JPH09230603A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
- Publication number
- JPH09230603A JPH09230603A JP8037869A JP3786996A JPH09230603A JP H09230603 A JPH09230603 A JP H09230603A JP 8037869 A JP8037869 A JP 8037869A JP 3786996 A JP3786996 A JP 3786996A JP H09230603 A JPH09230603 A JP H09230603A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- substrate
- exposed
- present
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】一括露光方式の露光装置における、パターン面
のＸ方向とＹ方向のトータルピッチの偏差量の差を減少
させ、高いトータルピッチ精度を得る。 【解決手段】シムを基板ステージの長辺方向の中程に当
たる固定部にのみ取り付け、被露光基板を載置するステ
ージを湾曲させる。
のＸ方向とＹ方向のトータルピッチの偏差量の差を減少
させ、高いトータルピッチ精度を得る。 【解決手段】シムを基板ステージの長辺方向の中程に当
たる固定部にのみ取り付け、被露光基板を載置するステ
ージを湾曲させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置など
に用いられるカラーフィルタ、ブラックマトリクスまた
は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）電極基板等の大面積パタ
ーンの一括露光方法に関する。
に用いられるカラーフィルタ、ブラックマトリクスまた
は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）電極基板等の大面積パタ
ーンの一括露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置においてカラー表示
を行うために、透明基板に光透過性の開口部のある遮光
層（ブラックマトリクス）を形成し、この開口部および
遮光層に一部重ねて赤、緑、青のフィルタ層をパターン
形成したカラーフィルタが一般的に用いられている。最
近の液晶表示装置に関する市場の要請として、高輝度
化、低消費電力化のためにそのカラーフィルタの開口率
を向上させること、および液晶表示装置を用いた製品の
高付加価値化のために画素を高精細化することが急務と
なっている。そのため、ブラックマトリクスの画素パタ
ーンもますます高精細化し、得意先からは、薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）とカラーフィルタとの貼り合わせの重
要な鍵を握る、基板全体としてのピッチ精度（トータル
ピッチ精度）の向上を要求されている。
を行うために、透明基板に光透過性の開口部のある遮光
層（ブラックマトリクス）を形成し、この開口部および
遮光層に一部重ねて赤、緑、青のフィルタ層をパターン
形成したカラーフィルタが一般的に用いられている。最
近の液晶表示装置に関する市場の要請として、高輝度
化、低消費電力化のためにそのカラーフィルタの開口率
を向上させること、および液晶表示装置を用いた製品の
高付加価値化のために画素を高精細化することが急務と
なっている。そのため、ブラックマトリクスの画素パタ
ーンもますます高精細化し、得意先からは、薄膜トラン
ジスタ（ＴＦＴ）とカラーフィルタとの貼り合わせの重
要な鍵を握る、基板全体としてのピッチ精度（トータル
ピッチ精度）の向上を要求されている。
【０００３】このトータルピッチを目標値に近づけるた
めに、現在は温度調節チャンバーの温度調整により改善
を図っているが、直交関係にあるＸ方向とＹ方向でトー
タルピッチに差がある場合には、温度調整のみではＸ方
向、Ｙ方向のうちどちらかが規格外になってしまうこと
があり、問題であった。
めに、現在は温度調節チャンバーの温度調整により改善
を図っているが、直交関係にあるＸ方向とＹ方向でトー
タルピッチに差がある場合には、温度調整のみではＸ方
向、Ｙ方向のうちどちらかが規格外になってしまうこと
があり、問題であった。
【０００４】温調チャンバーの望ましい温度調整の方向
