JPH09232402A - 試料搬送装置 - Google Patents
試料搬送装置Info
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- JPH09232402A JPH09232402A JP8033466A JP3346696A JPH09232402A JP H09232402 A JPH09232402 A JP H09232402A JP 8033466 A JP8033466 A JP 8033466A JP 3346696 A JP3346696 A JP 3346696A JP H09232402 A JPH09232402 A JP H09232402A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フォトマスクやレチクル等の試料に傷やゴミ
を付けることなく搬送することのできる搬送装置を得
る。 【解決手段】 搬送しようとする試料Ｆの両側辺部分に
磁性材料Ｍａを配置すると共に、搬送装置５０の試料保
持腕７０、７０の対向する側面に凹溝７１、７１を形成
し、そこに、磁性材料Ｍｂを配置する。磁性材料Ｍａと
Ｍｂの対向する面の極性を同じとし、試料Ｆの磁性材料
Ｍａの部分を試料保持腕７０、７０の凹部７１、７１内
で磁力の反発力により非接触で保持し、その状態で目的
の場所に搬送する。
を付けることなく搬送することのできる搬送装置を得
る。 【解決手段】 搬送しようとする試料Ｆの両側辺部分に
磁性材料Ｍａを配置すると共に、搬送装置５０の試料保
持腕７０、７０の対向する側面に凹溝７１、７１を形成
し、そこに、磁性材料Ｍｂを配置する。磁性材料Ｍａと
Ｍｂの対向する面の極性を同じとし、試料Ｆの磁性材料
Ｍａの部分を試料保持腕７０、７０の凹部７１、７１内
で磁力の反発力により非接触で保持し、その状態で目的
の場所に搬送する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は平板状の試料、特
に、半導体素子製造用のフォトマスクやレチクル等の試
料の搬送に有効に用いることのできる試料搬送装置に関
する。
に、半導体素子製造用のフォトマスクやレチクル等の試
料の搬送に有効に用いることのできる試料搬送装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置において、フォトマスク
やレチクル（以下、試料という）は試料カセットに段積
み状態に収容されており、そこから、試料搬送装置の搬
送アームにより一枚づつ取り出されて露光装置等に搬送
され、そこで必要な処理を受けた後、再度試料搬送アー
ムによりアンロード側の試料カセットまで搬送され、そ
こに収納保管される。
やレチクル（以下、試料という）は試料カセットに段積
み状態に収容されており、そこから、試料搬送装置の搬
送アームにより一枚づつ取り出されて露光装置等に搬送
され、そこで必要な処理を受けた後、再度試料搬送アー
ムによりアンロード側の試料カセットまで搬送され、そ
こに収納保管される。
【０００３】図１３は、従来の試料搬送装置における試
料搬送アーム５０の一例を示しており、図示しない制御
機構により上下動する支柱５１の先端に図示しない回動
機構を持つ回動盤５２が備えられ、該回動盤５２に立設
する２本の回転軸５３ａ、５３ｂに一端を固定したリン
ク５４ａ、５４ｂの他端側は共通の支軸５５に枢着さ
れ、該支軸５５には平板状の試料搬送台５６が取り付け
られている。
料搬送アーム５０の一例を示しており、図示しない制御
機構により上下動する支柱５１の先端に図示しない回動
機構を持つ回動盤５２が備えられ、該回動盤５２に立設
する２本の回転軸５３ａ、５３ｂに一端を固定したリン
ク５４ａ、５４ｂの他端側は共通の支軸５５に枢着さ
れ、該支軸５５には平板状の試料搬送台５６が取り付け
られている。
【０００４】試料の搬送に際しては、回転盤５２を回動
して試料搬送台５６を例えば図示しない試料カセット
（第１の場所）方向に位置決めをし、次に、回転軸５３
ａ、５３ｂを回転させてリンク５４ａ、５４ｂを伸長し
て試料搬送台５６を押出し、その先端を試料カセット内
に挿入する。次に、支柱５１を制御して試料搬送台５６
を上昇させ、カセットに段積みされた試料の１枚を下方
から担持する。図１３はその状態を示しており、試料Ｆ
はその中央部分が試料搬送腕５６に支持された姿勢とな
