JPH09230386A - アレイ回路を含む製品 - Google Patents
アレイ回路を含む製品Info
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- JPH09230386A JPH09230386A JP8318145A JP31814596A JPH09230386A JP H09230386 A JPH09230386 A JP H09230386A JP 8318145 A JP8318145 A JP 8318145A JP 31814596 A JP31814596 A JP 31814596A JP H09230386 A JPH09230386 A JP H09230386A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 セルが異なるサイズを有する場合、画像品質
を低下させるアーチファクト(人工的生成物)が起こる
可能性を軽減するためのアレイを提供する。 【解決手段】 隣接する第一及び第二の光アクティブユ
ニット20及び28は、中間光アクティブユニットのサ
ブアレイ22〜26が第一の光アクティブユニット20
から第二の光アクティブユニット28まで延在する光ア
クティブユニットのシリーズ22〜26を形成するよう
に離間されて分離されている。各中間光アクティブユニ
ット22〜26は、このシリーズ内で先行する光アクテ
ィブユニットの有効サイズより第一のサイズ差分小さく
且つ後続の光アクティブユニットの有効サイズよりも第
二のサイズ差分大きい有効サイズを有する。各中間光ア
クティブユニット22〜26の第一及び第二のサイズ差
は、画像サイズを有する画像においてアーチファクトを
生成するためには不十分である。
を低下させるアーチファクト(人工的生成物)が起こる
可能性を軽減するためのアレイを提供する。 【解決手段】 隣接する第一及び第二の光アクティブユ
ニット20及び28は、中間光アクティブユニットのサ
ブアレイ22〜26が第一の光アクティブユニット20
から第二の光アクティブユニット28まで延在する光ア
クティブユニットのシリーズ22〜26を形成するよう
に離間されて分離されている。各中間光アクティブユニ
ット22〜26は、このシリーズ内で先行する光アクテ
ィブユニットの有効サイズより第一のサイズ差分小さく
且つ後続の光アクティブユニットの有効サイズよりも第
二のサイズ差分大きい有効サイズを有する。各中間光ア
クティブユニット22〜26の第一及び第二のサイズ差
は、画像サイズを有する画像においてアーチファクトを
生成するためには不十分である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の上に製造さ
れた回路のアレイに関連する。
れた回路のアレイに関連する。
【0002】
【従来の技術】コックス他(米国特許番号第5、46
4、984号)は、センサアレイを有するX線画像形成
システムを記載している。第62行目から始まるカラム
10で記載されるように、隣接するエッジ間の放射電磁
界検出を有する広域アレイを製造することが望ましい。
このために、センサタイルの非画像形成I/O回路は、
ピクセルアレイの画像形成領域に割り込んで配置されな
ければならない。関連するI/Oパッド及び回路が画像
形成平面上にスペースをとれば、解像度の損失及び/又
はデッドスポットが画像内で生じるおそれがある。図9
に関連して図示され且つ記載されるように、八角形のピ
クセル構成は、ピクセル間の適切な非画像形成領域が周
辺I/O回路を形成するのを可能にしながら高充填率を
維持することができる。第一列と第二列との間に加えら
れた移送ゲートは、第一列を読出し可能にするために使
用され、次に出力シフトレジスターとして使用される。
4、984号)は、センサアレイを有するX線画像形成
システムを記載している。第62行目から始まるカラム
10で記載されるように、隣接するエッジ間の放射電磁
界検出を有する広域アレイを製造することが望ましい。
このために、センサタイルの非画像形成I/O回路は、
ピクセルアレイの画像形成領域に割り込んで配置されな
ければならない。関連するI/Oパッド及び回路が画像
形成平面上にスペースをとれば、解像度の損失及び/又
はデッドスポットが画像内で生じるおそれがある。図9
に関連して図示され且つ記載されるように、八角形のピ
クセル構成は、ピクセル間の適切な非画像形成領域が周
辺I/O回路を形成するのを可能にしながら高充填率を
維持することができる。第一列と第二列との間に加えら
れた移送ゲートは、第一列を読出し可能にするために使
用され、次に出力シフトレジスターとして使用される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、基板の上に
製造された光アクティブセルから成るアレイにおいて起
こる問題を取り扱う。従来のアレイは、一般に全ての光
アクティブセルが同じサイズを有するように構成される
が、セルが異なるサイズを有しなければならない状況が
ある。セルが異なるサイズを有する場合、画像品質を低
下させるアーチファクト(人工的生成物)が起こる可能
性がある。例えば、ディスプレイされた画像は、異なる
セルサイズにより知覚できるアーチファクトを有する場
合がある。
製造された光アクティブセルから成るアレイにおいて起
こる問題を取り扱う。従来のアレイは、一般に全ての光
アクティブセルが同じサイズを有するように構成される
が、セルが異なるサイズを有しなければならない状況が
ある。セルが異なるサイズを有する場合、画像品質を低
下させるアーチファクト(人工的生成物)が起こる可能
性がある。例えば、ディスプレイされた画像は、異なる
セルサイズにより知覚できるアーチファクトを有する場
合がある。
【0004】このようなアーチファクトは、ディスプレ
イアレイが別々のパーツから構成される場合に生じ得
る。パーツの間の境界の小さな付加スペースがセルの隣
接する列をわずかに拡大するので、知覚可能なラインが
パーツの間の境界に沿って生じ得る。
イアレイが別々のパーツから構成される場合に生じ得
る。パーツの間の境界の小さな付加スペースがセルの隣
接する列をわずかに拡大するので、知覚可能なラインが
パーツの間の境界に沿って生じ得る。
【0005】上記に引用されたコックス他の特許は、各
タイルのI/Oパッド及び回路が画像形成平面上にスペ
ースをとる場合に、タイル状のセンサアレイに生じる同
様のアーチファクトについて述べている。解像度は失わ
れ、デッドスポットが生じ得る。
タイルのI/Oパッド及び回路が画像形成平面上にスペ
ースをとる場合に、タイル状のセンサアレイに生じる同
様のアーチファクトについて述べている。解像度は失わ
れ、デッドスポットが生じ得る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の第一の態様は、
異なるセルサイズの問題を軽減することができる一般的
な技術の発見に基づく。この技術は、セルのシリーズに
渡ってセルのサイズ差を分散させ、アーチファクトを排
除するものである。
異なるセルサイズの問題を軽減することができる一般的
な技術の発見に基づく。この技術は、セルのシリーズに
渡ってセルのサイズ差を分散させ、アーチファクトを排
除するものである。
【0007】本技術は、基板及び該基板の表面にアレイ
回路を含む製品において実施されることができる。アレ
イ回路は光アクティブユニットからなるアレイを含み、
各光アクティブユニットは有効サイズを有する。また、
前記アレイ回路は前記光アクティブユニットから信号を
受信したり該ユニットに信号を送信したりするための信
号回路を含む。この光アクティブユニットからなるアレ
イは、共に画像サイズの画像とインタラクトし、そのた
めに隣接する光アクティブユニット同士の間に特有の最
小サイズ差があり、この最小サイズ差は該アレイが使用
されるアプリケーションにおいてアーチファクトを生成
するのに十分なサイズである。このサイズ差は、本明細
書において「最小アーチファクト差」と呼ばれる。
回路を含む製品において実施されることができる。アレ
イ回路は光アクティブユニットからなるアレイを含み、
各光アクティブユニットは有効サイズを有する。また、
前記アレイ回路は前記光アクティブユニットから信号を
受信したり該ユニットに信号を送信したりするための信
号回路を含む。この光アクティブユニットからなるアレ
イは、共に画像サイズの画像とインタラクトし、そのた
めに隣接する光アクティブユニット同士の間に特有の最
小サイズ差があり、この最小サイズ差は該アレイが使用
されるアプリケーションにおいてアーチファクトを生成
するのに十分なサイズである。このサイズ差は、本明細
書において「最小アーチファクト差」と呼ばれる。
【0008】第一の光アクティブユニットは第一の有効
サイズを有し、第二の光アクティブユニットは第一の有
効サイズより全サイズ差分だけ小さな第二の有効サイズ
を有する。全サイズ差は、画像サイズを有する画像にア
ーチファクトを生成するのに十分なサイズであり、第一
及び第二の光アクティブユニットは互いに隣接してい
る。しかし、第一及び第二の光アクティブユニットは、
中間光アクティブユニットのサブアレイが第一の光アク
ティブユニットから第二の光アクティブユニットまで延
在する光アクティブユニットのシリーズを形成するよう
に離間されて分離されている。各中間光アクティブユニ
ットは、このシリーズ内で先行する光アクティブユニッ
トの有効サイズより第一のサイズ差分小さく且つ後続の
光アクティブユニットの有効サイズよりも第二のサイズ
差分大きい有効サイズを有する。各中間光アクティブユ
ニットの第一及び第二のサイズ差は、画像サイズを有す
る画像においてアーチファクトを生成するためには不十
分である。
サイズを有し、第二の光アクティブユニットは第一の有
効サイズより全サイズ差分だけ小さな第二の有効サイズ
を有する。全サイズ差は、画像サイズを有する画像にア
ーチファクトを生成するのに十分なサイズであり、第一
及び第二の光アクティブユニットは互いに隣接してい
る。しかし、第一及び第二の光アクティブユニットは、
中間光アクティブユニットのサブアレイが第一の光アク
ティブユニットから第二の光アクティブユニットまで延
在する光アクティブユニットのシリーズを形成するよう
に離間されて分離されている。各中間光アクティブユニ
ットは、このシリーズ内で先行する光アクティブユニッ
トの有効サイズより第一のサイズ差分小さく且つ後続の
光アクティブユニットの有効サイズよりも第二のサイズ
差分大きい有効サイズを有する。各中間光アクティブユ
ニットの第一及び第二のサイズ差は、画像サイズを有す
る画像においてアーチファクトを生成するためには不十
分である。
【0009】この差がアーチファクトを生成するために
不十分であるため、全サイズ差から生じたアーチファク
トは排除される。
不十分であるため、全サイズ差から生じたアーチファク
トは排除される。
【0010】該信号回路は二セットの交差するラインを
含むことができ、各ラインセットの一つには各光アクテ
ィブユニットがそれぞれ接続されている。光アクティブ
ユニットは、該光アクティブユニットが接続されている
ラインが交差する領域に隣接して配置されることができ
る。
含むことができ、各ラインセットの一つには各光アクテ
ィブユニットがそれぞれ接続されている。光アクティブ
ユニットは、該光アクティブユニットが接続されている
ラインが交差する領域に隣接して配置されることができ
る。
【0011】製品は、アクティブマトリクス液晶ディス
プレイ(AMLCD)のようなディスプレイでもよく、
各光アクティブユニットは画像のセグメントのプレゼン
テーションを制御することができる。各ユニットの有効
サイズはそのアパーチャ領域であることができ、アパー
チャ領域境界ライン同士の間を離間することによって又
