JPH09241184A - フリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法 - Google Patents

フリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法

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JPH09241184A
JPH09241184A JP5183596A JP5183596A JPH09241184A JP H09241184 A JPH09241184 A JP H09241184A JP 5183596 A JP5183596 A JP 5183596A JP 5183596 A JP5183596 A JP 5183596A JP H09241184 A JPH09241184 A JP H09241184A
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JP
Japan
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group
reaction product
friedel
alkylation reaction
general formula
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JP5183596A
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Koichi Mikami
幸一 三上
Osamu Kodera
治 小寺
Yukihiro Motoyama
幸弘 本山
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Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C1/00—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon
    • C07C1/32—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen
    • C07C1/321—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon starting from compounds containing hetero-atoms other than or in addition to oxygen or halogen the hetero-atom being a non-metal atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2531/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • C07C2531/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高活性な触媒を用いることによるフリーデル
−クラフト−アルキル化反応生成物の効率的な製造方法
を提供する。 【解決手段】 一般式［Ｉ］で示される化合物の存在
下、一般式［ＩＩ］で示される化合物と一般式［ＩＩ
Ｉ］で示される化合物とを反応させることによる一般式
［ＩＶ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル化
反応生成物の製造方法。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【効果】 医薬品、農薬あるいは各種機能材料などの製
造中間体として有用な化合物であるフリーデル−クラフ
ト−アルキル化反応生成物を効率よく、かつ、高収率で
製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般式［ＩＶ］
【０００２】
【化５】
【０００３】［式中、Ｒ4は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製
造方法に関するものである。上式［ＩＶ］で示されるフ
リーデル−クラフト−アルキル化反応生成物は、医薬
品、農薬あるいは各種機能材料などの製造中間体として
有用な化合物である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、フリーデル−ク
ラフト−アルキル化反応は、よく知られている反応であ
る。
【０００５】このフリーデル−クラフト−アルキル化反
応においては、通常、ルイス酸触媒が使用されるが、よ
り高活性のルイス酸触媒の開発が望まれている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる問
題点に鑑み、鋭意、検討を行なった結果、フリーデル−
クラフト−アルキル化反応において、種々のパーフルオ
ロアルカンスルホニルイミド基を有する化合物を触媒と
して使用することにより、反応速度が加速され、高収率
でフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物を製造
することができることを見出し、本発明に到達した。
【０００７】すなわち、本発明は、一般式［Ｉ］
【０００８】
【化６】
【０００９】［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2
〔Ｔf 1は−ＳＯ2Ｒf 1を表し、Ｔf 2は−ＳＯ2Ｒf 2（Ｒf 1
およびＲf 2はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ1
は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−Ｏ
Ｒ5、−Ｎ（Ｔf 3）Ｒ6または−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5を表し、
Ｒ2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、
−ＯＲ7、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8または−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8〔Ｔ
f 3は−ＳＯ2Ｒf 3を表し、Ｔf 4は−ＳＯ2Ｒf 4を表し、Ｔ
f 5は−ＳＯ2Ｒf 5を表し、Ｔf 6は−ＳＯ2Ｒf 6を表し、Ｔ
f 7は−ＳＯ2Ｒf 7を表し、Ｔf 8は−ＳＯ2Ｒf 8（Ｒf 3、Ｒ
f 4、Ｒf 5、Ｒf 6、Ｒf 7およびＲf 8はそれぞれ独立にフッ
素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を
表し、Ｒ 5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基を表すか、または、Ｒ5およびＲ7、Ｒ5および