性を引き出すため、考察を行った。例として、長辺（Ｘ
方向）が４５０mm、短辺（Ｙ方向）が３５０mmの基板上
に、マスクを介してあるパターンをある温度で露光した
とき、図５に示す各位置の転写ピッチの値の、設計値か
らの偏差（転写値のずれ量）を求め、これを基準として
チャンバー内の温度条件を変えた場合の転写精度の変化
をシミュレートした結果を以下の表１に示す。マスクの
膨張係数を９．２×１０-6ｍ／℃、基板の膨張係数を
４．７×１０-6ｍ／℃とした。表中Ｒｘｙは、Ｘ方向、
Ｙ方向それぞれの転写位置の値の設計値からの偏差の最
大差を示す。Ｒｘｙが表中の数値から得られる数値と異
なるのは、表中の数値は小数点以下１桁に四捨五入した
ものであるためである。
性を引き出すため、考察を行った。例として、長辺（Ｘ
方向）が４５０mm、短辺（Ｙ方向）が３５０mmの基板上
に、マスクを介してあるパターンをある温度で露光した
とき、図５に示す各位置の転写ピッチの値の、設計値か
らの偏差（転写値のずれ量）を求め、これを基準として
チャンバー内の温度条件を変えた場合の転写精度の変化
をシミュレートした結果を以下の表１に示す。マスクの
膨張係数を９．２×１０-6ｍ／℃、基板の膨張係数を
４．７×１０-6ｍ／℃とした。表中Ｒｘｙは、Ｘ方向、
Ｙ方向それぞれの転写位置の値の設計値からの偏差の最
大差を示す。Ｒｘｙが表中の数値から得られる数値と異
なるのは、表中の数値は小数点以下１桁に四捨五入した
ものであるためである。
【０００５】
【表１】
【０００６】このシミュレーション結果から、チャンバ
ー温度を下げるとＲｘｙが減少することがわかる。しか
し、転写精度そのものが大きくマイナス方向に悪くなっ
てしまうため、不具合となる。よって、Ｘ，Ｙ両方向に
ついての温度調整によるピッチ補正には限界があると考
えられる。
ー温度を下げるとＲｘｙが減少することがわかる。しか
し、転写精度そのものが大きくマイナス方向に悪くなっ
てしまうため、不具合となる。よって、Ｘ，Ｙ両方向に
ついての温度調整によるピッチ補正には限界があると考
えられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、Ｘ方向とＹ
方向のトータルピッチの偏差量の差を減少させて補正
し、上記の問題を解消する方策を提供することを目的と
する。
方向のトータルピッチの偏差量の差を減少させて補正
し、上記の問題を解消する方策を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、一括露光方式
の露光装置において、被露光基板を載置するステージを
湾曲させることにより、被露光基板を湾曲させ、パター
ン面のＸ方向とＹ方向でのトータルピッチの偏差量の差
を小さくすることを特徴とする露光方法である。
の露光装置において、被露光基板を載置するステージを
湾曲させることにより、被露光基板を湾曲させ、パター
ン面のＸ方向とＹ方向でのトータルピッチの偏差量の差
を小さくすることを特徴とする露光方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】従来ならば、図２に示すように、
被露光基板６を載置するステージ４はその固定部全てに
ついて、ステージ４を固定する固定柱１の上にネジ止め
２をネジ穴を合わせて置き、その上にステージ４を置い
て、ネジ５で締め付け固定するものである。しかし本発
明では、図３の丸印で示す固定部のうち黒丸で示すＸ方
向の中程に当たる固定部のみ、図４に示すように固定柱
１の上に置いたネジ止め２の上にシム３を配してから、
ステージ４を置いて、ネジ５で締め付け固定する。
被露光基板６を載置するステージ４はその固定部全てに
ついて、ステージ４を固定する固定柱１の上にネジ止め
２をネジ穴を合わせて置き、その上にステージ４を置い
て、ネジ５で締め付け固定するものである。しかし本発
明では、図３の丸印で示す固定部のうち黒丸で示すＸ方
向の中程に当たる固定部のみ、図４に示すように固定柱
１の上に置いたネジ止め２の上にシム３を配してから、
ステージ４を置いて、ネジ５で締め付け固定する。
【００１０】この結果、固定柱１への固定が完了したス
テージ４は、図１に示すように、シム３を挟んで固定し
たＸ方向中央部がわずかにせり上がり、全体としてＸ方
向が湾曲する。これにより、該ステージ４上に載置した
基板６も同様に湾曲した状態となる。この状態でマスク
７を介してパターン露光を行うと、基板６上に形成され
るパターンのトータルピッチの偏差は、Ｘ方向のみプラ
ス方向に改善される。