はダークマトリクスによって画定されたアパーチャ境界
により、決定される。全サイズ差は、一対の走査ライン
又は当該走査ラインに沿って平行な修正ラインによって
生じる。
プレイ(AMLCD)のようなディスプレイでもよく、
各光アクティブユニットは画像のセグメントのプレゼン
テーションを制御することができる。各ユニットの有効
サイズはそのアパーチャ領域であることができ、アパー
チャ領域境界ライン同士の間を離間することによって又
はダークマトリクスによって画定されたアパーチャ境界
により、決定される。全サイズ差は、一対の走査ライン
又は当該走査ラインに沿って平行な修正ラインによって
生じる。
【0012】本発明の第二の態様は、先に記載した技術
がディスプレイされた画像に知覚可能な特殊なタイプの
アーチファクトを生成し得るという認識に基づく。人間
の知覚システムは特にラインアーチファクトに敏感であ
る。ディスプレイ内の光制御ユニット同士間の僅かな位
置合わせのずれは、ラインの破損又は折れ欠陥として知
覚可能なアーチファクトを生成し得る。
がディスプレイされた画像に知覚可能な特殊なタイプの
アーチファクトを生成し得るという認識に基づく。人間
の知覚システムは特にラインアーチファクトに敏感であ
る。ディスプレイ内の光制御ユニット同士間の僅かな位
置合わせのずれは、ラインの破損又は折れ欠陥として知
覚可能なアーチファクトを生成し得る。
【0013】第二の態様はさらに、光制御ユニットのア
パーチャが異なるサイズを有する場合でもこれらのライ
ンアーチファクトを減少することができるという発見に
基づく。光制御ユニットアパーチャの有効中心が均一に
離間されれば、ラインアーチファクトは削除されないに
しても大幅に減少することができる。
パーチャが異なるサイズを有する場合でもこれらのライ
ンアーチファクトを減少することができるという発見に
基づく。光制御ユニットアパーチャの有効中心が均一に
離間されれば、ラインアーチファクトは削除されないに
しても大幅に減少することができる。
【0014】先に記載された技術は、光制御ユニットの
有効サイズが異なることによってアーチファクトを生じ
ることなく、分割ラインにそって修正ライン又は一対の
走査ラインをAMLCDに提供することができるので、
有利である。当技術は、接合する又は結合する二つのア
レイ部分によって分割アレイが形成されるときに生じる
アーチファクトの可視性を減少するであろう。
有効サイズが異なることによってアーチファクトを生じ
ることなく、分割ラインにそって修正ライン又は一対の
走査ラインをAMLCDに提供することができるので、
有利である。当技術は、接合する又は結合する二つのア
レイ部分によって分割アレイが形成されるときに生じる
アーチファクトの可視性を減少するであろう。
【0015】
【発明の実施の形態】「アレイ」及び「セル」という用
語は関連性がある。「アレイ」は、「セル」の配列を含
む製品である。例えば、「二次元アレイ」即ち「2Dア
レイ」は、二次元のセルの配列を含む。回路の2Dアレ
イは列及びカラムを含むことができ、各列及び各カラム
は一本ずつラインを有する。一方向のラインは「データ
ライン」であり、セルはこのデータラインを介してその
状態を決定したり示したりする信号を受信したり送信し
たりする。他の方向のラインは「走査ライン」であり、
セルはこの走査ラインを介して信号を受信し、そのデー
タラインに信号を送ったり該データラインから信号を受
信したりすることを可能にする。
語は関連性がある。「アレイ」は、「セル」の配列を含
む製品である。例えば、「二次元アレイ」即ち「2Dア
レイ」は、二次元のセルの配列を含む。回路の2Dアレ
イは列及びカラムを含むことができ、各列及び各カラム
は一本ずつラインを有する。一方向のラインは「データ
ライン」であり、セルはこのデータラインを介してその
状態を決定したり示したりする信号を受信したり送信し
たりする。他の方向のラインは「走査ライン」であり、
セルはこの走査ラインを介して信号を受信し、そのデー
タラインに信号を送ったり該データラインから信号を受
信したりすることを可能にする。
【0016】回路のアレイでは、光を感知したり光を発
光したり、又は反射光又は発光された光を修正したりす
ることによって光とインタラクトすることができる回路
をセルが含む場合、セルは「光アクティブユニット」で
ある。
光したり、又は反射光又は発光された光を修正したりす
ることによって光とインタラクトすることができる回路
をセルが含む場合、セルは「光アクティブユニット」で
ある。
【0017】光アクティブユニットの「有効サイズ」
は、光アクティブユニットがインタラクトする画像のセ
グメントのサイズである。二次元光アクティブユニット
の「有効領域」は、二次元で測定されたその有効サイズ
である。光アクティブユニットの有効領域の「境界」
は、その有効領域を囲むラインである。
は、光アクティブユニットがインタラクトする画像のセ
グメントのサイズである。二次元光アクティブユニット
の「有効領域」は、二次元で測定されたその有効サイズ
である。光アクティブユニットの有効領域の「境界」
は、その有効領域を囲むラインである。
【0018】アレイにおいて、「スペース」が光アクテ
ィブユニットの有効領域の境界間の最短距離を意味する
のであれば、二つの光アクティブユニットは「スペース
を開けることによってアレイ内で分離される」。
ィブユニットの有効領域の境界間の最短距離を意味する
のであれば、二つの光アクティブユニットは「スペース
を開けることによってアレイ内で分離される」。
【0019】「光アクティブユニットのシリーズ」とは
第一光アクティブユニットから最終光アクティブユニッ
トまで延在する複数の光アクティブユニットであり、こ
の中で各中間光アクティブユニットは先行光アクティブ
ユニット及び後続光アクティブユニットを有し、この中
では隣接する光アクティブユニット間のスペースは更に
光アクティブユニットを追加できるほど大きくはない。
第一光アクティブユニットから最終光アクティブユニッ
トまで延在する複数の光アクティブユニットであり、こ
の中で各中間光アクティブユニットは先行光アクティブ
ユニット及び後続光アクティブユニットを有し、この中
では隣接する光アクティブユニット間のスペースは更に
光アクティブユニットを追加できるほど大きくはない。
【0020】第一光アクティブユニットから第二光アク
ティブユニットまで延在する光アクティブユニットのシ
リーズがこの二つに加えて中間光アクティブユニットの
みを含む場合、第一光アクティブユニットと第二光アク
ティブユニットとの間のスペースにある中間光アクティ
ブユニットは、”第一光アクティブユニットから第二光
アクティブユニットまである光アクティブユニットのシ
リーズを形成する”。
ティブユニットまで延在する光アクティブユニットのシ
リーズがこの二つに加えて中間光アクティブユニットの
みを含む場合、第一光アクティブユニットと第二光アク
ティブユニットとの間のスペースにある中間光アクティ
ブユニットは、”第一光アクティブユニットから第二光
アクティブユニットまである光アクティブユニットのシ
リーズを形成する”。
【0021】「アーチファクト」とは、画像についての
情報項目、又は画像から生成された画像又は他の効果
(画像自体からではなく隣接する光アクティブユニット
とインタラクトするセグメント間の境界又は他の差異に
よって起こったもの)である。アーチファクトは、画像
セグメントのアレイとして画像とインタラクトすること
に固有のサンプリングから一般に結果として起こる。ア
ーチファクトは画像に加えられる空間的に一定なある種
のノイズであると考えられる。
情報項目、又は画像から生成された画像又は他の効果
(画像自体からではなく隣接する光アクティブユニット
とインタラクトするセグメント間の境界又は他の差異に
よって起こったもの)である。アーチファクトは、画像
セグメントのアレイとして画像とインタラクトすること
に固有のサンプリングから一般に結果として起こる。ア
ーチファクトは画像に加えられる空間的に一定なある種
のノイズであると考えられる。
【0022】共に画像サイズの画像とインタラクトする
光アクティブユニットのアレイでは、光アクティブユニ
ットが隣接している場合に当該アレイを通常使用すると
サイズの差によってアーチファクトが生成される場合、
二つの光アクティブユニットの間のサイズ差は「画像サ
イズを有する画像内にアーチファクトを生成するのに充
分」である。
光アクティブユニットのアレイでは、光アクティブユニ
ットが隣接している場合に当該アレイを通常使用すると
サイズの差によってアーチファクトが生成される場合、
二つの光アクティブユニットの間のサイズ差は「画像サ
イズを有する画像内にアーチファクトを生成するのに充
分」である。
【0023】画像サイズの画像と光アクティブユニット
アレイとのインタラクションのための「最小アーチファ
クト差」は隣接する光アクティブユニット間の特有の最
小サイズ差であり、この最小サイズ差は該アレイが使用
されるアプリケーションにおいてアーチファクトを生成
するのに十分な差である。
アレイとのインタラクションのための「最小アーチファ
クト差」は隣接する光アクティブユニット間の特有の最
小サイズ差であり、この最小サイズ差は該アレイが使用
されるアプリケーションにおいてアーチファクトを生成
するのに十分な差である。
【0024】「光制御ユニット」は、単色又は複数色の
セットの画像セグメントを提供することによって信号を
受信したりその信号に応答したりするよう構成された光
アクティブユニットであり、モノクロのディスプレイで
はカラーは単一色の異なるレベルの明度で識別される。
セットの画像セグメントを提供することによって信号を
受信したりその信号に応答したりするよう構成された光
アクティブユニットであり、モノクロのディスプレイで
はカラーは単一色の異なるレベルの明度で識別される。
【0025】光制御ユニットの「有効アパーチャ領域」
は、光制御ユニットが提示する画像セグメントの有効領
域である。
は、光制御ユニットが提示する画像セグメントの有効領
域である。
【0026】光制御ユニットの有効アパーチャ領域は、
ラインを隔てている間隔内にあるならば、一方向に延び
る「ラインによって境界が定められる」。
ラインを隔てている間隔内にあるならば、一方向に延び
る「ラインによって境界が定められる」。
【0027】「ダークマトリクス」は、ほとんど全ての
光が伝送又は反射されずに吸収される画像領域を画定す
るディスプレイのコンポーネントである。ダークマトリ
クスが光制御ユニットの有効アパーチャ領域と周囲のダ
ークエリアとの間の境界を画定するならば、ダークマト
リクスが光制御ユニットの「アパーチャ境界」を定義す
る。
光が伝送又は反射されずに吸収される画像領域を画定す
るディスプレイのコンポーネントである。ダークマトリ
クスが光制御ユニットの有効アパーチャ領域と周囲のダ
ークエリアとの間の境界を画定するならば、ダークマト
リクスが光制御ユニットの「アパーチャ境界」を定義す
る。
【0028】光制御ユニットの「アパーチャ中心」は、
光制御ユニットの有効アパーチャ領域の中心である。
光制御ユニットの有効アパーチャ領域の中心である。
【0029】光制御ユニットのシリーズの隣接するユニ
ット間のスペースが全てほぼ等間隔であれば、当該光ア
クティブユニットのアパーチャ中心は「等間隔に配置さ
れる」。
ット間のスペースが全てほぼ等間隔であれば、当該光ア
クティブユニットのアパーチャ中心は「等間隔に配置さ
れる」。
【0030】図1〜図3は、本発明の一般的な特徴を示
す。図1は、隣接ユニット間のサイズ差が最小アーチフ
ァクト差より少ない光アクティブユニットのシリーズを
有するアレイを示す。図2は、ライン間のスペースのサ
イズ差が最小アーチファクト差より少ないディスプレイ
