JPH09230585A

JPH09230585A - 水なし平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH09230585A
Application number: JP591296A
Authority: JP
Inventors: Mitsuru Suezawa; 満末沢; Masahiro Kokuni; 昌宏小國; Norimasa Ikeda; 憲正池田
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1995-02-01
Filing date: 1996-01-17
Publication date: 1997-09-05

Abstract

(57)【要約】【課題】光二量化型感光層を有する水なし平版印刷版原
版において、露光後の該光二量化型感光層を柔軟化する
ことにより、画像再現性に優れ、高い耐刷性を有する印
刷版を得る。【解決手段】基板上に少なくとも光二量化型感光層、シ
リコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印刷
版原版において、該光二量化型感光層の露光後の引張特
性が（１）初期弾性率：５〜７５kgf/mm2 、好ましくは（２）破断伸度：１０％以上の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原版
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、さらに詳しくは耐刷性に優れた
水なし平版印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。

【０００３】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭５４ー２６９２３号公報、特公昭５６ー２３
１５０号公報などにおいて、基板上に光重合性感光層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、ま
た特公平３−５６６２２号公報、特開昭６１−１５３６
５５号公報などにおいて、基板上に光架橋性感光層とシ
リコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版などが
提案されている。

【０００４】また、ネガ型感光性平版印刷版としては特
公昭６１ー６１６号公報や特公昭６１−５４２１８号公
報などにおいて、支持体上にオルトキノンジアジド化合
物を含む感光層とその上に接着層を介してシリコ−ンゴ
ム層を設けた水なし平版印刷版が、特公昭６１−５４２
２２号公報などにおいて、光剥離性感光層上にシリコ−
ンゴム層を設けた水なし平版印刷版などが提案されてお
り、実用上優れた性能を有するものとして知られてい
る。

【０００５】しかしながら、これらの水なし平版印刷版
は、感光層が比較的硬くて脆いため、特にオフセット輪
転印刷機など高速度回転で印刷する場合、版面に加わる
応力により、非画線部のシリコ−ンゴム層下の感光層に
損傷が起こり、これがシリコーンゴム層にまで拡大し、
印刷物に汚れが発生するなどの問題が生じる。結果とし
て、版の耐刷性不足という問題点があった。

【０００６】これらの耐刷性を改良することを目的とし
て、様々な検討がなされてきた。特開平５ー５３３０６
号公報、特開平５ー５３３０７号公報などにおいては、
基板と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラスト
マ、あるいはポリウレタンとシランカップリング剤を含
有する柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提
案されているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷性が
得られないだけでなく、感光層の物性をカバーするだけ
の十分なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ
層のキュア不足に起因するシリコ−ンゴム層剥がれや感
光層剥がれ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基
板から剥がれるといった問題があった。

【０００７】シリコーンゴム層を厚くするという手法も
試みられてきたが、それに伴う現像性の低下、さらには
インキマイレージの低下が問題となる。

【０００８】特開平１ー１５４１５８号公報、特開平１
ー１５４１５９号公報などにおいては、シリコーンゴム
層を厚膜化し、それに伴うインキマイレージの低下をイ
ンキ着肉性物質の埋め込みなどによるセル深度の調整で
カバーしようとするものであるが、現像性の低下が発生
し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどという新たな
行程が加わったことにより実用上扱いにくいという問題
点があった。

【０００９】特開平１ー１６１２４２号公報において
は、インキ着肉層（感光層）を最上層に有する版を画像
露光し現像した後、インキ反発層（シリコーンゴム層）
を塗布し、その後さらに現像することで得られる厚膜の
シリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案され
ている。しかしながら、この手法で得られた版は画線部
のインキ着肉性が悪いという問題があるばかりでなく、
感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版につき
２回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。シリコ
ーンゴム層の物性を向上させる検討もなされている。フ
ィラーの添加やポリジメチルシロキサンの高分子量化、
また、特開平２ー３２３４９号公報においては、インキ
反発性物質の硬化物をふくむ微多孔質層を有する水なし
平版印刷版、特開平２ー８８４７号公報においてはポリ
オルガノシロキサンを枝にもつグラフトポリマをシリコ
ーンゴム層に含有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、これらはいずれも耐傷性の向上こそ
なされてはいるが、耐刷性の向上は不十分であった。さ
らに、シリコーンゴム層が本来備えていなければならな
いインキ反発性を低下させるという問題があった。

【００１０】特開昭６３ー２１３８４８号公報において
は、感光層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたも
のが記載されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感
光層中に５０重量％以上含有させると画像再現性やシリ
コーンゴム層との接着性を損なうという問題があり、ま
た５０重量％以下では耐刷性が不十分となるという問題
がある。

【００１１】また、特開平３ー２０７４１号公報におい
ては、感光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有
する高分子化合物を含有させたもの、特開平３ー６８９
４６号公報においては、感光層にヒドロキシフェニルメ
タクリルアミド誘導体共重合体を含有させたものが提案
され、水系現像液で現像可能で耐刷性を改良する試みが
開示されている。しかしながら、これらの版はプレート
クリーナー等の版洗浄溶剤やＵＶインキ等に対する感光
層の耐溶剤性が不十分であるため、画線部が印刷中に破
壊されるだけでなく、非画線部の感光層が溶剤に侵され
ることによる耐刷性低下の問題があった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らはこれらの
従来技術の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、感光
層の引張特性を初期弾性率で、好ましくは破断伸度でも
規定し柔軟化することによって、版の現像性、画像再現
性、印刷特性、耐溶剤性などを低下させることなく、大
幅に耐刷性の改善された水なし平版印刷版原版を提供す
ることを見出し本発明に到達した。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の構成は以下の構
成をとる。

【００１４】基板上に少なくとも光二量化型感光層及び
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版において、該光二量化型感光層の露光後の引張特性
が（１）初期弾性率：５〜７５kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の構成について説
明する。

【００１６】本発明に用いられるシリコーンゴム層につ
いて説明する。

【００１７】シリコーンゴム層は、ポリオルガノシロキ
サンに、必要に応じて架橋剤および触媒を添加したシリ
コーンガム組成物を適当な溶媒で希釈したものを、該感
光層上に塗布し、加熱乾燥して硬化させることによって
形成される。

【００１８】本発明において好ましく用いられるシリコ
ーンガム組成物としては、湿熱硬化型の縮合反応架橋性
のシリコーンガム組成物が好ましく用いられる。

【００１９】湿熱硬化型の縮合反応架橋性のシリコーン
ガム組成物について説明する。

【００２０】ここで用いられるポリオルガノシロキサン
は、下記の一般式（１）で示される線状ポリオルガノシ
ロキサンを意味する。また、本発明に言うシリコ−ンガ
ム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを適当な溶媒
に溶かして溶液としたのち、架橋剤や触媒などとともに
混合した未硬化（未ゴム化）の溶液組成物を意味し、一
方、シリコ−ンゴムとは該シリコ−ンガム組成物を適当
な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬化生成物
を意味する。

【００２１】

【化１】（ここで、ｎは１以上の整数、Ｒ1 、Ｒ2 、は炭素数１
〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数２
〜１０のカルボキシアルキル基、シアノアルキル基また
は炭素数６〜２０の置換もしくは非置換のアリール基、
アリロキシ基、アラルキル基、または水素原子、水酸基
の内から選ばれる基であり、同一であっても異なっても
よい。また、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子鎖中に
少なくとも一つ以上の水酸基を有する。）本発明に好ましく用いられる縮合反応架橋性シリコ−ン
ガム組成物としては、上記の一般式（１）で示される線
状ポリオルガノシロキサンの有機溶剤溶液に、架橋剤お
よび必要に応じて触媒が添加された、いわゆる室温（低
温）湿気硬化型の形態をとる。該シリコーンガム組成物
を構成する上で用いられる架橋剤としては、下記の一般
式（２）で示されるような、アセトキシシラン、ケトオ
キシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミ
ドシランなどが好ましく用いられ、通常、分子鎖中に少
なくとも一つ以上の水酸基を有する線状ポリオルガノシ
ロキサンと反応して、それぞれ脱酢酸、脱オキシム、脱
アルコール、脱アミン、脱アミドなどの形式で縮合反応
で架橋する架橋剤が、単一または混合された形、もしく
は縮合体の形で用いられる。

