JPH09243794A - Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 - Google Patents
Ｘ線又はγ線の遮蔽設備Info
- Publication number
- JPH09243794A JPH09243794A JP8081906A JP8190696A JPH09243794A JP H09243794 A JPH09243794 A JP H09243794A JP 8081906 A JP8081906 A JP 8081906A JP 8190696 A JP8190696 A JP 8190696A JP H09243794 A JPH09243794 A JP H09243794A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- shielding
- rays
- passage
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 title claims abstract description 20
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 33
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮蔽通路部分に要するスペースと資材を大幅
に削減することができるＸ線又はγ線の遮蔽設備を提供
する。 【解決手段】 Ｘ線又はγ線の発生源１を、開口部を持
つ遮蔽壁２で囲むＸ線又はγ線の遮蔽設備において、該
遮蔽壁２の開口部又は該遮蔽壁を外壁とする開口部に至
る通路３（以下遮蔽通路という）に、屈曲した仕切板４
を設置することとしたものであり、前記屈曲した仕切板
は、遮蔽壁開口部又はそこに至る通路の入口から出口を
直接見通せないように設置するのがよく、屏風状の板又
は螺旋状の板とすることができる。
に削減することができるＸ線又はγ線の遮蔽設備を提供
する。 【解決手段】 Ｘ線又はγ線の発生源１を、開口部を持
つ遮蔽壁２で囲むＸ線又はγ線の遮蔽設備において、該
遮蔽壁２の開口部又は該遮蔽壁を外壁とする開口部に至
る通路３（以下遮蔽通路という）に、屈曲した仕切板４
を設置することとしたものであり、前記屈曲した仕切板
は、遮蔽壁開口部又はそこに至る通路の入口から出口を
直接見通せないように設置するのがよく、屏風状の板又
は螺旋状の板とすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線又はγ線の遮
蔽設備に係り、開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ線
を遮蔽するためのＸ線又はγ線遮蔽設備に関する。
蔽設備に係り、開口部から外部に漏洩するＸ線又はγ線
を遮蔽するためのＸ線又はγ線遮蔽設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線又はγ線を遮蔽する場合、線
源の周囲をコンクリート、鉛、鉄などの遮蔽壁で囲うこ
とでＸ線又はγ線を壁内で減衰させ、外部への漏洩を防
いでいる。しかし、Ｘ線又はγ線発生時にも物質の出入
りがあるために、遮蔽壁を完全に密閉出来なく、開口部
分のある場合、例えば、発生源が製造ラインの工程の一
部であって、製造物を開口部から取り出す場合や、排ガ
スや排水の連続処理工程の一部であって、処理物を開口
部から取り出す場合、あるいは遮蔽設備内の換気口に対
しては、開口部分から外部に漏洩するＸ線又はγ線を、
別の方法で遮蔽しなければならない。一般に、電磁波で
あるＸ線又はγ線は、物質内を透過する際に減衰する他
に、線源からの距離が離れるほど減衰し、物質表面で反
射する毎に減衰する。したがって、開口部分から外部に
漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽するためには、線源部分と
開口部の間にＸ線又はγ線が漏洩しないような遮蔽壁で
囲った通路（以下遮蔽通路という）を設け、かつその通
路を長くして、さらに屈曲させることでＸ線又はγ線を
減衰させる方法が用いられている。
源の周囲をコンクリート、鉛、鉄などの遮蔽壁で囲うこ
とでＸ線又はγ線を壁内で減衰させ、外部への漏洩を防
いでいる。しかし、Ｘ線又はγ線発生時にも物質の出入
りがあるために、遮蔽壁を完全に密閉出来なく、開口部
分のある場合、例えば、発生源が製造ラインの工程の一
部であって、製造物を開口部から取り出す場合や、排ガ
スや排水の連続処理工程の一部であって、処理物を開口
部から取り出す場合、あるいは遮蔽設備内の換気口に対
しては、開口部分から外部に漏洩するＸ線又はγ線を、
別の方法で遮蔽しなければならない。一般に、電磁波で
あるＸ線又はγ線は、物質内を透過する際に減衰する他
に、線源からの距離が離れるほど減衰し、物質表面で反
射する毎に減衰する。したがって、開口部分から外部に
漏洩するＸ線又はγ線を遮蔽するためには、線源部分と
開口部の間にＸ線又はγ線が漏洩しないような遮蔽壁で
囲った通路（以下遮蔽通路という）を設け、かつその通
路を長くして、さらに屈曲させることでＸ線又はγ線を
減衰させる方法が用いられている。