アレイを示す。図3は、アパーチャ領域間のサイズ差が
最小アーチファクト差より少なく、アパーチャ中心が等
間隔に配置されるディスプレイアレイを示す。
す。図1は、隣接ユニット間のサイズ差が最小アーチフ
ァクト差より少ない光アクティブユニットのシリーズを
有するアレイを示す。図2は、ライン間のスペースのサ
イズ差が最小アーチファクト差より少ないディスプレイ
アレイを示す。図3は、アパーチャ領域間のサイズ差が
最小アーチファクト差より少なく、アパーチャ中心が等
間隔に配置されるディスプレイアレイを示す。
【0031】図1は、表面上に回路が形成される基板1
2を有する製品10を示す。回路は光アクティブユニッ
トのアレイ14を含み、このシリーズがより詳細に図示
されている。また、回路はアレイ14内の光アクティブ
ユニットから信号を受信したり該ユニットに信号を送信
したりするための信号回路を含む。
2を有する製品10を示す。回路は光アクティブユニッ
トのアレイ14を含み、このシリーズがより詳細に図示
されている。また、回路はアレイ14内の光アクティブ
ユニットから信号を受信したり該ユニットに信号を送信
したりするための信号回路を含む。
【0032】アレイ14は、(n+1)個の光アクティ
ブユニット20、22、24、26及び28のシリーズ
を含む。図示された各光アクティブユニットの有効サイ
ズはs1 に関連して図示され、s1 はこのシリーズの中
で一番大きい光アクティブユニット20の有効サイズで
ある。光アクティブユニット22は第一の差δ1 分だけ
光アクティブユニット20より小さく、光アクティブユ
ニット24は第二の差δ2 分だけ光アクティブユニット
22より小さく、といったふうにこのシリーズの他の中
間光アクティブユニットのサイズは順に小さくなってい
る。従って、光アクティブユニット26は(n−1)番
目の差δn-1 分だけ小さく、最小の光アクティブユニッ
ト28はn番目の差δn 分だけ小さい。20〜22まで
のM本のラインのは第一セットであり、24〜26まで
のN本のラインは第二セットである。一般に、シリーズ
を通してサイズ差が単純に増加し、光アクティブユニッ
ト20と28の間のシリーズの各中間ユニットがシリー
ズにおいてそのユニットに先行するユニットより小さく
且つそのユニットに後続するユニットより大きい有効サ
イズを有するように、δi >δi-1 である。
ブユニット20、22、24、26及び28のシリーズ
を含む。図示された各光アクティブユニットの有効サイ
ズはs1 に関連して図示され、s1 はこのシリーズの中
で一番大きい光アクティブユニット20の有効サイズで
ある。光アクティブユニット22は第一の差δ1 分だけ
光アクティブユニット20より小さく、光アクティブユ
ニット24は第二の差δ2 分だけ光アクティブユニット
22より小さく、といったふうにこのシリーズの他の中
間光アクティブユニットのサイズは順に小さくなってい
る。従って、光アクティブユニット26は(n−1)番
目の差δn-1 分だけ小さく、最小の光アクティブユニッ
ト28はn番目の差δn 分だけ小さい。20〜22まで
のM本のラインのは第一セットであり、24〜26まで
のN本のラインは第二セットである。一般に、シリーズ
を通してサイズ差が単純に増加し、光アクティブユニッ
ト20と28の間のシリーズの各中間ユニットがシリー
ズにおいてそのユニットに先行するユニットより小さく
且つそのユニットに後続するユニットより大きい有効サ
イズを有するように、δi >δi-1 である。
【0033】また、図1は画像サイズ30を示し、この
画像サイズ30でアレイ14はインタラクトする。画像
サイズ30内には、隣接する光アクティブユニットの有
効サイズ間の主な差異を表わす三つのバーを有する棒グ
ラフがある。左側のバーはサイズ差δn を表し、このサ
イズ差δn は光アクティブユニット20及び28が隣接
する場合に生じる。真ん中のバーは最小アーチファクト
差(”MAD”)を表し、これは製品10が使用されて
いるときに画像サイズ30でアーチファクトが生成され
る隣接光アクティブユニット間の最小のサイズ差異を意
味する。右側のバーは20〜28までのユニットのシリ
ーズにおける隣接する光アクティブユニット間の最大サ
イズ差を表わし、Maxi =1 to n (δi −δi-1 )
で表すことができる。図示されるように、δn >MAD
>Maxi =1 to n (δi −δ i-1 )である。従っ
て、光アクティブユニット20及び28のアレイ14内
には、隣接していればアーチファクトを生成するであろ
う全サイズ差δn が有るにもかかわらず、ユニット20
〜ユニット28までのシリーズ内の隣接するユニット
は、アーチファクトを生成するのには不十分な有効サイ
ズ差を有する。
画像サイズ30でアレイ14はインタラクトする。画像
サイズ30内には、隣接する光アクティブユニットの有
効サイズ間の主な差異を表わす三つのバーを有する棒グ
ラフがある。左側のバーはサイズ差δn を表し、このサ
イズ差δn は光アクティブユニット20及び28が隣接
する場合に生じる。真ん中のバーは最小アーチファクト
差(”MAD”)を表し、これは製品10が使用されて
いるときに画像サイズ30でアーチファクトが生成され
る隣接光アクティブユニット間の最小のサイズ差異を意
味する。右側のバーは20〜28までのユニットのシリ
ーズにおける隣接する光アクティブユニット間の最大サ
イズ差を表わし、Maxi =1 to n (δi −δi-1 )
で表すことができる。図示されるように、δn >MAD
>Maxi =1 to n (δi −δ i-1 )である。従っ
て、光アクティブユニット20及び28のアレイ14内
には、隣接していればアーチファクトを生成するであろ
う全サイズ差δn が有るにもかかわらず、ユニット20
〜ユニット28までのシリーズ内の隣接するユニット
は、アーチファクトを生成するのには不十分な有効サイ
ズ差を有する。
【0034】図2は、表面でアレイ回路54が光制御ユ
ニットのアレイを提供する基板52を有するディスプレ
イアレイ50を示す。アレイ回路54のための信号回路
は、左右に延びるラインの第一セット及び上下に延びる
ラインの第二セットを有する。ラインの第一セットは例
えば走査ラインであってもよく、ラインの第二セットは
データラインであってもよい。図示されるように、信号
回路は一対のライン56及び58を含み、この一対のラ
イン56及び58は互いに並列して伸び、光制御ユニッ
トの列によって分離されてはいない。一対のライン56
及び58は両方とも第一のラインセットに含まれること
ができるが、アレイ内の分割ラインで分離されるため、
光制御ユニットの列によって分離されてはいない。又
は、一対のライン56及び58のうちの一つがラインの
第一セットに含まれ、もう一方を修正ラインのような追
加のラインにすることもできる。
ニットのアレイを提供する基板52を有するディスプレ
イアレイ50を示す。アレイ回路54のための信号回路
は、左右に延びるラインの第一セット及び上下に延びる
ラインの第二セットを有する。ラインの第一セットは例
えば走査ラインであってもよく、ラインの第二セットは
データラインであってもよい。図示されるように、信号
回路は一対のライン56及び58を含み、この一対のラ
イン56及び58は互いに並列して伸び、光制御ユニッ
トの列によって分離されてはいない。一対のライン56
及び58は両方とも第一のラインセットに含まれること
ができるが、アレイ内の分割ラインで分離されるため、
光制御ユニットの列によって分離されてはいない。又
は、一対のライン56及び58のうちの一つがラインの
第一セットに含まれ、もう一方を修正ラインのような追
加のラインにすることもできる。
【0035】アレイ回路54の領域60は、図2の右側
により詳細に図示されている。領域60は、左右に延び
る一対のライン56及び58に加えて、単一の左右に延
びるライン62、64、66、68、70、72及び上
下に延びるライン80、82を含む。ライン56と62
は光制御ユニットの列によって分離され、ライン58と
64、ライン64と66、ライン66と68、ライン7
0と72もそれぞれ光制御ユニットによって分離され
る。ライン80と82は、光制御ユニットのカラムによ
って分離される。
により詳細に図示されている。領域60は、左右に延び
る一対のライン56及び58に加えて、単一の左右に延
びるライン62、64、66、68、70、72及び上
下に延びるライン80、82を含む。ライン56と62
は光制御ユニットの列によって分離され、ライン58と
64、ライン64と66、ライン66と68、ライン7
0と72もそれぞれ光制御ユニットによって分離され
る。ライン80と82は、光制御ユニットのカラムによ
って分離される。
【0036】一対のライン56と58があるため、それ
らのすぐ上及びすぐ下のスペース(それぞれhで示され
る)はアレイ回路54内の任意の場所にある隣接する左
右のライン間のスペースより小さい。対になったライン
がなければ、左右に延びるラインの間のスペースは全て
最大値H(ライン80と82の間のスペース)をとり、
左右に延びるラインは一定のピッチを有することができ
る。
らのすぐ上及びすぐ下のスペース(それぞれhで示され
る)はアレイ回路54内の任意の場所にある隣接する左
右のライン間のスペースより小さい。対になったライン
がなければ、左右に延びるラインの間のスペースは全て
最大値H(ライン80と82の間のスペース)をとり、
左右に延びるラインは一定のピッチを有することができ
る。
【0037】一次近似として、各列の光制御ユニットの
有効サイズは、その列のすぐ上及びすぐ下のライン間の
スペースに比例し、上下のラインは全てライン80及び
82のスペースと同じスペースで等間隔で配置されてい
ると仮定する。従って、ディスプレイアレイ50によっ
て提供された画像サイズの最小アーチファクト差よりも
全体の差異(H−h)が大きくても、一対のライン56
及び58の近くの列のピッチを僅かに修正することによ
って、隣接する列の間のスペースの差全てを最小アーチ
ファクト差より少なくすることが可能である。実際、一
対のライン56及び58付近の列のピッチは追加のライ
ンを補うために僅かに広げられることができ、反対に次
の列のピッチは追加のラインを含まないために僅かに狭
められてスペースを狭くすることができ、これによって
適切な有効サイズを提供することができる。
有効サイズは、その列のすぐ上及びすぐ下のライン間の
スペースに比例し、上下のラインは全てライン80及び
82のスペースと同じスペースで等間隔で配置されてい
ると仮定する。従って、ディスプレイアレイ50によっ
て提供された画像サイズの最小アーチファクト差よりも
全体の差異(H−h)が大きくても、一対のライン56
及び58の近くの列のピッチを僅かに修正することによ
って、隣接する列の間のスペースの差全てを最小アーチ
ファクト差より少なくすることが可能である。実際、一
対のライン56及び58付近の列のピッチは追加のライ
ンを補うために僅かに広げられることができ、反対に次
の列のピッチは追加のラインを含まないために僅かに狭
められてスペースを狭くすることができ、これによって
適切な有効サイズを提供することができる。
【0038】図2に図示されるように、ライン64と6
6との間のスペースはa1 Δ分だけhより広く、ライン
66と68との間のスペースはa2 Δ分だけ広く、ライ
ン70と72との間のスペースはan Δ分だけ広い。a
n Δはh+an Δ=Hになるように、全体の差(H−
h)に等しい。例えばai =iならば、隣接する列間の
スペースの差全てはΔに等しく、Δが最小アーチファク
ト差より小さければ、知覚可能なアーチファクトを生成
するには不十分な差異である。このように差が等しけれ
ば、任意の特定の距離に渡って有効サイズの変化率を最
小限にするので、有利である。より一般的に、Δが最小
