JPH09243793A - Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 - Google Patents
Ｘ線又はγ線の遮蔽設備Info
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- JPH09243793A JPH09243793A JP8190596A JP8190596A JPH09243793A JP H09243793 A JPH09243793 A JP H09243793A JP 8190596 A JP8190596 A JP 8190596A JP 8190596 A JP8190596 A JP 8190596A JP H09243793 A JPH09243793 A JP H09243793A
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- Japan
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- ray
- shielding
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- rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮蔽通路部分に要するスペースと資材を、大
幅に削減できるＸ線又はγ線遮蔽設備を提供する。 【解決手段】 Ｘ線又はγ線の発生源を、通路を介して
開口部を持つ遮蔽壁で囲み、該遮蔽壁で囲まれた通路を
屈曲させたＸ線又はγ線遮蔽設備において、前記遮蔽壁
３で囲まれた通路の少なくとも一部が、その断面を仕切
板及び／又は内部隔壁４によって複数に分割されている
こととしたものであり、前記Ｘ線又はγ線遮蔽設備は、
電子ビーム照射時に発生する遮蔽通路を経て開口部から
外部に漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽する。
幅に削減できるＸ線又はγ線遮蔽設備を提供する。 【解決手段】 Ｘ線又はγ線の発生源を、通路を介して
開口部を持つ遮蔽壁で囲み、該遮蔽壁で囲まれた通路を
屈曲させたＸ線又はγ線遮蔽設備において、前記遮蔽壁
３で囲まれた通路の少なくとも一部が、その断面を仕切
板及び／又は内部隔壁４によって複数に分割されている
こととしたものであり、前記Ｘ線又はγ線遮蔽設備は、
電子ビーム照射時に発生する遮蔽通路を経て開口部から
外部に漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線又はγ線の遮
蔽設備に係り、特に、電子ビーム照射時等に発生する遮
蔽通路を経て開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ線を
遮蔽するための遮蔽設備に関する。
蔽設備に係り、特に、電子ビーム照射時等に発生する遮
蔽通路を経て開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ線を
遮蔽するための遮蔽設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線又はγ線を遮蔽する場合、線
源の周囲をコンクリート、鉛、鉄などの遮蔽壁で囲むこ
とでＸ線又はγ線を壁内で減衰させ、外部への漏洩を防
いでいる。しかし、Ｘ線又はγ線発生時にも物質の出入
りがあるために、完全に密閉出来なく、開口部分がある
場合、例えば発生源が製造ラインの工程の一部であっ
て、製造品を開口部から取り出す場合や、発生源が排ガ
スや排出物の連続処理工程の一部であって、処理物を開
口部から取り出すような場合、あるいは遮蔽設備内の換
気口に対しては、開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ
線を別の方法で遮蔽しなければならない。一般に電磁波
であるＸ線及びγ線は、物質内を透過する際に減衰する
他に、線源からの距離が離れるほど弱くなり、また物質
表面で反射する毎に減衰する。したがって、開口部分か
ら漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽するためには、開口部に
至る通路の外壁をＸ線又はγ線が漏洩しないような遮蔽
壁とし、かつ通路の距離を長くし、さらに通路を屈曲さ
せることで、Ｘ線又はγ線を減衰させる方法が用いられ