【００２２】特に本発明においては、アセトキシシラ
ン、ケトオキシムシラン、アルコキシシランなどが好ま
しく用いられる。

【００２３】

【化２】（ただし、ｍ、ｎはｍ≧０、ｎ≧１でｍ＋ｎ＝４を満
足する整数を意味する。Ｒは置換もしくは非置換の炭素
数１〜２０のアルキル基、アミノアルキル基、アミノア
ルキレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノメ
チルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数６〜２
０のアリール基を示し、Ｘは−ＯＲ1 、−ＯＣＯＲ2 、
−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ3 −Ｒ4 、−Ｏ−Ｃ＝ＣＲ5 Ｈであ
る。Ｒ1 〜Ｒ5 は炭素数１〜４の置換もしくは非置換の
アルキル基を意味する）架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例としては、次
のようなものがある。テトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリ
メトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチル
ジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチル
トリエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、メチル
トリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、
ジメチルジアセトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチル）アミノメチル
フェネチルトリメトキシシラン、Ｎ−（βアミノエチ
ル）アミノメチルフェネチルトリエトキシシラン、トリ
ス（メチルエチルケトオキシム）メチルシラン、トリス
（メチルエチルケトオキシム）エチルシラン、トリス
（メチルエチルケトオキシム）ビニルシラン、テトラキ
ス（メチルエチルケトオキシム）シランなどが挙げられ
る。

【００２４】また、触媒としてはジブチル錫ジアセテー
ト、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエー
トなどの有機錫化合物が好ましく用いられる。

【００２５】本発明に好ましく用いられる縮合反応架橋
性のシリコーンガム組成物の一般的な形態としては次の
ようなものがある。

【００２６】 (1) 一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサン１００重量部 (2) 一般式（２）で表される縮合反応架橋剤３〜２０重量部 (3) 縮合触媒０．０１〜２０重量部 (4) 溶剤１００〜４０００重量部また本発明の効果を有効に発現する上で、架橋剤および
触媒を下記組成範囲とする縮合反応架橋性のシリコーン
ガム組成物を用いることが特に好ましい。

【００２７】 (1) 一般式（１）で表されるポリオルガノシロキサン１００重量部 (2) 一般式（２）で表される縮合反応架橋剤３〜１８重量部 (3) 縮合触媒０．０１〜０．０５重量部 (4) 溶剤１００〜４０００重量部本発明においては、上記に示した縮合反応架橋性のシリ
コーンガム組成物反応させて形成した縮合反応架橋性シ
リコーンゴム層のみでなく、付加反応性シリコーンゴム
層を用いることもできる。このような付加反応性シリコ
ーンゴム層を形成するためには、例えば次のようなシリ
コーンガム組成物を用いることができる。

【００２８】 (1) ポリオルガノシロキサンでエチレン性不飽和二重結合を少なくとも２個以上有するもの１００重量部 (2) 分子内に少なくとも２個以上のＳｉＨ基を有する化合物１〜５０重量部 (3) 付加反応触媒０．０１〜１０重量部 (4) 溶剤１００〜４０００重量部ポリオルガノシロキサンでエチレン性不飽和二重結合を
少なくとも２個以上有するものとしては、エチレン性不
飽和結合は末端あるいは中間の有機基のどちらに存在し
てもよく、両方に存在してもよい。両末端にエチレン性
不飽和結合を有する場合には、一般式（Ｉ）で表される
構造のものが好んで用いられる。

【００２９】分子内に少なくともＳｉＨ基を２個以上有
する化合物としては、エチレン性不飽和結合と反応しう
るものであれば特に限定されないが、シリコーンゴム層
の役目であるインキ反発性を十分に引き出すためには適
当な分子量のシロキサン構造のものが好ましい。

【００３０】また、付加反応触媒としては、主として白
金触媒、とりわけ白金錯体触媒有機や白金触媒などが好
んで用いられる。

【００３１】また、本発明のこれらのシリコーンガム組
成物には、該シリコーンガム組成物によって形成された
シリコーンゴム層を適度に補強する目的で、公知のフィ
ラーや無機粒子、ケイ酸ゾルなどを添加したり、架橋性
官能基を有さない公知の変性シリコーンオイルを少量添
加することも可能である。

【００３２】これらのシリコーンガム組成物を希釈、溶
解する溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イソパラ
フィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素および
芳香族炭化水素が単一または混合された形で用いられ
る。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとしては、
石油の分留品およびその改質品などがある。

【００３３】本発明のシリコーンゴム層の膜厚は耐刷性
およびインキ反撥性を保ち、かつ良好な画像再現性を維
持する点から、乾燥重量で、０．５〜１０ｇ／ｍ2 の範
囲が好ましく、１〜３ｇ／ｍ2 の範囲がさらに好まし
い。

【００３４】次に本発明に用いられる光二量化型感光層
について説明する。

【００３５】本発明の特徴は、該光二量化型感光層の露
光後の引張特性が、（１）初期弾性率：５〜７５kgf/mm2 の物性を有し、好ましくは（２）破断伸度：１０％以上の物性を有し、適度な柔軟性を示すことにある。

【００３６】本発明の感光層の露光後の引張特性の初期
弾性率が５kgf/mm2 以上７５kgf/mm2 以下、好ましくは
５kgf/mm2 以上４５kgf/mm2 以下、さらに好ましくは５
kgf/mm2 以上２０kgf/mm2 以下にすることが耐刷性向上
の点で重要である。

【００３７】上記の初期弾性率が５kgf/mm2 未満の場合
は感光層がベタつき印刷時にヒッキ−の原因になる。

【００３８】さらに、露光後の感光層の引張特性の破断
伸度を好ましくは１０％以上、より好ましくは１５％以
上に設計することが耐刷性向上の点で重要である。破断
伸度が１０％未満の場合は感光層が脆くなり、オフセッ
ト輪転印刷を行った場合に感光層が破壊され高い耐刷性
が得られない。

【００３９】初期弾性率が７５kgf/mm2 より大きく、破
断伸度１０％未満の場合は、例えば特公昭６１−５４２
２２号公報の実施例１に記載の感光層の引張り初期弾性
率は５６kgf/mm2 、破断伸度５％で硬い感光層であるた
め、オフセット輪転印刷を行った場合に感光層とシリコ
−ンゴム層との間で繰り返し応力がかかり、感光層自体
の破壊およびそれに引き続くシリコ−ンゴム層との接着
界面での破壊が起こり高い耐刷性が得られない。

【００４０】本発明における初期弾性率および破断伸度
は、ＪＩＳＫ６３０１に準じて測定された物性値を意
味する。

【００４１】［試験片作製方法］すなわち、未露光の水
なし平版印刷版原版を可溶性溶剤に浸漬し、シリコーン
ゴム層及び感光層を基板から脱落溶解させる。得られた
溶液を濾過し、可溶性溶剤に不溶のシリコーンゴム層を
分離する。さらに該液を固形分３０％に減圧濃縮し、感
光液とする。該感光液をガラス板に塗布し、乾燥した後
ガラス板よりシーとを剥がし、得られた約０．３〜０．
１ｍｍの厚さのシートから４号ダンベルでテストピース
を作製し、３kWの超高圧水銀灯（オーク製作所製）を用
いて、１２ｍｗ／ｃｍ2 （ＵＶ３６５照度計：オーク製
作所製）の照度で試験片両面を５分間づつ露光し試験片
とした。

【００４２】［測定方法］「テンシロンＲＴＭ−１０
０」（オリエンテック（株）製）を用い、引張速度２０
０ｍｍ／分で、試験繰り返し数４回でＪＩＳＫ６３０
１に準じて行なった。本発明に用いられる光二量化型感
光層とは、分子内に光二量化可能構造を有し、光照射に
より二量化する化合物を含有する感光層をいう。例えば
以下に示すような組成を有するものが挙げられる。