アーチファクトよりも小さくて、ai −a i-1 <1.0
(iは1〜n)であれば、スペースの各差異は知覚可能
なアーチファクトを生成するには不十分な差異である。
6との間のスペースはa1 Δ分だけhより広く、ライン
66と68との間のスペースはa2 Δ分だけ広く、ライ
ン70と72との間のスペースはan Δ分だけ広い。a
n Δはh+an Δ=Hになるように、全体の差(H−
h)に等しい。例えばai =iならば、隣接する列間の
スペースの差全てはΔに等しく、Δが最小アーチファク
ト差より小さければ、知覚可能なアーチファクトを生成
するには不十分な差異である。このように差が等しけれ
ば、任意の特定の距離に渡って有効サイズの変化率を最
小限にするので、有利である。より一般的に、Δが最小
アーチファクトよりも小さくて、ai −a i-1 <1.0
(iは1〜n)であれば、スペースの各差異は知覚可能
なアーチファクトを生成するには不十分な差異である。
【0039】しかし、図2においてピッチを変えてアプ
ローチすることによってアパーチャが均一に離間されな
くなれば、ライン欠陥のアーチアーチファクトにつなが
り得る。各光制御ユニットの有効サイズがそのアパーチ
ャ領域に依存し、且つ各光制御ユニットの効果的な位置
がそのアパーチャ領域の中心であるため、より効果的な
アプローチによって可能な限りピッチを一定に保ちなが
ら図3に図示されるように光制御ユニットのアパーチャ
を形成することができるであろう。
ローチすることによってアパーチャが均一に離間されな
くなれば、ライン欠陥のアーチアーチファクトにつなが
り得る。各光制御ユニットの有効サイズがそのアパーチ
ャ領域に依存し、且つ各光制御ユニットの効果的な位置
がそのアパーチャ領域の中心であるため、より効果的な
アプローチによって可能な限りピッチを一定に保ちなが
ら図3に図示されるように光制御ユニットのアパーチャ
を形成することができるであろう。
【0040】図3は図2のラインと同じライン、及びア
パーチャ領域90、92、94、96及び98を図示
し、これらのアパーチャ領域は前記ライン上にダークマ
トリクスが適用された後に残る。ライン70の中心と7
2の中心との間のピッチはLであり、Lはアパーチャ領
域90の中心と92の中心との間のピッチ、アパーチャ
領域92の中心と94の中心との間のピッチ、アパーチ
ャ領域94の中心と96の中心との間のピッチ、と同じ
である。しかし、アパーチャ領域90及び92はそれら
の間に各アパーチャ領域の中心のh/2上及び下に一対
のライン56及び58が在るのでサイズhに減少され
る。図を見れば分かるように、アパーチャ領域90はラ
イン56からよりライン62から広く離間されて配置さ
れ、同様に、アパーチャ領域92はライン58からより
ライン64から広く離間されて配置されている。
パーチャ領域90、92、94、96及び98を図示
し、これらのアパーチャ領域は前記ライン上にダークマ
トリクスが適用された後に残る。ライン70の中心と7
2の中心との間のピッチはLであり、Lはアパーチャ領
域90の中心と92の中心との間のピッチ、アパーチャ
領域92の中心と94の中心との間のピッチ、アパーチ
ャ領域94の中心と96の中心との間のピッチ、と同じ
である。しかし、アパーチャ領域90及び92はそれら
の間に各アパーチャ領域の中心のh/2上及び下に一対
のライン56及び58が在るのでサイズhに減少され
る。図を見れば分かるように、アパーチャ領域90はラ
イン56からよりライン62から広く離間されて配置さ
れ、同様に、アパーチャ領域92はライン58からより
ライン64から広く離間されて配置されている。
【0041】アパーチャ領域94は高さh+a1 Δを有
し、再度その中心から等しく上下に分割される。アパー
チャ領域96は高さh+a2 Δを有し、再度その中心か
ら等しく上下に分割される。また、アパーチャ領域98
は高さh+an Δを有し、その中心から等しく上下に分
割される。これらの高さによって、図2に適用された分
析と同じ分析が図3にも適用される。例えばai =iな
らば、隣接する列間のスペースの全差はΔと等しく、Δ
が最小アーチファクト差よりも小さければ、知覚可能な
アーチファクトを生成するには不十分な差である。より
一般に、Δが最小アーチファクト差よりも小さく且つa
i −a i-1 <1.0(iは1〜n)であれば、スペース
の各差は知覚可能なアーチファクトを生成するには不十
分な差である。
し、再度その中心から等しく上下に分割される。アパー
チャ領域96は高さh+a2 Δを有し、再度その中心か
ら等しく上下に分割される。また、アパーチャ領域98
は高さh+an Δを有し、その中心から等しく上下に分
割される。これらの高さによって、図2に適用された分
析と同じ分析が図3にも適用される。例えばai =iな
らば、隣接する列間のスペースの全差はΔと等しく、Δ
が最小アーチファクト差よりも小さければ、知覚可能な
アーチファクトを生成するには不十分な差である。より
一般に、Δが最小アーチファクト差よりも小さく且つa
i −a i-1 <1.0(iは1〜n)であれば、スペース
の各差は知覚可能なアーチファクトを生成するには不十
分な差である。
【0042】先に記載された一般的な特徴は、ほとんど
全ての従来のAMLCD技術を用いて実施されることが
できるが、先に述べたように修正が行われることができ
るようにアレイ領域内に一つ以上の修正構造を加える。
全ての従来のAMLCD技術を用いて実施されることが
できるが、先に述べたように修正が行われることができ
るようにアレイ領域内に一つ以上の修正構造を加える。
【0043】図4〜図6は、分割アレイのレイアウトの
特徴を示す。図4は、基板上のアレイ回路のレイアウト
を示す。図5は、修正ラインが交差するセルのレイアウ
トを示す。図6は、ゲートライン及び修正ラインを含む
最下金属パターンにおけるラインの間のスペースを示
す。
特徴を示す。図4は、基板上のアレイ回路のレイアウト
を示す。図5は、修正ラインが交差するセルのレイアウ
トを示す。図6は、ゲートライン及び修正ラインを含む
最下金属パターンにおけるラインの間のスペースを示
す。
【0044】図4におけるディスプレイアレイ150
は、透明ガラス薄板等の基板152を含む。基板152
の表面上のアレイ領域154は、分割ライン156に沿
って上側のアレイ領域及び下側のアレイ領域に分割され
る。左側に信号リードs1〜s409 6 を有し、右側に信号リ
ードs'1 〜s'4096を有する4096本の走査ラインは、
分割ライン156より上に2048本及び該分割ライン
156の下に2048本に分かれてアレイ領域154を
横切って延在する。アレイ領域154の各パーツを横切
って伸びる6144本のデータラインは、分割ライン1
56の上側に信号リードd1 〜d6144を有し、分割ライ
ン156の下側に信号リードd'1〜d’61 44を有し、分
割ライン156の上下の該データラインは同一直線上に
ある。
は、透明ガラス薄板等の基板152を含む。基板152
の表面上のアレイ領域154は、分割ライン156に沿
って上側のアレイ領域及び下側のアレイ領域に分割され
る。左側に信号リードs1〜s409 6 を有し、右側に信号リ
ードs'1 〜s'4096を有する4096本の走査ラインは、
分割ライン156より上に2048本及び該分割ライン
156の下に2048本に分かれてアレイ領域154を
横切って延在する。アレイ領域154の各パーツを横切
って伸びる6144本のデータラインは、分割ライン1
56の上側に信号リードd1 〜d6144を有し、分割ライ
ン156の下側に信号リードd'1〜d’61 44を有し、分
割ライン156の上下の該データラインは同一直線上に
ある。
【0045】アレイ領域154における回路はまた二つ
の修正構造を含む。上方の修正構造は分割ライン156
の上側に沿っており、アレイ領域154に修正ライン1
60及び162を含み、アレイ領域154の外側に接続
リード164及び166を含む。下方の修正構造は分割
ライン156の下側に沿っており、アレイ領域154内
に修正ライン170及び172含み、アレイ領域154
の外側に接続リード174及び176を含む。
の修正構造を含む。上方の修正構造は分割ライン156
の上側に沿っており、アレイ領域154に修正ライン1
60及び162を含み、アレイ領域154の外側に接続
リード164及び166を含む。下方の修正構造は分割
ライン156の下側に沿っており、アレイ領域154内
に修正ライン170及び172含み、アレイ領域154
の外側に接続リード174及び176を含む。
【0046】図5は、光制御ユニットのためのレイアウ
トを示す。図5は、該基板の表面から最も遠い上部層の
いくつかの層を示す。図5に示された一番上の層は、光
制御ユニットを切り換えるアモルファスシリコン(a-S
i)トランジスタのチャネルリードに接続されたデータ
ライン200を形成する最上金属層である。該最上金属
層はまた、後に記載するいくつかの他の特徴を形成す
る。次の図示された層は、透明電極202を形成するイ
ンジウム酸化錫(ITO)の層である。その次の層は、
該トランジスタの一部である絶縁島204を形成する最
上窒化物層である。該最上窒化物層は、下記に言及され
るような他の特徴を形成することができる絶縁層であ
る。図示された一番下の層は最下金属層であり、ゲート
ライン201、修正ライン208、及びゲートライン2
01に接続されたゲートリード210を形成し、該ゲー
トリード210は該トランジスタのゲートリードの役割
をする。
トを示す。図5は、該基板の表面から最も遠い上部層の
いくつかの層を示す。図5に示された一番上の層は、光
制御ユニットを切り換えるアモルファスシリコン(a-S
i)トランジスタのチャネルリードに接続されたデータ
ライン200を形成する最上金属層である。該最上金属
層はまた、後に記載するいくつかの他の特徴を形成す
る。次の図示された層は、透明電極202を形成するイ
ンジウム酸化錫(ITO)の層である。その次の層は、
該トランジスタの一部である絶縁島204を形成する最
上窒化物層である。該最上窒化物層は、下記に言及され
るような他の特徴を形成することができる絶縁層であ
る。図示された一番下の層は最下金属層であり、ゲート
ライン201、修正ライン208、及びゲートライン2
01に接続されたゲートリード210を形成し、該ゲー
トリード210は該トランジスタのゲートリードの役割
をする。
【0047】データライン200は光制御ユニットのコ
ラムにデータ信号を送信し、そのうちの一つが図5に図
示されている。ゲートリード210上に延在するデータ
ライン200の一部は、該トランジスタの一つのチャネ
ルリードに接続する。同様に、ゲートライン201は光
制御ユニットの1列に走査信号を送信する。
ラムにデータ信号を送信し、そのうちの一つが図5に図
示されている。ゲートリード210上に延在するデータ
ライン200の一部は、該トランジスタの一つのチャネ
ルリードに接続する。同様に、ゲートライン201は光
制御ユニットの1列に走査信号を送信する。
【0048】データライン200及びゲートライン20
1は図示されるように各幅10μmであり、図示される
ように修正ライン208はそれとほぼ同じ幅であること
ができる。データライン200はクロスオーバー領域2
20でゲートライン201の上に交差し、修正交差領域
222において修正ライン208の上に交差する。クロ
スオーバー領域220及び修正交差領域222はそれぞ
れ、前記最上窒化物層によって形成される絶縁層、及び
該ラインが適切に信号を伝導して該ライン内の信号が干
渉しないように必要な他の特徴、を含むことができる。
1は図示されるように各幅10μmであり、図示される
ように修正ライン208はそれとほぼ同じ幅であること
ができる。データライン200はクロスオーバー領域2