り、そこに真空吸着等で保持されるその状態で回転軸５
３ａ、５３ｂを逆方向に回転制御し、試料搬送腕５６を
後退させて試料カセットから脱出させ、再び回転盤５２
を回動して試料搬送腕５６を例えばＸＹステージ上に設
置される試料ホルダ位置（第２の場所）まで回動する。
その位置で、試料搬送腕５６の押出し及び下降制御が行
われ、また、真空吸着が開放され、試料搬送腕５６に担
持された試料Ｆは試料ホルダ側に引き継がれる。
して試料搬送台５６を例えば図示しない試料カセット
（第１の場所）方向に位置決めをし、次に、回転軸５３
ａ、５３ｂを回転させてリンク５４ａ、５４ｂを伸長し
て試料搬送台５６を押出し、その先端を試料カセット内
に挿入する。次に、支柱５１を制御して試料搬送台５６
を上昇させ、カセットに段積みされた試料の１枚を下方
から担持する。図１３はその状態を示しており、試料Ｆ
はその中央部分が試料搬送腕５６に支持された姿勢とな
り、そこに真空吸着等で保持されるその状態で回転軸５
３ａ、５３ｂを逆方向に回転制御し、試料搬送腕５６を
後退させて試料カセットから脱出させ、再び回転盤５２
を回動して試料搬送腕５６を例えばＸＹステージ上に設
置される試料ホルダ位置（第２の場所）まで回動する。
その位置で、試料搬送腕５６の押出し及び下降制御が行
われ、また、真空吸着が開放され、試料搬送腕５６に担
持された試料Ｆは試料ホルダ側に引き継がれる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
試料搬送装置では、試料は試料搬送腕に搭載された姿勢
で搬送されることから、試料表面と搬送腕面との接触は
不可避であり、接触面で傷が生じる場合があった。ま
た、真空吸着により搬送の安定を図っているために、吸
着面に異物が付着し易いという問題があった。このよう
な傷の発生やゴミの付着は、試料に不良部分を生じさ
せ、生産性の低下を引き起こす。
試料搬送装置では、試料は試料搬送腕に搭載された姿勢
で搬送されることから、試料表面と搬送腕面との接触は
不可避であり、接触面で傷が生じる場合があった。ま
た、真空吸着により搬送の安定を図っているために、吸
着面に異物が付着し易いという問題があった。このよう
な傷の発生やゴミの付着は、試料に不良部分を生じさ
せ、生産性の低下を引き起こす。
【０００６】そこで本発明の目的は、フォトマスクやレ
チクル等の試料を試料搬送装置により第１の場所から第
２の場所へ搬送する際に、搬送装置に起因して、試料に
傷が付いたりゴミが付着することがないようにした試料
搬送装置を提供することにある。
チクル等の試料を試料搬送装置により第１の場所から第
２の場所へ搬送する際に、搬送装置に起因して、試料に
傷が付いたりゴミが付着することがないようにした試料
搬送装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による試料搬送装置は、基本的に、搬送しよ
うとする試料の両側辺部分を保持するための凹溝を対向
する側面部分にそれぞれ形成している一対の試料保持腕
と、該一対の試料保持腕を該試料の幅よりも広い間隔で
ある第１の位置と該凹溝内に試料を保持した第２の位置
とに変位させるための移動手段と、該凹溝に磁力を発生
させる磁力発生手段とを少なくとも有する構成とした。
に、本発明による試料搬送装置は、基本的に、搬送しよ
うとする試料の両側辺部分を保持するための凹溝を対向
する側面部分にそれぞれ形成している一対の試料保持腕
と、該一対の試料保持腕を該試料の幅よりも広い間隔で
ある第１の位置と該凹溝内に試料を保持した第２の位置
とに変位させるための移動手段と、該凹溝に磁力を発生
させる磁力発生手段とを少なくとも有する構成とした。
【０００８】本発明による試料搬送装置の他の態様で
は、少なくとも両側辺に磁性を有する平板状の試料を試
料搬送腕で保持して第１の場所から第２の場所へ搬送す
る試料搬送装置であって、該試料搬送腕は、該試料の両
側辺部分を保持するための凹溝を対向する側面部分にそ
れぞれ形成している一対の試料保持腕と、該一対の試料
保持腕を該試料の幅よりも広い間隔である第１の位置と
該凹溝内に試料を保持する第２の位置とに変位させるた
めの移動手段とを有し、該凹溝面には、搬送する試料の
側辺部分の磁極と同極の磁極が生じるようにされ、さら
に、該試料保持腕の前記第２の位置において、試料を磁
力の反発により非接触の状態で保持されるように制御す
る制御手段とを有する構成とされる。