Ｒ8、Ｒ6およびＲ7、あるいは、Ｒ6およびＲ8がいっし
ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
−２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2、−Ｎ
（Ｔf 3）Ｒ6、−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8また
は−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8のうちの少なくとも１つを有す
る。］で示される化合物の存在下、一般式［ＩＩ］
【００１０】
【化７】
【００１１】［式中、Ｒ3は水素またはホルミル基を表
す。］で示される化合物と一般式［ＩＩＩ］
【００１２】
【化８】
【００１３】［式中、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立に低級
アルキル基またはトリアルキルシリルアルキル基を表
す。］で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式［ＩＶ］
【００１４】
【化９】
【００１５】［式中、Ｒ4は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製
造方法である。
【００１６】以下、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法について詳細に説明す
る。本発明のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生
成物の製造方法においては、一般式［Ｉ］
【００１７】
【化１０】
【００１８】［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2
〔Ｔf 1は−ＳＯ2Ｒf 1を表し、Ｔf 2は−ＳＯ2Ｒf 2（Ｒf 1
およびＲf 2はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ1
は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−Ｏ
Ｒ5、−Ｎ（Ｔf 3）Ｒ6または−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5を表し、
Ｒ2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、
−ＯＲ7、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8または−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8〔Ｔ
f 3は−ＳＯ2Ｒf 3を表し、Ｔf 4は−ＳＯ2Ｒf 4を表し、Ｔ
f 5は−ＳＯ2Ｒf 5を表し、Ｔf 6は−ＳＯ2Ｒf 6を表し、Ｔ
f 7は−ＳＯ2Ｒf 7を表し、Ｔf 8は−ＳＯ2Ｒf 8（Ｒf 3、Ｒ
f 4、Ｒf 5、Ｒf 6、Ｒf 7およびＲf 8はそれぞれ独立にフッ
素原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を
表し、Ｒ 5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に低級ア
ルキル基を表すか、または、Ｒ5およびＲ7、Ｒ5および
Ｒ8、Ｒ6およびＲ7、あるいは、Ｒ6およびＲ8がいっし
ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
−２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2、−Ｎ
（Ｔf 3）Ｒ6、−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8また
は−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8のうちの少なくとも１つを有す
る。］で示される化合物が触媒として使用される。
【００１９】一般式［Ｉ］で示される化合物の中心元素
であるＭとしては、多くの元素を使用することができ、
具体的には、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類
元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イ
ンジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、
鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルル
から選ばれる元素を使用することができる。
【００２０】なお、本発明におけるアルカリ金属とは、
リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウ
ムまたはフランシウムを示す。また、本発明におけるア
ルカリ土類金属とは、ベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、バリウムまたはラジウムを示
す。また、本発明における希土類元素とは、スカンジウ
ム、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウ
ム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホル
ミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウムまたは
ルテチウムを示す。また、本発明における遷移金属と
は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、ルテニウ
ム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニ
ッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミ
ウムまたは水銀を示す。
【００２１】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法において使用される一般
式［Ｉ］で示される化合物の中心元素であるＭの配位子
としては、Ｘとしては水素または−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2〔Ｔ
f 1は−ＳＯ2Ｒf 1を表し、Ｔf 2は−ＳＯ2Ｒf 2（Ｒf 1およ
びＲf 2はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。）を表す。〕が使用され、Ｒ1
としては置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル
基、−ＯＲ5、−Ｎ（Ｔf 3）Ｒ6または−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5