ている。
源の周囲をコンクリート、鉛、鉄などの遮蔽壁で囲むこ
とでＸ線又はγ線を壁内で減衰させ、外部への漏洩を防
いでいる。しかし、Ｘ線又はγ線発生時にも物質の出入
りがあるために、完全に密閉出来なく、開口部分がある
場合、例えば発生源が製造ラインの工程の一部であっ
て、製造品を開口部から取り出す場合や、発生源が排ガ
スや排出物の連続処理工程の一部であって、処理物を開
口部から取り出すような場合、あるいは遮蔽設備内の換
気口に対しては、開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ
線を別の方法で遮蔽しなければならない。一般に電磁波
であるＸ線及びγ線は、物質内を透過する際に減衰する
他に、線源からの距離が離れるほど弱くなり、また物質
表面で反射する毎に減衰する。したがって、開口部分か
ら漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽するためには、開口部に
至る通路の外壁をＸ線又はγ線が漏洩しないような遮蔽
壁とし、かつ通路の距離を長くし、さらに通路を屈曲さ
せることで、Ｘ線又はγ線を減衰させる方法が用いられ
ている。
【０００３】この方法を用いた遮蔽通路（Ｘ線又はγ線
を遮蔽し得る壁で囲まれた屈曲通路）の一例を、図７に
示す。また、大型でコストの高い遮蔽扉９（図８−ａ）
の代わりに、図８−ｂのように入口通路を長くとって曲
げた上で、通常のドアを使用する遮蔽設備もある。遮蔽
通路部分での距離と反射による減衰の効果（以下減衰率
という。遮蔽部分の入口のＸ線又はγ線強度を、Ｉ IN
、出口をＩout とすれば、減衰率＝Ｉ IN ／Ｉout 。
例えば、遮蔽部分の入口と出口で強度が１００分の１に
なるとき、この遮蔽での減衰率は１００である。）を計
算する場合、次の式１のような経験式が用いられてお
り、遮蔽通路部分の設計も式１によって行われている。 ここで、Ｉ0 は線源での強度、Ｉは開口部分での強度、
Ｌは線源から開口部分までの距離、Ｒは反射１回あたり
の減衰率、Ｎは線源から開口部分までの反射回数であ
る。つまり開口部でのＸ線又はγ線の減衰率ηは、線源
からの距離の２乗に比例し、反射回数の指数乗に比例す
る（式２）。
を遮蔽し得る壁で囲まれた屈曲通路）の一例を、図７に
示す。また、大型でコストの高い遮蔽扉９（図８−ａ）
の代わりに、図８−ｂのように入口通路を長くとって曲
げた上で、通常のドアを使用する遮蔽設備もある。遮蔽
通路部分での距離と反射による減衰の効果（以下減衰率
という。遮蔽部分の入口のＸ線又はγ線強度を、Ｉ IN
、出口をＩout とすれば、減衰率＝Ｉ IN ／Ｉout 。
例えば、遮蔽部分の入口と出口で強度が１００分の１に
なるとき、この遮蔽での減衰率は１００である。）を計
算する場合、次の式１のような経験式が用いられてお
り、遮蔽通路部分の設計も式１によって行われている。 ここで、Ｉ0 は線源での強度、Ｉは開口部分での強度、
Ｌは線源から開口部分までの距離、Ｒは反射１回あたり
の減衰率、Ｎは線源から開口部分までの反射回数であ
る。つまり開口部でのＸ線又はγ線の減衰率ηは、線源
からの距離の２乗に比例し、反射回数の指数乗に比例す
る（式２）。
【０００４】Ｘ線又はγ線の減衰率は式２で示されるよ
うに距離と反射回数に依存するため、遮蔽通路を持つ遮
蔽設備では、図８−ａの方式に比べて遮蔽に要するスペ
ースと資材が大幅に増加する結果となる（図８のａとｂ
を比較すると分かりやすい）。Ｘ線又はγ線の発生量が
増えるほど、またエネルギーが高くなるほど、遮蔽に必
要な距離と反射回数が増えるため、遮蔽に要するスペー
スと資材の増加の割合も高くなる。また、設備内に出入
りする物質の量が増えれば、遮蔽通路の断面積が大きく
なり、やはりスペースと資材の増加の割合が高くなる。
スペースの増加は設備配置上の障害になり、資材の増加
は遮蔽設備のコスト上昇ばかりではなく、重量増加によ
る基礎工事のコスト上昇にもつながる。
うに距離と反射回数に依存するため、遮蔽通路を持つ遮
蔽設備では、図８−ａの方式に比べて遮蔽に要するスペ
ースと資材が大幅に増加する結果となる（図８のａとｂ
を比較すると分かりやすい）。Ｘ線又はγ線の発生量が
増えるほど、またエネルギーが高くなるほど、遮蔽に必
要な距離と反射回数が増えるため、遮蔽に要するスペー
スと資材の増加の割合も高くなる。また、設備内に出入
りする物質の量が増えれば、遮蔽通路の断面積が大きく