【０００３】この方法を用いた遮蔽設備の一例を図７に
示す。遮蔽通路部分での距離と反射による減衰の効果
（以下減衰率という。遮蔽部分の入口と出口で放射線強
度が１００分の１になるとき、この遮蔽の減衰率は１０
０である。）を計算する場合、次の式１に示す経験式が
用いられており、図７のような遮蔽通路部分の設計は式
１によって行われている。 Ｉ＝Ｉ0 ×Ｌ-2×Ｒ-N ・・・式１ ここで、Ｉ0 はＸ線又はγ線の線源での強度、Ｉは通路
出口位置での強度、Ｌは線源から出口までの距離、Ｒは
Ｘ線の反射１回あたりの減衰率、Ｎは線源から開口部分
に至るまでのＸ線又はγ線の反射回数である。つまり、
遮蔽通路部分でのＸ線の減衰率η（＝Ｌ2 ×ＲN ）は、
線源からの距離の２乗に比例し、反射回数の指数乗に比
例する。
示す。遮蔽通路部分での距離と反射による減衰の効果
（以下減衰率という。遮蔽部分の入口と出口で放射線強
度が１００分の１になるとき、この遮蔽の減衰率は１０
０である。）を計算する場合、次の式１に示す経験式が
用いられており、図７のような遮蔽通路部分の設計は式
１によって行われている。 Ｉ＝Ｉ0 ×Ｌ-2×Ｒ-N ・・・式１ ここで、Ｉ0 はＸ線又はγ線の線源での強度、Ｉは通路
出口位置での強度、Ｌは線源から出口までの距離、Ｒは
Ｘ線の反射１回あたりの減衰率、Ｎは線源から開口部分
に至るまでのＸ線又はγ線の反射回数である。つまり、
遮蔽通路部分でのＸ線の減衰率η（＝Ｌ2 ×ＲN ）は、
線源からの距離の２乗に比例し、反射回数の指数乗に比
例する。
【０００４】Ｘ線又はγ線の減衰率は、式１で示される
ように距離と反射回数に依存するため、開口部分を持つ
遮蔽設備は、密閉型の設備に比べて遮蔽に要するスペー
スと資材が、大幅に増加する結果となる。そして、Ｘ線
又はγ線の発生量が増えるほど、またエネルギーが高く
なるほど、遮蔽に必要な距離と反射回数が増えるため、
遮蔽に要するスペースと資材の増加の割合も高くなる。
また、設備内に出入りする物質の量が増えれば、遮蔽通
路の断面積が大きくなり、やはりスペースと資材の増加
の割合はさらに高くなる。スペースの増加は設備配置上
の障害になり、資材の増加は遮蔽設備のコスト上昇ばか
りではなく、重量増加による基礎工事のコスト上昇にも
つながる。
ように距離と反射回数に依存するため、開口部分を持つ
遮蔽設備は、密閉型の設備に比べて遮蔽に要するスペー
スと資材が、大幅に増加する結果となる。そして、Ｘ線
又はγ線の発生量が増えるほど、またエネルギーが高く
なるほど、遮蔽に必要な距離と反射回数が増えるため、
遮蔽に要するスペースと資材の増加の割合も高くなる。
また、設備内に出入りする物質の量が増えれば、遮蔽通
路の断面積が大きくなり、やはりスペースと資材の増加
の割合はさらに高くなる。スペースの増加は設備配置上
の障害になり、資材の増加は遮蔽設備のコスト上昇ばか
りではなく、重量増加による基礎工事のコスト上昇にも
つながる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点を解消し、遮蔽通路部分に要するスペースと
資材を大幅に削減することができるＸ線又はγ線の遮蔽
設備を提供することを課題とする。
術の問題点を解消し、遮蔽通路部分に要するスペースと
資材を大幅に削減することができるＸ線又はγ線の遮蔽
設備を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、Ｘ線又はγ線の発生源を、開口部を持
つ遮蔽壁で囲むＸ線又はγ線の遮蔽設備において、該遮
蔽壁の開口部又は該遮蔽壁を外壁とする開口部に至る通
路（以下遮蔽通路という）に、屈曲した仕切板を設置す
ることとしたものである。前記Ｘ線又はγ線の遮蔽設備
において、屈曲した仕切板は、遮蔽壁開口部又はそこに
至る通路の入口から出口を直接見通せないように設置す
るのがよく、そして、該屈曲した仕切板は、屏風状の板
又は螺旋状の板とすることができる。また、本発明のＸ
線又はγ線の遮蔽設備は、電子ビームを用いる排ガス処
理法等においての電子ビーム照射時に発生するＸ線又は
γ線を遮蔽することができる。
に、本発明では、Ｘ線又はγ線の発生源を、開口部を持
つ遮蔽壁で囲むＸ線又はγ線の遮蔽設備において、該遮
蔽壁の開口部又は該遮蔽壁を外壁とする開口部に至る通
路（以下遮蔽通路という）に、屈曲した仕切板を設置す
ることとしたものである。前記Ｘ線又はγ線の遮蔽設備
において、屈曲した仕切板は、遮蔽壁開口部又はそこに
至る通路の入口から出口を直接見通せないように設置す
るのがよく、そして、該屈曲した仕切板は、屏風状の板
又は螺旋状の板とすることができる。また、本発明のＸ
線又はγ線の遮蔽設備は、電子ビームを用いる排ガス処
理法等においての電子ビーム照射時に発生するＸ線又は
γ線を遮蔽することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図面を用いて説明
する。図１は、本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の一例
を示す水平断面図であり、図２に、図１で用いる仕切板
の拡大斜視図を示す。図１において、１はＸ線発生源
（電子加速器）、２は遮蔽壁、３は開口部又は開口部通