は、少なくとも両側辺に磁性を有する平板状の試料を試
料搬送腕で保持して第１の場所から第２の場所へ搬送す
る試料搬送装置であって、該試料搬送腕は、該試料の両
側辺部分を保持するための凹溝を対向する側面部分にそ
れぞれ形成している一対の試料保持腕と、該一対の試料
保持腕を該試料の幅よりも広い間隔である第１の位置と
該凹溝内に試料を保持する第２の位置とに変位させるた
めの移動手段とを有し、該凹溝面には、搬送する試料の
側辺部分の磁極と同極の磁極が生じるようにされ、さら
に、該試料保持腕の前記第２の位置において、試料を磁
力の反発により非接触の状態で保持されるように制御す
る制御手段とを有する構成とされる。
【０００９】本発明による試料搬送装置に使用に際し
て、試料は少なくとも試料搬送腕に保持される側辺部分
が磁性を持つようにされる。その手段は任意であるが、
試料の４周あるいは対向する２辺に沿って希土類系プラ
スチック磁石、フェライト磁石、アルコニ磁石等の磁性
材料を配置又は一体に成形する方法、あるいは、試料に
メッキ加工を施す等の方法等であつてよい。
て、試料は少なくとも試料搬送腕に保持される側辺部分
が磁性を持つようにされる。その手段は任意であるが、
試料の４周あるいは対向する２辺に沿って希土類系プラ
スチック磁石、フェライト磁石、アルコニ磁石等の磁性
材料を配置又は一体に成形する方法、あるいは、試料に
メッキ加工を施す等の方法等であつてよい。
【００１０】本発明による試料搬送装置は、その試料搬
送腕の先端に設ける一対の試料保持腕及びその位置制御
手段に係る構成を除き、従来の試料搬送装置の構成と同
じであってよい。該一対の試料保持腕を搬送しようとす
る試料の幅よりも広い間隔である第１の位置と該凹溝内
に試料を保持した第２の位置とに変位させるための移動
手段も任意であり、一方向に付勢されたバネとバネの付
勢方向に抗して試料保持腕の位置決めを行う液圧あるい
は空圧アクチュエータ機構によるもの、あるいは、モー
タを駆動源とし、ボールネジあるいはラックとピニオン
によるもの等であってよい。
送腕の先端に設ける一対の試料保持腕及びその位置制御
手段に係る構成を除き、従来の試料搬送装置の構成と同
じであってよい。該一対の試料保持腕を搬送しようとす
る試料の幅よりも広い間隔である第１の位置と該凹溝内
に試料を保持した第２の位置とに変位させるための移動
手段も任意であり、一方向に付勢されたバネとバネの付
勢方向に抗して試料保持腕の位置決めを行う液圧あるい
は空圧アクチュエータ機構によるもの、あるいは、モー
タを駆動源とし、ボールネジあるいはラックとピニオン
によるもの等であってよい。
【００１１】一対の試料保持腕に形成する凹溝面に磁力
を発生させる磁力発生手段は、試料の側辺に配置したと
同様の磁性材料を凹溝面に配置した形態であってもよ
く、電磁石であってもよい。電磁石の場合には、該試料
保持腕の前記第２の位置において、試料を磁力の反発に
より非接触の状態で保持されるように磁極及び磁力を制
御、調整するための制御手段が設けられる。
を発生させる磁力発生手段は、試料の側辺に配置したと
同様の磁性材料を凹溝面に配置した形態であってもよ
く、電磁石であってもよい。電磁石の場合には、該試料
保持腕の前記第２の位置において、試料を磁力の反発に
より非接触の状態で保持されるように磁極及び磁力を制
御、調整するための制御手段が設けられる。
【００１２】搬送開始に当たり、従来の試料搬送装置と
同様にして試料搬送腕を回転させ、試料ホルダ等に試料
トレイを介して段積みされた１枚の試料の両側辺位置
に、当該試料の幅よりも広い間隔である第１の位置とさ
れた一対の試料保持腕を接近させ、かつ、凹溝の位置と
試料の高さとの位置合わせを行う。位置合わせ後、一対
の試料保持腕を前記第２の位置に向けて移動させる。凹
溝内面での磁極面の極性と凹溝内に入り込む試料の側辺
部分の磁極面の極性は同極とされており、磁力の反発力
により、試料はその両側辺部分を一対の試料保持腕の凹
溝内に浮揚させた姿勢、すなわち、非接触状態で保持さ
れる。その状態で制御機構により試料搬送腕をわずかに
揚上させと、試料は非接触状態を維持しながら、試料保
持腕と共に上昇し、試料トレイから離脱する。以下、従
来の試料搬送装置と同様な操作を行い、試料を第２の場
所に搬送し、引き渡す。
同様にして試料搬送腕を回転させ、試料ホルダ等に試料
トレイを介して段積みされた１枚の試料の両側辺位置