20でゲートライン201の上に交差し、修正交差領域
222において修正ライン208の上に交差する。クロ
スオーバー領域220及び修正交差領域222はそれぞ
れ、前記最上窒化物層によって形成される絶縁層、及び
該ラインが適切に信号を伝導して該ライン内の信号が干
渉しないように必要な他の特徴、を含むことができる。
【0049】透明電極202は、該最上金属層によって
形成されるライン230を介してトランジスタのもう一
方のチャネルリードに接続する。従って、ゲートライン
201によってゲートリード210に提供された走査信
号によって該トランジスタが導通するとき、透明電極2
02はライン230を介してデータライン200のから
駆動信号を受信し記憶する。
形成されるライン230を介してトランジスタのもう一
方のチャネルリードに接続する。従って、ゲートライン
201によってゲートリード210に提供された走査信
号によって該トランジスタが導通するとき、透明電極2
02はライン230を介してデータライン200のから
駆動信号を受信し記憶する。
【0050】透明電極202はまた充電リード232に
接続し、該充電リード232は記憶コンデンサの一つの
電極を実施し、該最上金属層によって形成される。最下
金属層によって形成されるゲートライン234は記憶コ
ンデンサのもう一方の電極を実施し、ゲートライン23
4もまた同じコラム内の次の光制御ユニットに走査信号
を送信する。
接続し、該充電リード232は記憶コンデンサの一つの
電極を実施し、該最上金属層によって形成される。最下
金属層によって形成されるゲートライン234は記憶コ
ンデンサのもう一方の電極を実施し、ゲートライン23
4もまた同じコラム内の次の光制御ユニットに走査信号
を送信する。
【0051】図5に図示された光制御ユニットは四角形
であり、同じ光制御ユニットのアレイは列方向及びコラ
ム方向90μmX90μmの有効幅を有する。
であり、同じ光制御ユニットのアレイは列方向及びコラ
ム方向90μmX90μmの有効幅を有する。
【0052】図5において、最下層の金属パターンは修
正ライン208を含み、またアレイ領域の外側でデータ
ラインに交差する周辺ラインを含むこともできる。
正ライン208を含み、またアレイ領域の外側でデータ
ラインに交差する周辺ラインを含むこともできる。
【0053】図6は、分割ライン156に沿った最下金
属パターンのレイアウトの一部をより詳細に示す。分割
ライン156に沿って修正ライン250及び252があ
り、これらは図5に図示された形態でレイアウトされ
る。修正ライン250及び252に沿ってそれぞれ平行
に走査ライン254及び256がある。
属パターンのレイアウトの一部をより詳細に示す。分割
ライン156に沿って修正ライン250及び252があ
り、これらは図5に図示された形態でレイアウトされ
る。修正ライン250及び252に沿ってそれぞれ平行
に走査ライン254及び256がある。
【0054】各光制御ユニットは分割ライン156に対
称に図5に図示されるように配置される。この場合、走
査ライン260及び262は分割ライン156に沿った
光制御ユニットの第一列を制御する一方、走査ライン2
54及び256はダミー走査ラインであってそれ自体は
走査信号を送信しないが光制御ユニットの第一列のため
にコンデンサ電極を提供するために必要である。走査ラ
イン264及び266は走査ライン260及び262に
よってそれぞれ境界付けられた光制御ユニットの第二列
を制御する。同様に、走査ライン270及び272は、
走査ライン264及び266によってそれぞれ境界付け
られた光制御ユニットの第三列を制御する。走査ライン
280及び282は光制御ユニットの第n番目の列を制
御し、走査ライン284及び286は走査ライン280
及び282によって境界付けられた光制御ユニットの
(n+1)番目の列を制御する。
称に図5に図示されるように配置される。この場合、走
査ライン260及び262は分割ライン156に沿った
光制御ユニットの第一列を制御する一方、走査ライン2
54及び256はダミー走査ラインであってそれ自体は
走査信号を送信しないが光制御ユニットの第一列のため
にコンデンサ電極を提供するために必要である。走査ラ
イン264及び266は走査ライン260及び262に
よってそれぞれ境界付けられた光制御ユニットの第二列
を制御する。同様に、走査ライン270及び272は、
走査ライン264及び266によってそれぞれ境界付け
られた光制御ユニットの第三列を制御する。走査ライン
280及び282は光制御ユニットの第n番目の列を制
御し、走査ライン284及び286は走査ライン280
及び282によって境界付けられた光制御ユニットの
(n+1)番目の列を制御する。
【0055】また、分割ライン156に沿った第一列の
光制御ユニットは、該第一列を駆動する走査ラインに沿
って修正ラインを配置してもよく、この場合、走査ライ
ン254及び256は光制御ユニットの第一列を制御
し、走査ライン260及び262は第二列を制御し、走
査ライン264及び266は第三列を制御し、第四
列...と続く。
光制御ユニットは、該第一列を駆動する走査ラインに沿
って修正ラインを配置してもよく、この場合、走査ライ
ン254及び256は光制御ユニットの第一列を制御
し、走査ライン260及び262は第二列を制御し、走
査ライン264及び266は第三列を制御し、第四
列...と続く。
【0056】図6は、最下金属パターンにおける隣接ラ
インの間の光制御ユニットの列のy方向におけるサイズ
を示す。図示されたサイズは、隣接のラインの間のy方
向における実際のスペース又はy方向におけるアパーチ
ャのサイズを示し、x−方向の実際のアパーチャサイズ
が与えられる場合に、該ライン間の各光制御ユニットの
実際のアパーチャ領域を生成する。いずれにせよこれら
のサイズは、人間が通常の視覚で通常の視距離でディス
プレイアレイ150を見ても、一方ではライン260、
262、264、266、270、272、280、2
82、284及び286のような単一のライン間の、他
方では250、252、254及び256のような集合
ライン間の、差異を知覚できないようなサイズである。
インの間の光制御ユニットの列のy方向におけるサイズ
を示す。図示されたサイズは、隣接のラインの間のy方
向における実際のスペース又はy方向におけるアパーチ
ャのサイズを示し、x−方向の実際のアパーチャサイズ
が与えられる場合に、該ライン間の各光制御ユニットの
実際のアパーチャ領域を生成する。いずれにせよこれら
のサイズは、人間が通常の視覚で通常の視距離でディス
プレイアレイ150を見ても、一方ではライン260、
262、264、266、270、272、280、2
82、284及び286のような単一のライン間の、他
方では250、252、254及び256のような集合
ライン間の、差異を知覚できないようなサイズである。
【0057】隣接ライン280、284の間及び隣接ラ
イン282、286の間の光制御ユニットの列のサイズ
は、hMAX であり、これは該アレイで生じる最も大きい
サイズである。上記に説明されるように、ライン280
及び282の間に光制御ユニットが2n列位置し、分割
ライン156の下にn列及び該分割ライン156の上に
n列ある。分割ライン156の次の列(先に第一列と呼
ばれた)は図示された最も小さいサイズであるサイズ
(hMAX −δn )を有する。第二列はサイズ(h MAX −
δn-1 )、第三列はサイズ(hMAX −δn-2 )を有し、
第n番目の列がサイズ(hMAX −δ1 )を有するまで続
く。ライン280及び282の中心が正確に2n(h
MAX +hLINE)離間されていれば、hLINEを各ラインの
幅として、2n(hMAX +hLINE)=(2n+2)h
LINE+(2nhMAX −2Σδi )である(iは1〜nで
ある)。従って、hLINE=Σδi となり、分割ライン1
56の各サイドのδi のトータルが一つのラインの幅と
同じになる。
イン282、286の間の光制御ユニットの列のサイズ
は、hMAX であり、これは該アレイで生じる最も大きい
サイズである。上記に説明されるように、ライン280
及び282の間に光制御ユニットが2n列位置し、分割
ライン156の下にn列及び該分割ライン156の上に
n列ある。分割ライン156の次の列(先に第一列と呼
ばれた)は図示された最も小さいサイズであるサイズ
(hMAX −δn )を有する。第二列はサイズ(h MAX −
δn-1 )、第三列はサイズ(hMAX −δn-2 )を有し、
第n番目の列がサイズ(hMAX −δ1 )を有するまで続
く。ライン280及び282の中心が正確に2n(h
MAX +hLINE)離間されていれば、hLINEを各ラインの
幅として、2n(hMAX +hLINE)=(2n+2)h
LINE+(2nhMAX −2Σδi )である(iは1〜nで
ある)。従って、hLINE=Σδi となり、分割ライン1
56の各サイドのδi のトータルが一つのラインの幅と
同じになる。
【0058】δi は、δ1 からδn に単純に増加する。
δi が等しい増加量Δ=δ1 ずつ増加するなら、Σδi
=(n2 +n)Δとなり、δi =iΔ=(ihLINE)/
(n 2 +n)という方程式が得られる。図5のレイアウ
トでは、例えばn=10ならΔ=0.09μmとなり、
最小サイズ(hMAX −δn )=70.1μmになるよう
に、hLINE=10μm及びhMAX =80μmである。8
0μmの光制御ユニットと70.1μmの光制御ユニッ
トとの間の差は並列されれば知覚できるかもしれない
が、それらの間の遷移が0.09μmずつ増加している
とき、知覚できる可能性は減少する。
δi が等しい増加量Δ=δ1 ずつ増加するなら、Σδi
=(n2 +n)Δとなり、δi =iΔ=(ihLINE)/
(n 2 +n)という方程式が得られる。図5のレイアウ
トでは、例えばn=10ならΔ=0.09μmとなり、
最小サイズ(hMAX −δn )=70.1μmになるよう
に、hLINE=10μm及びhMAX =80μmである。8
0μmの光制御ユニットと70.1μmの光制御ユニッ
トとの間の差は並列されれば知覚できるかもしれない
が、それらの間の遷移が0.09μmずつ増加している
とき、知覚できる可能性は減少する。
【0059】一方、最小マスク解像度が0.5μmであ
れば、該増加量は、0.5μm以上でありうる。増加量
が最小マスク分解能によって制限される場合、各10列
目毎後等のような列グループの後、等しい増加量Δ=δ
1 毎にδi が増加することが望ましい。これに類似する
状況において、n= 100のようにnの値が大きめであ
ることが妥当であろう。このアプローチは大きめの領域
上の差異を広げるため、知覚できる可能性もまた小さく
なる。
れば、該増加量は、0.5μm以上でありうる。増加量
が最小マスク分解能によって制限される場合、各10列
目毎後等のような列グループの後、等しい増加量Δ=δ
1 毎にδi が増加することが望ましい。これに類似する
状況において、n= 100のようにnの値が大きめであ
ることが妥当であろう。このアプローチは大きめの領域
上の差異を広げるため、知覚できる可能性もまた小さく
なる。
【0060】中心からずれた光制御ユニットのせいで知
覚可能なアーチファクトを避けるために、各単一のライ
ン又はライングループは適当な位置の上にセンタリング
され、該光制御ユニットのアパーチャが調整されること
ができる。
覚可能なアーチファクトを避けるために、各単一のライ
ン又はライングループは適当な位置の上にセンタリング
され、該光制御ユニットのアパーチャが調整されること
ができる。
【0061】分割ライン156に沿って集められた四本
のラインを用いて、図6のアプローチは、光制御ユニッ
トの隣接する列の間の形状差が比較的小さいので、大き
なアパーチャ領域を有し且つ比較的狭いラインに分離さ