なり、やはりスペースと資材の増加の割合が高くなる。
スペースの増加は設備配置上の障害になり、資材の増加
は遮蔽設備のコスト上昇ばかりではなく、重量増加によ
る基礎工事のコスト上昇にもつながる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解消し、遮蔽通路部分に要するスペースと
資材を大幅に削減できるＸ線又はγ線遮蔽設備を提供す
ることを課題とする。
術の問題点を解消し、遮蔽通路部分に要するスペースと
資材を大幅に削減できるＸ線又はγ線遮蔽設備を提供す
ることを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、Ｘ線又はγ線の発生源を、通路を介し
て開口部を持つ遮蔽壁で囲み、該遮蔽壁で囲まれた通路
を屈曲させたＸ線又はγ線遮蔽設備において、前記遮蔽
壁で囲まれた通路の少なくとも一部が、その断面を仕切
板及び／又は内部隔壁によって複数に分割されているこ
ととしたものである。本発明のＸ線又はγ線遮蔽設備
は、電子ビーム排ガス処理法等に用いた電子ビーム照射
時に発生するＸ線又はγ線の遮蔽設備に用いることがで
きる。
に、本発明では、Ｘ線又はγ線の発生源を、通路を介し
て開口部を持つ遮蔽壁で囲み、該遮蔽壁で囲まれた通路
を屈曲させたＸ線又はγ線遮蔽設備において、前記遮蔽
壁で囲まれた通路の少なくとも一部が、その断面を仕切
板及び／又は内部隔壁によって複数に分割されているこ
ととしたものである。本発明のＸ線又はγ線遮蔽設備
は、電子ビーム排ガス処理法等に用いた電子ビーム照射
時に発生するＸ線又はγ線の遮蔽設備に用いることがで
きる。
【０００７】
【発明の実施の形態】上記のように、本発明では、屈曲
した遮蔽通路断面を仕切板及び／又は内部隔壁によって
複数に分割するものであり、（１）屈曲した遮蔽通路断
面を分割することで減衰効率が向上することと、（２）
分割する仕切板又は内部隔壁には十分な遮蔽能力（厚さ
と密度）を必要としないという２点に基づいた発明であ
る。これまで、遮蔽設備の設計に用いられてきた方法
（式１による計算）では、通路を分割しても、線源から
の距離と反射回数が変わらないため、減衰率は変わらな
いと考えられていた。これに対して、本発明者らは、屈
曲した遮蔽通路断面を、仕切板及び／又は内部隔壁によ
って複数に分割することで、Ｘ線又はγ線減衰率を高め
ることができることを見いだした。さらに、仕切板又は
内部隔壁が、Ｘ線又はγ線をほとんど遮蔽できない厚さ
でも、減衰率を高める効果があることを確認した。
した遮蔽通路断面を仕切板及び／又は内部隔壁によって
複数に分割するものであり、（１）屈曲した遮蔽通路断
面を分割することで減衰効率が向上することと、（２）
分割する仕切板又は内部隔壁には十分な遮蔽能力（厚さ
と密度）を必要としないという２点に基づいた発明であ
る。これまで、遮蔽設備の設計に用いられてきた方法
（式１による計算）では、通路を分割しても、線源から
の距離と反射回数が変わらないため、減衰率は変わらな
いと考えられていた。これに対して、本発明者らは、屈
曲した遮蔽通路断面を、仕切板及び／又は内部隔壁によ
って複数に分割することで、Ｘ線又はγ線減衰率を高め
ることができることを見いだした。さらに、仕切板又は
内部隔壁が、Ｘ線又はγ線をほとんど遮蔽できない厚さ
でも、減衰率を高める効果があることを確認した。
【０００８】図１に、本発明の仕切板又は内部隔壁によ
り通路断面を分割した一例を示す。図１において、１は
Ｘ線又はγ線入口、２は同出口であり、３は遮蔽通路外
壁で、４が仕切り板又は内部隔壁である。図２は、減衰
率と通路断面積及び反射点からの距離との関係を説明す
るためのものである。本発明者らは、遮蔽通路でのＸ線
又はγ線減衰率は、通路断面積と屈曲部の反射点からの
距離に対して、次のような関係が成り立つことを見いだ
した。図２のような遮蔽通路において、曲がり部分
Ｐ1 、Ｐ2 、・・・、Ｐn でのＸ線強度をそれぞれ
Ｉ1 、Ｉ2 、・・・、Ｉn とすれば、Ｐn でのＸ線強度
Ｉn は、１つ前の曲がり部分Ｐn-1 での強度Ｉn-1 をも
とに、以下の式で計算できる（図２ではｎ＝４）。 式３でＳは通路断面積、Ｌn は通路曲がり部分Ｐn-1 か
らの距離、αとβは通路断面形状に依存する定数であ
り、（α×Ｌ2 ／Ｓ＋β）が曲がり１回当たりの減衰率
である。
り通路断面を分割した一例を示す。図１において、１は
Ｘ線又はγ線入口、２は同出口であり、３は遮蔽通路外
壁で、４が仕切り板又は内部隔壁である。図２は、減衰