に、当該試料の幅よりも広い間隔である第１の位置とさ
れた一対の試料保持腕を接近させ、かつ、凹溝の位置と
試料の高さとの位置合わせを行う。位置合わせ後、一対
の試料保持腕を前記第２の位置に向けて移動させる。凹
溝内面での磁極面の極性と凹溝内に入り込む試料の側辺
部分の磁極面の極性は同極とされており、磁力の反発力
により、試料はその両側辺部分を一対の試料保持腕の凹
溝内に浮揚させた姿勢、すなわち、非接触状態で保持さ
れる。その状態で制御機構により試料搬送腕をわずかに
揚上させと、試料は非接触状態を維持しながら、試料保
持腕と共に上昇し、試料トレイから離脱する。以下、従
来の試料搬送装置と同様な操作を行い、試料を第２の場
所に搬送し、引き渡す。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明による試料搬送装置
を好ましい実施の形態に基づき詳細に説明する。図１
は、本発明による試料搬送装置５０の一使用態様とし
て、フォトマスクあるいはレチクル等の試料Ｆを試料カ
セット１０から露光装置等のＸＹステージ上に設置され
る試料ホルダ３０に搬送する場合の例を示している。
を好ましい実施の形態に基づき詳細に説明する。図１
は、本発明による試料搬送装置５０の一使用態様とし
て、フォトマスクあるいはレチクル等の試料Ｆを試料カ
セット１０から露光装置等のＸＹステージ上に設置され
る試料ホルダ３０に搬送する場合の例を示している。
【００１４】先ず、試料カセット１０について説明す
る。試料カセット１０は、試料トレイ１１が複数段重ね
合わされてあり、各試料トレイ１１は一方端側を支点１
２としてほぼ９０°回転するように機枠に取り付けてあ
り、図示最下段の試料トレイ１１のように開放された状
態で、図示しない搬送装置により１枚の試料Ｆが載置さ
れ、閉じることにより、載置された試料Ｆは試料カセッ
ト１０内に収容される。図３に示すように、各試料トレ
イ１１には複数本（図では３本）の試料支持体１３が立
設されている。
る。試料カセット１０は、試料トレイ１１が複数段重ね
合わされてあり、各試料トレイ１１は一方端側を支点１
２としてほぼ９０°回転するように機枠に取り付けてあ
り、図示最下段の試料トレイ１１のように開放された状
態で、図示しない搬送装置により１枚の試料Ｆが載置さ
れ、閉じることにより、載置された試料Ｆは試料カセッ
ト１０内に収容される。図３に示すように、各試料トレ
イ１１には複数本（図では３本）の試料支持体１３が立
設されている。
【００１５】図２ａは、本発明による試料搬送装置５０
によって搬送される試料Ｆの一例を示す斜視図であり、
図２ｂは図２ａのII-II 線による断面図である。図示さ
れるように、この例において、試料Ｆは全体が方形をな
す平板板であり、その４周には希土類系プラスチック磁
石シートのような磁性材料Ｍａが張り付けられている。
図３に示すように、試料Ｆは前記した試料トレイ１１に
立設した試料支持体１３の先端に支承された姿勢で各試
料トレイ１１のほぼ中央位置に載置される。
によって搬送される試料Ｆの一例を示す斜視図であり、
図２ｂは図２ａのII-II 線による断面図である。図示さ
れるように、この例において、試料Ｆは全体が方形をな
す平板板であり、その４周には希土類系プラスチック磁
石シートのような磁性材料Ｍａが張り付けられている。
図３に示すように、試料Ｆは前記した試料トレイ１１に
立設した試料支持体１３の先端に支承された姿勢で各試
料トレイ１１のほぼ中央位置に載置される。
【００１６】この実施例において、試料搬送装置５０
は、試料搬送腕６０の構成を除いて他の構成は先に図１
３に基づき説明した試料搬送装置の基本的に同じであ
り、図１において、同じ機能を奏する部材には同じ符号
を付すことにより、詳細な説明は省略する。図４にその
平面図を示すように、試料搬送腕６０は、前記したリン
ク５４ａ、５４ｂの先端に取り付けられる基部６１と、
その先端側の両側に配置した一対の試料保持腕７０、７
０とを有する。基部６１の先端には２本の平行するガイ
ド杆６２ａ、６２ｂが設けられ、その中間位置には、ピ
ストン棒６３が、基部６１内に設けられた図示されない
液圧アクチュエータにより進退自在となるように配置さ
れている。
は、試料搬送腕６０の構成を除いて他の構成は先に図１
３に基づき説明した試料搬送装置の基本的に同じであ
り、図１において、同じ機能を奏する部材には同じ符号