が使用され、Ｒ2としては置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−ＯＲ7、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8または−
Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8〔Ｔf 3は−ＳＯ2Ｒf 3を表し、Ｔf 4は−
ＳＯ2Ｒf 4を表し、Ｔf 5は−ＳＯ2Ｒf 5を表し、Ｔf 6は−
ＳＯ2Ｒf 6を表し、Ｔf 7は−ＳＯ2Ｒf 7を表し、Ｔf 8は−
ＳＯ2Ｒf 8（Ｒf 3、Ｒf 4、Ｒf 5、Ｒ f 6、Ｒf 7およびＲf 8
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。）を表し、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は
それぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、Ｒ5
およびＲ7、Ｒ5およびＲ8、Ｒ6およびＲ7、あるいは、
Ｒ6およびＲ8がいっしょになって２価の基を形成す
る。〕が使用される。
【００２２】また、ｍは０または１であり、ｐは０また
は１であり、ｍ＝１かつｐ＝１の場合、すなわち、一般
式［Ｉ］で示される化合物がＲ1およびＲ2の双方を有す
る場合には、ｎは該当するＭの原子価−２の整数を表
し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝０かつｐ＝１の
場合、すなわち、一般式［Ｉ］で示される化合物がＲ1
またはＲ2の一方のみを有する場合には、ｎは該当する
Ｍの原子価−１の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場
合、すなわち、一般式［Ｉ］で示される化合物がＲ 1お
よびＲ2のいずれも有しない場合には、ｎは該当するＭ
の原子価の整数を表す。
【００２３】上記の配位子Ｘ、Ｒ1およびＲ2は、どのよ
うな組み合わせとしてもよいが、一般式［Ｉ］で示され
る化合物が充分な触媒活性を示すためには、強力に電子
を引きつけるパーフルオロアルカンスルホニルイミド基
−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2、−Ｎ（Ｔ f 3）Ｒ6、−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf
5、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8または−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8のうちの少
なくとも１つを有することが必要であり、より強いルイ
ス酸活性を示すためには、これらのパーフルオロアルカ
ンスルホニルイミド基をより多く有することが好まし
い。
【００２４】なお、本発明における低級アルキル基と
は、炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖を有するアルキ
ル基を示し、具体的には、たとえば、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基などを挙げることができる。ま
た、本発明における低級パーフルオロアルキル基とは、
炭素数１〜１０の直鎖または分岐鎖を有するパーフルオ
ロアルキル基を示し、具体的には、たとえば、トリフル
オロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ｎ−ヘプタフ
ルオロプロピル基、ｉｓｏ−ヘプタフルオロプロピル
基、ｎ−ノナフルオロブチル基、ｉｓｏ−ノナフルオロ
ブチル基、ｓｅｃ−ノナフルオロブチル基、ｔｅｒｔ−
ノナフルオロブチル基、ｎ−ウンデカフルオロペンチル
基、ｎ−トリデカフルオロヘキシル基、ｎ−ペンタデカ
フルオロヘプチル基、ｎ−ヘプタデカフルオロオクチル
基などを挙げることができる。
【００２５】また、本発明における上記のＲ5、Ｒ6、Ｒ
7、Ｒ8は、それぞれが独立に低級アルキル基である場合
の他、ｍ＝１かつｐ＝１の場合、すなわち、一般式
［Ｉ］で示される化合物がＲ1およびＲ2の双方を有する
場合には、Ｒ1に含まれるＲ5またはＲ6とＲ2に含まれる
Ｒ7またはＲ8のうちの２つが一組となって、すなわち、
Ｒ 5およびＲ7、Ｒ5およびＲ8、Ｒ6およびＲ7、あるい
は、Ｒ6およびＲ8がいっしょになって２価の基を形成し
てもよい。
【００２６】本発明においては、以上のような一般式
［Ｉ］で示される化合物を触媒として用い、一般式［Ｉ
Ｉ］
【００２７】
【化１１】
【００２８】［式中、Ｒ3は水素またはホルミル基を表
す。］で示される化合物と一般式［ＩＩＩ］
【００２９】
【化１２】
【００３０】［式中、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立に低級
アルキル基またはトリアルキルシリルアルキル基を表
す。］で示される化合物とを反応させることにより、一
般式［ＩＶ］
【００３１】
【化１３】
【００３２】［式中、Ｒ4は低級アルキル基、低級アル
ケニル基または低級アルカジエニル基を表す。］で示さ
れるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物を製
造することができる。
【００３３】本発明のフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物の製造方法における上記の反応において
は、一般式［ＩＩＩ］で示される化合物は、通常、一般
式［ＩＩ］で示される化合物１モルに対して、１モル〜
２モル使用すればよく、好ましくは１モル〜５モル、さ
らに好ましくは１モル〜３モル使用するのがよい。使用
量がこの範囲より少ない場合には、未反応の一般式［Ｉ
Ｉ］で示される化合物が多量に残るため、収率低下の原
因となり、経済的に不利となり、また、未反応の一般式
［ＩＩ］で示される化合物の除去あるいは回収のために
後処理工程に負荷がかかるため、好ましくない。また、
この範囲より多く使用しても、目的とする一般式［Ｉ
Ｖ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル化反応
生成物の収量にほとんど変化はなく、過剰に添加した一
般式［ＩＩＩ］で示される化合物が、未反応のまま、多
量に残るだけであり、経済的に不利となり、また、未反
応の一般式［ＩＩＩ］で示される化合物の除去あるいは
回収のために後処理工程に負荷がかかるため、好ましく
ない。
【００３４】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法において触媒として使用
される一般式［Ｉ］で示される化合物は、通常、一般式
［ＩＩ］で示される化合物１モルに対して０．０１モル
〜５０モル、好ましくは０．１モル〜３０モル、さらに
好ましくは１モル〜２０モル使用するのがよい。使用量
がこの範囲より少ない場合には、反応が充分に進行せ