率と通路断面積及び反射点からの距離との関係を説明す
るためのものである。本発明者らは、遮蔽通路でのＸ線
又はγ線減衰率は、通路断面積と屈曲部の反射点からの
距離に対して、次のような関係が成り立つことを見いだ
した。図２のような遮蔽通路において、曲がり部分
Ｐ1 、Ｐ2 、・・・、Ｐn でのＸ線強度をそれぞれ
Ｉ1 、Ｉ2 、・・・、Ｉn とすれば、Ｐn でのＸ線強度
Ｉn は、１つ前の曲がり部分Ｐn-1 での強度Ｉn-1 をも
とに、以下の式で計算できる（図２ではｎ＝４）。 式３でＳは通路断面積、Ｌn は通路曲がり部分Ｐn-1 か
らの距離、αとβは通路断面形状に依存する定数であ
り、（α×Ｌ2 ／Ｓ＋β）が曲がり１回当たりの減衰率
である。
【０００９】つまり式３によれば、遮蔽通路の曲がり部
分での減衰は、反射点からの距離の２乗に比例し、通路
の断面積に反比例することがわかる。この作用に着目す
れば、反射の回数と距離を増やす以外にも通路断面積を
小さくすることで減衰効果を上げることができる。例え
ば遮蔽通路断面を図１のように仕切板で９等分したとす
れば、曲がり１回当たり減衰効果が約９倍になる。した
がって、曲がりが５回の遮蔽通路であれば、遮蔽通路の
体積がほとんど変わらずに、遮蔽効果をほぼ６０，００
０倍（＝９5 ）にすることができる。また、この際、仕
切板又は内部隔壁の厚さは、透過するＸ線又はγ線に対
する半価層（Ｘ線又はγ線の強度を半分に減衰させるの
に必要な厚さ）の約２０分の１以上あれば、減衰効果が
得られることが実験から明らかになった。これにより、
仕切り板又は内部隔壁の厚さを、非常に薄くすることが
できたことが、本発明のもう一つの重要な発見である。
分での減衰は、反射点からの距離の２乗に比例し、通路
の断面積に反比例することがわかる。この作用に着目す
れば、反射の回数と距離を増やす以外にも通路断面積を
小さくすることで減衰効果を上げることができる。例え
ば遮蔽通路断面を図１のように仕切板で９等分したとす
れば、曲がり１回当たり減衰効果が約９倍になる。した
がって、曲がりが５回の遮蔽通路であれば、遮蔽通路の
体積がほとんど変わらずに、遮蔽効果をほぼ６０，００
０倍（＝９5 ）にすることができる。また、この際、仕
切板又は内部隔壁の厚さは、透過するＸ線又はγ線に対
する半価層（Ｘ線又はγ線の強度を半分に減衰させるの
に必要な厚さ）の約２０分の１以上あれば、減衰効果が
得られることが実験から明らかになった。これにより、
仕切り板又は内部隔壁の厚さを、非常に薄くすることが
できたことが、本発明のもう一つの重要な発見である。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例１ 図３はＸ線源（電子ビーム発生装置）５と、Ｘ線の遮蔽
設備である。この設備の遮蔽通路内（図３の斜線部分）
６に、図４のように床面と平行に仕切板４を設置し、発
生するＸ線の最大エネルギーを０．５ＭｅＶと０．８Ｍ
ｅＶの２通りで試験を行った。仕切板は、幅９００ｍ
ｍ、高さ３，０００ｍｍの通路の床から、１，０００ｍ
ｍの高さに設置し、通路を２：１の断面積に分割した。
仕切板としては、表１に示したように、アルミ・鉄・鉛
についてそれぞれ板厚を変えて測定した。表１中の対半
価層比とは、表２に示した半価層に対する仕切板の厚さ
比である。
る。 実施例１ 図３はＸ線源（電子ビーム発生装置）５と、Ｘ線の遮蔽
設備である。この設備の遮蔽通路内（図３の斜線部分）
６に、図４のように床面と平行に仕切板４を設置し、発
生するＸ線の最大エネルギーを０．５ＭｅＶと０．８Ｍ
ｅＶの２通りで試験を行った。仕切板は、幅９００ｍ
ｍ、高さ３，０００ｍｍの通路の床から、１，０００ｍ
ｍの高さに設置し、通路を２：１の断面積に分割した。
仕切板としては、表１に示したように、アルミ・鉄・鉛
についてそれぞれ板厚を変えて測定した。表１中の対半
価層比とは、表２に示した半価層に対する仕切板の厚さ
比である。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】 注：半価層算出のための物質の全吸収係数は「放射線」（共立出版）、 また密度は「理科年表」（丸善）より引用した。
【００１３】遮蔽通路部分入口のＸ線強度（Ｉ1 ）に対
して、遮蔽通路部分出口のＸ線強度（Ｉ3 ）を測定し、
減衰率η（η＝Ｉ1 ／Ｉ3 ）によって遮蔽の効果を比較
した。対半価層比に対する減衰率をグラフにしたもの