を付すことにより、詳細な説明は省略する。図４にその
平面図を示すように、試料搬送腕６０は、前記したリン
ク５４ａ、５４ｂの先端に取り付けられる基部６１と、
その先端側の両側に配置した一対の試料保持腕７０、７
０とを有する。基部６１の先端には２本の平行するガイ
ド杆６２ａ、６２ｂが設けられ、その中間位置には、ピ
ストン棒６３が、基部６１内に設けられた図示されない
液圧アクチュエータにより進退自在となるように配置さ
れている。
【００１７】試料保持腕７０、７０の基部には図示しな
い貫通孔が設けてあり、一対の試料保持腕７０、７０
は、該貫通孔にガイド杆６２ａ、６２ｂを挿通させるこ
とにより、基部６１の先端の左右位置に互いにな平行状
態で、かつ、左右方向に移動自在に取り付けられてい
る。ガイド杆６２ａ、６２ｂの先端には止め板６４、６
４が取り付けられ、該止め板た６４、６４と保持腕７
０、７０との間にはコイルバネ６５ａ、６５ｂが介装さ
れている。上記の構成であり、図示しない制御機構によ
り液圧アクチュエータを操作してピストン棒６３を進退
させると、一対の試料保持腕７０、７０はコイルバネ６
５ａ、６５ｂにより互に接近する方向に常時付勢された
状態で、ビストン棒６３の先端位置によって位置決めさ
れる。
い貫通孔が設けてあり、一対の試料保持腕７０、７０
は、該貫通孔にガイド杆６２ａ、６２ｂを挿通させるこ
とにより、基部６１の先端の左右位置に互いにな平行状
態で、かつ、左右方向に移動自在に取り付けられてい
る。ガイド杆６２ａ、６２ｂの先端には止め板６４、６
４が取り付けられ、該止め板た６４、６４と保持腕７
０、７０との間にはコイルバネ６５ａ、６５ｂが介装さ
れている。上記の構成であり、図示しない制御機構によ
り液圧アクチュエータを操作してピストン棒６３を進退
させると、一対の試料保持腕７０、７０はコイルバネ６
５ａ、６５ｂにより互に接近する方向に常時付勢された
状態で、ビストン棒６３の先端位置によって位置決めさ
れる。
【００１８】試料保持腕７０、７０の対向する側面部分
には凹溝７１、７１が形成される。凹溝７１、７１の長
さは、搬送しようとする試料Ｆの長辺の長さよりも幾分
長い長さとされ、また、上下方向の幅は、搬送しようと
する試料Ｆの厚みよりも幾分広い幅とされる。そして、
図４のV-V 線による断面図を図５によく示すように、該
凹溝７１の壁面には、フェライト磁石のような磁性材料
Ｍｂが、試料Ｆの磁性材料Ｍａと該磁性材料Ｍｂとの対
向する面が同極となるようにして配置されている。
には凹溝７１、７１が形成される。凹溝７１、７１の長
さは、搬送しようとする試料Ｆの長辺の長さよりも幾分
長い長さとされ、また、上下方向の幅は、搬送しようと
する試料Ｆの厚みよりも幾分広い幅とされる。そして、
図４のV-V 線による断面図を図５によく示すように、該
凹溝７１の壁面には、フェライト磁石のような磁性材料
Ｍｂが、試料Ｆの磁性材料Ｍａと該磁性材料Ｍｂとの対
向する面が同極となるようにして配置されている。
【００１９】この試料搬送装置５０での試料の搬送は次
のようにして行われる。先ず、回転盤５２を回動して試
料搬送腕６０を試料カセット１０方向に位置決めし、さ
らに、試料搬送腕６０内の液圧アクチュエータを操作し
てピストン棒６３を押し出して、図６に示すように、一
対の試料保持腕７０、７０の対向する側面間の間隔が試
料Ｆの幅よりも広い間隔である状態（第１の位置）に調
整すると共に、搬送腕６０の高さを、試料トレイ１１の
試料支持体１３上に載置された搬出しようとする試料Ｆ
の厚み方向の中心が、試料保持腕７０に形成した凹溝７
１の中心線Ｌとほぼ一致する位置となるように調整す
る。
のようにして行われる。先ず、回転盤５２を回動して試
料搬送腕６０を試料カセット１０方向に位置決めし、さ
らに、試料搬送腕６０内の液圧アクチュエータを操作し
てピストン棒６３を押し出して、図６に示すように、一
対の試料保持腕７０、７０の対向する側面間の間隔が試
料Ｆの幅よりも広い間隔である状態（第１の位置）に調
整すると共に、搬送腕６０の高さを、試料トレイ１１の
試料支持体１３上に載置された搬出しようとする試料Ｆ
の厚み方向の中心が、試料保持腕７０に形成した凹溝７
１の中心線Ｌとほぼ一致する位置となるように調整す
る。
【００２０】次に、回転軸５３ａ、５３ｂを回転してリ
ンク５４ａ、５４ｂを伸長させ、試料搬送腕６０を、試
料Ｆの側辺部分がすべて試料保持腕７０、７０に形成し