ず、収率低下の原因となり、経済的に不利となる、ある
いは、反応速度が低下して反応終了までに長時間を要
し、目的物を効率よく製造することができなくなるなど
の問題を生ずる場合があり、好ましくない。また、この
範囲より多く使用しても、反応速度、目的物の収率など
にほとんど変化はなく、経済的に不利となるだけであ
り、好ましくない。
【００３５】本発明のフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物の製造方法においては、通常、溶媒が使用
されるが、使用される溶媒としては特に限定はなく、一
般に使用されているものを広く使用することができ、た
とえば、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−
ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノー
ルなどのアルコール類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタンなどの脂肪族炭化水素類、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタンなどの脂環式炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレンなど
の芳香族炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジク
ロロメタン、ジクロロエタン（ＥＤＣ）、クロロベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エチレング
リコールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラク
トンなどのエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルなどのニトリル類、ピリジンなどの第３級アミン類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチルピロリド
ンなどの酸アミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、スルホランなどの含硫黄化合物類、ニトロメタ
ン、ニトロエタンなどのニトロ化合物類、酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、イソ酪酸などの有機酸類、無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸などの有機酸
無水物類などを挙げることができる。
【００３６】また、本発明のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物の製造方法における反応温度は、通
常、室温付近とすればよく、充分な反応速度で反応が進
行する。当然のことながら、加熱下においても効率よく
反応が進行するが、冷却下、たとえば、０℃付近におい
ても充分な反応速度で反応が進行する。しかしながら、
加熱や冷却をしても反応速度、目的物の収率などにほと
んど変化はなく、加熱や冷却のための工程が増えて操作
が煩雑になり、また、加熱や冷却をするために時間がか
かり、効率が悪くなるだけであり、好ましくない。さら
には、温度が低すぎる場合には、反応が充分に進行せ
ず、収率低下の原因となり、経済的に不利となる、ある
いは、反応速度が低下して反応終了までに長時間を要す
るなどの問題を生ずる場合があり、好ましくなく、一
方、温度が高すぎる場合には、反応中に分解などが起こ
る場合があり、収率低下の原因となり、経済的に不利と
なり、また、分解生成物などの除去のために後処理工程
に負荷がかかるため、好ましくない。
【００３７】本発明においては、以上のようにして一般
式［ＩＶ］で示されるフリーデル−クラフト−アルキル
化反応生成物を効率よく製造することができる。本発明
のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造
方法においては、反応終了後、通常の後処理を行うこと
により粗生成物を得ることができる。得られた粗生成物
は、必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィーな
どの精製操作を行い、目的のフリーデル−クラフト−ア
ルキル化反応生成物を高純度で得ることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、実施例により、本発明の実
施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。
【００３９】
【実施例】実施例１ ビストリフルオロメタンスルホニルイミドイッテルビウ
ム（５０ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン
（５ｍＬ）に溶解し、これにベンズアルデヒド（１０２
μＬ、１ｍｍｏｌ）およびアリルトリメチルシラン（３
１８μＬ、２．０ｍｍｏｌ）を室温で添加した。室温で
２時間撹拌した後、エーテル（５ｍＬ）で希釈し、飽和
ＮａＨＣＯ3水溶液（１０ｍＬ）を加えた。ろ過後、ろ
液をエーテルで３回（合計１５ｍＬ）抽出した。有機層
を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝２０／１）により精製し、４−フェニルヘプ
タ−１，６−ジエンを収率４８％で得た。
【００４０】
【発明の効果】本発明の製造方法により、医薬品、農薬
あるいは各種機能材料などの製造中間体として有用な化
合物であるフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成
物を効率よく、かつ、高収率で製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 15/44 6958−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 15/44

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式［Ｉ］ 【化１】 ［式中、Ｘは水素または−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2〔Ｔf 1は−Ｓ
    Ｏ2Ｒf 1を表し、Ｔf 2は−ＳＯ2Ｒf 2（Ｒf 1およびＲf 2は
    それぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアル
    キル基を表す。）を表す。〕を表し、Ｒ1は置換もしく
    は非置換のシクロペンタジエニル基、−ＯＲ5、−Ｎ
    （Ｔf 3）Ｒ6または−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5を表し、Ｒ2は置換
    もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−ＯＲ7、