【００４３】（１）同一分子内に１個以上の水酸基および１個以上の光二量化可能構造を有するモノマ、オリゴマ、ないしはポリマ１．０〜１００重量％（２）必要に応じて水酸基を有しない光二量化可能のモノマ、オリゴマ、ないしはポリマ１．０〜９０重量％（３）必要に応じて充填剤としてバインダポリマ０．１〜６０重量％（４）必要に応じて光増感剤０．１〜２０重量％ここで同一分子内に１個以上の水酸基および１個以上の
光二量化可能構造を有する化合物は光二量化型感光層成
分として作用する成分であり、水酸基は光二量化可能基
と共存して、活性光線照射により、上層のシリコ−ンゴ
ム層との接着効果に寄与するものである。

【００４４】かかる光二量化可能構造としては、例えば
化合物中あるいは化合物末端ないしは側鎖に下記一般式
（３）〜（１０）で示される構造を有するものを挙げる
ことができる。

【００４５】

【化３】（Ｒ1 はアリ−ル基、複素環基を示し、これらは炭素数
１〜１０のアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アル
コキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルカノイル
基、シアノ基、アジド基を含有しても良い。Ｒ2 は水素
または炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｒ3 は水素
または炭素数１〜１０のアルキル基、アリ−ル基、アル
カノイル基、シアノ基を示す。ｎは０〜５の整数を示
す。

【００４６】

【化４】（Ｒ1 は（３）と同様である。）

【化５】（Ｒ1 は（３）と同様である。）

【化６】

【化７】

【化８】（Ａｒはアリ−ル基を示す。Ｒ4 は水素、ハロゲン、炭
素数１〜１０のアルキル基、シアノ基を示す。）

【化９】

【化１０】かかる構造を有する化合物として、たとえばケイ皮酸エ
ステル、β−フリルアクリル酸エステル、α−シアノケ
イ皮酸エステル、ｐ−アジドケイ皮酸エステル、β−ス
チリルアクリル酸エステル、α−シアノ−β−スチリル
アクリル酸エステル、ｐ−フェニレンジアクリル酸エス
テル、ｐ−（２−ベンゾイルビニル）−ケイ皮酸エステ
ル、β−ナフチルアクリル酸エステル、シンナミリデン
ピルビン酸エステル、α−メチル−β−スチリルアクリ
ル酸エステル、α−フェニル−β−スチリルアクリル酸
エステル、α−シアノ−β−フリルアクリル酸エステ
ル、ｐ−ジメチルアミノケイ皮酸エステル、さらには上
記のエステルに対応するアミド、カルコン、ベンジリデ
ンアセトン、スチルバゾ−ル、スチルベン、α−フェニ
ルマレイミド、クマリン、ピロン、アントラセン、ジベ
ンズアゼピン、あるいはこれらの誘導体があげられる
が、これらに限定されるものではない。

【００４７】同一分子内に１個以上の水酸基及び１個以
上の光二量化可能構造を有するモノマ、オリゴマ、ポリ
マとしては次のようなものがある。

【００４８】（１）過剰の多価アルコ−ルと光二量化可
能基を有する酸クロライドとの反応生成物。

【００４９】たとえば下記一般式（１１）

【化１１】（ｎは０〜５の整数であり、ＸはＨまたはＣＮである。
Ｒは多価アルコ−ル残基でありｌ≧ｍ＋１である。）多価アルコ−ルとしてはグリセリン、トリメチロ−ルプ
ロパン、ペンタエリスリト−ル、ソルビト−ル、エチレ
ングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、プロピレング
リコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、ポリビニルアル
コ−ル、ビスフェノ−ルＡとエピクロルヒドリン縮合フ
ェノキシ樹脂等であり、酸クロライドとしては、ケイ皮
酸クロライド、α−シアノ−β−ケイ皮酸クロライド、
β−スチリルアクリル酸クロライド、α−シアノ−β−
スチリルアクリル酸クロライド等が使用できるが、これ
らに限定されるものではなく、あらゆる種類の多価アル
コ−ル、光二量化可能基を有する酸クロライドの反応生
成物が使用できる。

【００５０】（２）エポキシ基を有する化合物と光二量
化可能基を有するカルボン酸を反応せしめて得られるエ
ポキシエステル結合−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ2 ＯＯＣ−を
有する反応生成物。

【００５１】たとえば、エポキシ化合物としては、アル
コ−ル、多価アルコ−ルのグリシジルエ−テル、モノカ
ルボン酸、多価カルボン酸のグリシジルエステル、グリ
シジルアミン化合物等が使用でき、たとえばジエチレン
グリコ−ルジグリシジルエ−テル、トリメチロ−ルプロ
パントリグリシジルエ−テル、ペンタエリスリト−ルト
リグリシジルエ−テル、ソルビト−ルトリグリシジルエ
−テル、ビスフェノ−ルＡ系エポキシ樹脂、１，３−ビ
ス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサ
ン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチ
ル）ベンゼン、グリシジル（メタ）アクリレ−ト、グリ
シジル（メタ）アクリレ−トの重合体ないし共重合体、
コハク酸ジグリシジルエステル、フタ−ル酸ジグリシジ
ルエステル等であり、光二量化可能基を有するカルボン
酸としては、ケイ皮酸、β−スチリルアクリル酸、α−
シアノ−β−スチリルアクリル酸、Ｎ−カルボキシエチ
レン−α−フェニルマレインイミド、９−カルボキシア
ントラセン、７−カルボキシクマリン等があるが、、こ
れらに限定されるものではない。

【００５２】また、多価エポキシ化合物と光二量化可能
基を有するカルボン酸の反応において、反応生成物の官
能基数あるいは分子量を上げるために多価カルボン酸を
同時に反応させても良い。また光二量化可能基を有する
エポキシ化合物とカルボン酸の反応生成物も同様に使用
できる。たとえばアクリル酸、メタアクリル酸のポリマ
とグリシジルシンナメ−トの付加反応生成物等である。

【００５３】（３）水酸基および光二量化可能基を有す
るアクリルあるいはメタアクリルモノマを合成し、これ
をラジカル重合して得られるオリゴマあるいはポリマ。

【００５４】たとえば、グリシジルメタアクリレ−トと
光二量化可能基を有するカルボン酸との反応により得ら
れるメタアクリルエステルの重合体、あるいは他のアク
リルモノマとの共重合体等である。

【００５５】（４）光二量化可能基を有するアクリルあ
るいはメタアクリルモノマと水酸基を有するアクリルあ
るいはメタアクリルモノマを共重合させて得られるオリ
ゴマあるいはポリマ。

【００５６】たとえば、下記一般式（１２）

【化１２】（ｎ，ｍは１以上の整数、ｌは０〜５の整数であり、Ｘ
は水素あるいはシアノ基である。）（５）同一分子内に反応性のハロゲンおよび水酸基を有
する化合物と光二量化可能基を有するカルボン酸塩との
反応生成物。

【００５７】たとえば、２−クロルエチル（メタ）アク
リレ−トと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−ト
の共重合体と（２）で示したカルボン酸のナトリウム、
カリウム、アンモニウム各塩との反応性生物等である。