た凹溝７１、７１の側方位置となるまで押出す。その状
態が図６に一部断面による正面図として示される。押出
しを停止し、再度液圧アクチュエータを操作して、ビス
トン棒６３を後退させ、図７に平面図が、図８に一部断
面による正面図が示されるように、凹溝７１、７１内に
試料Ｆの側辺部分（すなわち、磁性材料Ｍａ）が入り込
む位置（第２の位置）とする。その位置では、前記のよ
うに、該凹溝７１の壁面の磁性材料Ｍｂと試料の４周面
に沿って配置した磁性材料Ｍａとの対向する面は同極と
されているので、磁力の反発力により両者が接触するこ
とはなく、試料Ｆはその両側辺部分を一対の試料保持腕
７０の凹溝７１内に浮揚させた姿勢で保持される。
ンク５４ａ、５４ｂを伸長させ、試料搬送腕６０を、試
料Ｆの側辺部分がすべて試料保持腕７０、７０に形成し
た凹溝７１、７１の側方位置となるまで押出す。その状
態が図６に一部断面による正面図として示される。押出
しを停止し、再度液圧アクチュエータを操作して、ビス
トン棒６３を後退させ、図７に平面図が、図８に一部断
面による正面図が示されるように、凹溝７１、７１内に
試料Ｆの側辺部分（すなわち、磁性材料Ｍａ）が入り込
む位置（第２の位置）とする。その位置では、前記のよ
うに、該凹溝７１の壁面の磁性材料Ｍｂと試料の４周面
に沿って配置した磁性材料Ｍａとの対向する面は同極と
されているので、磁力の反発力により両者が接触するこ
とはなく、試料Ｆはその両側辺部分を一対の試料保持腕
７０の凹溝７１内に浮揚させた姿勢で保持される。
【００２１】次に、支柱５１を制御して搬送腕５６をわ
ずかに上昇させると、図９に示すように、試料Ｆは凹溝
７１とは接触することなく試料保持腕７０と共に浮揚
し、試料トレイ１１から離脱する。その状態で回転軸５
３ａ、５３ｂを逆方向に回転制御し、試料搬送腕６０を
後退させて試料カセット１０から脱出させ、再び回転盤
５２を回動して試料搬送腕６０をＸＹステージ上に設置
される試料ホルダ３０（第２の場所）まで回動する。そ
の位置で、試料搬送腕６０の押出し及び下降制御が行わ
れ、試料搬送腕６０に担持された試料Ｆは試料ホルダ３
０側に引き継がれる。それにより１枚の試料の第１の場
所から第２の場所への搬送は終了する。
ずかに上昇させると、図９に示すように、試料Ｆは凹溝
７１とは接触することなく試料保持腕７０と共に浮揚
し、試料トレイ１１から離脱する。その状態で回転軸５
３ａ、５３ｂを逆方向に回転制御し、試料搬送腕６０を
後退させて試料カセット１０から脱出させ、再び回転盤
５２を回動して試料搬送腕６０をＸＹステージ上に設置
される試料ホルダ３０（第２の場所）まで回動する。そ
の位置で、試料搬送腕６０の押出し及び下降制御が行わ
れ、試料搬送腕６０に担持された試料Ｆは試料ホルダ３
０側に引き継がれる。それにより１枚の試料の第１の場
所から第２の場所への搬送は終了する。
【００２２】前記のように、この搬送の過程で、試料Ｆ
は無接触状態で試料保持腕に保持されかつ所定の場所ま
で搬送されるので、搬送装置に起因して試料Ｆに傷が付
いたりゴミが付着するのは回避される。
は無接触状態で試料保持腕に保持されかつ所定の場所ま
で搬送されるので、搬送装置に起因して試料Ｆに傷が付
いたりゴミが付着するのは回避される。
【００２３】なお、試料保持腕７０の試料Ｆに対する上
下方向の位置決めをするに際して、図１０に示すよう
に、試料Ｆの厚み方向の中心位置Ｌｆよりも下方に試料
保持腕７０に形成した凹溝７１の中心線Ｌが位置するよ
うに調整すると、試料Ｆを試料支持体１３側に押し付け
る力が作用し、試料に傷が付くことが生じうるので、位
置調整に際しては、前記のように、試料Ｆの厚み方向の
中心位置Ｌｆと凹溝７１の中心線Ｌの位置を一致させる
か、凹溝７１の中心線Ｌの位置が幾分上位位置となるよ
うに調整することが推奨される。
下方向の位置決めをするに際して、図１０に示すよう
に、試料Ｆの厚み方向の中心位置Ｌｆよりも下方に試料
保持腕７０に形成した凹溝７１の中心線Ｌが位置するよ
うに調整すると、試料Ｆを試料支持体１３側に押し付け
る力が作用し、試料に傷が付くことが生じうるので、位
置調整に際しては、前記のように、試料Ｆの厚み方向の
中心位置Ｌｆと凹溝７１の中心線Ｌの位置を一致させる
か、凹溝７１の中心線Ｌの位置が幾分上位位置となるよ
うに調整することが推奨される。
【００２４】図１１及び図１２は本発明による試料搬送
装置の他の実施例を示している。この例においては、試