    −Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8または−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8〔Ｔf 3は−Ｓ
    Ｏ2Ｒf 3を表し、Ｔf 4は−ＳＯ2Ｒf 4を表し、Ｔf 5は−Ｓ
    Ｏ2Ｒf 5を表し、Ｔf 6は−ＳＯ2Ｒf 6を表し、Ｔf 7は−Ｓ
    Ｏ2Ｒf 7を表し、Ｔf 8は−ＳＯ2Ｒf 8（Ｒf 3、Ｒf 4、
    Ｒf 5、Ｒf 6、Ｒf 7およびＲf 8はそれぞれ独立にフッ素原
    子または低級パーフルオロアルキル基を表す。）を表
    し、Ｒ 5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に低級アル
    キル基を表すか、または、Ｒ5およびＲ7、Ｒ5および
    Ｒ8、Ｒ6およびＲ7、あるいは、Ｒ6およびＲ8がいっし
    ょになって２価の基を形成する。〕を表し、Ｍはアルカ
    リ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
    ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
    ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
    ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
    表し、ｍは０または１であり、ｐは０または１であり、
    ｍ＝１かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価
    −２の整数を表し、ｍ＝１かつｐ＝０の場合およびｍ＝
    ０かつｐ＝１の場合には、ｎは該当するＭの原子価−１
    の整数を表し、ｍ＝０かつｐ＝０の場合には、ｎは該当
    するＭの原子価の整数を表し、−Ｎ（Ｔf 1）Ｔf 2、−Ｎ
    （Ｔf 3）Ｒ6、−Ｎ（Ｔf 4）Ｔf 5、−Ｎ（Ｔf 6）Ｒ8また
    は−Ｎ（Ｔf 7）Ｔf 8のうちの少なくとも１つを有す
    る。］で示される化合物の存在下、一般式［ＩＩ］ 【化２】 ［式中、Ｒ3は水素またはホルミル基を表す。］で示さ
    れる化合物と一般式［ＩＩＩ］ 【化３】 ［式中、Ｒ9、Ｒ10はそれぞれ独立に低級アルキル基ま
    たはトリアルキルシリルアルキル基を表す。］で示され
    る化合物とを反応させることを特徴とする一般式［Ｉ
    Ｖ］ 【化４】 ［式中、Ｒ4は低級アルキル基、低級アルケニル基また
    は低級アルカジエニル基を表す。］で示されるフリーデ
    ル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法。
  2. 【請求項２】Ｔf 1、Ｔf 2、Ｔf 3、Ｔf 4、Ｔf 5、Ｔf 6、Ｔ
    f 7およびＴf 8が−ＳＯ2ＣＦ3である請求項１記載のフリ
    ーデル−クラフト−アルキル化反応生成物の製造方法。
  3. 【請求項３】Ｍが希土類元素である請求項１または請求
    項２記載のフリーデル−クラフト−アルキル化反応生成
    物の製造方法。
  4. 【請求項４】Ｍがイッテルビウムである請求項１または
    請求項２記載のフリーデル−クラフト−アルキル化反応
    生成物の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004531492A (ja) * 2001-03-12 2004-10-14 ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト 金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法
WO2005054223A3 (en) * 2003-12-05 2005-10-27 Dsm Ip Assets Bv Process for the manufacture of alkenylated hydroxylated aromatic compounds, of chroman compounds and of their acylated derivatives

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004531492A (ja) * 2001-03-12 2004-10-14 ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト 金属ビストリフルイミド化合物及び金属ビストリフルイミド化合物の合成方法
US6998497B2 (en) 2001-03-12 2006-02-14 The Queen's University Of Belfast Metal bis-triflimide compounds and methods for synthesis of metal bis-triflimide compounds
US7781625B2 (en) 2001-03-12 2010-08-24 The Queen's University Of Belfast Process catalysed by bis-trifilmide compounds
WO2005054223A3 (en) * 2003-12-05 2005-10-27 Dsm Ip Assets Bv Process for the manufacture of alkenylated hydroxylated aromatic compounds, of chroman compounds and of their acylated derivatives
JP2007513121A (ja) * 2003-12-05 2007-05-24 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． アルケニル化ヒドロキシル化芳香族化合物、クロマン化合物、およびそれらのアシル化誘導体の製造方法
US7696364B2 (en) 2003-12-05 2010-04-13 DSM IP Assets B.V. a Netherlands Corporation Process for the manufacture of alkenylated hydroxylated aromatic compounds, of chroman compounds and of their acylated derivatives
JP4917435B2 (ja) * 2003-12-05 2012-04-18 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． アルケニル化ヒドロキシル化芳香族化合物、クロマン化合物、およびそれらのアシル化誘導体の製造方法

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