【００５８】（６）過剰の多価アルコ−ルと光二量化可
能基を有するアルデヒドを反応せしめて得られるアセタ
−ル。

【００５９】たとえば、過剰のペンタエリスリト−ルと
ケイ皮アルデヒドを反応性生物等である。

【００６０】以上代表的な合成処方を列記したが、これ
らに限定されるものではなく、従来知られている光二量
化型感光性樹脂の合成に関する文献中に示される光二量
化可能構造の導入手法は本発明の光接着成分としての同
一分子内に水酸基および光二量化可能構造を有する化合
物の合成処方に広く応用できる物である。すなわち従来
知られている水酸基の導入処方とこれら文献に示される
光二量化可能基ないし構造の導入処方を組み合わせて本
発明の光接着層成分の合成を行うことができる。光二量
化型感光性樹脂の合成に関する文献の要約としては、た
とえば、シ−エムシ−社１９７９年発行、Ｒ＆Ｄレポ−
ト、Ｎｏ７、感光性樹脂の合成と応用、ｐ１〜９３、大
１章フォトポリマの合成、加藤政雄、西久保忠臣著など
がある。このように同一分子内に１個以上の水酸基およ
び１個以上の光二量化可能基あるいは光二量化可能構造
を有する化合物であるならば本発明の目的に広く利用で
き、これらは単独あるいは２種以上の化合物を混合して
使用できる。

【００６１】また、水酸基を有せずに、光二量化可能基
を有するモノマ、オリゴマ、ポリマを使用することもで
きる。シリコーンゴム層が縮合反応架橋性である場合に
は水酸基を有しかつ光二量化可能構造を有する化合物と
併用することが好ましく、シリコーンゴム層がふ化反応
性である場合には、水酸基を有さずかつ光二量化可能構
造を有する化合物を単独で用いてもよいし、水酸基を有
しかつ光二量化可能構造を有する化合物を単独でもちい
てもよいし、両方を併用して用いてもよい。水酸基を有
しかつ光二量化可能構造を有する化合物と水酸基を有さ
ずかつ光二量化可能構造を有する化合物とを併用するこ
とは、特に光接着成分として同一分子内に水酸基および
光二量化可能構造を有するモノマないしオリゴマも比較
的低分子量を使用する場合に適している。ここに併用さ
れる光二量化型感光性樹脂は、形態保持性、機械的強度
を高め、同時に高感度化に寄与するものである。

【００６２】また逆に本発明の光二量化型感光層の柔軟
性を高める等の目的で、水酸基を有しない光二量化可能
構造を有するモノマ、オリゴマ、ポリマの併用も可能で
ある。

【００６３】本発明のバインダポリマについて説明す
る。

【００６４】本発明における形態保持の機能を果たすバ
インダポリマとしては、有機溶媒可溶でかつフィルム形
成能のあるものであれば基本的には制限を受けないが、
該ポリマのガラス転移温度（Ｔg ）が０℃以下のポリ
マ、コポリマを用いることが耐刷性の点から好ましい。

【００６５】ガラス転移温度Ｔg （glass transition t
emperature）とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に（またはその逆に）変化する転移点
（温度）のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積（比
容）−温度曲線、熱分析（ＤＳＣ、ＤＴＡ等）による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的（動的粘弾性等）および誘
電的損失正接、ＮＭＲスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ（dilatometer ）を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積（比容）−温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。

【００６６】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるが、本発明はこれらの
例に限定されるものではない。

【００６７】（１）ビニルポリマ類以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。

【００６８】例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリ
ル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸ー２−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−（メタ）アクリロキシエチル水
素フタレート、２−（メタ）アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、３−メチル−１−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、Ｎ−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
サイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）
アクリレート化したもの、およびこれらの誘導体を重
合、共重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダ
ポリマとして使用できる。

【００６９】本発明に好ましく用いられるガラス転移温
度が０℃以下のビニル系ポリマの具体例としては、次に
示すようなポリマが挙げられる（ａ）ポリオレフィン類ポリ（１−ブテン）、ポリ（５−シクロヘキシル−１−
ペンテン）、ポリ（１−デセン）、ポリ（１，１−ジク
ロロエチレン）、ポリ（１，１−ジメチルブタン）、ポ
リ（１，１−ジメチルプロパン）、ポリ（１−ドデセ
ン）、ポリエチレン、ポリ（１−ヘプテン）、ポリ（１
−ヘキセン）、ポリメチレン、ポリ（６−メチル−１−
ヘプテン）、ポリ（５−メチル−１−ヘキセン）、ポリ
（２−メチルプロペン）、ポリ（１−ノネン）、ポリ
（１−オクテン）、ポリ（１−ペンテン）、ポリ（５−
フェニル−１−ペンテン）、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、ポリ（１−ブテン）等。

【００７０】また、ポリ（ビニルブチルエ−テル）、ポ
リ（ビニルエチルエ−テル）、ポリ（ビニルイソブチル
エ−テル）、ポリ（ビニルメチルエ−テル）等。

【００７１】（ｂ）ポリスチレン類ガラス転移温度０℃以下のポリスチレン誘導体として
は、ポリ（４−［（２−ブトキシエトキシ）メチル］ス
チレン）、ポリ（４−デシルスチレン）、ポリ（４−ド
デシルスチレン）、ポリ［４−（２−エトキシエトキシ
メチル）スチレン］、ポリ［４−（１−エチルヘキソキ
シメチル）スチレン］、ポリ［４−（ヘキソキシメチ
ル）スチレン］、ポリ（４−ヘキシルスチレン）、ポリ
（４−ノニルスチレン）、ポリ［４−（オクトキシメチ
ル）スチレン］、ポリ（４−オクチルスチレン）、ポリ
（４−テトラデシルスチレン）等が挙げられる。

【００７２】（ｃ）アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマガラス転移温度０℃以下のポリアクリレート類として
は、ポリ（ブチルアクリレート）、ポリ（sec −ブチル
アクリレート）、ポリ（tert−ブチルアクリレート）、
ポリ［２−（２−シアノエチルチオ）エチルアクリレー
ト］、ポリ［３−（２−シアノエチルチオ）プロピルア
クリレート］、ポリ［２−（シアノメチルチオ）エチル
アクリレート］、ポリ［６−（シアノメチルチオ）ヘキ
シルアクリレート］、ポリ［２−（３−シアノプロピル
チオ）エチルアクリレート］、ポリ（２−エトキシエチ
ルアクリレート）、ポリ（３−エトキシプロピルアクリ
レート）、ポリ（エチルアクリレート）、ポリ（２−エ
チルブチルアクリレート）、ポリ（２−エチルヘキシル
アクリレート）、ポリ（５−エチル−２−ノニルアクリ
レート）、ポリ（２−エチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−エチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ヘプチルアクリレート）、ポリ（２−ヘプチルア
クリレート）、ポリ（ヘキシルアクリレート）、ポリ
（イソブチルアクリレート）、ポリ（イソプロピルアク
リレート）、ポリ（２−メトキシエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メトキシプロピルアクリレート）、ポ
リ（２−メチルブチルアクリレート）、ポリ（３−メチ
ルブチルアクリレート）、ポリ（２−メチル−７−エチ
ル−４−ウンデシルアクリレート）、ポリ（２−メチル
ペンチルアクリレート）、ポリ（４−メチル−２−ペン
チルアクリレート）、ポリ（４−メチルチオブチルアク
リレート）、ポリ（２−メチルチオエチルアクリレー
ト）、ポリ（３−メチルチオプロピルアクリレート）、
ポリ（ノニルアクリレート）、ポリ（オクチルアクリレ
ート）、ポリ（２−オクチルアクリレート）、ポリ（３
−ペンチルアクリレート）、ポリ（プロピルアクリレー
ト）、ポリ（ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ
（ヒドロキシプロピルアクリレート）等が代表例として
挙げられる。

【００７３】ガラス転移温度０℃以下のポリメタクリレ
ート類としては、ポリ（デシルメタクリレート）、ポリ
（ドデシルメタクリレート）、ポリ（２ーエチルヘキシ
ルメタクリレート）、ポリ（オクタデシルメタクリレー
ト）、ポリ（オクチルメタクリレート）、ポリ（テトラ
デシルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ヘキシルメタクリ
レート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）等が挙げら
れる。