れる光制御ユニットに最も良好に機能する。比較的広い
ラインによって分離された光制御ユニットの場合、四本
のラインのグループよりは3対のラインを残して分割ラ
イン156から修正ラインを離して移動させることが望
ましい。但し、修正ラインによっていくらかのキャパシ
タンスが追加されることがある。
のラインを用いて、図6のアプローチは、光制御ユニッ
トの隣接する列の間の形状差が比較的小さいので、大き
なアパーチャ領域を有し且つ比較的狭いラインに分離さ
れる光制御ユニットに最も良好に機能する。比較的広い
ラインによって分離された光制御ユニットの場合、四本
のラインのグループよりは3対のラインを残して分割ラ
イン156から修正ラインを離して移動させることが望
ましい。但し、修正ラインによっていくらかのキャパシ
タンスが追加されることがある。
【0062】図7及び図8は上記のように配置された構
造の特徴を示す。図7は、図5におけるラインB−Bに
沿って切り取った断面図を示す。図8は、図5における
ラインC−Cに沿って切り取った断面図を示す。両図に
おいては、同じ材料でできた層は同様に影が付けられ且
つ同じ照合番号が付けられている。
造の特徴を示す。図7は、図5におけるラインB−Bに
沿って切り取った断面図を示す。図8は、図5における
ラインC−Cに沿って切り取った断面図を示す。両図に
おいては、同じ材料でできた層は同様に影が付けられ且
つ同じ照合番号が付けられている。
【0063】基板300は薄膜構造が形成される表面3
02を有し、最下金属層304から始まる。図7は図5
における修正ライン208の最下金属層304の一部を
示し、図8は右側が修正ライン208及び左側が走査ラ
イン234を示す。最下金属層304の上に最下窒化物
層310があり、その上にドーピングされていないアモ
ルファスシリコン層312が重ねられている。アモルフ
ァスシリコン層312の上には最上窒化物層314があ
る。最上窒化物層814の存在領域上且つアモルファス
シリコン層312の上の任意の場所にn+アモルファス
シリコン層320がある。n+層320の上には最上金
属層322がある。最上金属層322の上及び他の露出
した層は不活性化層(図示されていない)であってもよ
い。
02を有し、最下金属層304から始まる。図7は図5
における修正ライン208の最下金属層304の一部を
示し、図8は右側が修正ライン208及び左側が走査ラ
イン234を示す。最下金属層304の上に最下窒化物
層310があり、その上にドーピングされていないアモ
ルファスシリコン層312が重ねられている。アモルフ
ァスシリコン層312の上には最上窒化物層314があ
る。最上窒化物層814の存在領域上且つアモルファス
シリコン層312の上の任意の場所にn+アモルファス
シリコン層320がある。n+層320の上には最上金
属層322がある。最上金属層322の上及び他の露出
した層は不活性化層(図示されていない)であってもよ
い。
【0064】図9及び図10は修正技術の特徴を示す。
図9は、先に述べたように修正ラインを用いて分割アレ
イを検査し修正する動作を示す。図10は、修正された
アレイを示す。
図9は、先に述べたように修正ラインを用いて分割アレ
イを検査し修正する動作を示す。図10は、修正された
アレイを示す。
【0065】図9のボックス350の動作は、走査ライ
ンに平行且つデータラインに交差する修正ラインを含む
分割アレイを生成することから始まる。ボックス350
の動作は、図4〜図6に関連して先に述べたように実施
されることができる。
ンに平行且つデータラインに交差する修正ラインを含む
分割アレイを生成することから始まる。ボックス350
の動作は、図4〜図6に関連して先に述べたように実施
されることができる。
【0066】次にボックス352における動作は、デー
タラインの欠陥を検出するために分割アレイを検査す
る。各データラインは唯一のアクセス可能なリードのみ
を有するので、これは従来の導通試験では不可能であ
る。その代わりに、カリフォルニア州ミルピタス(Milp
itas)のフォトンダイナミックス社(Photon Dynamics,
Inc.)から入手可能なインプロセステスター(In-Pro
cess Tester,IPT)のような検査装置を、アレイ内の
欠陥を検出するために使用することもできる。ボンド,
ジェイ.及びレベンソン医学博士による”The US gear
up to challenge Japan in flat panel displays”(So
lid State Technology, 1993年12月発行、37、
38、40〜43頁)に説明されるように、IPTはセ
ルアセンブリの前にAMLCD上に電圧画像を形成する
ノンコンタクト(noncontact)方法を用いることができ
る。IPTは、全てのデータラインをテストしてライン
欠陥の位置及び種類についてのデータを収集するために
光を用いて基板を走査することができる。
タラインの欠陥を検出するために分割アレイを検査す
る。各データラインは唯一のアクセス可能なリードのみ
を有するので、これは従来の導通試験では不可能であ
る。その代わりに、カリフォルニア州ミルピタス(Milp
itas)のフォトンダイナミックス社(Photon Dynamics,
Inc.)から入手可能なインプロセステスター(In-Pro
cess Tester,IPT)のような検査装置を、アレイ内の
欠陥を検出するために使用することもできる。ボンド,
ジェイ.及びレベンソン医学博士による”The US gear
up to challenge Japan in flat panel displays”(So
lid State Technology, 1993年12月発行、37、
38、40〜43頁)に説明されるように、IPTはセ
ルアセンブリの前にAMLCD上に電圧画像を形成する
ノンコンタクト(noncontact)方法を用いることができ
る。IPTは、全てのデータラインをテストしてライン
欠陥の位置及び種類についてのデータを収集するために
光を用いて基板を走査することができる。
【0067】ボックス354の動作は、レーザ機械加工
によって各ショートを排除することでデータラインのシ
ョートを修正する。この動作は、例えばデータラインを
カットして各側面上に切れ目を生成する場合もある。シ
ェング他の上記文献に述べられた集中レーザトリム(I
LT)機能を利用するPhoton Dynamics のLCDパネル
修正システムを用いてこの動作を達成することができ
る。
によって各ショートを排除することでデータラインのシ
ョートを修正する。この動作は、例えばデータラインを
カットして各側面上に切れ目を生成する場合もある。シ
ェング他の上記文献に述べられた集中レーザトリム(I
LT)機能を利用するPhoton Dynamics のLCDパネル
修正システムを用いてこの動作を達成することができ
る。
【0068】ボックス360の動作はデータラインの切
れ目(ボックス354において生成されたもの全てを含
む)を修正し、切れた当該データラインが交差する修正
ライン及び切れた当該データラインが交差する周辺ライ
ンに各切れたデータラインをレーザーによって溶接す
る。この動作もまた、Photon Dynamics のLCDパネル
修正システムを用いて成すことができるが、上記のシェ
ング他の文献に述べられた集中レーザ溶接(ILW)機
能を使用して交差するライン間の導電性パスを生成す
る。
れ目(ボックス354において生成されたもの全てを含
む)を修正し、切れた当該データラインが交差する修正
ライン及び切れた当該データラインが交差する周辺ライ
ンに各切れたデータラインをレーザーによって溶接す
る。この動作もまた、Photon Dynamics のLCDパネル
修正システムを用いて成すことができるが、上記のシェ
ング他の文献に述べられた集中レーザ溶接(ILW)機
能を使用して交差するライン間の導電性パスを生成す
る。
【0069】次に、ボックス362の動作は米国特許番
号第5,486,939号及び第5,491,347号
に記載された方法でLCDを組立てるが、先に述べたよ
うにTABで分割アレイ上のリードを該分割アレイのエ
ッジの周りのPCB上の駆動回路に接続する。分割アレ
イの各部における各データラインが駆動されなければな
らないので、データドライバは対向端から交互に駆動さ
れたデータラインでインターディジット構成されること
ができない。その代わりに、各データラインは分割アレ
イの頂部及び底部の両方から駆動されなければならな
い。従って、データドライバは90μmのピッチで駆動
しなければならず、並行なタブドライバ又は細かいピッ
チのタブで達成されるであろう。データ駆動回路もま
た、他の技術を用いて接続されることができる。
号第5,486,939号及び第5,491,347号
に記載された方法でLCDを組立てるが、先に述べたよ
うにTABで分割アレイ上のリードを該分割アレイのエ
ッジの周りのPCB上の駆動回路に接続する。分割アレ
イの各部における各データラインが駆動されなければな
らないので、データドライバは対向端から交互に駆動さ
れたデータラインでインターディジット構成されること
ができない。その代わりに、各データラインは分割アレ
イの頂部及び底部の両方から駆動されなければならな
い。従って、データドライバは90μmのピッチで駆動
しなければならず、並行なタブドライバ又は細かいピッ
チのタブで達成されるであろう。データ駆動回路もま
た、他の技術を用いて接続されることができる。
【0070】ボックス364の動作は、PCB上の一つ
以上の高導電性ラインがデータラインの修正ラインの接
続リードとデータラインの周辺ラインのリードとの間に
電気的に接続されるように、各切れたデータラインのた
めの接続ワイヤによってデータラインの切れ目の修正を
完了させる。
以上の高導電性ラインがデータラインの修正ラインの接
続リードとデータラインの周辺ラインのリードとの間に
電気的に接続されるように、各切れたデータラインのた
めの接続ワイヤによってデータラインの切れ目の修正を
完了させる。
【0071】図10は、図4のアレイ150を用いて図
9の技術によって修正されたアレイの特徴が示されてお
り、基板152の表面上にアレイ領域154を有し、修
正ライン160、162、170及び172が接続リー
ド164、166、174及び176をそれぞれ有す
る。PCBは、図1及び図8におけるようにタブによっ
て基板152のエッジのまわりに接続される。
9の技術によって修正されたアレイの特徴が示されてお
り、基板152の表面上にアレイ領域154を有し、修
正ライン160、162、170及び172が接続リー
ド164、166、174及び176をそれぞれ有す
る。PCBは、図1及び図8におけるようにタブによっ
て基板152のエッジのまわりに接続される。
【0072】切れたライン382、384、386及び
388はレーザ溶接390、392、394及び396
によって、修正ライン160、162、170及び17
2にそれぞれ電気的に接続される。切れたライン38
2、384、386及び388もまたレーザ溶接41
0、412、414及び416によって、周辺ライン4
00、402、404及び406にそれぞれ電気的に接
続される。
388はレーザ溶接390、392、394及び396
によって、修正ライン160、162、170及び17
2にそれぞれ電気的に接続される。切れたライン38
2、384、386及び388もまたレーザ溶接41
0、412、414及び416によって、周辺ライン4
00、402、404及び406にそれぞれ電気的に接
続される。
【0073】周辺ライン400上のリード420は、ワ
イヤ426によって導電性ライン424上のリード42
2に電気的に接続される。導電性ライン424上のリー
ド430は次に、ワイヤ436によって導電性ライン4