路、４は仕切板であり、ここでは４-1、４-2の２板設置
している。Ｘ線の入射側をＡ、出口側をＢとする。仕切
板４の拡大図を図２に示し、図２で、５は板７を固定す
る天板であり、６は同床板であり、ここでは板７を３枚
９０°に折り曲げて５と６で固定して仕切板４としてい
る。図３は本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の他の例を
示す水平断面図であり、この例では、仕切板４が螺旋状
８となっており、他は図１と同じである。
する。図１は、本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の一例
を示す水平断面図であり、図２に、図１で用いる仕切板
の拡大斜視図を示す。図１において、１はＸ線発生源
（電子加速器）、２は遮蔽壁、３は開口部又は開口部通
路、４は仕切板であり、ここでは４-1、４-2の２板設置
している。Ｘ線の入射側をＡ、出口側をＢとする。仕切
板４の拡大図を図２に示し、図２で、５は板７を固定す
る天板であり、６は同床板であり、ここでは板７を３枚
９０°に折り曲げて５と６で固定して仕切板４としてい
る。図３は本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の他の例を
示す水平断面図であり、この例では、仕切板４が螺旋状
８となっており、他は図１と同じである。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例１ 試験に用いた仕切板は図２に示すものであり、図２の仕
切板を図１のように２段並べ電子ビーム照射によるＸ線
遮蔽試験を行った。入射Ｘ線の最大エネルギーは０．５
ＭｅＶと０．８ＭｅＶで行い、それぞれのエネルギーに
対して仕切板の材質と厚さを表１のように変えて測定を
行った。表１中の対半価層比とは、表２に示した半価層
（Ｘ線強度を半分に減衰させるのに必要な厚さ）に対す
る仕切板の厚さ比である。
る。 実施例１ 試験に用いた仕切板は図２に示すものであり、図２の仕
切板を図１のように２段並べ電子ビーム照射によるＸ線
遮蔽試験を行った。入射Ｘ線の最大エネルギーは０．５
ＭｅＶと０．８ＭｅＶで行い、それぞれのエネルギーに
対して仕切板の材質と厚さを表１のように変えて測定を
行った。表１中の対半価層比とは、表２に示した半価層
（Ｘ線強度を半分に減衰させるのに必要な厚さ）に対す
る仕切板の厚さ比である。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【表２】 注：半価層算出にあたり物質の全吸収係数は「放射線」 （共立出版）、また密度は「理科年表」（丸善）よ り引用した。
【００１１】図１で遮蔽設備のＸ線入射側をＡ点、出口
側をＢ点とする。Ａ点でのＸ線強度をＩA 、Ｂ点でのＸ
線強度をＩB とすると、この試験装置でのＸ線減衰率η
はη＝ＩA ／ＩB となる。仕切板の材質と板厚、及び入
射Ｘ線エネルギーを変えた一連の実験で、半価層比に対
する減衰率をグラフにしたものが図４である。仕切板の
厚さが、半価層の２．５倍（減衰率で２２．５＝５．
７）あれば透過Ｘ線は抑えられることが確認された。ま
た、仕切板が半価層の２．５倍よりも薄い場合において
も、仕切板がない場合の距離のみの減衰に対して、依然
大きな減衰効果が得られることが確認された。例えば半
価層比０．１の場合においても、減衰率５０〜１００と
効果は大きい。逆に、仕切板をさらに厚くしても、減衰
の効果は変わらないが、施工上あるいは経済的なデメリ
ットが増えるのみなので、現実的には半価層の数１０倍
程度が上限と考える。
側をＢ点とする。Ａ点でのＸ線強度をＩA 、Ｂ点でのＸ
線強度をＩB とすると、この試験装置でのＸ線減衰率η
はη＝ＩA ／ＩB となる。仕切板の材質と板厚、及び入
射Ｘ線エネルギーを変えた一連の実験で、半価層比に対
する減衰率をグラフにしたものが図４である。仕切板の
厚さが、半価層の２．５倍（減衰率で２２．５＝５．
７）あれば透過Ｘ線は抑えられることが確認された。ま
た、仕切板が半価層の２．５倍よりも薄い場合において
も、仕切板がない場合の距離のみの減衰に対して、依然
大きな減衰効果が得られることが確認された。例えば半
価層比０．１の場合においても、減衰率５０〜１００と
効果は大きい。逆に、仕切板をさらに厚くしても、減衰
の効果は変わらないが、施工上あるいは経済的なデメリ
ットが増えるのみなので、現実的には半価層の数１０倍
程度が上限と考える。
【００１２】次に、仕切板の厚さは変えずに、図１の装
置の設置段数を増加して測定を行った（図１中の破線部
分にも仕切板を設置し、合計３段とした）。Ｘ線の最大
エネルギーを０．５ＭｅＶ、仕切板の板厚を鉛２０ｍｍ
とし、１段、２段、３段で減衰率を測定した結果が図５
である。図５は、鉛仕切板の板厚が２０ｍｍあるため、
透過Ｘ線の影響のない、反射Ｘ線の減衰効果のみを示し
ている。この結果、得られた仕切板の設置段数と減衰率
の関係は、式１の関係式ではなく、我々が独自に見いだ
した以下の関係式（式２）を満足することが確認され
た。 Ｉn ＝Ｉn-1 ×（α×Ｌn 2 ／Ｓ＋β）-1 ・・・式２
置の設置段数を増加して測定を行った（図１中の破線部
分にも仕切板を設置し、合計３段とした）。Ｘ線の最大