【００７４】（２）未加硫ゴム天然ゴム（ＮＲ）やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン（ＢＲ）、スチレン−ブタ
ジエン共重合体（ＳＢＲ）、カルボキシ変性スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリイソプレン（ＮＲ）、ポリイ
ソブチレン、ポリクロロプレン（ＣＲ）、ポリネオプレ
ン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタク
リル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリルニトリル共重合体（ＡＮＭ）、イソブチ
レン−イソプレン共重合体（ＩＩＲ）、アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体（ＮＢＲ）、カルボキシ変性ア
クリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリ
ル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソプ
レン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体（ＥＰ
Ｍ、ＥＰＤＭ）、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。

【００７５】これらのガラス転移温度０℃以下のゴム類
の具体例としては、ポリ（１，３−ブタジエン）、ポリ
（２−クロロ−１，３−ブタジエン）、ポリ（２−デシ
ル−１，３−ブタジエン）、ポリ（２，３−ジメチル−
１，３−ブタジエン）、ポリ（２−エチル−１，３−ブ
タジエン）、ポリ（２−ヘプチル−１，３−ブタジエ
ン）、ポリ（２−イソプロピル−１，３−ブタジエ
ン）、ポリ（２−メチル−１，３−ブタジエン）、クロ
ロスルホン化ポリエチレン等が挙げられる。

【００７６】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。

【００７７】（３）ポリオキサイド類（ポリエ−テル
類）トリオキサン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサ
イド、２，３−エポキシブタン、３，４−エポキシブテ
ン、２，３−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、２−
フェニル−１，２−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、ｎ−ブチルグリシジルエーテル、１，４−ジ
クロロ−２，３−エポキシブタン、２，３−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシ−２−メチルプ
ロピオンアルデヒド、２，３−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。

【００７８】ガラス転移温度０℃以下のポリオキサイド
類の具体例としては、ポリアセトアルデヒド、ポリ（ブ
タジエンオキサイド）、ポリ（１−ブテンオキサイ
ド）、ポリ（ドデセンオキサイド）、ポリ（エチレンオ
キサイド）、ポリ（イソブテンオキサイド）、ポリホル
ムアルデヒド、ポリ（プロピレンオキサイド）、ポリ
（テトラメチレンオキサイド）、ポリ（トリメチレンオ
キサイド）等が挙げられる。（４）ポリエステル類以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もまたバインダポリマとして使用可
能である。多価アルコールとしては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコ
ール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、ｐ−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
Ａ、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等。

【００７９】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸などが挙げられる。

【００８０】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトンなどが挙げられる。

【００８１】ガラス転移温度０℃以下のポリエステルの
具体例としては、ポリ［１，４−（２−ブテン）セバケ
ート］、ポリ［１，４−（２−ブチン）セバケート］、
ポリ（デカメチレンアジペイト）、ポリ（エチレンアジ
ペイト）、ポリ（オキシジエチレンアジペイト）、ポリ
（オキシジエチレンアゼラエイト）、ポリ（オキシジエ
チレンドデカンジエイト）、ポリ（オキシジエチレング
ルタレイト）、ポリ（オキシジエチレンヘプチルマロネ
イト）、ポリ（オキシジエチレンマロネイト）、ポリ
（オキシジエチレンメチルマロネイト）、ポリ（オキシ
ジエチレンノニルマロネイト）、ポリ（オキシジエチレ
ンオクタデカンジエイト）、ポリ（オキシジエチレンオ
キザレイト）、ポリ（オキシジエチレンペンチルマロネ
イト）、ポリ（オキシジエチレンピメレイト）、ポリ
（オキシジエチレンプロピルマロネイト）、ポリ（オキ
シジエチレンセバケート）、ポリ（オキシジエチレンス
ベレイト）、ポリ（オキシジエチレンスクシネイト）、
ポリ（ペンタメチレンアジペイト）、ポリ（テトラメチ
レンアジペイト）、ポリ（テトラメチレンセバケー
ト）、ポリ（トリメチレンアジペイト）等が挙げられ
る。

【００８２】（５）ポリウレタン類以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
（あるいはメタクリル）単量体とアクリル（あるいはメ
タクリル）酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。

【００８３】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネ−ト、２，４−または２，６−トルイレ
ンジイソシアネ−ト（ＴＤＩ）、４，４−ジフェニルメ
タンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリジンジイソシア
ネート（ＴＯＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（Ｘ
ＤＩ）、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート（ＭＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート
（ＨＤＩあるいはＨＭＤＩ）、リジンジイソシアネート
（ＬＤＩ）（別名２，６−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート）、水素化ＭＤＩ（Ｈ12ＭＤＩ）（別名４，
４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネー
ト））、水素化ＴＤＩ（ＨＴＤＩ）（別名メチルシクロ
ヘキサン２，４（２，６）ジイソシアネート）、水素化
ＸＤＩ（Ｈ6 ＸＤＩ）（別名１，３−（イソシアナート
メチル）シクロヘキサン）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤ
Ｉ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネ−ト、ダイマー酸ジイ
ソシアネート（ＤＤＩ）、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，
６−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。

【００８４】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイドープロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフランーエチレンオキサイ
ド共重合体、テトラヒドロフランープロピレンオキサイ
ド共重合体等を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リーεーカプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等が挙げられる。

【００８５】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。

【００８６】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。

【００８７】これらの他、ポリ（テトラメチレンヘキサ
メチレンーウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブテン）
ヘキサメチレン−ウレタン）、ポリ（１，４−（２−ブ
チン）ヘキサメチレン−ウレタン）等も挙げられる。

【００８８】（６）ポリアミド類公知のポリアミド類もまたバインダポリマとして使用す
ることができる。

【００８９】基本的な組成としては、次に示すモノマ類
のコポリマ−である。ε−カプロラクタム、ω−ラウロ
ラクタム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジ
アミン、４，４´−ビス−アミノシクロヘキシルメタ
ン、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジアミン、
イソホロンジアミン、ジグリコ−ル類、イソフタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。

【００９０】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
４８−７２２５０に示されるような３，５−ジカルボキ
シベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合すること
によって得られるスルホン酸基またはスルホネート基を
含有するポリアミド、特開昭４９−４３４６５に示され
ているような分子中にエーテル結合を持つジカルボン
酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちいずれか１種
類を共重合して得られるところのエーテル結合を有する
ポリアミド、特開昭５０−７６０５に示されているよう
なＮ，Ｎ’−ジ（γ−アミノプロピル）ピペラジン等を
共重合して得られる塩基性窒素を含有するポリアミドお
よびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四級化したポ
リアミド、特開昭５５−７４５３７で提案されている分
子量１５０〜１５００のポリエーテルセグメントを含有
する共重合ポリアミド、およびα−（Ｎ，Ｎ’−ジアル
キルアミノ）−ε−カプロラクタムの開環重合またはα
−（Ｎ，Ｎ’−ジアルキルアミノ）−ε−カプロラクタ
ムとε−カプロラクタムの開環共重合で得られるところ
のポリアミド等が挙げられる。分子量１５０〜１５０
０のポリエーテルセグメントを含有する共重合ポリアミ
ドとしては、末端にアミノ基を有しポリエーテルセグメ
ント部分の分子量が１５０〜１５００であるポリオキシ
エチレンと脂肪族ジカルボン酸またはジアミンとから成
る構成単位を３０〜７０重量％含有するところの共重合
ポリアミドが挙げられる。

【００９１】またアルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン３、４、５、６、８、１１、１
２、１３、６６、６１０、６／１０、１３／１３、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム／アジピン酸／ヘキサメチレンジアミン／４，４’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム／アジピン酸／ヘキサメチレンジア
ミン／２，４，４’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム／アジピン酸
／ヘキサメチレンジアミン／イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのＮ−メチロール、Ｎ−アルコキシメチル誘導体
等も使用することができる。

【００９２】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることができる。

【００９３】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独、または数種のポリマを混合して用いることが可能
である。

【００９４】これらバインダポリマの中でも本発明の効
果を有効に発現する上ではポリウレタン、ポリエステ
ル、ビニル系ポリマ、ポリブタジエン系の未加硫ゴムが
好ましい。