34上のリード432に接続される。導電性ライン43
4上のリード440は、次にワイヤ442によって接続
リード164に接続され、切れたライン382の修正を
完了する。
イヤ426によって導電性ライン424上のリード42
2に電気的に接続される。導電性ライン424上のリー
ド430は次に、ワイヤ436によって導電性ライン4
34上のリード432に接続される。導電性ライン43
4上のリード440は、次にワイヤ442によって接続
リード164に接続され、切れたライン382の修正を
完了する。
【0074】周辺ライン404上のリード450は、ワ
イヤ456によって導電性ライン454上のリード45
2に電気的に接続される。導電性ライン454上のリー
ド460は、次にワイヤ466によって導電性ライン4
64上のリード462に接続される。導電性ライン46
4上のリード470は、次にワイヤ472によって接続
リード174に接続され、切れたライン386の修正を
完了する。
イヤ456によって導電性ライン454上のリード45
2に電気的に接続される。導電性ライン454上のリー
ド460は、次にワイヤ466によって導電性ライン4
64上のリード462に接続される。導電性ライン46
4上のリード470は、次にワイヤ472によって接続
リード174に接続され、切れたライン386の修正を
完了する。
【0075】周辺ライン406上のリード480は、ワ
イヤ486によって導電性ライン484上のリード48
2に電気的に接続される。導電性ライン484上のリー
ド490は、次にワイヤ496によって導電性ライン4
94上のリード492に接続される。導電性ライン49
4上のリード500は、次にワイヤ502によって接続
リード176に接続され、切れたライン388の修正を
完了する。
イヤ486によって導電性ライン484上のリード48
2に電気的に接続される。導電性ライン484上のリー
ド490は、次にワイヤ496によって導電性ライン4
94上のリード492に接続される。導電性ライン49
4上のリード500は、次にワイヤ502によって接続
リード176に接続され、切れたライン388の修正を
完了する。
【0076】周辺ライン402上のリード510は、ワ
イヤ516によって導電性ライン514上のリード51
2に電気的に接続される。導電性ライン514上のリー
ド520は、次にワイヤ526によって導電性ライン5
24上のリード522に接続される。導電性ライン52
4上のリード530は、次にワイヤ532によって接続
リード166に接続され、切れたライン384の修正を
完了する。
イヤ516によって導電性ライン514上のリード51
2に電気的に接続される。導電性ライン514上のリー
ド520は、次にワイヤ526によって導電性ライン5
24上のリード522に接続される。導電性ライン52
4上のリード530は、次にワイヤ532によって接続
リード166に接続され、切れたライン384の修正を
完了する。
【0077】上記の実施によってAMLCDに適当なア
レイが提供されるが、本発明は他のタイプのディスプレ
イアレイ、他のタイプの光バルブアレイ、又は光アクテ
ィブユニットが画像とインタラクトできる他のアレイに
おいて実施されることができる。
レイが提供されるが、本発明は他のタイプのディスプレ
イアレイ、他のタイプの光バルブアレイ、又は光アクテ
ィブユニットが画像とインタラクトできる他のアレイに
おいて実施されることができる。
【0078】上記の実施によって、セルのアレイに特定
の寸法及び密度が供給される。本発明は、様々なアレイ
のサイズ並びに形、セルのサイズ並びに形、及びセルの
密度で実施することができる。
の寸法及び密度が供給される。本発明は、様々なアレイ
のサイズ並びに形、セルのサイズ並びに形、及びセルの
密度で実施することができる。
【0079】上記の実施によって、四本のラインからな
るグループに従ってセルのサイズが調整される。本発明
は、ラインが対になっていたり、光アクティブユニット
の有効サイズが該ユニットの中心に交差するラインによ
って縮小されるような状況を含む、様々な他の状況にお
いて適切なサイズの光アクティブユニットを提供するこ
とができる。
るグループに従ってセルのサイズが調整される。本発明
は、ラインが対になっていたり、光アクティブユニット
の有効サイズが該ユニットの中心に交差するラインによ
って縮小されるような状況を含む、様々な他の状況にお
いて適切なサイズの光アクティブユニットを提供するこ
とができる。
【0080】上記の実施によって、分割ラインに沿って
四本の修正ラインを有する分割アレイを提供する。しか
し、本発明は、分割されないアレイで実施されてもよ
く、またアレイ内の任意の場所にこれより多い若しくは
少ない修正ラインを有するアレイにおいて実施されるこ
ともできる。
四本の修正ラインを有する分割アレイを提供する。しか
し、本発明は、分割されないアレイで実施されてもよ
く、またアレイ内の任意の場所にこれより多い若しくは
少ない修正ラインを有するアレイにおいて実施されるこ
ともできる。
【0081】本発明は、データラインに交差するグルー
プ化されたラインから生じるアーチファクトを排除する
が、本発明は、走査ラインに交差するグループ化された
ラインから生じるアーチファクトを排除するために実施
されることができる。
プ化されたラインから生じるアーチファクトを排除する
が、本発明は、走査ラインに交差するグループ化された
ラインから生じるアーチファクトを排除するために実施
されることができる。
【0082】上記の実施は活性マトリクスアレイを提供
するが、しかし本発明は不活性マトリックスアレイにお
いても実施されることができる。
するが、しかし本発明は不活性マトリックスアレイにお
いても実施されることができる。
【0083】上記の実施は薄膜構造において特定の物質
を使用するが、しかし本発明を実施するために他の物質
が他のタイプの構造において使用されることもできる。
いくつかの例は、米国特許番号第5,491,347号
において述べられている。例えば、アレイがアモルファ
スシリコンTFTではなくポリシリコンTFTで実施さ
れてもよく、及びいくつかの駆動回路は該アレイと同じ
基板上で一体化されてもよい。データライン及び走査ラ
インは、金属ラインではなく、ドーピングされた半導電
性物質のような他の導電性物質を含んでもよい。絶縁層
は、窒化シリコンではなく他の絶縁体を含んでもよい。
を使用するが、しかし本発明を実施するために他の物質
が他のタイプの構造において使用されることもできる。
いくつかの例は、米国特許番号第5,491,347号
において述べられている。例えば、アレイがアモルファ
スシリコンTFTではなくポリシリコンTFTで実施さ
れてもよく、及びいくつかの駆動回路は該アレイと同じ
基板上で一体化されてもよい。データライン及び走査ラ
インは、金属ラインではなく、ドーピングされた半導電
性物質のような他の導電性物質を含んでもよい。絶縁層
は、窒化シリコンではなく他の絶縁体を含んでもよい。
【0084】上記の実施によって、絶縁性基板上に薄膜
回路が提供される。本発明は、他のタイプの基板上の他
のタイプの回路で実施されることができる。
回路が提供される。本発明は、他のタイプの基板上の他
のタイプの回路で実施されることができる。
【0085】上記の実施によって、回路に特定の幾何学
的特性を提供するが、本発明は他の幾何学的形状で実施
することができる。
的特性を提供するが、本発明は他の幾何学的形状で実施
することができる。
【0086】上記の実施はアレイにおける各セルのため
の特定のレイアウトを用いるが、しかし図6に関連して
上記に言及したように、修正ラインがセルの反対側に沿
ったレイアウトを含む他のレイアウトが使用されてもよ
い。
の特定のレイアウトを用いるが、しかし図6に関連して
上記に言及したように、修正ラインがセルの反対側に沿
ったレイアウトを含む他のレイアウトが使用されてもよ
い。
【0087】先に記載された実施の形態は特定のシーケ
ンスの層を含むが、しかし最上ゲートのTFT構造又は
走査ラインがデータライン上で交差する構造を生成する
こと等によって層のシーケンスは修正されてもよい。
ンスの層を含むが、しかし最上ゲートのTFT構造又は
走査ラインがデータライン上で交差する構造を生成する
こと等によって層のシーケンスは修正されてもよい。
【0088】本発明は、ディスプレイアレイ、光バルブ
アレイ、及び画像とインタラクトする他のアレイ内のア
ーチファクトの削除を含む、様々な方法で適用されるこ
とができる。
アレイ、及び画像とインタラクトする他のアレイ内のア
ーチファクトの削除を含む、様々な方法で適用されるこ
とができる。
【0089】発明品は薄膜構造の実施に関して記載され
たが、本発明は単結晶技術によって実施されることもで
きるであろう。
たが、本発明は単結晶技術によって実施されることもで
きるであろう。
【0090】
【本発明の効果】上記に述べたように、本発明によって
画像品質を低下させるアーチファクトを排除することが
できる。
画像品質を低下させるアーチファクトを排除することが
できる。
【図1】 全サイズ差が最小アーチファクト差より大
きい場合でも、アレイ内の光アクティブユニットのシリ
ーズが最小アーチファクト差より小さい隣接ユニットの
有効サイズにおける差をどのように有することができる
か示す概略図である。
きい場合でも、アレイ内の光アクティブユニットのシリ
ーズが最小アーチファクト差より小さい隣接ユニットの
有効サイズにおける差をどのように有することができる
か示す概略図である。
【図2】 対になったラインを有するディスプレイア
レイの概略図であり、隣接する光制御ユニットのサイズ
さが最小アーチファクト差より小さくなるようにライン
が離間されているところが詳細に示されている。
レイの概略図であり、隣接する光制御ユニットのサイズ
さが最小アーチファクト差より小さくなるようにライン
が離間されているところが詳細に示されている。
【図3】 図2のディスプレイアレイの他の細部を示
し、ダークマトリクスによって最小アーチファクト差よ
り隣接する光制御ユニットのサイズ差が小さくなるよう
に画定されたアパーチャ境界を示す。
し、ダークマトリクスによって最小アーチファクト差よ
り隣接する光制御ユニットのサイズ差が小さくなるよう
に画定されたアパーチャ境界を示す。
【図4】 2つの修正構造を有する4096X614
4の分割アレイを示す概略図であり、各修正構造は分割
ラインにそって二つずつ修正ラインを有する。
4の分割アレイを示す概略図であり、各修正構造は分割
ラインにそって二つずつ修正ラインを有する。
【図5】 図4のアレイにおけるセルを示す略配置図
であり、修正ラインが走査ラインに沿って平行に延びて
いる。
であり、修正ラインが走査ラインに沿って平行に延びて
いる。
【図6】 図4のアレイにおける分割ラインのそばの
光制御ユニットの列のサイズを示している略配置図であ
る。
光制御ユニットの列のサイズを示している略配置図であ
る。
【図7】 図5のラインB−Bに沿って切り取った断
面図である。
面図である。
【図8】 図5のラインC−Cに沿って切り取った断
面図である。
面図である。
【図9】 図4のアレイにおける切れたデータライン
を修正する際の動作を示すフローチャート図である。
を修正する際の動作を示すフローチャート図である。
【図10】 図9の技術によって修正されたアレイを
示す概略図である。
示す概略図である。
50、150 ディスプレイ 14、154 アレイ領域 12、52、152、300 基板
Claims (1)
- 【請求項1】 製品であって、 回路が形成されることができる面を有する基板を含み、 前記基板の表面に形成されたアレイ回路を含み、前記ア
レイ回路が、 光アクティブユニットからなるアレイを含み、各光アク
ティブユニットが有効サイズを有し、光アクティブユニ
ットが共に画像サイズを有する画像とインタラクトし、