エネルギーを０．５ＭｅＶ、仕切板の板厚を鉛２０ｍｍ
とし、１段、２段、３段で減衰率を測定した結果が図５
である。図５は、鉛仕切板の板厚が２０ｍｍあるため、
透過Ｘ線の影響のない、反射Ｘ線の減衰効果のみを示し
ている。この結果、得られた仕切板の設置段数と減衰率
の関係は、式１の関係式ではなく、我々が独自に見いだ
した以下の関係式（式２）を満足することが確認され
た。 Ｉn ＝Ｉn-1 ×（α×Ｌn 2 ／Ｓ＋β）-1 ・・・式２
【００１３】ここで式２について説明する。例えば、図
６のような遮蔽通路において、曲がり部分Ｐ1 、Ｐ2 、
・・・、Ｐn でのＸ線強度を、それぞれＩ1 、Ｉ2 、・
・・、Ｉn とし、通路断面積をＳ、通路曲がり部分Ｐ
n-1 からＰn までの距離をＬnとすれば、Ｐn でのＸ線
強度Ｉn は、１つ前の曲がり部分Ｐn-1 での強度Ｉn-1
をもとに、式２のように計算できる。αとβは通路断面
形状に依存する定数であり、（α×Ｌn 2 ／Ｓ＋β）が
曲がり１回当たりの減衰率である。つまり、式２によれ
ば、遮蔽通路の曲がり部分での減衰は、反射点からの距
離の２乗に比例し、通路の断面積に反比例することがわ
かる。この作用に着目すれば、反射の回数と距離を増や
す以外に、仕切板のピッチを狭くするなどして、通路断
面積を小さくすることでも減衰効果を上げることができ
る。
６のような遮蔽通路において、曲がり部分Ｐ1 、Ｐ2 、
・・・、Ｐn でのＸ線強度を、それぞれＩ1 、Ｉ2 、・
・・、Ｉn とし、通路断面積をＳ、通路曲がり部分Ｐ
n-1 からＰn までの距離をＬnとすれば、Ｐn でのＸ線
強度Ｉn は、１つ前の曲がり部分Ｐn-1 での強度Ｉn-1
をもとに、式２のように計算できる。αとβは通路断面
形状に依存する定数であり、（α×Ｌn 2 ／Ｓ＋β）が
曲がり１回当たりの減衰率である。つまり、式２によれ
ば、遮蔽通路の曲がり部分での減衰は、反射点からの距
離の２乗に比例し、通路の断面積に反比例することがわ
かる。この作用に着目すれば、反射の回数と距離を増や
す以外に、仕切板のピッチを狭くするなどして、通路断
面積を小さくすることでも減衰効果を上げることができ
る。
【００１４】実施例２ 次に、螺旋状の仕切板を用いて、電子ビーム照射による
Ｘ線遮蔽試験を行った。実験装置全体は図３に示すとお
りである。仕切板は１０ｍｍ厚の鉄板を用い、入射Ｘ線
の最大エネルギーは０．５ＭｅＶと０．８ＭｅＶで測定
を行った。この試験の結果、実験装置でのＸ線減衰率η
（η＝ＩA ／ＩB ）として０．５ＭｅＶでη＝２００
０、０．８ＭｅＶでη＝１５００が得られ、実施例１と
同様の遮蔽効果が確認された。
Ｘ線遮蔽試験を行った。実験装置全体は図３に示すとお
りである。仕切板は１０ｍｍ厚の鉄板を用い、入射Ｘ線
の最大エネルギーは０．５ＭｅＶと０．８ＭｅＶで測定
を行った。この試験の結果、実験装置でのＸ線減衰率η
（η＝ＩA ／ＩB ）として０．５ＭｅＶでη＝２００
０、０．８ＭｅＶでη＝１５００が得られ、実施例１と
同様の遮蔽効果が確認された。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、開口部をもつＸ線遮蔽
設備の開口部又は遮蔽通路部分に、前記のように仕切板
を設置することにより、Ｘ線遮蔽効率を高め、遮蔽設備
の設置スペースと建設コストを節約することができる。
設備の開口部又は遮蔽通路部分に、前記のように仕切板
を設置することにより、Ｘ線遮蔽効率を高め、遮蔽設備
の設置スペースと建設コストを節約することができる。
【図１】本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の一例を示す
水平断面図。
水平断面図。
【図２】図１の仕切板の拡大斜視図。
【図３】本発明のＸ線又はγ線の遮蔽設備の他の例を示
す水平断面図。
す水平断面図。
【図４】対半価層比に対するＸ線減衰率を示すグラフ。
【図５】仕切板設置段数とＸ線減衰率を示すグラフ。
【図６】式２を説明するための遮蔽通路図。
【図７】従来の開口部を持つ遮蔽設備の水平断面図。
１：Ｘ線発生源、２：遮蔽壁、３：開口部又は開口部通
路、４：仕切板、５：固定天板、６：固定床板、７：
板、８：螺旋状仕切板、
路、４：仕切板、５：固定天板、６：固定床板、７：
板、８：螺旋状仕切板、
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｘ線又はγ線の発生源を、開口部を持つ
遮蔽壁で囲むＸ線又はγ線の遮蔽設備において、該遮蔽
壁の開口部又は該遮蔽壁を外壁とする開口部に至る通路
（以下遮蔽通路という）に、屈曲した仕切板を設置する
ことを特徴とするＸ線又はγ線の遮蔽設備。 - 【請求項２】 前記屈曲した仕切板は、遮蔽壁開口部又
はそこに至る通路の入口から出口を直接見通せないよう
に設置することを特徴とする請求項１記載のＸ線又はγ
線の遮蔽設備。 - 【請求項３】 前記屈曲した仕切板が、屏風状の板であ
ることを特徴とする請求項１又は２記載のＸ線又はγ線
の遮蔽設備。 - 【請求項４】 前記屈曲した仕切板が、螺旋状の板であ
ることを特徴とする請求項１又は２記載のＸ線又はγ線
の遮蔽設備。 - 【請求項５】 前記Ｘ線又はγ線が、電子ビーム照射時