【００９５】バインダポリマの好ましい使用量は、感光
層成分に対して０．１〜６０重量％であり、さらに好ま
しい使用量は１〜５０重量％である。

【００９６】本発明において使用できる増感剤の代表的
な例としては、次のようなものを挙げることができる。

【００９７】２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノ
ン、５−ニトロアセナフテン、ｐ−ニトロジフェニル、
ｐ−ニトロアニリン、２−ニトロフルオレノン、１−ニ
トロピレン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−ナフチルアミ
ン、Ｎ−ベンゾイル−４−ニトロ−１−ナフチルアミ
ン、ミヒラ−ズケトン、Ｎ−ブチルアクリドン、５−ベ
ンゾイルアセナフテン、１，８−フタロイルナフタレ
ン、１，２−ベンズアンスラセン、９，１０−フェナン
トラキノン、クロルベンズアンスロン、Ｎ−フェニルチ
オアクリドン、１，２−ベンズアンスラキノン、Ｎ−メ
チル−２−ベンゾインメチレン−β−ナフトチアゾ−
ル、２−クロルチオキサントン、２，４−ジメチルチオ
キサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、
エオシン、エリストシン、ピクラミドなどがあるが、こ
れらに限定されるものではない。これらの増感剤の使用
は光二量化型感光層に必ずしも不可欠のものではない
が、より長波長サイドの光利用効率を高める目的で使用
される。

【００９８】また本発明の光二量化型感光層に形態保持
性を与える等の目的で、必要に応じて無機粉末を該光二
量化型感光層に混合しておくこともできる。無機粉末と
して有用なものは、代表例として、コロイダルシリカ、
炭酸カルシウム、酸化チタンなどを挙げることができ
る。

【００９９】上記の諸成分に加え、必要に応じて有機
酸、染料、顔料、光発色剤、触媒、重合禁止剤などの添
加剤を加えることは任意である。

【０１００】特に有機酸として多価カルボン酸、具体的
には、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸などを添加することは生版の保存安定性
向上の点から好ましい。

【０１０１】また触媒としては、ジブチル錫ジアセテ−
ト、ジブチル錫ジラウレ−ト、ジブチル錫ジオクトエ−
トなどに代表される公知の金属触媒なども感光層中に好
ましく添加することができる。特にマレイン酸、フマル
酸などの有機酸およびジブチル錫ジアセテ−ト、ジブチ
ル錫ジラウレ−トなどの錫触媒を感光層中に存在させる
ことは、感光層とシリコ−ンゴム層との接着性を制御す
る上で重要である。

【０１０２】重合禁止剤としては、たとえばハイドロキ
ノン、ｐ−メトキシフェノ−ル、ジ−ｔ−ブチルクレゾ
−ル、ピロガロ−ル、ｔ−ブチルカテコ−ル、ベンゾキ
ノン、４，４−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノ−ル）、２，２−メチレンビス（４−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２−メルカプトベンゾイミ
ダゾ−ル、フェノチアジン、テンポ−ルなどが有用であ
る。

【０１０３】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよい。すなわち通常の
平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷
重に耐えるものであれば十分である。

【０１０４】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄等がメッキあるいは蒸着された金属板、
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン等のようなプラスチックフィルムないしはシ−
ト、クロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有す
る支持体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、も
しくは紙、樹脂コ−ト紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙等が挙げられる。これらの支持体上にはハレ−
ション防止その他の目的でさらに他の物質をコ−ティン
グして支持体として用いることも可能である。これらの
うち、好ましいのはアルミニウム板であり、該アルミニ
ウム板は表面を電解エッチング、砂目処理、研磨処理、
脱脂処理など行うことは任意である。

【０１０５】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層、感光層とシリコ−ンゴム層との接着は、画
像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとって非常に
重要であるので、必要に応じて各層間の接着剤層を設け
たり、各層に接着性改良成分を添加したりすることが可
能である。感光層とシリコ−ンゴム層間の接着のため
に、層間に公知のシリコ−ンプライマやシランカップリ
ング剤を設けたり、シリコ−ンゴム層あるいは感光層に
シリコ−ンプライマやシランカップリング剤を添加する
と効果的である。

【０１０６】また、支持体に感光層を塗布する前に、感
光層と支持体との十分な接着性を得るために支持体にプ
ライマ層を設けてもよい。

【０１０７】プライマー層としては、例えば、特開昭６
０−２２９０３に提案されている種々の感光性ポリマー
を感光層を積層する前に露光して硬化せしめたもの、特
開平４−３２２１８１に提案されているメタクリル系含
リンモノマを感光層を積層する前に露光して硬化せしめ
たもの、特開平２−７０４９に提案されているメタクリ
ル系エポキシ化合物を感光層を積層する前に露光して硬
化せしめたもの、特開昭６２−５０７６０に提案されて
いるエポキシ樹脂を熱硬化せしめたもの、特開昭６３−
１３３１５１に提案されているゼラチンを硬膜せしめた
もの、特開平１−２８２２７０や特開平２−２１０７２
に提案されているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げ
ることができる。この他にもカゼインを硬膜させたもの
も有効である。

【０１０８】さらにプライマー層を柔軟化させる目的
で、前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であ
るポリウレタン、ポリアミド、スチレン／ブタジエンゴ
ム、カルボキシ変性スチレン／ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル／ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロ
ニトリル／ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アク
リレートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、塩
素化ポリプロピレン、などのポリマを添加することも好
ましい。

【０１０９】その添加割合は任意であり、フィルム層を
形成できる範囲出有れば、添加剤だけでプライマー層形
成してもよい。また、これらのプライマー層には前記の
目的に沿って、染料、ｐＨ指示薬、露光焼出し剤、フォ
トクロ化合物、光重合開始剤、接着助剤（例えば、重合
性モノマ、ジアゾ樹脂、シランカップリング剤、チタネ
ートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、ジ
ルコニアカップリング剤、ボロンカップリング剤な
ど）、基板からのハレ−ションを防止するためや検版性
の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、酸化亜
鉛のような白色顔料や黄色顔料やシリカ粒子などの添加
剤を含有させることができる。

【０１１０】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤等を添加することも任意である。

【０１１１】上記のプライマ層を形成するための組成物
は、ＤＭＦ、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジオキサン等の適当な有機溶媒に溶解させること
によって組成物溶液として調製される。該組成物溶液を
基板上に均一に塗布し必要な温度で必要な時間加熱する
ことによりプライマ層が形成される。

【０１１２】プライマ層の厚さは０．２〜５０ｇ／ｍ2
、好ましくは０．５〜１０ｇ／ｍ2であり、１〜５ｇ／
ｍ2 の範囲がさらに好ましい。薄すぎると基板表面の形
態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が劣り、一方厚す
ぎると乾燥工程で経済的に不利になるので上記の範囲が
好ましい。

【０１１３】以上に説明された構成の水なし平版印刷版
のシリコーンゴム層の表面には、該シリコーンゴム層を
保護する目的で適当な保護層をコーティングにより該シ
リコーンゴム層上に形成したり、保護フィルムをラミネ
ートすることも可能である。また、該保護層中には感光
層を曝光（露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が
照射されることを意味する）から保護する目的で、光退
色性物質を含有せしめることもできる。

【０１１４】保護フィルムの具体例としては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタ
レート、セロファンなどが挙げられる。また、これらの
保護フィルムは画像露光時の焼枠における真空密着性を
改良するために、凹凸加工を施したり、表面をマット処
理したり、シリカ粒子などを含むプラスチック層を上記
保護フィルムの表面に塗布積層することも好ましく行な
われる。

【０１１５】次に本発明における水なし平版印刷版の製
造方法について説明する。基板上にリバースロールコー
ター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーターなど
の通常のコータ、あるいはホエラーのような回転塗布装
置を用い、必要に応じてプライマ層組成物を塗布し１０
０〜３００℃数分間硬化したのち、感光層組成物塗液を
塗布、５０〜１５０℃の温度で数分間乾燥および必要に
応じて熱キュアし、その上にシリコーンガム組成物を塗
布し、５０〜１５０℃の温度で数分間熱処理してゴム硬
化させて形成する。しかるのちに、必要に応じて保護フ
ィルムをラミネートする。