料保持腕７０、７０の対向する側面部分に形成された凹
溝７１、７１には、複数の電磁石Ｍｅが、試料Ｆに対向
する面での磁極がすべて同じとなるようにして配置され
ている。図１１は電磁石Ｍｅの配置態様を示す平面図で
あり、図１２は電磁石の配置態様と共に結線状態を示し
ている。特に図示されないが、この実施例では、電磁石
への電流をＯＮ、ＯＦＦする開閉器、電磁石の極性を変
える極性変換スイッチ、磁力の強さを変えるための電流
調整器等からなる制御手段が付設される。この例によれ
ば、凹溝面での磁極の極性及び磁力の強さを任意に調整
することが可能となり、試料側の磁性材料の自由度を高
めることができる。
装置の他の実施例を示している。この例においては、試
料保持腕７０、７０の対向する側面部分に形成された凹
溝７１、７１には、複数の電磁石Ｍｅが、試料Ｆに対向
する面での磁極がすべて同じとなるようにして配置され
ている。図１１は電磁石Ｍｅの配置態様を示す平面図で
あり、図１２は電磁石の配置態様と共に結線状態を示し
ている。特に図示されないが、この実施例では、電磁石
への電流をＯＮ、ＯＦＦする開閉器、電磁石の極性を変
える極性変換スイッチ、磁力の強さを変えるための電流
調整器等からなる制御手段が付設される。この例によれ
ば、凹溝面での磁極の極性及び磁力の強さを任意に調整
することが可能となり、試料側の磁性材料の自由度を高
めることができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明による試料搬送装置によれば、試
料を非接触の状態で第１の場所から第２の場所へ搬送可
能であり、搬送装置に起因して試料に傷が付いたりゴミ
が付着するのを回避できる。それにより、半導体製造に
おけるフォトマスクやレチクルの搬送装置として特に有
効に用いることができる。
料を非接触の状態で第１の場所から第２の場所へ搬送可
能であり、搬送装置に起因して試料に傷が付いたりゴミ
が付着するのを回避できる。それにより、半導体製造に
おけるフォトマスクやレチクルの搬送装置として特に有
効に用いることができる。
【図１】本発明による試料搬送装置の一使用態様を説明
する図。
する図。
【図２】本発明に使用される試料の一例を示す図。
【図３】試料が試料トレイ上に載置された状態を説明す
る図。
る図。
【図４】試料保持腕が第１の位置にある状態を示す平面
図。
図。
【図５】試料保持腕の断面を説明する図。
【図６】第１の位置における試料保持腕と試料との位置
関係を説明する一部断面による正面図。
関係を説明する一部断面による正面図。
【図７】試料保持腕が第２の位置にある状態を示す平面
図。
図。
【図８】第２の位置における試料保持腕と試料との位置
関係を説明する一部断面による正面図。
関係を説明する一部断面による正面図。
【図９】試料保持腕に保持されて試料が浮揚し状態を示
す図。
す図。
【図１０】試料保持腕の凹部の中心と試料の中心との関
係を説明する図。
係を説明する図。
【図１１】本発明による試料搬送装置の他の実施例を示
す平面図。
す平面図。
【図１２】電磁石の配置と結線状態を説明する図。
【図１３】従来の試料搬送腕を説明する斜視図。
１０…試料カセット、１１…試料トレイ、１３…試料支
持体、３０…試料ホルダ、５０…試料搬送装置、６０…
試料搬送腕、６１…基台、６３…ピストン棒、６５ａ、
６５ｂ…コイルバネ、７０…試料保持腕、７１…凹溝、
Ｆ…試料、Ｍａ、Ｍｂ…磁性材料、Ｍｅ…電磁石
持体、３０…試料ホルダ、５０…試料搬送装置、６０…
試料搬送腕、６１…基台、６３…ピストン棒、６５ａ、
６５ｂ…コイルバネ、７０…試料保持腕、７１…凹溝、
Ｆ…試料、Ｍａ、Ｍｂ…磁性材料、Ｍｅ…電磁石
Claims (2)
- 【請求項１】 搬送しようとする試料の両側辺部分を保
持するための凹溝を対向する側面部分にそれぞれ形成し
ている一対の試料保持腕と、該一対の試料保持腕を該試
料の幅よりも広い間隔である第１の位置と該凹溝内に試
料を保持する第２の位置とに変位させるための移動手段
と、該凹溝に磁力を発生させる磁力発生手段とを少なく
とも有することを特徴とする試料搬送装置。 - 【請求項２】 少なくとも両側辺に磁性を有する平板状
の試料を試料搬送アームで保持して第１の場所から第２
の場所へ搬送する試料搬送装置であって、該試料搬送ア
ームは、該試料の両側辺部分を保持するための凹溝を対
向する側面部分にそれぞれ形成している一対の試料保持