が、図５である。仕切板を設置する前（断面積２．７ｍ
2 ）の減衰率を直線（ａ）で表し、〇は仕切板設置後の
上側の通路（断面積１．８ｍ2 ）での減衰率、△は仕切
板設置後の下側（断面積０．９ｍ2 ）の通路での減衰率
を示す。図５を見ると、線源からの距離と反射回数が同
じ測定場所であっても、仕切られた通路の断面積が、小
さくなるにつれて減衰率が大きくなり、仕切板での遮蔽
通路分割によって、遮蔽効果が向上していることがわか
る。
して、遮蔽通路部分出口のＸ線強度（Ｉ3 ）を測定し、
減衰率η（η＝Ｉ1 ／Ｉ3 ）によって遮蔽の効果を比較
した。対半価層比に対する減衰率をグラフにしたもの
が、図５である。仕切板を設置する前（断面積２．７ｍ
2 ）の減衰率を直線（ａ）で表し、〇は仕切板設置後の
上側の通路（断面積１．８ｍ2 ）での減衰率、△は仕切
板設置後の下側（断面積０．９ｍ2 ）の通路での減衰率
を示す。図５を見ると、線源からの距離と反射回数が同
じ測定場所であっても、仕切られた通路の断面積が、小
さくなるにつれて減衰率が大きくなり、仕切板での遮蔽
通路分割によって、遮蔽効果が向上していることがわか
る。
【００１４】さらに、１回分の反射減衰に相当する減衰
率（Ｉ1 ／Ｉ2 ）を図６に示すが、このグラフから、式
３に示したような関係式を得ることができる。また、図
５から仕切板の板厚を、半価層の１０分の１（Ｘ線最大
エネルギー０．５ＭｅＶに対する厚さ１ｍｍの鉄仕切
板）まで薄くしても、減衰の効果は変わらないことが確
認された。板厚をさらに半価層の０．０８倍（Ｘ線最大
エネルギー０．８ＭｅＶに対する厚さ１ｍｍの鉄仕切
板）にすると、減衰効果は若干落ちるが、遮蔽通路の形
状を変えずに、遮蔽効率を上げる方法としては、依然と
して有効な方法である。また逆に、仕切板をさらに厚く
しても、遮蔽の効果は変わらないが、施工上のあるいは
経済的なデメリットが増えるのみなので、現実的には半
価層の１０倍程度までが上限と考えられる。
率（Ｉ1 ／Ｉ2 ）を図６に示すが、このグラフから、式
３に示したような関係式を得ることができる。また、図
５から仕切板の板厚を、半価層の１０分の１（Ｘ線最大
エネルギー０．５ＭｅＶに対する厚さ１ｍｍの鉄仕切
板）まで薄くしても、減衰の効果は変わらないことが確
認された。板厚をさらに半価層の０．０８倍（Ｘ線最大
エネルギー０．８ＭｅＶに対する厚さ１ｍｍの鉄仕切
板）にすると、減衰効果は若干落ちるが、遮蔽通路の形
状を変えずに、遮蔽効率を上げる方法としては、依然と
して有効な方法である。また逆に、仕切板をさらに厚く
しても、遮蔽の効果は変わらないが、施工上のあるいは
経済的なデメリットが増えるのみなので、現実的には半
価層の１０倍程度までが上限と考えられる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、開口部をもつＸ線又は
γ線遮蔽設備の遮蔽通路部分を、前記のように仕切板又
は内部隔壁で分割することにより、Ｘ線又はγ線の遮蔽
効率を高め、遮蔽設備の設置スペースと建設コストを節
約することができる。
γ線遮蔽設備の遮蔽通路部分を、前記のように仕切板又
は内部隔壁で分割することにより、Ｘ線又はγ線の遮蔽
効率を高め、遮蔽設備の設置スペースと建設コストを節
約することができる。
【図１】本発明の仕切板又は内部隔壁により通路断面を
分割した例の斜視図。
分割した例の斜視図。
【図２】減衰率を説明するための遮蔽通路図。
【図３】実施例で用いたＸ線遮蔽設備の断面図。
【図４】図３の仕切板を設置した遮蔽通路断面図。
【図５】対半価層比に対するＸ線減衰率を示すグラフ。
【図６】Ｌ2 ／Ｓに対するＸ線減衰率を示すグラフ。
【図７】公知のＸ線又はγ線遮蔽設備の一例を示す断面
図。
図。
【図８】公知のＸ線又はγ線遮蔽設備の他の例を示す断
面図。
面図。
１：Ｘ線又はγ線入口、２：Ｘ線又はγ線出口、３：遮
蔽通路外壁、４：仕切板又は内部隔壁、５：Ｘ線又はγ
線発生源、６：仕切板設置位置、７：開口部、８：遮蔽
通路、９：遮蔽扉
蔽通路外壁、４：仕切板又は内部隔壁、５：Ｘ線又はγ
線発生源、６：仕切板設置位置、７：開口部、８：遮蔽
通路、９：遮蔽扉
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｘ線又はγ線の発生源を、通路を介して
開口部を持つ遮蔽壁で囲み、該遮蔽壁で囲まれた通路を
屈曲させたＸ線又はγ線遮蔽設備において、前記遮蔽壁
で囲まれた通路の少なくとも一部が、その断面を仕切板
