４を持つ絞り１３と、ターゲット
の対称面１７に平行な回転軸線１６を持つ、定置に、回
転可能に支承された、サブストレートのための回転皿１
５とを備えた、陰極スパッタによる被覆装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被覆すべきサブス
トレート側で開いた中空のターゲットを備えた、陰極ス
パッタによりサブストレートを被覆するための装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】中空体の形状の、被覆すべきサブストレ
ート側で開いたカソードとアノードとを備えた陰極スパ
ッタによりサブストレートを被覆するための装置は公知
である（独国特許第３５０６２２７号）。該装置では中
空体形状のカソードのサブストレート側とは反対の外面
にカソードの内面にスパッタゾーンを固定するための磁
石装置が設けられており、かつ該磁石装置は、操作時に
スパッタすべきカソードの内面上に２つのスパッタゾー
ンが形成され、かつ両スパッタゾーンのスパッタ出力の
比が調整可能であるように構成されている。中空体形状
のカソードは片側で開いた中空シリンダの形状を有して
おり、かつ第１のスパッタゾーンが主にシリンダの内周
面上に、かつ第２のスパッタゾーンがシリンダの閉じら
れた端面上に限定される。
【０００３】これらの公知の装置は特に良好な膜厚均質
性を減じずに改善された段カバー（Stufenbedeckung）
を与えるという利点を持つ。
【０００４】さらにヨーロッパ特許公開第０４５９４１
３号公報から公知の被覆装置では、サブストレートは回
転皿上に配置され、かつ被覆過程の間２つのターゲット
の下方を通って移動する。両ターゲットはＲＦ−源へ接
続されており、かつ絞りによって互いに分離され、回転
皿の対向位置に定置に保持されている。この公知の被覆
装置は、先ず第一に、交互にＣｏ−層およびＰｔ−また
はＰｄ−層から形成された多層パックから成る磁気記録
層の製作に用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、低エ
ネルギーによる蒸着を許し、しかも個々の膜およびそれ
らの光沢面において支障箇所および放射欠陥（Strahlen
schaeden）ができる限り少なく、かつ不活性ガスの混入
のない、構成が比較的簡単で、したがってリーゾナブル
に製作可能であるスパッタ源を見出すことである。さら
に膜はＭＲ／ＧＭＲ層（Magneto Resistiv/Gigant Magn
eto Resistiv）として蒸着可能であり、特に薄膜ヘッド
に好適でなけらばならない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、本発明に
よれば、中空ターゲットを備えた、陰極スパッタにより
サブストレートを被覆するための装置において、被覆す
べきサブストレート側で開いた中空のターゲットと、タ
ーゲットの側壁に平行に延びた暗室シールドと、ターゲ
ットの底部と不動に結合されていて、絶縁部材を介して
真空室の壁に支持されていて、しかも電源と電気的に結
合されたカソード基体と、暗室シールドに平行に延び
た、複数の磁石から形成された磁石帯（Magnetguerte
l）と、暗室シールドによって保持された、少なくとも
１つの中央の開口を持つ絞りと、定置の、しかし回転可
能に支承された、サブストレートを保持するための回転
皿とを備えており、該回転皿の回転軸線が該回転軸線に
平行に鉛直に延びた中空のターゲットの対称面に対して
一定量ずらされていることによって達成される。
【０００７】他の詳細および特徴が引用形式請求項に記
載されている。
【０００８】本発明は種々の実施形を可能とするが、そ
のうちの１例が略示された図面を基に詳説される。
【０００９】
【発明の実施の形態】装置は、主に、真空室２の上部の
壁部分９の開口２１内に保持されていて、しかも絶縁材
としての絶縁リング８上に支持され、内部に冷却体２２
を挿入されたカソード基体１１と、該カソード基体１１
とろう付けされた、円筒形の側壁（側壁部分）５を持つ
コップ形のターゲット４と、ターゲットの側壁５を距離
を置いて包囲した、Ｕ字形の横断面を持つ暗室シールド
６と、複数の個別の永久磁石１８，１８′、…と環状の
ヨーク１９とから成る磁石帯１２と、下方の壁部分２０
内に回転可能に支承されていて、ディスク状の上面の凹
所２３，２３′，…内にサブストレート３，３′，…を
保持した回転皿１５とを備えている。