及び、 前記光アクティブユニットに信号を送信する又は該光ア
クティブユニットから信号を受信するための信号回路を
含み、 前記光アクティブユニットのアレイが、 第一の有効サイズを有する第一の光アクティブユニット
を含み、 第一の有効サイズより全サイズ差分小さい第二の有効サ
イズを有する第二の光アクティブユニットを含み、第一
及び第二の光アクティブユニットが互いに隣接している
場合に前記全サイズ差は画像サイズを有する画像にアー
チファクトを生成するために十分な差であり、第一及び
第二の光アクティブユニットがアレイにおいてスペース
によって分離されており、及び、 第一の光アクティブユニットから第二の光アクティブユ
ニットまで延在する光アクティブユニットのシリーズを
形成する中間光アクティブユニットのサブアレイをスペ
ース内に含み、各中間光アクティブユニットが前記シリ
ーズにおいてそれに先行する光アクティブユニットの有
効サイズよりも第一のサイズ差分小さく且つそれに後続
する光アクティブユニットの有効サイズよりも第二のサ
イズ差分大きい有効サイズを有し、各中間光アクティブ
ユニットの第一及び第二の前記サイズ差が、画像サイズ
を有する画像にアーチファクトを生成するには不十分で
ある、 製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/579,048 US5731803A (en) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | Array with light active units sized to eliminate artifact from size difference |
| US579048 | 2000-05-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09230386A true JPH09230386A (ja) | 1997-09-05 |
Family
ID=24315372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8318145A Pending JPH09230386A (ja) | 1995-12-21 | 1996-11-28 | アレイ回路を含む製品 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5731803A (ja) |
| EP (1) | EP0780904B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09230386A (ja) |
| DE (1) | DE69637835D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI223713B (en) * | 2003-03-31 | 2004-11-11 | Toppoly Optoelectronics Corp | Method and system for testing driver circuits of AMOLED |
| US8228350B2 (en) * | 2008-06-06 | 2012-07-24 | Omnivision Technologies, Inc. | Data dependent drive scheme and display |
| US10926357B2 (en) * | 2017-04-12 | 2021-02-23 | Dpix, Llc | Method and functional architecture for inline repair of defective imaging arrays |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60218626A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-11-01 | Sharp Corp | カラ−液晶表示装置 |
| US5464984A (en) * | 1985-12-11 | 1995-11-07 | General Imaging Corporation | X-ray imaging system and solid state detector therefor |
| US5602679A (en) * | 1987-12-31 | 1997-02-11 | Projectavision, Inc. | High efficiency light valve projection system |
| JPH0823643B2 (ja) * | 1989-03-28 | 1996-03-06 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス表示装置 |
| DE3910418A1 (de) * | 1989-03-31 | 1990-10-04 | Licentia Gmbh | Anzeigevorrichtung |
| EP0404528B1 (en) * | 1989-06-20 | 1994-10-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Matrix-type display device |
| JPH03107189A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表示装置 |
| CA2075441A1 (en) * | 1991-12-10 | 1993-06-11 | David D. Lee | Am tft lcd universal controller |
| JP3206976B2 (ja) * | 1992-07-28 | 2001-09-10 | 京セラ株式会社 | 液晶表示素子 |
| NL194873C (nl) * | 1992-08-13 | 2003-05-06 | Oki Electric Ind Co Ltd | Dunnefilmtransistorenreeks en daarvan gebruikmakende vloeibare kristalweergeefinrichting. |
| JPH06282245A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Toshiba Corp | 画像表示装置および画像処理システム |
| EP0641046B1 (en) * | 1993-08-31 | 1998-04-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Apparatus for modifying an electrical signal |
| US5485293A (en) * | 1993-09-29 | 1996-01-16 | Honeywell Inc. | Liquid crystal display including color triads with split pixels |
| US5475246A (en) * | 1993-12-20 | 1995-12-12 | General Electric Company | Repair line structure for thin film electronic devices |
| WO1995017768A1 (en) * | 1993-12-20 | 1995-06-29 | General Electronic Company | Address line repair structure and method for thin film imager devices |
| US5381014B1 (en) * | 1993-12-29 | 1997-06-10 | Du Pont | Large area x-ray imager and method of fabrication |
| JPH09511616A (ja) * | 1994-03-31 | 1997-11-18 | イメイション・コーポレイション | 可変の電極配列および処理を用いるイメージングシステム |
| US5491347A (en) * | 1994-04-28 | 1996-02-13 | Xerox Corporation | Thin-film structure with dense array of binary control units for presenting images |
| US5486939A (en) * | 1994-04-28 | 1996-01-23 | Xerox Corporation | Thin-film structure with insulating and smoothing layers between crossing conductive lines |
| US5473452A (en) * | 1994-12-21 | 1995-12-05 | Goldstar Co., Ltd. | Liquid crystal display device with repair structure |
| US5648674A (en) * | 1995-06-07 | 1997-07-15 | Xerox Corporation | Array circuitry with conductive lines, contact leads, and storage capacitor electrode all formed in layer that includes highly conductive metal |
| US5608245A (en) * | 1995-12-21 | 1997-03-04 | Xerox Corporation | Array on substrate with repair line crossing lines in the array |
-
1995
- 1995-12-21 US US08/579,048 patent/US5731803A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-11-28 JP JP8318145A patent/JPH09230386A/ja active Pending
- 1996-12-18 DE DE69637835T patent/DE69637835D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-18 EP EP96309251A patent/EP0780904B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0780904A2 (en) | 1997-06-25 |
| DE69637835D1 (de) | 2009-04-02 |
| EP0780904B1 (en) | 2009-02-18 |
| US5731803A (en) | 1998-03-24 |
| EP0780904A3 (en) | 1999-08-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060516 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060816 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060821 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070213 |