テージ４は、図１に示すように、シム３を挟んで固定し
たＸ方向中央部がわずかにせり上がり、全体としてＸ方
向が湾曲する。これにより、該ステージ４上に載置した
基板６も同様に湾曲した状態となる。この状態でマスク
７を介してパターン露光を行うと、基板６上に形成され
るパターンのトータルピッチの偏差は、Ｘ方向のみプラ
ス方向に改善される。
【００１１】
【実施例】上記の実施の形態に記した方法により、厚さ
５０μｍのシム３を露光機のステージ４の長辺方向の中
程に当たる固定部に取り付け、ステージ４が湾曲した状
態でパターン露光を行った。その結果、以下の表２に示
す如く、Ｘ方向、Ｙ方向それぞれの転写値の設計値から
の偏差量の差Ｒｘｙが、３．５μｍから１．４μｍへと
改善された。
５０μｍのシム３を露光機のステージ４の長辺方向の中
程に当たる固定部に取り付け、ステージ４が湾曲した状
態でパターン露光を行った。その結果、以下の表２に示
す如く、Ｘ方向、Ｙ方向それぞれの転写値の設計値から
の偏差量の差Ｒｘｙが、３．５μｍから１．４μｍへと
改善された。
【００１２】
【表２】
【００１３】
【発明の効果】本発明の方法により、Ｘ方向とＹ方向で
のトータルピッチの偏差量の最大差が改善され、従来で
は不可能だった、さらに高精細度のパターンをもった大
面積パターンの、高いピッチ精度での量産が可能となっ
た。
のトータルピッチの偏差量の最大差が改善され、従来で
は不可能だった、さらに高精細度のパターンをもった大
面積パターンの、高いピッチ精度での量産が可能となっ
た。
【００１４】
【図１】本発明の露光方法の一実施例を示す説明図であ
る。
る。
【図２】従来の方法によるステージ固定部、および本発
明の方法においてシムを挟まないステージ固定部の一例
を示す断面図である。
明の方法においてシムを挟まないステージ固定部の一例
を示す断面図である。
【図３】本発明のステージ固定部の位置の一例を示す説
明図である。
明図である。
【図４】本発明の方法においてシムを挟むステージ固定
部の一例を示す説明図である。
部の一例を示す説明図である。
【図５】基板面内におけるトータルピッチ測定位置を示
す説明図である。
す説明図である。
１ 固定柱 ２ ネジ止め ３ シム ４ ステージ ５ ネジ ６ 基板 ７ マスク
Claims (1)
- 【請求項１】一括露光方式の露光装置において、被露光
基板を載置するステージを湾曲させることにより、被露
光基板を湾曲させ、パターン面のＸ方向とＹ方向でのト
ータルピッチの偏差量の差を小さくすることを特徴とす
る露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8037869A JPH09230603A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8037869A JPH09230603A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09230603A true JPH09230603A (ja) | 1997-09-05 |
Family
ID=12509552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8037869A Pending JPH09230603A (ja) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09230603A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100579604B1 (ko) * | 2001-02-23 | 2006-05-12 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 특정 마스크패턴을 위한 조명 최적화방법 및 장치 |
-
1996
- 1996-02-26 JP JP8037869A patent/JPH09230603A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100579604B1 (ko) * | 2001-02-23 | 2006-05-12 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 특정 마스크패턴을 위한 조명 최적화방법 및 장치 |
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