【００１０】真空室２の排気および適切なプロセスガ
ス、例えばアルゴンの導入後、回転皿２０が回転せしめ
られ、その結果個々のサブストレート３，３′，…が順
番に絞りの開口１４の下方を通過移動し、かつターゲッ
ト４から衝突散乱した材料粒子によって被覆される。個
々のパラメータ、例えば回転皿の回転数および適用電流
はサブストレート３，３′，…上に一様で均質な膜が蒸
着されるように選択される。ターゲット４の過熱を回避
するために、カソード基体１１は冷却体２２を備え、そ
の冷却通路２４，２４′，…は詳細には示されていない
冷却液体源へ接続されている。ターゲット４の側壁５の
内面を円筒状にする代りに、図面に点線で示されている
ように若干円錐状に延びる内面を設けてもよい。
【００１１】回転皿１５のサブストレート３のための凹
所２３の領域の下面に磁石装置２６を設けると有利であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】被覆装置の断面図である。
【符号の説明】
２ 真空室 ３，３′，… サブストレート ４ ターゲット ５ 側壁 ６ 暗室シールド ７ 底部 ８ 絶縁リング ９，２０ 壁部分 １０ 電源 １１ カソード基体 １２ 磁石帯 １３ 絞り １４，２１ 開口 １５ 回転皿 １６ 回転軸線 １７ 対称面 １８，１８′，… 磁石 １９ ヨーク ２２ 冷却体 ２３，２３′，… 凹所 ２４，２４′，… 冷却孔 ２５ スリーブ ２６ 磁石装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 陰極スパッタによりサブストレート
    （３）を被覆するための装置において、被覆すべきサブ
    ストレート（３）側で開いた中空のターゲット（４）
    と、ターゲット（４）の側壁（５）に平行に延びた暗室
    シールド（６）と、ターゲット（４）の底部（７）と不
    動に結合されていて、絶縁材（８）を介して真空室
    （２）の壁（９）に支持されていて、しかも電源（１
    ０）と電気的に結合されたカソード基体（１１）と、暗
    室シールド（６）に平行に延びた、複数の磁石から形成
    された磁石帯（１２）と、暗室シールド（６）によって
    保持された、少なくとも１つの中央の開口（１４）を持
    つ絞り（１３）と、定置の、回転可能に支承された、サ
    ブストレート（３）を保持するための回転皿（１５）と
    を備えており、該回転皿の回転軸線（１６）が中空のタ
    ーゲット（４）の対称面（１７）に平行に延びているこ
    とを特徴とする、中空ターゲットを備えた、陰極スパッ
    タによりサブストレートを被覆するための装置。
  2. 【請求項２】 サブストレート（３）が絞り（１３）の
    直ぐ下方の、ターゲット（４）の底部（７）に対向する
    位置で回転皿（１５）によって保持されており、絞り
    （１３）内の開口（１４）の寸法がサブストレート
    （３）の寸法にほぼ等しい、請求項１記載の装置。
  3. 【請求項３】 ターゲット（４）の半径方向で見て内側
    の側壁面が鉛直の対称面（１７）に対して斜めに延びて
    いる、請求項２記載の装置。
  4. 【請求項４】 回転皿（１５）が、アノードを形成する
    部材に対する所定の電位の調整を可能にする電気的に絶
    縁性の材料から製作されたスリーブ（２５）によって保
    持されている、請求項１から３までのいずれか１項記載
    の装置。
  5. 【請求項５】 絞り（１３）が膜厚分布絞りとしてスパ
    ッタの状態に適合せしめられた絞り開口（１４）を備え
    られている、請求項１から４までのいずれか１項記載の
    装置。
  6. 【請求項６】 ターゲット（４）に平行に延びた暗室シ
    ールド（６）がほぼＵ字形の横断面輪郭を有しており、
    脚部を成す暗室シールド（６）の区分が絞り（１３）と
    結合されており、絞りの対称面側の部分がターゲット
    （４）の側壁（５）を半径方向に内方へ越えて覆ってい
    る、請求項２記載の装置。
JP9032499A 1996-02-23 1997-02-18 中空のターゲットを備えた、陰極スパッタによりサブストレートを被覆するための装置 Pending JPH09228038A (ja)

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