及び／又は内部隔壁によって複数に分割されていること
を特徴とするＸ線又はγ線遮蔽設備。 - 【請求項２】 前記Ｘ線又はγ線が、電子ビーム照射時
に発生するＸ線又はγ線であることを特徴とする請求項
１記載のＸ線又はγ線遮蔽設備。 - 【請求項３】 前記電子ビーム照射が、電子ビームを用
いた排ガス処理法において行われることを特徴とする請
求項２記載のＸ線又はγ線遮蔽設備。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8190596A JPH09243793A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
| PCT/JP1997/000772 WO1997034305A1 (en) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | SHIELDING FACILITY FOR X-RAYS OR η-RAYS |
| EP97907280A EP0888622B1 (en) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Shielding facility for x-rays or gamma-rays |
| DE69713304T DE69713304T2 (de) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Abschirmvorrichtung für röntgen oder gammastrahlen |
| PL97328797A PL185245B1 (pl) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Urządzenie ekranujące promienie Röntgena lub gamma |
| BR9707904A BR9707904A (pt) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Instalações blindadas para raios x ou raios gama |
| BG102734A BG63177B1 (bg) | 1996-03-12 | 1998-08-28 | Екраниращо устройство за ренtгенови или гама-лъчи |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8190596A JPH09243793A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09243793A true JPH09243793A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=13759467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8190596A Pending JPH09243793A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09243793A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104084943A (zh) * | 2014-06-26 | 2014-10-08 | 西南科技大学 | 一种强辐射环境液控拆除机器人 |
| CN105102063A (zh) * | 2013-04-10 | 2015-11-25 | 三菱电机株式会社 | 粒子射线照射室 |
| WO2016059990A1 (ja) * | 2014-10-14 | 2016-04-21 | 日立造船株式会社 | 電子線滅菌設備 |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP8190596A patent/JPH09243793A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105102063A (zh) * | 2013-04-10 | 2015-11-25 | 三菱电机株式会社 | 粒子射线照射室 |
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