腕と、該一対の試料保持腕を該試料の幅よりも広い間隔
である第１の位置と該凹溝内に試料を保持する第２の位
置とに変位させるための移動手段を有し、該凹溝面に
は、搬送する試料の側辺部分の磁極と同極の磁極が生じ
るようにされており、さらに、該試料保持腕の前記第２
の位置において、試料を磁力の反発により非接触の状態
で保持されるように制御する制御手段を有することを特
徴とする試料搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8033466A JPH09232402A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 試料搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8033466A JPH09232402A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 試料搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09232402A true JPH09232402A (ja) | 1997-09-05 |
Family
ID=12387334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8033466A Pending JPH09232402A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 試料搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09232402A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000031019A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-28 | Nikon Corp | マスクおよび露光装置 |
| US6515736B1 (en) | 2000-05-04 | 2003-02-04 | International Business Machines Corporation | Reticle capturing and handling system |
| JP2012099859A (ja) * | 2003-10-29 | 2012-05-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 光学アセンブリ |
| CN102582670A (zh) * | 2011-10-17 | 2012-07-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种掩模板安全搬运推车 |
-
1996
- 1996-02-21 JP JP8033466A patent/JPH09232402A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000031019A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-28 | Nikon Corp | マスクおよび露光装置 |
| US6515736B1 (en) | 2000-05-04 | 2003-02-04 | International Business Machines Corporation | Reticle capturing and handling system |
| JP2012099859A (ja) * | 2003-10-29 | 2012-05-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 光学アセンブリ |
| CN102582670A (zh) * | 2011-10-17 | 2012-07-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种掩模板安全搬运推车 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060919 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070130 |