【０１１６】次に本発明で言う水なし平版印刷版の露光
現像工程について説明する。

【０１１７】本発明で言う水なし平版印刷版は、好まし
くはポジティブワーキンク用の版材として用いられる。
該版材は真空密着されたポジフィルムを通じて、通常の
露光光源により画像露光する。この露光工程で用いられ
る光源としては、例えば高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯などが挙げ
られる。このような通常の露光を行なったのち版面を下
記に説明する現像液を含んだ現像パッドやブラシでこす
ると、未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光層
が露出し、インキ受容部（画線部）が露出し刷版とな
る。

【０１１８】本発明で用いられる現像液としては、公知
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類（ヘキ
サン、ヘプタン、「アイソパーＥ，Ｈ，Ｇ」（ＥＳＳＯ
製イソパラフィン系炭化水素の商品名）、ガソリン、灯
油など）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、な
ど）、ハロゲン化炭化水素類（トリクレンなど）などの
少なくとも１種類以上の混合溶媒に下記の極性溶媒を少
なくとも１種類添加したものが好ましく用いられる。

【０１１９】アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、１、３−ブチレングリコール、２、３−ブチレング
リコール、ヘキシレングリコール、２−エチル−１、３
−ヘキサンジオール、など）エーテル類（エチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコール、モノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−
２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリ
プロピレングリールモノメチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランなど）ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジアセトンアルコールなど）エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアエテートなど）カルボン酸（２−エチル酪酸、カプロン酸、カプリル
酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、オレイン酸、
ラウリル酸など）また、上記の有機溶剤系現像液組成には水を添加した
り、公知の界面活性剤を添加することも自由に行なわれ
る。また、さらにアルカリ剤、例えば炭酸ナトリウム、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水
酸化カリウム、ホウ酸ナトリウムなどを添加することも
できる。

【０１２０】またこれらの現像液にはクリスタルバイオ
レット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド
などの公知の塩基性染料、酸性染料、油溶性染料を添加
して現像と同時に画像部の染色化を行なうことができ
る。

【０１２１】また、本研究に用いられる水なし平版印刷
版を現像する際には、例えば東レ(株) にて市販されて
いるような自動現像機を用い、上記の現像液で版面を前
処理した後に水道水などでシャワーしながら回転ブラシ
で版面を擦ることによって、好適に現像することができ
る。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を版面
に噴霧することによっても現像が可能である。

【０１２２】

【実施例】以下に実施例により、本発明をさらに詳細に
説明する。

【０１２３】合成例１ジプロピレングリコ−ルジグリシジルエ−テル（ナガセ
化学工業（株）製のデナコ−ルＥＸ−９４１）１２．３
部、α−シアノ−β−スチリルアクリル酸２０．１部、
トリフェニルフォスフィン０．６部をトルエン１５部、
メチルイソブチルケトン１５部の混合液に添加し、８０
℃で１６時間攪拌加熱して化合物（Ａ）を得た。

【０１２４】合成例２トルエン１００部にα−シアノ−β−スチリルアクリル
酸を混合し、加熱、攪拌しながら過剰の塩化チオニルを
滴下して、α−シアノ−β−スチリルアクリル酸クロラ
イドを合成した。溶媒を減圧留去して黄色結晶を得た。
これをメチルイソブチルケトン３０部に溶解した後、プ
ロピレングリコ−ル９．６部とメチルイソブチルケトン
１０部の溶液へ氷冷下にゆっくりと加えたのち、脱塩酸
剤としてピリジン３０部をゆっくり加えてエステル化を
行った。エバポレ−タ減圧下にメチルイソブチルケトン
の一部を留去したのち、稀塩酸で処理して得られた固体
をメタノ−ルから再結晶して（化合物Ｂ）プロピレング
リコ−ルモノ−α−シアノ−β−スチリルアクリレ−ト
を得た。

【０１２５】合成例３グリシジルメタアクリレ−ト１４部、ケイ皮酸１６部、
トリエチルアミン５部をトルエン１００部、メチルイソ
ブチルケトン１００部の混合液に溶解し、ハイドロキノ
ン０．２部を加えて８０℃で１６時間攪拌加熱した。反
応後、エバポレ−タ減圧下に低沸点化合物を留去したの
ち、３００部の水に投入して分離したオイル状物質をエ
−テルで抽出し、これを無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、濾過して減圧下にエ−テルを留去して、淡黄色油状
物質を得た。

【０１２６】この油状物質２２部、ラウリルメタクリレ
−ト１１部、トルエン２２部、メチルイソブチルケトン
１１部、アゾビスイソブチルニトリル０．２部を混合し
た溶液をトルエン２２部、メチルイソブチルケトン１１
部の８０℃攪拌混合液に１時間で滴下した。この溶液を
更に８０℃で６時間攪拌加熱そ、その間にアゾビスイソ
ブチルニトリル０．２部を４回に分割して追加添加し
た。

【０１２７】このようにしてγ−シンナモイロキシ−β
−ヒドロキシ−ｎ−プロピルメタアクリレ−トとラウリ
ルメタクリレ−トの共重合ポリマ溶液を得た。これをｎ
−ヘキサン中に再沈、乾燥して共重合ポリマ粉末（Ｃ）
を得た。

【０１２８】合成例４グリシジルメタアクリレ−ト２５部、α−シアノ−β−
スチリルアクリル酸３５部、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド１．２部をトルエン３０部、エチルセ
ロソルブ３０部の混合液に添加し、８５℃で１８時間攪
拌加熱して、γ−（α−シアノ−β−スチリルアクリル
オキシ）−β−ヒドロキシ−ｎ−プロピルメタアクリレ
−ト溶液を得た。

【０１２９】この溶液に、ラウリルメタクリレ−ト１１
部、トルエン３０部、エチルセロソルブ３０部にアゾビ
スイソブチルニトリル０．６部を添加し、８０℃で窒素
気流下、６時間重合させた。その間にアゾビスイソブチ
ルニトリル０．３部を４回に分割添加して重合を完結さ
せた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアムド６０部添加希
釈してポリマ溶液（Ｄ）を得た。

【０１３０】実施例１通常の方法で脱脂した厚さ０．３mmのアルミ板（住友軽
金属（株）製）に、下記のプライマー組成物を塗布し、
２００℃、２分間熱処理して５ｇ／ｍ2 のプライマー層
を塗設した。

【０１３１】＜固形成分：塗布濃度１２％＞（１）ポリウレタン樹脂（サンプレンＬＱ−ＳＺ１８：三洋化成工業（株）製）７５重量％（２）ブロックイソシアネート（タケネ−トＢ８３０：武田薬品（株）製）１５重量％（３）エポキシ・尿素樹脂１０重量％＜溶剤成分＞（４）ジメチルホルムアミド続いてこの上に、下記の組成を有する光二量化型感光性
組成物を１２０℃、１分間乾燥して３ｇ／ｍ2 の感光層
を塗設した。

【０１３２】＜固形成分：塗布濃度１５％＞（１）ポリウレタン樹脂（サンプレンＬＱ−２１０：三洋化成（株）製）Ｔｇ：−４０℃ ２５重量％（２）合成例１で得られた化合物Ａ７０重量％（３）ミヒラー氏ケトン４．５重量％（４）ビクトリアピュアブルーＢＯＨナフタレンスルフォン酸塩０．５重量％＜溶剤成分＞（５）プロピレングリコールモノメチルエーテル続いて、この感光層の上に下記組成の縮合反応架橋性シ
リコーンゴム層組成物をバーコータで塗布し、１１５
℃、２分間加熱硬化して、２ｇ／ｍ2 のシリコーンゴム
層を塗設した。