に発生するＸ線又はγ線であることを特徴とする請求項
１〜４のいずれか１項記載のＸ線又はγ線の遮蔽設備。 - 【請求項６】 前記電子ビーム照射が、電子ビームを用
いた排ガス処理法において行われることを特徴とする請
求項５記載のＸ線又はγ線の遮蔽設備。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8081906A JPH09243794A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
| PL97328797A PL185245B1 (pl) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Urządzenie ekranujące promienie Röntgena lub gamma |
| PCT/JP1997/000772 WO1997034305A1 (en) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | SHIELDING FACILITY FOR X-RAYS OR η-RAYS |
| DE69713304T DE69713304T2 (de) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Abschirmvorrichtung für röntgen oder gammastrahlen |
| BR9707904A BR9707904A (pt) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Instalações blindadas para raios x ou raios gama |
| EP97907280A EP0888622B1 (en) | 1996-03-12 | 1997-03-12 | Shielding facility for x-rays or gamma-rays |
| BG102734A BG63177B1 (bg) | 1996-03-12 | 1998-08-28 | Екраниращо устройство за ренtгенови или гама-лъчи |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8081906A JPH09243794A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09243794A true JPH09243794A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=13759495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8081906A Pending JPH09243794A (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09243794A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014167973A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射室 |
| JP2020106335A (ja) * | 2018-12-26 | 2020-07-09 | 三菱造船株式会社 | 遮蔽体の検査方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5015120Y1 (ja) * | 1973-12-28 | 1975-05-12 | ||
| JPS58169588U (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-12 | 株式会社日立製作所 | しやへい壁貫通部しやへい構造 |
| JPS5979747U (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-30 | 東洋エンジニアリング株式会社 | 遮蔽性能を持つたル−バ− |
| JPS63236999A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | 動力炉・核燃料開発事業団 | 放射線遮へい装置 |
| JPH05223987A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-09-03 | Nec Corp | 医療用放射線遮蔽室 |
| JPH05281400A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置の通気口装置 |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP8081906A patent/JPH09243794A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5015120Y1 (ja) * | 1973-12-28 | 1975-05-12 | ||