【０１３３】＜固形成分：８％＞（１）両末端水酸基ポリジメチルシロキサン（重合度〜７００）９４．９９重量％（２）メチルトリアセトキシシラン５重量％（３）ジブチル錫ジラウレート０．０１重量％＜溶剤成分＞（４）アイソパーＥ上記のようにして得られた積層板に、厚さ１２ミクロン
の片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマッ
ト化されていない面がシリコーンゴム層と接するように
してカレンダーローラーを用いてラミネートし、ポジ型
の水なし平版印刷版原版を得た。

【０１３４】画像評価は２００線／インチ１〜９９％の
網点を有するポジフィルムと光学濃度差0.15であるグレ
ースケール（Ｇ／Ｓ）を張込み用のポリエステルフィル
ム上に張込み、ヌアーク社製 FT261V UNDS ULTRA-PLUS
FIIPTOP PLATEMAKER 真空露光機を用いて、３０秒間真
空密着したのち、３０カウント露光し、ラミネートフィ
ルムを剥離した。

【０１３５】その後、ＴＷＬ１１６０Ｋ（東レ（株）
製: 自動現像機）を用い、液温４０度のＰＰ−Ｆ（東レ
（株）製: 自動現像機用前処理液）中で１分間前処理
し、回転ブラシを用いて液温２５度純水中にて未露光部
のシリコーンゴム層を剥離除去し刷版とした（処理速度
１００ｃｍ／分）。

【０１３６】耐刷性評価は、得られた印刷版をオフセッ
ト輪転印刷機［ＳＹＳＴＥＭ３５Ｗ（ＬＲ−４３５
Ｗ）：小森印刷機械（株）製］に装着し、Ａ２コート紙
（６２．５ｋｇ／菊）を用いて１００００回転／時間の
回転速度で印刷し、耐刷性は版面のシリコーンゴム層の
損傷状況および印刷物の汚れから目視判断し、版交換が
必要となる印刷枚数を指標とした。

【０１３７】この実施例に用いた感光層の引張特性は、
下記の通りであった。

【０１３８】初期弾性率：２０kgf/mm2 破断伸度：７０％実施例２実施例１において光二量化型感光層成分として、化合物
Ａの代わりに合成例２で得られた化合物Ｂを使用して、
同様に印刷版原版を得た。実施例１と同様の方法で露
光、現像し印刷刷版を得た後、実施例１と同様の方法で
耐刷性テストを行った。

【０１３９】この実施例に用いた感光層の引張特性は、
下記の通りであった。

【０１４０】初期弾性率：４０kgf/mm2 破断伸度：６０％実施例３アルミ板上に実施例１と同様のプライマ層を設けた。続
いてこの上に、下記の組成を有する光二量化型感光性組
成物を１２０℃、１分間乾燥して３ｇ／ｍ2 の感光層を
塗設した。

【０１４１】＜固形成分：塗布濃度１５％＞（１）合成例３で得られた共重合ポリマ粉末（Ｃ）９４重量％（２）５−ニトロアセナフテン５．５重量％（３）クリスタルバイオレット０．５重量％光二量化型感光層の上にシリコーンゴム層、保護フィル
ムを、実施例１と同様の方法で設け、印刷版原版を得
た。実施例１と同様の方法で露光、現像し印刷刷版を得
た後、実施例１と同様の方法で耐刷性テストを行った。

【０１４２】この実施例に用いた感光層の引張特性は、
下記の通りであった。

【０１４３】初期弾性率：３０kgf/mm2 破断伸度：８０％実施例４アルミ板上に実施例１と同様のプライマ層を設けた。続
いてこの上に、下記の組成を有する光二量化型感光性組
成物を１２０℃、１分間乾燥して３ｇ／ｍ2 の感光層を
塗設した。

【０１４４】＜固形成分：塗布濃度１５％＞（１）合成例４で得られたポリマ溶液（Ｄ）をＮ，Ｎ−ジメチルフォルムアミドで固形分濃度１５％に調整した溶液２００重量％（２）ポリケイ皮酸ビニル２５重量％（３）５−ベンゾイルアセナフテン５重量％（４）メチルイソブチルケトン１７０重量％上記光二量化型感光層の上にシリコーンゴム層、保護フ
ィルムを、実施例１と同様の方法で設け、印刷版原版を
得た。実施例１と同様の方法で露光、現像し印刷刷版を
得た後、実施例１と同様の方法で耐刷性テストを行っ
た。

【０１４５】この実施例に用いた感光層の引張特性は、
下記の通りであった。

【０１４６】初期弾性率：４０kgf/mm2 破断伸度：５０％比較例１アルミ板上に実施例１と同様のプライマ層を設けた。続
いてこの上に、下記の組成を有する光二量化型感光性組
成物を１２０℃、１分間乾燥して３ｇ／ｍ2 の感光層を
塗設した。

【０１４７】（１）ｐ−フェニレンジアクリル酸エステルと１，４−ジヒドロキシエチルオキシシクロヘキサンとの１：１重縮合による感光性不飽和ポリエステル２０重量％（２）５−ベンゾイルアセナフテン５重量％（３）クリスタルバイオレット０．５重量％（４）エチルセロソルブアセテート１２９．５重量％（５）メチルエチルケトン１００重量％上記光二量化型感光層の上にシリコーンゴム層、保護フ
ィルムを、実施例１と同様の方法で設け、印刷版原版を
得た。実施例１と同様の方法で露光、現像し印刷刷版を
得た後、実施例１と同様の方法で耐刷性テストを行っ
た。

【０１４８】この実施例に用いた感光層の引張特性は、
下記の通りであった。

【０１４９】初期弾性率：９０kgf/mm2 破断伸度：８％実施例５実施例４において、シリコーンゴム層組成物を以下のよ
うに変更して、同様に印刷版原版を得た。実施例４と同
様の方法で露光、現像し印刷刷版を得た後、実施例４と
同様の方法で耐刷性テストを行った。

【０１５０】＜固形分：８％＞（１）両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン（数平均分子量１００，０００）１００重量％（２）(CH3)3SiO(Si(CH3)2O)30-(SiH(CH3)O)10-Si(CH3)3 ３重量％（３）塩化白金酸０．１重量％＜溶剤成分＞（４）アイソパーＥこの実施例に用いた感光層の引張特性は、実施例４と全
く同じであった。

【０１５１】表１に感光層の引張特性と印刷版の画像再
現性および耐刷性を示した。

【０１５２】

【表１】

【０１５３】

【発明の効果】本発明は基板上に少なくとも光二量化型
感光層及びシリコーンゴム層をこの順に積層してなる水
なし平版印刷版原版において、該光二量化型感光層の露
光後の引張特性が（１）初期弾性率：５〜７５kgf/mm2 、好ましくは（２）破断伸度：１０％以上の物性を有するものとし、感光層が柔軟化されたため、
画像再現性に優れかつ耐刷性に優れた水なし平版印刷版
原版を提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に少なくとも光二量化型感光層及び
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版原版において、該光二量化型感光層の露光後の引張
特性が（１）初期弾性率：５〜７５kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【請求項２】該光二量化型感光層の露光後の引張特性が（２）破断伸度：１０％以上の物性を有することを特徴とする請求項１記載の水なし
平版印刷版原版。
【請求項３】該光二量化型感光層が分子内に１個以上の
水酸基および１個以上の光二量化可能構造を有する化合
物を含有することを特徴とする請求項１または２記載の
水なし平版印刷版原版。
【請求項４】該光二量化型感光層がバインダポリマを含
有し、その割合が０．１〜６０ｗｔ％であることを特徴
とする請求項１〜３のいずれかに記載の水なし平版印刷
版原版。
【請求項５】バインダポリマのガラス転移点（Ｔg ）が
０℃以下であることを特徴とする請求項４記載の水なし
平版印刷版原版。
【請求項６】該シリコーンゴム層が縮合反応架橋性シリ
コーンゴム層であることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれかに記載の水なし平版印刷版原版。
【請求項７】該シリコーンゴム層が付加反応性シリコー
ンゴム層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
かに記載の水なし平版印刷版原版。