| JPS58169588U (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-12 | 株式会社日立製作所 | しやへい壁貫通部しやへい構造 |
| JPS5979747U (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-30 | 東洋エンジニアリング株式会社 | 遮蔽性能を持つたル−バ− |
| JPS63236999A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | 動力炉・核燃料開発事業団 | 放射線遮へい装置 |
| JPH05223987A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-09-03 | Nec Corp | 医療用放射線遮蔽室 |
| JPH05281400A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置の通気口装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014167973A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射室 |
| US9399147B2 (en) | 2013-04-10 | 2016-07-26 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam irradiation chamber |
| JP6076470B2 (ja) * | 2013-04-10 | 2017-02-08 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射室 |
| JP2020106335A (ja) * | 2018-12-26 | 2020-07-09 | 三菱造船株式会社 | 遮蔽体の検査方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Mackie et al. | A convolution method of calculating dose for 15‐MV x rays | |
| JPH0390900A (ja) | 中性子ラジオグラフィー装置 | |
| CN105102063B (zh) | 粒子射线照射室 | |
| JPH09243794A (ja) | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 | |
| US20050218348A1 (en) | Screened chamber for ion therapy | |
| EP0888622B1 (en) | Shielding facility for x-rays or gamma-rays | |
| JPH09243793A (ja) | Ｘ線又はγ線の遮蔽設備 | |
| EP1525590B1 (de) | Abgeschirmter raum für die ionentherapie mit abschirmwirkung für neutronen bis in den energiebereich gev | |
| Dinca et al. | Collimated neutron beam for neutron radiography | |
| CN1207199A (zh) | X－射线或γ－射线屏蔽设备 | |
| JPH0452598A (ja) | 医療用放射線遮蔽室 | |
| CN102511457B (zh) | 利用x射线进行原木检疫辐照的方法和装置 | |
| Spies et al. | Analytical scatter kernels for portal imaging at 6 MV | |
| JPH11503822A (ja) | 放射線フラックス偏向装置 | |
| CN112249634B (zh) | 射线屏蔽传输装置及其应用方法 | |
| CN213752000U (zh) | 一种辐照自屏蔽设备 | |
| JPH02173600A (ja) | 医療用放射線遮蔽室 | |
| Iwasaki | A convolution method for calculating 10‐MV x‐ray primary and scatter dose including electron contamination dose | |
| JP2019100757A (ja) | 放射線遮蔽構造 | |
| KR20090050375A (ko) | 조립이동식 방사선 차폐 건물 | |
| JPH08136694A (ja) | 放射線遮蔽構造体 | |
| JP7541471B2 (ja) | 放射線遮蔽構造 | |
| CN117648875B (zh) | 辐射屏蔽装置的参数优化方法及其矿石分选机 | |
| JP2022089464A (ja) | 配管用放射線遮蔽構造 | |
| KR200419992Y1 (ko) | 후방 산란 방사선 감쇄를 위한 ｘ선 촬영 시설용 방사선차폐체 |